JPH04175648A - 螢光x線分析装置 - Google Patents
螢光x線分析装置Info
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- JPH04175648A JPH04175648A JP30586590A JP30586590A JPH04175648A JP H04175648 A JPH04175648 A JP H04175648A JP 30586590 A JP30586590 A JP 30586590A JP 30586590 A JP30586590 A JP 30586590A JP H04175648 A JPH04175648 A JP H04175648A
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- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 28
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- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 3
- 238000007405 data analysis Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- TVEXGJYMHHTVKP-UHFFFAOYSA-N 6-oxabicyclo[3.2.1]oct-3-en-7-one Chemical compound C1C2C(=O)OC1C=CC2 TVEXGJYMHHTVKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は螢光X線分析装置に関する。
第3図は従来までの螢光X線分析装置を示し、同図にお
いて、X線管1からの一次X線がコリメータ2を介して
試料ステージ3上の試料4の一部に照射され、螢光X線
を発生する。この螢光X線はたとえば半導体検出器(S
SD)よりなるX線検出器5で検出される。上記X線検
出器5からの出力はパルスプロセッサー6で処理され、
試料中に含まれる元素とその強度を判別する。その後、
このパルスプロセッサー6からの信号はコンピュータ7
に入力され、画像処理装置8にて画像表示を行う。
いて、X線管1からの一次X線がコリメータ2を介して
試料ステージ3上の試料4の一部に照射され、螢光X線
を発生する。この螢光X線はたとえば半導体検出器(S
SD)よりなるX線検出器5で検出される。上記X線検
出器5からの出力はパルスプロセッサー6で処理され、
試料中に含まれる元素とその強度を判別する。その後、
このパルスプロセッサー6からの信号はコンピュータ7
に入力され、画像処理装置8にて画像表示を行う。
試料4における測定点の指定は、試料4の上方に設けら
れたテレビカメラ11によって試料4を撮像し、その試
料像をテレビモニタ12に表示することにより試料4の
一部を目視it認できるようにしておく、その後、試料
ステージ3を所定の方向に移動させるステージコントロ
ーラ9をたとえばジョイスティック10などを操作する
ことにより試料ステージ3を移動させ、前記X線が照射
される位置(ここではテレビモニタ12にあらかじめ設
けられたスケール]3の中心)に試料4の測定点を移動
させてその部分の測定を行う。
れたテレビカメラ11によって試料4を撮像し、その試
料像をテレビモニタ12に表示することにより試料4の
一部を目視it認できるようにしておく、その後、試料
ステージ3を所定の方向に移動させるステージコントロ
ーラ9をたとえばジョイスティック10などを操作する
ことにより試料ステージ3を移動させ、前記X線が照射
される位置(ここではテレビモニタ12にあらかじめ設
けられたスケール]3の中心)に試料4の測定点を移動
させてその部分の測定を行う。
また、測定点が複数ある場合には、あらかしめそれぞれ
の測定点をジョイスティック10の操作により試料ステ
ージ3を移動させて、各測定点の位置を試料ステージ3
のX−Y位置としてコンピュータ7に記憶させておき、
測定時にはコンピュータ7に記憶された位置毎に再び試
料ステージ3を移動させて測定をおこなう。
の測定点をジョイスティック10の操作により試料ステ
ージ3を移動させて、各測定点の位置を試料ステージ3
のX−Y位置としてコンピュータ7に記憶させておき、
測定時にはコンピュータ7に記憶された位置毎に再び試
料ステージ3を移動させて測定をおこなう。
しかしながら、測定点が複数ある場合には、1回1回試
料ステージ3を移動させてその都度コンピュータ7に各
測定点をメモリーしなければならず、また、測定点のi
I認や修正を行う場合にも試料ステージ3を移動させる
