JPH04175242A - 無アルカリガラス - Google Patents

無アルカリガラス

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JPH04175242A
JPH04175242A JP29891590A JP29891590A JPH04175242A JP H04175242 A JPH04175242 A JP H04175242A JP 29891590 A JP29891590 A JP 29891590A JP 29891590 A JP29891590 A JP 29891590A JP H04175242 A JPH04175242 A JP H04175242A
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JP
Japan
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glass
15mol
cao
mgo
alkali glass
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JP29891590A
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English (en)
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Yasumasa Nakao
中尾 泰昌
Hideki Kushitani
英樹 櫛谷
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AGC Inc
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Asahi Glass Co Ltd
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、各種デイスプレィやフォトマスク用基板ガラ
スとして好適な、アルカリ金属酸化物を実質上含有せず
、フロート成形の可能な無アルカリガラスに関するもの
である。
C従来の技術] 従来、各種デイスプレィ用ガラス、特に表面に金属ない
し酸化物薄膜等を形成させるものでは、以下に示すよう
な特性が要求されている。
・薄膜形成工程で高温にさらされるため、高い歪点を有
していること。
・アルカリ金属酸化物を含有していると、アルカリ金属
イオンが薄膜中に拡散して、膜特性を劣化させてしまう
ため、実質的にアルカリ金属イオンを含まないこと。
・内部及び表面に欠点(泡、脈理、インクルージヨン、
ビット、キズ、etc )をもたないこと。
・洗浄工程に耐えるような化学耐久性を有すること。
特に、近年、ガラス基板上に半導体トランジスター等を
形成するいわゆるa−Si−TFT(Thin Fil
m Transistor)タイプの液晶デイスプレィ
が増えてきている。これらを満足するガラスとしてコー
ニング社の# 7059等が使用されているが、歪点が
600℃程度であるため、さらに高温での熱処理を必要
とするp−3i−TFTタイプの液晶用基板としては使
用し難いという問題点があった。
一方、p−5i−TPTで要求されている650℃以上
のの歪点を有するガラスとしては、特開昭58−32O
3038に開示されているガラスがあるが、該ガラス組
成には、酸化鉛を含有しているため、調合設備・溶解設
備・研磨設備等に除外装置を設置しなければならない。
また、作業環境として好ましくないことは明かである。
成形法としては、フロート法が幅広のものを成形できる
という利点のほか、大量生産が可能なため低コストでガ
ラス基板を供給できると言う点から最も好ましいが、こ
れらのガラスは、主としてロールアウト法ないしフュー
ジョン法で製造されてきた。しかし、ロールアウト法で
はガラスを研磨しなければならないという欠点、フュー
ジョン法では、最大成形サイズが1m程度で将来の大型
液晶デイスプレィへの対応に不安があるという欠点があ
った。
C本発明の解決しようとする課題〕 本発明の目的は、上記欠点を解決し ・実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず・耐熱性に優
れ ・低い熱膨張係数を有し ・化学耐久性に優れ ・気泡・脈理の除去の容易な溶融性のよく・フロート法
による成形の可能な 基板ガラスを供することを目的としている。
[課題を解決するための手段] 本発明のガラスは前述の問題点を解決すべ(なされたも
のであり モルパーセントで 5iOa     55〜65% A1.Os    5〜15% B、0.   0.1〜5% MgO    5〜15% CaO5〜15% SrO    1〜9% BaO1〜9% ZnO     0〜3% を含有しこれらの成分の合計が95%以上であることを
特徴とするガラスである。
構成の詳細説明 以下、本発明におけるガラス組成範囲限定の理白につい
て説明する。
5insは、ガラスのネットワークホーマーであり、6
5%を越えると粘性が高(なり、溶融性が低下するので
好ましくない。他方、SiO□が55%未満では、ガラ
スの耐久性が悪化すると共に、膨張係数が大きくなり好
ましくない。
SiOxは、上記範囲中57−63%の範囲がより好ま
しい。
A1□0.はガラスの安定化のために添加される。5%
