JPH0417193A - Semiconductor storage device - Google Patents
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- JPH0417193A JPH0417193A JP2120700A JP12070090A JPH0417193A JP H0417193 A JPH0417193 A JP H0417193A JP 2120700 A JP2120700 A JP 2120700A JP 12070090 A JP12070090 A JP 12070090A JP H0417193 A JPH0417193 A JP H0417193A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
半導体記憶装置に関し、
データ書き込み時のセンスアンプの出力の安定化を図り
、以て動作を高速化した半導体記憶装置を提供すること
を目的とし、
メモリセルアレイの中から選択され、一対の第1および
第2のビット線に接続された所定のメモリセルと、該第
1および第2のビット線に接続され、これら2本のビッ
ト線の電位差に基づいて、該メモリセルに書き込まれた
データを所定電位レベルの第1および第2の出力信号と
して出力するセンスアンプと、前記第1および第2のビ
ット線に接続され、該所定のメモリセルにデータの書き
込みを行うライトアンプと、該ライトアンプによるメモ
リセルへのデータの書き込み時に、センスアンプを第1
および第2のビット線から電気的に切り離す手段と、を
備えた半導体記憶装置において、前記ライトアンプによ
るデータの書き込み時にセンスアンプから出力される第
1および第2の出力信号の電位レベルをそれぞれ互いに
異なる所定の電位レベルに制御する制御手段を設けるよ
うに構成する。[Detailed Description of the Invention] [Summary] An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that stabilizes the output of a sense amplifier during data writing and thereby speeds up the operation of a memory cell array. A predetermined memory cell selected from among them and connected to a pair of first and second bit lines, and a predetermined memory cell connected to the first and second bit lines, based on the potential difference between these two bit lines. a sense amplifier that outputs data written to the memory cell as first and second output signals at a predetermined potential level; and a sense amplifier connected to the first and second bit lines to write data to the predetermined memory cell. When the write amplifier writes data to the memory cell, the sense amplifier is used as the first
and a means for electrically disconnecting from the second bit line, the potential levels of the first and second output signals outputted from the sense amplifier when writing data by the write amplifier are set to each other. A configuration is provided in which control means is provided for controlling to different predetermined potential levels.
本発明は、半導体記憶装置に係り、詳しくは、例えば、
Bi−CMO3のRAMの分野に用いて好適な、メモリ
内データを高速に読み出す半導体記憶装置に関する。The present invention relates to a semiconductor memory device, and more specifically, for example,
The present invention relates to a semiconductor memory device that is suitable for use in the field of Bi-CMO3 RAM and that reads data in memory at high speed.
近年、CMOSデバイスの低消費電力性と、バイポーラ
デバイスの高負荷駆動能力とを兼ね備えたBi−CMO
3の半導体記憶装置が数多く開発されている。In recent years, Bi-CMO has been developed which combines the low power consumption of CMOS devices with the high load driving ability of bipolar devices.
A large number of semiconductor memory devices of type 3 have been developed.
このような半導体記憶装置では、例えば、コンピュータ
の処理速度の向上環に伴って高速化が要求されている。Such semiconductor memory devices are required to be faster as, for example, the processing speed of computers increases.
従来のこの種の半導体記憶装置としては、例えば、第4
.5図に示すようなものがあり、第4図において、1は
ロウアドレスバッファ、2はロウデコーダ、3はメモリ
セルアレイ、4はコラムアドレスバッファ、5はコラム
デコーダ、6はアンプ部、7は出カバソファである。メ
モリセルアレイ3は複数のワード線、ヒツト線およびこ
れらに接続されマトリクス状に配列された複数のメモリ
セル(図示せず)から構成されている。複数のメモリセ
ルのうち1つを選択して書込みまたは読み出しを行う場
合、入力端子からロウアドレスバッファ1を介して入力
されるデータに基づいてローデコーダ2は複数のワード
線のうちの1つを選択し、コラムアドレスバッファ4を
介して入力されるデータに基づいてコラムデコーダ5は
複数のビット線のうちの1つを選択することにより複数
のメモリセルのうち特定の1個が選択される。次に選択
されたメモリセルに情報を書き込み、またはメモリセル
の情報を読み出す。読み出された情報は、アンプ部6お
よび出力バッファ7を介して外部に取り出される。As a conventional semiconductor memory device of this type, for example,
.. 5, in which 1 is a row address buffer, 2 is a row decoder, 3 is a memory cell array, 4 is a column address buffer, 5 is a column decoder, 6 is an amplifier section, and 7 is an output section. It's a hippo sofa. The memory cell array 3 is composed of a plurality of word lines, a hit line, and a plurality of memory cells (not shown) connected to these and arranged in a matrix. When writing or reading is performed by selecting one of multiple memory cells, the row decoder 2 selects one of the multiple word lines based on data input from the input terminal via the row address buffer 1. Based on the data input via the column address buffer 4, the column decoder 5 selects one of the plurality of bit lines, thereby selecting a specific one of the plurality of memory cells. Next, information is written to or read from the selected memory cell. The read information is taken out to the outside via the amplifier section 6 and the output buffer 7.