必要があり非常に時間のかかる作業であった。さらに、
テレビモニタ12に表示される試料像と設定した複数の
測定点を同時に見ることができないので極めて操作性が
悪かった。
料ステージ3を移動させてその都度コンピュータ7に各
測定点をメモリーしなければならず、また、測定点のi
I認や修正を行う場合にも試料ステージ3を移動させる
必要があり非常に時間のかかる作業であった。さらに、
テレビモニタ12に表示される試料像と設定した複数の
測定点を同時に見ることができないので極めて操作性が
悪かった。
本発明は、上述の事柄に留意してなされたもので、その
目的とするところは、非常に短時間で高精度な測定を可
能にするとともに極めて操作性に優れた螢光X線分析装
置を提供することにある。
目的とするところは、非常に短時間で高精度な測定を可
能にするとともに極めて操作性に優れた螢光X線分析装
置を提供することにある。
上述の目的を達成するため、本発明に係る螢光X線分析
装置は、テレビカメラからの信号とコンピュータからの
信号とをスーパーインポーズ装置に入力し、これらの信
号を画像処理装置に入力してテレビカメラによる試料像
とコンピュータからの画像を同一の画面上に重ね合わせ
るようにした点に特徴がある。
装置は、テレビカメラからの信号とコンピュータからの
信号とをスーパーインポーズ装置に入力し、これらの信
号を画像処理装置に入力してテレビカメラによる試料像
とコンピュータからの画像を同一の画面上に重ね合わせ
るようにした点に特徴がある。
上記特徴構成によれば、たとえ測定点が複数ある場合で
も試料ステージを移動させることなく測定点の設定がで
き、且つ、試料像と設定した複数の測定点を同一画面上
で観察できるため設定時間が大幅に短縮するとともに操
作性も向上する。
も試料ステージを移動させることなく測定点の設定がで
き、且つ、試料像と設定した複数の測定点を同一画面上
で観察できるため設定時間が大幅に短縮するとともに操
作性も向上する。
また、試料像とXvAマツピング像を同一画面上に重ね
合わせることもできるためデータ解析が容易になる。
合わせることもできるためデータ解析が容易になる。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は本発明に係る螢光X線分析装置の一例を示し、
この図において、第3図に示す符号と同一のものは同一
物または相当物を示す。
この図において、第3図に示す符号と同一のものは同一
物または相当物を示す。
ここで、この螢光X線分析装置が従来の螢光X線分析装
置と大きく異なる点は、テレビカメラ11からの信号と
コンピュータ7からの信号とをスーパーインポーズ装置
14に入力し、これらの信号を画像処理装置8に入力し
てテレビカメラ11による試料像とコンピュータ7から
の画像を同一の画面上に重ね合わせるようにした点であ
る。
置と大きく異なる点は、テレビカメラ11からの信号と
コンピュータ7からの信号とをスーパーインポーズ装置
14に入力し、これらの信号を画像処理装置8に入力し
てテレビカメラ11による試料像とコンピュータ7から
の画像を同一の画面上に重ね合わせるようにした点であ
る。
即ち、テレビカメラ11で捉えた試料像の一部をスーパ
ーインポーズ装置14に入力し、その後、画像処理装置
8で画像表示を行い、その同一画面上にコンピュータ7
からの信号による画像をスーパーインポーズ装置14を
介して重ね合わせているのである。
ーインポーズ装置14に入力し、その後、画像処理装置
8で画像表示を行い、その同一画面上にコンピュータ7
からの信号による画像をスーパーインポーズ装置14を
介して重ね合わせているのである。
第2図は画像処理装置8における上記画像の表示状態を
示し、同図においてAは試#J4に照射される一次Xv
Aの照射位置を示し、Bはコンピュータ画像におけるカ
ーソル位置を示す、なお、本実施例ではカーソル位置B
の移動手段として例えばマウス15を用い、このマウス
15の移動に対応してカーソル位置Bが移動するように
しである。
示し、同図においてAは試#J4に照射される一次Xv
Aの照射位置を示し、Bはコンピュータ画像におけるカ
ーソル位置を示す、なお、本実施例ではカーソル位置B
の移動手段として例えばマウス15を用い、このマウス
15の移動に対応してカーソル位置Bが移動するように
しである。
次に測定点を指定するには、あらかじめ設けられた測定
枠M内において、上記マウス15によりカーソル位置B
を測定点に移動させ、その位置でマウス15のボタンを
操作することによりコンピュータ7に信号を送り、その
位置をコンピュータ7に記憶させると同時に画面上に測
定点Cとして表示を行う、そして、複数箇所について測
定を行う場合には他の測定点Cについても同様に、順次
コンビューク7に記憶させていく。
