JPH04175242A - 無アルカリガラス - Google Patents
無アルカリガラスInfo
- Publication number
- JPH04175242A JPH04175242A JP29891590A JP29891590A JPH04175242A JP H04175242 A JPH04175242 A JP H04175242A JP 29891590 A JP29891590 A JP 29891590A JP 29891590 A JP29891590 A JP 29891590A JP H04175242 A JPH04175242 A JP H04175242A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- 15mol
- cao
- mgo
- alkali glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、各種デイスプレィやフォトマスク用基板ガラ
スとして好適な、アルカリ金属酸化物を実質上含有せず
、フロート成形の可能な無アルカリガラスに関するもの
である。
スとして好適な、アルカリ金属酸化物を実質上含有せず
、フロート成形の可能な無アルカリガラスに関するもの
である。
C従来の技術]
従来、各種デイスプレィ用ガラス、特に表面に金属ない
し酸化物薄膜等を形成させるものでは、以下に示すよう
な特性が要求されている。
し酸化物薄膜等を形成させるものでは、以下に示すよう
な特性が要求されている。
・薄膜形成工程で高温にさらされるため、高い歪点を有
していること。
していること。
・アルカリ金属酸化物を含有していると、アルカリ金属
イオンが薄膜中に拡散して、膜特性を劣化させてしまう
ため、実質的にアルカリ金属イオンを含まないこと。
イオンが薄膜中に拡散して、膜特性を劣化させてしまう
ため、実質的にアルカリ金属イオンを含まないこと。
・内部及び表面に欠点(泡、脈理、インクルージヨン、
ビット、キズ、etc )をもたないこと。
ビット、キズ、etc )をもたないこと。
・洗浄工程に耐えるような化学耐久性を有すること。
特に、近年、ガラス基板上に半導体トランジスター等を
形成するいわゆるa−Si−TFT(Thin Fil
m Transistor)タイプの液晶デイスプレィ
が増えてきている。これらを満足するガラスとしてコー
ニング社の# 7059等が使用されているが、歪点が
600℃程度であるため、さらに高温での熱処理を必要
とするp−3i−TFTタイプの液晶用基板としては使
用し難いという問題点があった。
形成するいわゆるa−Si−TFT(Thin Fil
m Transistor)タイプの液晶デイスプレィ
が増えてきている。これらを満足するガラスとしてコー
ニング社の# 7059等が使用されているが、歪点が
600℃程度であるため、さらに高温での熱処理を必要
とするp−3i−TFTタイプの液晶用基板としては使
用し難いという問題点があった。
一方、p−5i−TPTで要求されている650℃以上
のの歪点を有するガラスとしては、特開昭58−32O
3038に開示されているガラスがあるが、該ガラス組
成には、酸化鉛を含有しているため、調合設備・溶解設
備・研磨設備等に除外装置を設置しなければならない。
のの歪点を有するガラスとしては、特開昭58−32O
3038に開示されているガラスがあるが、該ガラス組
成には、酸化鉛を含有しているため、調合設備・溶解設
備・研磨設備等に除外装置を設置しなければならない。
また、作業環境として好ましくないことは明かである。
成形法としては、フロート法が幅広のものを成形できる
という利点のほか、大量生産が可能なため低コストでガ
ラス基板を供給できると言う点から最も好ましいが、こ
れらのガラスは、主としてロールアウト法ないしフュー
ジョン法で製造されてきた。しかし、ロールアウト法で
はガラスを研磨しなければならないという欠点、フュー
ジョン法では、最大成形サイズが1m程度で将来の大型
液晶デイスプレィへの対応に不安があるという欠点があ
った。
という利点のほか、大量生産が可能なため低コストでガ
ラス基板を供給できると言う点から最も好ましいが、こ
れらのガラスは、主としてロールアウト法ないしフュー
ジョン法で製造されてきた。しかし、ロールアウト法で
はガラスを研磨しなければならないという欠点、フュー
ジョン法では、最大成形サイズが1m程度で将来の大型
液晶デイスプレィへの対応に不安があるという欠点があ
った。
C本発明の解決しようとする課題〕
本発明の目的は、上記欠点を解決し
・実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず・耐熱性に優
れ ・低い熱膨張係数を有し ・化学耐久性に優れ ・気泡・脈理の除去の容易な溶融性のよく・フロート法
による成形の可能な 基板ガラスを供することを目的としている。
れ ・低い熱膨張係数を有し ・化学耐久性に優れ ・気泡・脈理の除去の容易な溶融性のよく・フロート法
による成形の可能な 基板ガラスを供することを目的としている。
[課題を解決するための手段]
本発明のガラスは前述の問題点を解決すべ(なされたも
のであり モルパーセントで 5iOa 55〜65% A1.Os 5〜15% B、0. 0.1〜5% MgO 5〜15% CaO5〜15% SrO 1〜9% BaO1〜9% ZnO 0〜3% を含有しこれらの成分の合計が95%以上であることを
特徴とするガラスである。
のであり モルパーセントで 5iOa 55〜65% A1.Os 5〜15% B、0. 0.1〜5% MgO 5〜15% CaO5〜15% SrO 1〜9% BaO1〜9% ZnO 0〜3% を含有しこれらの成分の合計が95%以上であることを
特徴とするガラスである。
構成の詳細説明
以下、本発明におけるガラス組成範囲限定の理白につい
て説明する。
て説明する。
5insは、ガラスのネットワークホーマーであり、6
5%を越えると粘性が高(なり、溶融性が低下するので
好ましくない。他方、SiO□が55%未満では、ガラ
スの耐久性が悪化すると共に、膨張係数が大きくなり好