第4図の要部の具体的な回路構成を第5図に基づいて説
明すると、アンプ部6は、ベースがビット線対Bl、B
2にそれぞれ接続され、エミッタが共通接続されたバイ
ポーラI・ランジスタロ1.Q2 、NチャネルMO3
)ランジスタNsを介してバイポーラトランジスタQl
、Q2のエミッタに接続された電流源11およびバイポ
ーラトランジスタQl、Q2のベースに接続された抵抗
R1,R2からなるセンスアンプ8と、ビット線対にそ
れぞれ接続されたインバータ訂、W2からなるライトア
ンプ9とから構成される。さらに、メモリセルアレイ3
はデータ線路としてのビット線Bl 、 B2に接続さ
れた複数のメモリセルCELを有している。The specific circuit configuration of the main part of FIG. 4 will be explained based on FIG.
Bipolar I transistors 1. Q2, N channel MO3
) Bipolar transistor Ql via transistor Ns
, a sense amplifier 8 consisting of a current source 11 and a bipolar transistor Ql connected to the emitters of Q2, and resistors R1 and R2 connected to the bases of Q2, and a write amplifier consisting of an inverter W2 connected to the bit line pair, respectively. It consists of 9. Furthermore, memory cell array 3
has a plurality of memory cells CEL connected to bit lines B1 and B2 as data lines.
この半導体記憶装置での書き込み動作を説明すると、ま
ず、ロウアドレスバッファ1から送られる番地情報に基
づいてロウデコーダ2によりワードドライバ(図示せず
)が活性化されて特定のワード線(図示せず)が選択さ
れ、コラムアドレスバッファ4、コラムデコーダ5によ
って特定のビット線Bl、B2が選択されることにより
特定のメモリセルが選択される。次いで、ライトアンプ
9により選択されたメモリセルCELの状態が強制的に
書き換えられて行われる。To explain the write operation in this semiconductor memory device, first, a word driver (not shown) is activated by the row decoder 2 based on address information sent from the row address buffer 1, and a word driver (not shown) is activated to write to a specific word line (not shown). ) is selected, and the column address buffer 4 and column decoder 5 select specific bit lines B1 and B2, thereby selecting a specific memory cell. Next, the state of the selected memory cell CEL is forcibly rewritten by the write amplifier 9.
書き換え動作を詳しく説明すると、第5図に示す従来例
は、センスアンプ8をE CL (emitterco
upled logic )回路で構成しており、ポジ
ティブな電圧をグランドレベル(以下、GNDと記す)
とし、ネガティブな電圧としてマイナス電源を加えてい
る。そして、ライトアンプ9によって、例えば、メモリ
セルCELに接続されるビット線B2をGND、ビット
線B1をマイナス電源に落とすことでメモリセルCEL
が反転し、メモリセルCELの状態が強制的に書き換え
られる。To explain the rewriting operation in detail, in the conventional example shown in FIG.
It consists of an upped logic) circuit, and the positive voltage is connected to the ground level (hereinafter referred to as GND).
And a negative power supply is added as a negative voltage. Then, by using the write amplifier 9, for example, by lowering the bit line B2 connected to the memory cell CEL to GND and lowering the bit line B1 to the negative power supply, the memory cell CEL
is inverted, and the state of the memory cell CEL is forcibly rewritten.