枠M内において、上記マウス15によりカーソル位置B
を測定点に移動させ、その位置でマウス15のボタンを
操作することによりコンピュータ7に信号を送り、その
位置をコンピュータ7に記憶させると同時に画面上に測
定点Cとして表示を行う、そして、複数箇所について測
定を行う場合には他の測定点Cについても同様に、順次
コンビューク7に記憶させていく。
そして測定時には、指定された順番にそれぞれの測定点
Cが上記−次X線照射位置Aに移動するように、コンピ
ュータ7に記憶された位置情報信号をステージコントロ
ーラ9に送信して試料ステージ3を移動させる。その後
、−次X線を試料4に照射することにより発生する螢光
X線はたとえば半導体検出Fi(SSD)よりなるX線
検出器5で検出され、その出力はパルスプロセッサー6
で処理されて、それぞれの測定点に含まれる元素とその
強度を判別する。その後、このパルスプロセッサー6か
らの信号はコンピュータ7に入力され、スーパーインポ
ーズ装W14を介して画像処理装置8で画像表示を行う
ことにより、試料4におけるX線マツピング像を前記試
料像と重ね合わせて見ることも可能となる。
Cが上記−次X線照射位置Aに移動するように、コンピ
ュータ7に記憶された位置情報信号をステージコントロ
ーラ9に送信して試料ステージ3を移動させる。その後
、−次X線を試料4に照射することにより発生する螢光
X線はたとえば半導体検出Fi(SSD)よりなるX線
検出器5で検出され、その出力はパルスプロセッサー6
で処理されて、それぞれの測定点に含まれる元素とその
強度を判別する。その後、このパルスプロセッサー6か
らの信号はコンピュータ7に入力され、スーパーインポ
ーズ装W14を介して画像処理装置8で画像表示を行う
ことにより、試料4におけるX線マツピング像を前記試
料像と重ね合わせて見ることも可能となる。
なお、その他の測定方法として画像処理袋W8の画面上
にラインを引き、そのライン上を任意に分割指定するこ
とにより測定を行うこともできる。
にラインを引き、そのライン上を任意に分割指定するこ
とにより測定を行うこともできる。
また、同一パターンの試料がある場合にはすでにコンピ
ュータ7に記憶された測定点のコピーを行うことも可能
である。
ュータ7に記憶された測定点のコピーを行うことも可能
である。
以上、本実施例では測定点Cの指定方法としてマウス1
5を用いたが、キーボード操作等によるマニュアル操作
によっても行えることは云うまでもない。
5を用いたが、キーボード操作等によるマニュアル操作
によっても行えることは云うまでもない。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、たとえ測定点が
複数ある場合でも試料ステージを移動させることなく測
定点の設定ができ、且つ、試料像と設定した複数の測定
点を同一画面上で観察できるため設定時間が大幅に短縮
するとともに操作性も向上する。
複数ある場合でも試料ステージを移動させることなく測
定点の設定ができ、且つ、試料像と設定した複数の測定
点を同一画面上で観察できるため設定時間が大幅に短縮
するとともに操作性も向上する。
また、試料像とX線マツピング像を同一画面上に重ね合
わせることもできるためデータ解析が容易になるととも
に高精度な測定が行えるようになったのである。
わせることもできるためデータ解析が容易になるととも
に高精度な測定が行えるようになったのである。
第1図および第2図は本発明の一寞施例を示し、第1図
は螢光XvA分析装置を示す全体構成図、第2図はスー
パーインポーズ画面を示す図である。 第3図は従来の螢光xvA分析装置を示す全体構成図で
ある。 1・・・X線管、3・・・試料ステージ、4・・・試料
、5・・・XvA検出器、6・・・パルスプロセッサ、
7・・・コンピュータ、8・・・画像処理装置、9・・
・ステージコントローラ、11・・・テレビカメラ、1
4・・・スーパーインポーズ装置。 出 願 人 株式会社 堀場製作所 代 理 人 弁理士 藤本英夫 第3図
は螢光XvA分析装置を示す全体構成図、第2図はスー
パーインポーズ画面を示す図である。 第3図は従来の螢光xvA分析装置を示す全体構成図で
ある。 1・・・X線管、3・・・試料ステージ、4・・・試料
、5・・・XvA検出器、6・・・パルスプロセッサ、
7・・・コンピュータ、8・・・画像処理装置、9・・
・ステージコントローラ、11・・・テレビカメラ、1
4・・・スーパーインポーズ装置。 出 願 人 株式会社 堀場製作所 代 理 人 弁理士 藤本英夫 第3図
Claims (1)
- 試料を載置する試料ステージと、前記試料にX線を照射
するX線管と、該X線照射により前記試料において生ず
る螢光X線を検出するX線検出器と、このX線検出器の
出力に基づいて試料中に含まれる元素とその強度を判別