より少ないと化学耐久性が悪くなり、15%より多い場
合には溶融性が悪化し、MgO・Aft(hの結晶が析
出し易くなるので、好ましくない。A1.O,は、上記
範囲中7−13%の範囲がより好ましい。
B2O30.は、熱膨張率を上昇させることなく、高温
での粘性を低下させる効果がある。B2O3が0.1%
未満では、かかる効果が、実質的に獲られず、5%を超
えると化学耐久性が低下するので好ましくない。B25
sは、上記範囲中0.1%−3%の範囲がより好ましい
。
MgOは、熱膨張係数を増大させることなく溶融性を向
上させる効果がある。MgOが、5%未満では、かかる
効果が少なく、15%を越えるとMgO・A1.0.あ
るいは、MgO3iO□結晶が析出し易(なるので、い
ずれも好ましくない。MgOは、上記範囲中7%−13
%が好ましい。
CaOは、溶融性を向上させ失透温度を抑制する効果が
あるが、5%未満ではかかる効果が不充分であり、15
%を越えると膨張率が大きくなりすぎ、またCaO・A
1□03・SiO□の結晶が析出し、いずれも好ましく
ない。CaOば、7−13%の範囲がより好ましい。
SrOば、添加することにより、CaOとほぼ同様の効
果が得られる。SrOが1%未満では、かかる効果が少
なく、9%を越えると膨張率が太き(なりすぎ、いずれ
も好ましくない。SrOは、2−7%の範囲がより好ま
しい。
BaOば、添加することにより、CaOとほぼ同様の効
果が得られる。BaOが1%未満では、かかる効果が少
なく、9%を越えると膨張率が大きくなりすぎ、いずれ
も好ましくない。BaOは、2−7%の範囲がより好ま
しい。
ZnOは、フロートバス中で還元され、蒸発し表層部に
異質層を形成しフロート成形が難しくなるので3%以下
であることが望ましい。ZnOは、O−1,5%の範囲
がより好ましい。
成形性等を改善するため、 5%以下のPbO1TiO
a、ZrOx、P2O5、F、CI等を添加することが
出来る。
本発明のガラスは、例えば次のような方法で製造できる
。通常使用される各成分の原料を目標成分になるように
調合し、これを溶融炉に連続的に投入し、1500〜1
600°Cに加熱して溶融する。この溶融ガラスをフロ
ート法により所定の板厚に成形し、徐冷後切断する。
[実施例] 表1に本発明(No、1〜No、6)の実施例を示す。
各成分の原料を目標組成となるように調合し、白金坩堝
を用いて1500〜1600°Cの温度で5〜4時間加
熱し溶融した。
溶融にあたっては白金スターラーを挿入し1〜2時間撹
拌しガラスの均質化を行った。
次いで溶融ガラスを流し出し、板状に成形後徐冷した。
また、小型フロート炉でチエツクしたフロート成形性を
示した。
表1にはガラス組成、熱膨張係数、高温粘度、失透温・
度、歪点、耐水性、耐酸性を示した。耐水性は、95℃
のイオン交換水中に40時間浸漬した後、重量減を測定
し、それをガラスの単位製面積当りに換算して示した。
耐酸性は、95℃の1/100規定のHN Oz中に2
O30時間浸漬した後、重量減を測定し、それをガラス
の単位製面積当りに換算して示した。
表より明らかなように、本発明によるガラス(No、1
〜6 )は、腫脹係数40〜50X 10−’/’Cと
低い値を示し、溶解の目安となるlogη=2.5(但
し、ηはボイスで表したガラス粘度、以下同じ)になる
温度も低(、溶解が容易であることがわかる。
また、フロート成形性の目安となる1ogl=4.0に
なる温度と失透温度との差が充分に大きく、成形時に失
透が生成するなどのトラブルがなかった。
歪点も 650℃以上とp−3iTPT工程で受けると
思われる高温での熱処理に充分耐えられるものと思われ
る。
No、7の比較例では、フロート成形時にZnO揮敢に
より、表面に反りやデイスト−ジョンが生じる。
表1 [発明の効果] 本発明によるガラスは、フロート法による成形が可能で
ある。また、溶融・成形性に優れ、耐熱性に優れ、かつ
低い熱膨張係数を有しているのでp−5iTFTタイプ
のl夜晶デイスプレィ用基板に最適である。また、それ
以外にもEL(エレクトロルミネッセンス)用基板、フ
ォトマスク用基板にも好適である。
′ご4か− 手続補正書 平成3年3月lk日

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)モルパーセントで SiO_255〜65% Al_2O_35〜15% B_2O_30.1〜5% MgO5〜15% CaO5〜15% SrO1〜9% BaO5〜9% ZnO0〜3% からなり、アルカリ酸化物を実質的に含有せず、これら
    の成分の合計が95%以上である無アルカリガラス
  2. (2)モルパーセントで実質的に SiO_257〜63% Al_2O_37〜13% B_2O_30.1〜3% MgO7〜13% CaO7〜13% SrO2〜7% BaO2〜7% ZnO0〜1.5% からなる特許請求の範囲第1項記載の無アルカリガラス
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Cited By (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0576362A3 (fr) * 1992-06-25 1994-11-30 Saint Gobain Vitrage Verres thermiquement stables et chimiquement résistants.