ところが、第5図に示す従来例にあっては、読み出し状
態におけるビット線Bl 、 B2の電位はGND近く
の電位となっており、バイポーラトランジスタロl1口
2のエミッタは、Bl、B2の高い方の電位よりもトラ
ンジスタの781分だけ低い電位になっている。すなわ
ち、前述のように、読み出し状態から書き込み状態に状
態が変化した場合、バイポーラトランジスタ01のベー
スにマイナス電源が直接印加され、バイポーラトランジ
スタQ1のベースエミッタ間が逆バイアス状態となる。However, in the conventional example shown in FIG. 5, the potentials of the bit lines Bl and B2 in the read state are close to GND, and the emitter of the bipolar transistor L1 and B2 is connected to the higher one of B1 and B2. The potential is 781 times lower than that of the transistor. That is, as described above, when the state changes from the read state to the write state, a negative power supply is directly applied to the base of the bipolar transistor 01, and the base-emitter of the bipolar transistor Q1 becomes reverse biased.
したがって、バイポーラトランジスタ旧が壊れ易くなる
、寿命が短くなる等の信頼性上の問題があった。この問
題を解決するために、第6図に示すような半導体記憶装
置が提供されている。Therefore, there were reliability problems such as the old bipolar transistor becoming easily broken and having a shortened lifespan. In order to solve this problem, a semiconductor memory device as shown in FIG. 6 has been provided.
この第6図に示す従来例は、センスアンプ8とライトア
ンプ9との間にNチャネルMO3)ランジスタNl、N
2からなる線路遮断スイッチ10を設け、メモリセル(
、ELに対して書き込み動作を行う場合に、線路遮断ス
イッチ10によりビット線Bl、B2とセンスアンプ8
とを電気的に切り離し、バイポーラトランジスタQ1の
ベースにマイナス電源が直接印加されるという不具合を
防止するものである。In the conventional example shown in FIG. 6, N-channel MO3) transistors Nl, N
A line cutoff switch 10 consisting of two memory cells (
, when writing to EL, the line cutoff switch 10 disconnects the bit lines Bl, B2 and the sense amplifier 8.
This is to prevent the problem of a negative power supply being directly applied to the base of the bipolar transistor Q1.
なお、Cは線路遮断スイッチ10に制御信号を印加する
ためのコントロール端子である。Note that C is a control terminal for applying a control signal to the line cutoff switch 10.
しかしながら、このような従来の半導体記憶装置にあっ
ては、メモリセルCELに対して書き込み動作を行う場
合に、センスアンプ8をビット線Bl。However, in such a conventional semiconductor memory device, when performing a write operation to the memory cell CEL, the sense amplifier 8 is connected to the bit line Bl.
B2から完全に切り離してしまうという構成になってい
たため、センスアンプ8がビット線Bl、B2から切り
離された状態ではセンスアンプ8のバイポーラトランジ
スタQl、Q2のベース電位は同電位、すなわち、セン
スアンプ8から出力バッファ7へ出力される各データバ
スDB、DBの電位も同電位となり、出力バッファ7に
は“IPとL”の中間レベルの出力がなされることにな
る。このように、書き込み動作を行う時に、センスアン
プ8からの出力が中間レベル出力となると、次サイクル
での読み出し動作の際、すなわち、書き込み状態から読
み出し状態に状態が変化した場合、グリッチが発生し易
く、動作が不安定な状態となる。したがって、例えば、
第7図に示すように、誤って論理レベルが反転してしま
った場合、正しい論理レベルとなるまでに遅延時間T、
が生じることとなり、この遅延時間T9分だけデータを
読み出すまでのメモリアクセス時間が遅くなり、高速な
読み出し動作ができなくなるという問題点があった。Since the configuration was such that the sense amplifier 8 is completely disconnected from the bit lines B1 and B2, the base potentials of the bipolar transistors Ql and Q2 of the sense amplifier 8 are at the same potential when the sense amplifier 8 is disconnected from the bit lines Bl and B2, that is, the sense amplifier 8 The potentials of the data buses DB and DB outputted from the output buffer 7 to the output buffer 7 are also at the same potential, and the output buffer 7 is output at an intermediate level between "IP and L". In this way, if the output from the sense amplifier 8 becomes an intermediate level output when performing a write operation, a glitch will occur during the read operation in the next cycle, that is, when the state changes from the write state to the read state. This can easily lead to unstable operation. Therefore, for example,
As shown in FIG. 7, when the logic level is inverted by mistake, there is a delay time T until the logic level becomes the correct one.