ましくない。
5%を越えると粘性が高(なり、溶融性が低下するので
好ましくない。他方、SiO□が55%未満では、ガラ
スの耐久性が悪化すると共に、膨張係数が大きくなり好
ましくない。
SiOxは、上記範囲中57−63%の範囲がより好ま
しい。
しい。
A1□0.はガラスの安定化のために添加される。5%
より少ないと化学耐久性が悪くなり、15%より多い場
合には溶融性が悪化し、MgO・Aft(hの結晶が析
出し易くなるので、好ましくない。A1.O,は、上記
範囲中7−13%の範囲がより好ましい。
より少ないと化学耐久性が悪くなり、15%より多い場
合には溶融性が悪化し、MgO・Aft(hの結晶が析
出し易くなるので、好ましくない。A1.O,は、上記
範囲中7−13%の範囲がより好ましい。
B2O30.は、熱膨張率を上昇させることなく、高温
での粘性を低下させる効果がある。B2O3が0.1%
未満では、かかる効果が、実質的に獲られず、5%を超
えると化学耐久性が低下するので好ましくない。B25
sは、上記範囲中0.1%−3%の範囲がより好ましい
。
での粘性を低下させる効果がある。B2O3が0.1%
未満では、かかる効果が、実質的に獲られず、5%を超
えると化学耐久性が低下するので好ましくない。B25
sは、上記範囲中0.1%−3%の範囲がより好ましい
。
MgOは、熱膨張係数を増大させることなく溶融性を向
上させる効果がある。MgOが、5%未満では、かかる
効果が少なく、15%を越えるとMgO・A1.0.あ
るいは、MgO3iO□結晶が析出し易(なるので、い
ずれも好ましくない。MgOは、上記範囲中7%−13
%が好ましい。
上させる効果がある。MgOが、5%未満では、かかる
効果が少なく、15%を越えるとMgO・A1.0.あ
るいは、MgO3iO□結晶が析出し易(なるので、い
ずれも好ましくない。MgOは、上記範囲中7%−13
%が好ましい。
CaOは、溶融性を向上させ失透温度を抑制する効果が
あるが、5%未満ではかかる効果が不充分であり、15
%を越えると膨張率が大きくなりすぎ、またCaO・A
1□03・SiO□の結晶が析出し、いずれも好ましく
ない。CaOば、7−13%の範囲がより好ましい。
あるが、5%未満ではかかる効果が不充分であり、15
%を越えると膨張率が大きくなりすぎ、またCaO・A
1□03・SiO□の結晶が析出し、いずれも好ましく
ない。CaOば、7−13%の範囲がより好ましい。
SrOば、添加することにより、CaOとほぼ同様の効
果が得られる。SrOが1%未満では、かかる効果が少
なく、9%を越えると膨張率が太き(なりすぎ、いずれ
も好ましくない。SrOは、2−7%の範囲がより好ま
しい。
果が得られる。SrOが1%未満では、かかる効果が少
なく、9%を越えると膨張率が太き(なりすぎ、いずれ
も好ましくない。SrOは、2−7%の範囲がより好ま
しい。
BaOば、添加することにより、CaOとほぼ同様の効
果が得られる。BaOが1%未満では、かかる効果が少
なく、9%を越えると膨張率が大きくなりすぎ、いずれ
も好ましくない。BaOは、2−7%の範囲がより好ま
しい。
果が得られる。BaOが1%未満では、かかる効果が少
なく、9%を越えると膨張率が大きくなりすぎ、いずれ
も好ましくない。BaOは、2−7%の範囲がより好ま
しい。
ZnOは、フロートバス中で還元され、蒸発し表層部に
異質層を形成しフロート成形が難しくなるので3%以下
であることが望ましい。ZnOは、O−1,5%の範囲
がより好ましい。
異質層を形成しフロート成形が難しくなるので3%以下
であることが望ましい。ZnOは、O−1,5%の範囲
がより好ましい。
成形性等を改善するため、 5%以下のPbO1TiO
a、ZrOx、P2O5、F、CI等を添加することが
出来る。
a、ZrOx、P2O5、F、CI等を添加することが
出来る。
本発明のガラスは、例えば次のような方法で製造できる
。通常使用される各成分の原料を目標成分になるように
調合し、これを溶融炉に連続的に投入し、1500〜1
600°Cに加熱して溶融する。この溶融ガラスをフロ
ート法により所定の板厚に成形し、徐冷後切断する。
。通常使用される各成分の原料を目標成分になるように
調合し、これを溶融炉に連続的に投入し、1500〜1
600°Cに加熱して溶融する。この溶融ガラスをフロ
ート法により所定の板厚に成形し、徐冷後切断する。
[実施例]
表1に本発明(No、1〜No、6)の実施例を示す。
各成分の原料を目標組成となるように調合し、白金坩堝
を用いて1500〜1600°Cの温度で5〜4時間加
熱し溶融した。
を用いて1500〜1600°Cの温度で5〜4時間加
熱し溶融した。
溶融にあたっては白金スターラーを挿入し1〜2時間撹
拌しガラスの均質化を行った。
拌しガラスの均質化を行った。
次いで溶融ガラスを流し出し、板状に成形後徐冷した。
また、小型フロート炉でチエツクしたフロート成形性を
示した。
示した。
表1にはガラス組成、熱膨張係数、高温粘度、失透温・
度、歪点、耐水性、耐酸性を示した。耐水性は、95℃
のイオン交換水中に40時間浸漬した後、重量減を測定
し、それをガラスの単位製面積当りに換算して示した。
度、歪点、耐水性、耐酸性を示した。耐水性は、95℃
のイオン交換水中に40時間浸漬した後、重量減を測定
し、それをガラスの単位製面積当りに換算して示した。
耐酸性は、95℃の1/100規定のHN Oz中に2
O30時間浸漬した後、重量減を測定し、それをガラス
の単位製面積当りに換算して示した。
O30時間浸漬した後、重量減を測定し、それをガラス
の単位製面積当りに換算して示した。
表より明らかなように、本発明によるガラス(No、1
〜6 )は、腫脹係数40〜50X 10−’/’Cと
低い値を示し、溶解の目安となるlogη=2.5(但
し、ηはボイスで表したガラス粘度、以下同じ)になる
温度も低(、溶解が容易であることがわかる。
〜6 )は、腫脹係数40〜50X 10−’/’Cと
低い値を示し、溶解の目安となるlogη=2.5(但
し、ηはボイスで表したガラス粘度、以下同じ)になる
温度も低(、溶解が容易であることがわかる。
また、フロート成形性の目安となる1ogl=4.0に