JPH08109037A (ja) * 1994-03-14 1996-04-30 Corning Inc アルミノケイ酸塩ガラス
EP0714862A1 (en) 1994-11-30 1996-06-05 Asahi Glass Company Ltd. Alkali-free glass and flat panel display
EP0729922A1 (en) * 1995-03-02 1996-09-04 Corning Incorporated Glasses for display panels
JPH0912333A (ja) * 1995-04-27 1997-01-14 A G Technol Kk 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク
WO1997011919A1 (fr) * 1995-09-28 1997-04-03 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Substrat de verre exempt d'alcalis
WO1997011920A1 (en) * 1995-09-28 1997-04-03 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass substrate
EP0787693A1 (de) * 1996-02-02 1997-08-06 Schott Glaswerke Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
JPH09263421A (ja) * 1996-03-28 1997-10-07 Asahi Glass Co Ltd 無アルカリガラスおよびフラットディスプレイパネル
KR19990012860A (ko) * 1997-07-31 1999-02-25 암라인/립퍼 알칼리가 없는 알루미노 붕규산 유리 및 그 이용/1
WO2001017921A1 (de) 1999-09-04 2001-03-15 Schott Glas Erdalkalialuminoborosilicatglas und dessen verwendungen
WO2012023470A1 (ja) * 2010-08-17 2012-02-23 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
WO2012108345A1 (ja) * 2011-02-08 2012-08-16 旭硝子株式会社 ガラス組成物およびガラス組成物を用いた太陽電池用ガラス基板、並びにディスプレイパネル用ガラス基板
WO2012121283A1 (ja) * 2011-03-08 2012-09-13 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
US20120282450A1 (en) * 2011-03-14 2012-11-08 Takahiro Kawaguchi Alkali-free glass
JP2013014510A (ja) * 2003-12-26 2013-01-24 Asahi Glass Co Ltd 無アルカリガラス基板および液晶ディスプレイパネル
WO2014087971A1 (ja) * 2012-12-05 2014-06-12 旭硝子株式会社 無アルカリガラス基板
JP2014529572A (ja) * 2011-09-02 2014-11-13 エルジー・ケム・リミテッド 無アルカリガラス及びその製造方法
JP2015051918A (ja) * 2014-11-06 2015-03-19 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
WO2016159345A1 (ja) * 2015-04-03 2016-10-06 日本電気硝子株式会社 ガラス
WO2017002807A1 (ja) * 2015-06-30 2017-01-05 AvanStrate株式会社 ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法
WO2017002808A1 (ja) * 2015-06-30 2017-01-05 AvanStrate株式会社 ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法
US9911526B2 (en) 2010-12-27 2018-03-06 Canon Anelva Corporation Magnet unit and magnetron sputtering apparatus
JP2024074996A (ja) * 2018-10-17 2024-05-31 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス板

Cited By (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0576362A3 (fr) * 1992-06-25 1994-11-30 Saint Gobain Vitrage Verres thermiquement stables et chimiquement résistants.