This causes a problem in that the memory access time until data is read is delayed by this delay time T9, making it impossible to perform a high-speed read operation.
そこで本発明は、データの書き込み動作の際、センスア
ンプの出力信号の電位レベルを所定の電位レベルに制御
することによってセンスアンプの出力の安定化を図った
半導体記憶装置を提供することを目的としている。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that stabilizes the output of a sense amplifier by controlling the potential level of the output signal of the sense amplifier to a predetermined potential level during a data write operation. There is.
本発明による半導体記憶装置は上記目的達成のため、メ
モリセルアレイの中から選択され、一対の第1および第
2のビット線に接続された所定のメモリセルと、該第1
および第2のビット線に接続され、これら2本のピント
線の電位差に基づいて、該メモリセルに書き込まれたデ
ータを所定電位レベルの第1および第2の出力信号とし
て出力するセンスアンプと、前記第1および第2のビッ
ト線に接続され該所定のメモリセルにデータの書き込み
を行うライトアンプと、該ライトアンプによるメモリセ
ルへのデータの書き込み時に、センスアンプを第1およ
び第2のビット線から電気的に切り離す手段と、を備え
た半導体記憶装置において、前記ライトアンプによるデ
ータの書き込み時にセンスアンプから出力される第1お
よび第2の出力信号の電位レベルをそれぞれ互いに異な
る所定の電位レベルに制御する制御手段を設けるように
構成している。In order to achieve the above object, a semiconductor memory device according to the present invention includes a predetermined memory cell selected from a memory cell array and connected to a pair of first and second bit lines;
and a sense amplifier connected to the second bit line and outputting the data written in the memory cell as first and second output signals at a predetermined potential level based on the potential difference between these two focus lines; A write amplifier is connected to the first and second bit lines and writes data to the predetermined memory cell, and when the write amplifier writes data to the memory cell, the sense amplifier is connected to the first and second bit lines. and means for electrically disconnecting from the line, the potential levels of the first and second output signals output from the sense amplifier when writing data by the write amplifier are set to different predetermined potential levels. The configuration is such that a control means is provided for controlling.
本発明では、ライトアンプによるメモリセルへのデータ
の書き込み時に、センスアンプがデータ線路から電気的
に切り離されても、センスアンプからの出力信号の電位
レベルは制御手段によって相異なる所定の電位レベルに
制御される。In the present invention, even when the sense amplifier is electrically disconnected from the data line when data is written to the memory cell by the write amplifier, the potential level of the output signal from the sense amplifier is set to a different predetermined potential level by the control means. controlled.
したがって、センスアンプからの出力信号の電位レベル
は安定して出力される。Therefore, the potential level of the output signal from the sense amplifier is stable.
さらに、従来のような遅延時間がなくなり、動作が高速
化される。Furthermore, the conventional delay time is eliminated, and the operation speed is increased.
[実施例] 以下、本発明を図面に基づいて説明する。[Example] Hereinafter, the present invention will be explained based on the drawings.
第1図は本発明に係る半導体記憶装置の第1実施例の要
部構成を示す回路図であり、第1図において、第6図に
示す従来例と同一番号は同一または相当部分を示す。な
お、本発明の全体構成は、第4図に示す従来の半導体記
憶装置の全体構成を示すブロック図と同一である。FIG. 1 is a circuit diagram showing a main part configuration of a first embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention. In FIG. 1, the same numbers as in the conventional example shown in FIG. 6 indicate the same or corresponding parts. Note that the overall configuration of the present invention is the same as the block diagram showing the overall configuration of a conventional semiconductor memory device shown in FIG.
まず、第1実施例の具体的な回路構成を第1図に基づい
て説明する。First, the specific circuit configuration of the first embodiment will be explained based on FIG. 1.