なる温度と失透温度との差が充分に大きく、成形時に失
透が生成するなどのトラブルがなかった。
なる温度と失透温度との差が充分に大きく、成形時に失
透が生成するなどのトラブルがなかった。
歪点も 650℃以上とp−3iTPT工程で受けると
思われる高温での熱処理に充分耐えられるものと思われ
る。
思われる高温での熱処理に充分耐えられるものと思われ
る。
No、7の比較例では、フロート成形時にZnO揮敢に
より、表面に反りやデイスト−ジョンが生じる。
より、表面に反りやデイスト−ジョンが生じる。
表1
[発明の効果]
本発明によるガラスは、フロート法による成形が可能で
ある。また、溶融・成形性に優れ、耐熱性に優れ、かつ
低い熱膨張係数を有しているのでp−5iTFTタイプ
のl夜晶デイスプレィ用基板に最適である。また、それ
以外にもEL(エレクトロルミネッセンス)用基板、フ
ォトマスク用基板にも好適である。
ある。また、溶融・成形性に優れ、耐熱性に優れ、かつ
低い熱膨張係数を有しているのでp−5iTFTタイプ
のl夜晶デイスプレィ用基板に最適である。また、それ
以外にもEL(エレクトロルミネッセンス)用基板、フ
ォトマスク用基板にも好適である。
′ご4か−
手続補正書
平成3年3月lk日
Claims (2)
- (1)モルパーセントで SiO_255〜65% Al_2O_35〜15% B_2O_30.1〜5% MgO5〜15% CaO5〜15% SrO1〜9% BaO5〜9% ZnO0〜3% からなり、アルカリ酸化物を実質的に含有せず、これら
の成分の合計が95%以上である無アルカリガラス - (2)モルパーセントで実質的に SiO_257〜63% Al_2O_37〜13% B_2O_30.1〜3% MgO7〜13% CaO7〜13% SrO2〜7% BaO2〜7% ZnO0〜1.5% からなる特許請求の範囲第1項記載の無アルカリガラス
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29891590A JPH04175242A (ja) | 1990-11-06 | 1990-11-06 | 無アルカリガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29891590A JPH04175242A (ja) | 1990-11-06 | 1990-11-06 | 無アルカリガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04175242A true JPH04175242A (ja) | 1992-06-23 |
Family
ID=17865823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29891590A Pending JPH04175242A (ja) | 1990-11-06 | 1990-11-06 | 無アルカリガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04175242A (ja) |
Cited By (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0576362A3 (fr) * | 1992-06-25 | 1994-11-30 | Saint Gobain Vitrage | Verres thermiquement stables et chimiquement résistants. |
| JPH08109037A (ja) * | 1994-03-14 | 1996-04-30 | Corning Inc | アルミノケイ酸塩ガラス |
| EP0714862A1 (en) | 1994-11-30 | 1996-06-05 | Asahi Glass Company Ltd. | Alkali-free glass and flat panel display |
| EP0729922A1 (en) * | 1995-03-02 | 1996-09-04 | Corning Incorporated | Glasses for display panels |
| JPH0912333A (ja) * | 1995-04-27 | 1997-01-14 | A G Technol Kk | 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク |
| WO1997011919A1 (fr) * | 1995-09-28 | 1997-04-03 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Substrat de verre exempt d'alcalis |
| WO1997011920A1 (en) * | 1995-09-28 | 1997-04-03 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Alkali-free glass substrate |
| EP0787693A1 (de) * | 1996-02-02 | 1997-08-06 | Schott Glaswerke | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung |
| JPH09263421A (ja) * | 1996-03-28 | 1997-10-07 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラスおよびフラットディスプレイパネル |
| KR19990012860A (ko) * | 1997-07-31 | 1999-02-25 | 암라인/립퍼 | 알칼리가 없는 알루미노 붕규산 유리 및 그 이용/1 |
| WO2001017921A1 (de) | 1999-09-04 | 2001-03-15 | Schott Glas | Erdalkalialuminoborosilicatglas und dessen verwendungen |