USRE37920E1 (en) 1994-03-14 2002-12-03 Corning Incorporated Flat panel display
JPH08109037A (ja) * 1994-03-14 1996-04-30 Corning Inc アルミノケイ酸塩ガラス
JP2006169107A (ja) * 1994-03-14 2006-06-29 Corning Inc アルミノケイ酸塩ガラスを用いたガラスパネルの製造方法
EP0714862A1 (en) 1994-11-30 1996-06-05 Asahi Glass Company Ltd. Alkali-free glass and flat panel display
EP0729922A1 (en) * 1995-03-02 1996-09-04 Corning Incorporated Glasses for display panels
JPH0912333A (ja) * 1995-04-27 1997-01-14 A G Technol Kk 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク
WO1997011919A1 (fr) * 1995-09-28 1997-04-03 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Substrat de verre exempt d'alcalis
US5811361A (en) * 1995-09-28 1998-09-22 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass substrate
US5851939A (en) * 1995-09-28 1998-12-22 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass substrate
WO1997011920A1 (en) * 1995-09-28 1997-04-03 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass substrate
EP0787693A1 (de) * 1996-02-02 1997-08-06 Schott Glaswerke Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
JPH09263421A (ja) * 1996-03-28 1997-10-07 Asahi Glass Co Ltd 無アルカリガラスおよびフラットディスプレイパネル
KR19990012860A (ko) * 1997-07-31 1999-02-25 암라인/립퍼 알칼리가 없는 알루미노 붕규산 유리 및 그 이용/1
DE19942259C1 (de) * 1999-09-04 2001-05-17 Schott Glas Erdalkalialuminoborosilicatglas und dessen Verwendungen
WO2001017921A1 (de) 1999-09-04 2001-03-15 Schott Glas Erdalkalialuminoborosilicatglas und dessen verwendungen
JP2013014510A (ja) * 2003-12-26 2013-01-24 Asahi Glass Co Ltd 無アルカリガラス基板および液晶ディスプレイパネル
WO2012023470A1 (ja) * 2010-08-17 2012-02-23 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
US9023744B2 (en) 2010-08-17 2015-05-05 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass
US9911526B2 (en) 2010-12-27 2018-03-06 Canon Anelva Corporation Magnet unit and magnetron sputtering apparatus
WO2012108345A1 (ja) * 2011-02-08 2012-08-16 旭硝子株式会社 ガラス組成物およびガラス組成物を用いた太陽電池用ガラス基板、並びにディスプレイパネル用ガラス基板
CN103347832A (zh) * 2011-02-08 2013-10-09 旭硝子株式会社 玻璃组合物及使用玻璃组合物的太阳能电池用玻璃基板、以及显示面板用玻璃基板
CN103313948A (zh) * 2011-03-08 2013-09-18 日本电气硝子株式会社 无碱玻璃
JP2012184146A (ja) * 2011-03-08 2012-09-27 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス
CN103313948B (zh) * 2011-03-08 2016-02-17 日本电气硝子株式会社 无碱玻璃
WO2012121283A1 (ja) * 2011-03-08 2012-09-13 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
US8785336B2 (en) 2011-03-14 2014-07-22 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass
US20120282450A1 (en) * 2011-03-14 2012-11-08 Takahiro Kawaguchi Alkali-free glass
JP2014529572A (ja) * 2011-09-02 2014-11-13 エルジー・ケム・リミテッド 無アルカリガラス及びその製造方法
JPWO2014087971A1 (ja) * 2012-12-05 2017-01-05 旭硝子株式会社 無アルカリガラス基板
WO2014087971A1 (ja) * 2012-12-05 2014-06-12 旭硝子株式会社 無アルカリガラス基板
US9505650B2 (en) 2012-12-05 2016-11-29 Asahi Glass Company, Limited Non-alkali glass substrate
JP2015051918A (ja) * 2014-11-06 2015-03-19 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
JPWO2016159345A1 (ja) * 2015-04-03 2018-02-01 日本電気硝子株式会社 ガラス
WO2016159345A1 (ja) * 2015-04-03 2016-10-06 日本電気硝子株式会社 ガラス
JP2021063010A (ja) * 2015-04-03 2021-04-22 日本電気硝子株式会社 ガラス
CN107735376A (zh) * 2015-06-30 2018-02-23 安瀚视特控股株式会社 显示器用玻璃基板及其制造方法
WO2017002808A1 (ja) * 2015-06-30 2017-01-05 AvanStrate株式会社 ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法
CN107709257A (zh) * 2015-06-30 2018-02-16 安瀚视特控股株式会社 显示器用玻璃基板及其制造方法
JPWO2017002808A1 (ja) * 2015-06-30 2018-04-12 AvanStrate株式会社 ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法
JPWO2017002807A1 (ja) * 2015-06-30 2018-04-26 AvanStrate株式会社 ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法
CN109133615A (zh) * 2015-06-30 2019-01-04 安瀚视特控股株式会社 显示器用玻璃基板及其制造方法
US10927034B2 (en) 2015-06-30 2021-02-23 Avanstrate Inc. Glass substrate for display and method for producing same
WO2017002807A1 (ja) * 2015-06-30 2017-01-05 AvanStrate株式会社 ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法
US11069716B2 (en) 2015-06-30 2021-07-20 Avanstrate Inc. Glass substrate for display and method for producing same
CN109133615B (zh) * 2015-06-30 2022-05-10 安瀚视特控股株式会社 显示器用玻璃基板及其制造方法
JP2024074996A (ja) * 2018-10-17 2024-05-31 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス板

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