第1図において、本装置は大きく分けてメモリセルアレ
イ3、アンプ部6、出力バッファ7により構成されてお
り、アンプ部6ばセンスアンプ8、ライトアンプ9、線
路遮断スイッチ1o、制御手段としての抵抗R3からな
っている。なお、抵抗R3は読み込み動作に影響しない
程度の抵抗RI、R2よりも充分大きな値の抵抗であり
、センスアンプ8と線路遮断スイッチ10との間のビッ
ト線B1に接続されて設けられている。本実施例では、
第6図に示す従来例と比較して、制御手段としての抵抗
R3をセンスアンプ8と線路遮断スイッチ10との間の
ビット線B1に接続して設けている部分に特徴がある。In FIG. 1, this device is roughly divided into a memory cell array 3, an amplifier section 6, and an output buffer 7, and includes the amplifier section 6, a sense amplifier 8, a write amplifier 9, a line cutoff switch 1o, and a resistor as a control means. It consists of R3. Note that the resistor R3 has a value sufficiently larger than the resistors RI and R2 that does not affect the reading operation, and is connected to the bit line B1 between the sense amplifier 8 and the line cutoff switch 10. In this example,
Compared to the conventional example shown in FIG. 6, this embodiment is characterized in that a resistor R3 serving as a control means is connected to the bit line B1 between the sense amplifier 8 and the line cutoff switch 10.
したがって、センスアンプ8がビット線Bl、82から
切り離された状態においてビット線B1側の電位はロー
レベルにクランプされるので、センスアンプ8と線路遮
断スイッチ10との間に設けられた抵抗R3によって各
ビット線Bl、82間に電位差が生じ、センスアンプ8
から出力バッファ7へ出力される各データバスDB、D
Bの電位にも電位差が生じて、センスアンプ8からの出
力が中間レベルとならずに所定の出力電位が得られる。Therefore, when the sense amplifier 8 is disconnected from the bit lines Bl and 82, the potential on the bit line B1 side is clamped to a low level, so that the resistor R3 provided between the sense amplifier 8 and the line cutoff switch 10 A potential difference is generated between each bit line Bl and 82, and the sense amplifier 8
Each data bus DB, D output from to the output buffer 7
A potential difference also occurs in the potential of B, and the output from the sense amplifier 8 does not become an intermediate level, but a predetermined output potential is obtained.
すなわち、書き込み動作の後のサイクルでの読み出し動
作の際、つまり、書き込み状態から読み出し状態に状態
が変化した場合、遅延時間によるメモリアクセス時間の
長時間化を防止でき、データの高速な読み取りができる
。In other words, during a read operation in a cycle after a write operation, that is, when the state changes from a write state to a read state, it is possible to prevent memory access time from increasing due to delay time, and data can be read at high speed. .
第2図は本発明に係る半導体記憶装置の第2実施例を示
す図であり、第2図において、第1図に示す第1実施例
と同一番号は同一または相当部分を示す。FIG. 2 is a diagram showing a second embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention. In FIG. 2, the same numbers as in the first embodiment shown in FIG. 1 indicate the same or corresponding parts.
第2実施例の具体的な回路構成を第2図に基づいて説明
する。A specific circuit configuration of the second embodiment will be explained based on FIG. 2.
本実施例では、第1図に示す第1実施例の受動素子であ
る抵抗R3の代わりに能動素子であるNヂャネルMOS
トランジスタNcをセンスアンプ8と線路遮断スイッチ
10との間のビット線B2に接続して設け、さらに、セ
ンスアンプ8と線路遮断スイッチ10との間のビット線
B1に常にオフ状態となるダミー〇NチャネルMO3)
ランジスタNdを接続して設けている部分に特徴がある
。なお、NチャネルMO3)ランジスタNdはNチャネ
ルMO3)ランジスタNcと同じものであり、これによ
って、各ビット線Bl、B2に付く負荷容量のバランス
が等しくなる。In this embodiment, an N channel MOS which is an active element is used instead of the resistor R3 which is a passive element in the first embodiment shown in FIG.
A transistor Nc is connected to the bit line B2 between the sense amplifier 8 and the line cutoff switch 10, and a dummy Nc is connected to the bit line B1 between the sense amplifier 8 and the line cutoff switch 10, and is always in an off state. channel MO3)
The feature lies in the part where the transistor Nd is connected. Note that the N-channel MO3) transistor Nd is the same as the N-channel MO3) transistor Nc, so that the load capacitances attached to each bit line B1 and B2 are balanced equally.
したがって、ビット線B2に設けられたNチャネルMO
3I−ランジスタNcによって第1実施例と同様に、セ
ンスアンプ8がビット線Bl 、 B2から切り離され
た状態においても各ビット線Bl、82間に電位差が生
じて、センスアンプ8からの出力が中間レベルとならず
、所定の出力電位が得られる。Therefore, the N-channel MO provided on bit line B2
Similar to the first embodiment, the 3I-transistor Nc causes a potential difference between the bit lines Bl and 82 even when the sense amplifier 8 is disconnected from the bit lines Bl and B2, so that the output from the sense amplifier 8 becomes intermediate. level, and a predetermined output potential is obtained.