| WO2012023470A1 (ja) * | 2010-08-17 | 2012-02-23 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
| WO2012108345A1 (ja) * | 2011-02-08 | 2012-08-16 | 旭硝子株式会社 | ガラス組成物およびガラス組成物を用いた太陽電池用ガラス基板、並びにディスプレイパネル用ガラス基板 |
| WO2012121283A1 (ja) * | 2011-03-08 | 2012-09-13 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
| US20120282450A1 (en) * | 2011-03-14 | 2012-11-08 | Takahiro Kawaguchi | Alkali-free glass |
| JP2013014510A (ja) * | 2003-12-26 | 2013-01-24 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラス基板および液晶ディスプレイパネル |
| WO2014087971A1 (ja) * | 2012-12-05 | 2014-06-12 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラス基板 |
| JP2014529572A (ja) * | 2011-09-02 | 2014-11-13 | エルジー・ケム・リミテッド | 無アルカリガラス及びその製造方法 |
| JP2015051918A (ja) * | 2014-11-06 | 2015-03-19 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
| WO2016159345A1 (ja) * | 2015-04-03 | 2016-10-06 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス |
| WO2017002807A1 (ja) * | 2015-06-30 | 2017-01-05 | AvanStrate株式会社 | ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法 |
| WO2017002808A1 (ja) * | 2015-06-30 | 2017-01-05 | AvanStrate株式会社 | ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法 |
| US9911526B2 (en) | 2010-12-27 | 2018-03-06 | Canon Anelva Corporation | Magnet unit and magnetron sputtering apparatus |
| JP2024074996A (ja) * | 2018-10-17 | 2024-05-31 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス板 |
-
1990
- 1990-11-06 JP JP29891590A patent/JPH04175242A/ja active Pending
Cited By (47)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0576362A3 (fr) * | 1992-06-25 | 1994-11-30 | Saint Gobain Vitrage | Verres thermiquement stables et chimiquement résistants. |
| USRE37920E1 (en) | 1994-03-14 | 2002-12-03 | Corning Incorporated | Flat panel display |
| JPH08109037A (ja) * | 1994-03-14 | 1996-04-30 | Corning Inc | アルミノケイ酸塩ガラス |
| JP2006169107A (ja) * | 1994-03-14 | 2006-06-29 | Corning Inc | アルミノケイ酸塩ガラスを用いたガラスパネルの製造方法 |
| EP0714862A1 (en) | 1994-11-30 | 1996-06-05 | Asahi Glass Company Ltd. | Alkali-free glass and flat panel display |
| EP0729922A1 (en) * | 1995-03-02 | 1996-09-04 | Corning Incorporated | Glasses for display panels |
| JPH0912333A (ja) * | 1995-04-27 | 1997-01-14 | A G Technol Kk | 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク |
| WO1997011919A1 (fr) * | 1995-09-28 | 1997-04-03 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Substrat de verre exempt d'alcalis |
| US5811361A (en) * | 1995-09-28 | 1998-09-22 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Alkali-free glass substrate |
| US5851939A (en) * | 1995-09-28 | 1998-12-22 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Alkali-free glass substrate |