また、ヒツト線旧に設けられたダミーのNチャネルMO
3I−ランジスタNdによって各ビット線Bl。In addition, a dummy N-channel MO installed in the old human line
3I - Each bit line Bl by a transistor Nd.
B2に付く負荷容量のバランスが等しくされることでア
クセス速度が改善され、第1実施例と比較してより高速
な動作が期待できる。By equalizing the balance of the load capacitances attached to B2, the access speed is improved, and faster operation can be expected compared to the first embodiment.
第3図は本発明に係る半導体記憶装置の第3実施例を示
す図であり、第3図において、第1図に示す第1実施例
と同一番号は同一または相当部分を示す。FIG. 3 is a diagram showing a third embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention. In FIG. 3, the same numbers as in the first embodiment shown in FIG. 1 indicate the same or corresponding parts.
まず、構成を説明する。First, the configuration will be explained.
第3図は第3実施例の具体的な回路構成を示す回路図で
あり、第3図において、本装置は第1図と同様に、大き
く分けてメモリセルアレイ3、アンプ部6、出力ハッフ
ァ7、制御手段としてのバイポーラトランジスタOcに
より構成されており、ビット線対ごとに設けられている
第1図に類似したセンスアンプ回路の出力を複数、デー
タバスDB。FIG. 3 is a circuit diagram showing a specific circuit configuration of the third embodiment. In FIG. 3, as in FIG. , a bipolar transistor Oc as a control means, and outputs from a plurality of sense amplifier circuits similar to the one shown in FIG. 1 provided for each bit line pair are connected to a data bus DB.
DBに共通接続したものである。メモリセルアレイ3は
複数のメモリセルCELI、・・・CELn、アンプ部
6はセンスアンプ8、ライトアンプ9、線路遮断スイッ
チ10からなり、センスアンプ8はビット線の入力を受
けるバイポーラトランジスタQll、Q21.・・、+
Q1n+口2n、コラムデコーダの出力を受けるバイポ
ーラトランジスタQsl、Q2n、・・・+Qsn 、
ライトアンプ9はインバータWILW21.−−−.W
in、W2n 、線路遮断スイッチ10はNチャネルM
O3)ランジスタN11、N21.・・・+ Nln、
N2nからなっている。バイポーラトランジスタQc
のコレクタはデータバスDBに接続され、エミッタは電
流源11に接続され、さらに前記のバイポーラトランジ
スタQsl+・・・Qsnのエミッタと共通接続されて
いる。なお、Bll、B21.・・・Bln、B2nは
ビット線である。It is commonly connected to the DB. The memory cell array 3 includes a plurality of memory cells CELI, . ..., +
Q1n+port 2n, bipolar transistors Qsl, Q2n, . . . +Qsn, which receive the output of the column decoder;
The light amplifier 9 is an inverter WILW21. ---. W
in, W2n, line cutoff switch 10 is N channel M
O3) Transistors N11, N21. ...+Nln,
It consists of N2n. Bipolar transistor Qc
The collector is connected to the data bus DB, the emitter is connected to the current source 11, and the emitters of the bipolar transistors Qsl+...Qsn are commonly connected. In addition, Bll, B21. ...Bln and B2n are bit lines.
本実施例では、センスアンプ8のバイポーラトランジス
タロsl、Qs2.・・・Qsnと制御手段としてのバ
イポーラトランジスタOcを1つのECL(emitt
er coupled logic )回路としてみる
ことができ、ベースに一番高い電位が印加されたバイポ
ーラトランジスタのみに電流が流れるようになる。In this embodiment, the bipolar transistors sl, Qs2 . ... Qsn and a bipolar transistor Oc as a control means are combined into one ECL (emitt
It can be viewed as a circuit (coupled logic), in which current flows only through the bipolar transistor to which the highest potential is applied to the base.