| WO1997011920A1 (en) * | 1995-09-28 | 1997-04-03 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Alkali-free glass substrate |
| EP0787693A1 (de) * | 1996-02-02 | 1997-08-06 | Schott Glaswerke | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung |
| JPH09263421A (ja) * | 1996-03-28 | 1997-10-07 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラスおよびフラットディスプレイパネル |
| KR19990012860A (ko) * | 1997-07-31 | 1999-02-25 | 암라인/립퍼 | 알칼리가 없는 알루미노 붕규산 유리 및 그 이용/1 |
| DE19942259C1 (de) * | 1999-09-04 | 2001-05-17 | Schott Glas | Erdalkalialuminoborosilicatglas und dessen Verwendungen |
| WO2001017921A1 (de) | 1999-09-04 | 2001-03-15 | Schott Glas | Erdalkalialuminoborosilicatglas und dessen verwendungen |
| JP2013014510A (ja) * | 2003-12-26 | 2013-01-24 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラス基板および液晶ディスプレイパネル |
| WO2012023470A1 (ja) * | 2010-08-17 | 2012-02-23 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
| US9023744B2 (en) | 2010-08-17 | 2015-05-05 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Alkali-free glass |
| US9911526B2 (en) | 2010-12-27 | 2018-03-06 | Canon Anelva Corporation | Magnet unit and magnetron sputtering apparatus |
| WO2012108345A1 (ja) * | 2011-02-08 | 2012-08-16 | 旭硝子株式会社 | ガラス組成物およびガラス組成物を用いた太陽電池用ガラス基板、並びにディスプレイパネル用ガラス基板 |
| CN103347832A (zh) * | 2011-02-08 | 2013-10-09 | 旭硝子株式会社 | 玻璃组合物及使用玻璃组合物的太阳能电池用玻璃基板、以及显示面板用玻璃基板 |
| CN103313948A (zh) * | 2011-03-08 | 2013-09-18 | 日本电气硝子株式会社 | 无碱玻璃 |
| JP2012184146A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-09-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス |
| CN103313948B (zh) * | 2011-03-08 | 2016-02-17 | 日本电气硝子株式会社 | 无碱玻璃 |
| WO2012121283A1 (ja) * | 2011-03-08 | 2012-09-13 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
| US8785336B2 (en) | 2011-03-14 | 2014-07-22 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Alkali-free glass |
| US20120282450A1 (en) * | 2011-03-14 | 2012-11-08 | Takahiro Kawaguchi | Alkali-free glass |
| JP2014529572A (ja) * | 2011-09-02 | 2014-11-13 | エルジー・ケム・リミテッド | 無アルカリガラス及びその製造方法 |
| JPWO2014087971A1 (ja) * | 2012-12-05 | 2017-01-05 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラス基板 |
| WO2014087971A1 (ja) * | 2012-12-05 | 2014-06-12 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラス基板 |
| US9505650B2 (en) | 2012-12-05 | 2016-11-29 | Asahi Glass Company, Limited | Non-alkali glass substrate |
| JP2015051918A (ja) * | 2014-11-06 | 2015-03-19 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
| JPWO2016159345A1 (ja) * | 2015-04-03 | 2018-02-01 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス |
| WO2016159345A1 (ja) * | 2015-04-03 | 2016-10-06 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス |
| JP2021063010A (ja) * | 2015-04-03 | 2021-04-22 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス |
| CN107735376A (zh) * | 2015-06-30 | 2018-02-23 | 安瀚视特控股株式会社 | 显示器用玻璃基板及其制造方法 |
| WO2017002808A1 (ja) * | 2015-06-30 | 2017-01-05 | AvanStrate株式会社 | ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法 |
| CN107709257A (zh) * | 2015-06-30 | 2018-02-16 | 安瀚视特控股株式会社 | 显示器用玻璃基板及其制造方法 |
| JPWO2017002808A1 (ja) * | 2015-06-30 | 2018-04-12 | AvanStrate株式会社 | ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法 |
| JPWO2017002807A1 (ja) * | 2015-06-30 | 2018-04-26 | AvanStrate株式会社 | ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法 |
| CN109133615A (zh) * | 2015-06-30 | 2019-01-04 | 安瀚视特控股株式会社 | 显示器用玻璃基板及其制造方法 |
| US10927034B2 (en) | 2015-06-30 | 2021-02-23 | Avanstrate Inc. | Glass substrate for display and method for producing same |
| WO2017002807A1 (ja) * | 2015-06-30 | 2017-01-05 | AvanStrate株式会社 | ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法 |
| US11069716B2 (en) | 2015-06-30 | 2021-07-20 | Avanstrate Inc. | Glass substrate for display and method for producing same |
| CN109133615B (zh) * | 2015-06-30 | 2022-05-10 | 安瀚视特控股株式会社 | 显示器用玻璃基板及其制造方法 |
| JP2024074996A (ja) * | 2018-10-17 | 2024-05-31 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス板 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH04325435A (ja) | 無アルカリガラス | |
| EP0527320B1 (en) | Flat panel display device comprising a strontium aluminosilicate glass substrate | |
| EP0528114B1 (en) | Flat panel display comprising an alkaline earth aluminoborosilicate glass substrate | |
| CN101784494B (zh) | 玻璃板及其制造方法以及tft面板的制造方法 | |
| US6858552B2 (en) | Alkali-free aluminoborosilicate glasses and uses thereof | |
| JP3988209B2 (ja) | 無アルカリガラスおよび液晶ディスプレイパネル | |
| JP4944354B2 (ja) | アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラスおよびその使用方法 | |
| US5116788A (en) | Alkaline earth aluminoborosilicate glasses for flat panel displays | |
| KR960000032B1 (ko) | 무알칼리 유리 | |
| JPH1072237A5 (ja) | ||
| JPWO1997011920A1 (ja) | 無アルカリガラス基板 | |
| WO1997011920A1 (en) | Alkali-free glass substrate | |
| WO2018192380A1 (zh) | 玻璃用组合物、碱土铝硅酸盐玻璃及其制备方法和应用 | |
| CN111302619B (zh) | 一种无碱铝硼硅酸盐玻璃及其制备方法 | |
| JP3901757B2 (ja) | 無アルカリガラス、液晶ディスプレイパネルおよびガラス板 | |
| CN114751643A (zh) | 无碱玻璃 | |
| JP4250208B2 (ja) | ディスプレイ基板用無アルカリガラス及び液晶ディスプレイパネル | |
| CN111484244A (zh) | 一种低密度高应变点的无碱电子玻璃及其制备方法 | |
| JP2024074996A (ja) | 無アルカリガラス板 | |
| JPH0825772B2 (ja) | 電子機器の基板用ガラス | |
| JPH01201041A (ja) | ディスプレイ基板用無アルカリガラス | |
| JPH01126239A (ja) | 電子機器用ガラス基板 | |
| JPH09110460A (ja) | 無アルカリガラス | |
| CN102584008B (zh) | 一种用于lcd的轻质环保型无碱硼铝硅酸盐玻璃的配方 | |
| CN116143400B (zh) | 用于制备超薄玻璃的组合物、超薄玻璃及其制备方法和应用 |