すなわち、読み取り動作時はバイポーラトランジスタQ
cのベースに“L”が印加されてパイボーラトランジス
タQ s 1 + Q s 2 +・・・、 Qsnの
中で一番高い電位が印加されたセンスアンプが活性化さ
れ、ブタが読み出される。書き込み動作時はバイポーラ
トランジスタQcのベースに11 H++が印加される
ことにより、バイポーラトランジスタOcがオンしてG
ND線→抵抗R2→バイポーラトランジスタQc→電流
源11の経路に電流が流れる。したがって、このバイポ
ーラトランジスタQcのコレクタ電位はローレベル、一
方、電流の流れないデータバスDBはハイレベルに固定
される。That is, during the read operation, the bipolar transistor Q
"L" is applied to the base of c, and the sense amplifier to which the highest potential is applied among the pievora transistors Q s 1 + Q s 2 + . . . , Qsn is activated, and the pig is read out. During a write operation, 11 H++ is applied to the base of the bipolar transistor Qc, which turns on the bipolar transistor Oc and causes G
A current flows through the path of ND line→resistor R2→bipolar transistor Qc→current source 11. Therefore, the collector potential of this bipolar transistor Qc is fixed at a low level, while the data bus DB through which no current flows is fixed at a high level.
したがって、本実施例では前記第1.2実施例のように
各ビット線対ごとに制御手段を設ける必要がなく、複数
のビット線対に対し、1つの制御手段を設けるだけでよ
いので、第1.2実施例と比較して回路構成を簡略化で
きる。Therefore, in this embodiment, there is no need to provide a control means for each bit line pair as in the above-mentioned Embodiment 1.2, and it is only necessary to provide one control means for a plurality of bit line pairs. 1. The circuit configuration can be simplified compared to the second embodiment.
以上述べたように本実施例では、センスアンプからの出
力信号の電位レベルを安定して出力することができるの
で、書き込み状態から読み出し状態に状態が変化する際
においても、センスアンプの動作不安定状態を原因とす
る遅延時間によるメロ
モリアクセス速度の低下を防止することができ、結果と
して、半導体記憶装置の高速性能を犠牲にすることなく
、メモリ内のデータを高速に読み出すことができる。As described above, in this embodiment, the potential level of the output signal from the sense amplifier can be output stably, so even when the state changes from the write state to the read state, the operation of the sense amplifier becomes unstable. It is possible to prevent a decrease in memory access speed due to delay time caused by the state, and as a result, data in the memory can be read out at high speed without sacrificing high-speed performance of the semiconductor memory device.
なお、上記実施例はポジティブな電圧をGNDとし、印
加電圧としてマイナス電源を加えるECL (emit
ter coupled logic )回路で構成さ
れた半導体記録装置を例にとって説明しているが、これ
に限らす、例えば、GNDをOv、印加電圧を+5vと
した半導体記憶装置に適用してもかまわす、回路構成に
より自由に決定されることはいうまでもない。In addition, in the above embodiment, the positive voltage is set to GND, and the ECL (emit
Although the explanation is given using a semiconductor storage device configured with a (ter coupled logic) circuit as an example, the circuit is not limited to this; Needless to say, it is freely determined depending on the configuration.
本発明では、センスアンプからの出力信号の電位レベル
を安定して出力することができ、書き込み状態から読み
出し状態に状態が変化する際においても、メモリ内のデ
ータを高速に読み出すことができる。According to the present invention, the potential level of the output signal from the sense amplifier can be output stably, and data in the memory can be read out at high speed even when the state changes from the write state to the read state.
第1図は本発明に係る半導体記憶装置の第1実施例の要
部構成を示す回路図、第2図は本発明に係る半導体記憶
装置の第2実施例の要部構成を示す回路図、第3図は本
発明に係る半導体記憶装置の第3実施例の要部構成を示
す回路図、第4図は従来例の半導体記憶装置の全体構成
を示すブロック図、第5図は従来例の半導体記憶装置の
要部構成を示す回路図、第6図は他の従来例の半導体記
憶装置の要部構成を示す回路図、第7図は従来例のセン
スアンプの出力状態を説明するための波形図である。
3・・・・・・メモリセルアレイ、
6・・・・・・アンプ部、
7・・・・・・出カバソファ、
8・・・・・・センスアンプ、
9・・・・・・ライトアンプ、
10・・・・・・線路遮断スイッチ、
R3・・・・・・抵抗(制御手段)、
Nc・・・・・・NチャネルMO3)ランジスタ(制御
手段)、
口C・・・・・・バイポーラトランジスタ(制御手段)
、CEL、CELL、・・・、CELn −メモリセル
、Bl、B2.Bll、・・・、・・・・・・ビット線
。FIG. 1 is a circuit diagram showing a main part configuration of a first embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram showing a main part structure of a second embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention, FIG. 3 is a circuit diagram showing the main structure of a third embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention, FIG. 4 is a block diagram showing the overall structure of a conventional semiconductor memory device, and FIG. 5 is a block diagram showing the overall structure of a conventional semiconductor memory device. FIG. 6 is a circuit diagram showing the main part configuration of a semiconductor memory device, FIG. 6 is a circuit diagram showing the main part structure of another conventional semiconductor memory device, and FIG. 7 is a circuit diagram showing the output state of the conventional sense amplifier. FIG. 3... Memory cell array, 6... Amplifier section, 7... Output sofa, 8... Sense amplifier, 9... Light amplifier, 10...Line cutoff switch, R3...Resistor (control means), Nc...N channel MO3) transistor (control means), Port C...Bipolar Transistor (control means)
, CEL, CELL, . . . , CELn - memory cell, Bl, B2. Bll...,...Bit line.
Claims (3)
および第2のビット線に接続された所定のメモリセルと
、 該第1および第2のビット線に接続され、これら2本の
ビット線の電位差に基づいて、該メモリセルに書き込ま
れたデータを所定電位レベルの第1および第2の出力信
号として出力するセンスアンプと、 前記第1および第2のビット線に接続され、該所定のメ
モリセルにデータの書き込みを行うライトアンプと、 該ライトアンプによるメモリセルへのデータの書き込み
時に、センスアンプを第1および第2のビット線から電
気的に切り離す手段と、を備えた半導体記憶装置におい
て、 前記ライトアンプによるデータの書き込み時にセンスア
ンプから出力される第1および第2の出力信号の電位レ
ベルをそれぞれ互いに異なる所定の電位レベルに制御す
る制御手段を設けたことを特徴とする半導体記憶装置。(1) A pair of first cells selected from the memory cell array.
and a predetermined memory cell connected to a second bit line, and a predetermined memory cell connected to the first and second bit lines, and based on the potential difference between these two bit lines, data written in the memory cell is written. a sense amplifier that outputs first and second output signals at a predetermined potential level; a write amplifier that is connected to the first and second bit lines and writes data into the predetermined memory cell; and the write amplifier. means for electrically disconnecting the sense amplifier from the first and second bit lines when data is written to the memory cell by the write amplifier; 1. A semiconductor memory device comprising a control means for controlling the potential levels of the first and second output signals to different predetermined potential levels.
た抵抗素子またはスイッチング素子であり、データの書
き込み時に該第1のビット線の電位を前記第2のビット
の電位とは異なる電位にクランプすることを特徴とする
請求項1記載の半導体記憶装置。(2) The control means is a resistance element or a switching element connected to the first bit line, and when writing data, sets the potential of the first bit line to a potential different from the potential of the second bit. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device is clamped at .
の一方に接続されたコレクタと、前記センスアンプのオ
ン・オフを制御するトランジスタのエミッタに接続され
たエミッタとを有する制御トランジスタであり、データ
の書き込み時に該制御トランジスタを強制的にオンさせ
ることにより前記第1および第2の出力信号の一方の電
位を第1および第2の出力信号の他方の電位よりも低く
することを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。(3) The control means is a control transistor having a collector connected to one of the first and second output signals and an emitter connected to an emitter of a transistor that controls on/off of the sense amplifier. The control transistor is forcibly turned on during data writing, thereby making the potential of one of the first and second output signals lower than the potential of the other of the first and second output signals. 2. The semiconductor memory device according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2120700A JPH0417193A (en) | 1990-05-10 | 1990-05-10 | Semiconductor storage device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2120700A JPH0417193A (en) | 1990-05-10 | 1990-05-10 | Semiconductor storage device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0417193A true JPH0417193A (en) | 1992-01-21 |
Family
ID=14792818
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2120700A Pending JPH0417193A (en) | 1990-05-10 | 1990-05-10 | Semiconductor storage device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0417193A (en) |
-
1990
- 1990-05-10 JP JP2120700A patent/JPH0417193A/en active Pending
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