するパルスプロセッサーと、このパルスプロセッサーか
らの信号が入力されるコンピュータと、このコンピュー
タの出力を処理して画像表示する画像処理装置と、前記
コンピュータからの制御信号に基づいて前記試料ステー
ジを所定の方向に移動させるステージコントローラと、
前記試料の像をモニターするためのテレビカメラとから
なる螢光X線分析装置において、前記テレビカメラから
の信号と前記コンピュータからの信号とをスーパーイン
ポーズ装置に入力し、これらの信号を画像処理装置に入
力して前記テレビカメラによる試料像と前記コンピュー
タからの画像を同一の画面上に重ね合わせるようにした
ことを特徴とする螢光X線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30586590A JP2900086B2 (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | 螢光x線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30586590A JP2900086B2 (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | 螢光x線分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04175648A true JPH04175648A (ja) | 1992-06-23 |
| JP2900086B2 JP2900086B2 (ja) | 1999-06-02 |
Family
ID=17950289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30586590A Expired - Lifetime JP2900086B2 (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | 螢光x線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2900086B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001281170A (ja) * | 2000-03-29 | 2001-10-10 | Nagoya Electric Works Co Ltd | 視野移動方法 |
| JP2004191183A (ja) * | 2002-12-11 | 2004-07-08 | Shimadzu Corp | 分析装置 |
| JP2007127637A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-24 | Thermo Fisher Scientific Inc | 表面分析用分光装置と分析方法 |
| US7970101B2 (en) | 2008-08-22 | 2011-06-28 | Sii Nanotechnology Inc. | X-ray analyzer and X-ray analysis method |
| JP2013224923A (ja) * | 2012-03-23 | 2013-10-31 | Rigaku Corp | X線複合装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3928014B2 (ja) * | 2004-01-23 | 2007-06-13 | 理学電機工業株式会社 | 蛍光x線分析装置 |
-
1990
- 1990-11-08 JP JP30586590A patent/JP2900086B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001281170A (ja) * | 2000-03-29 | 2001-10-10 | Nagoya Electric Works Co Ltd | 視野移動方法 |
| JP2004191183A (ja) * | 2002-12-11 | 2004-07-08 | Shimadzu Corp | 分析装置 |
| JP2007127637A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-24 | Thermo Fisher Scientific Inc | 表面分析用分光装置と分析方法 |
| US7970101B2 (en) | 2008-08-22 | 2011-06-28 | Sii Nanotechnology Inc. | X-ray analyzer and X-ray analysis method |
| JP2013224923A (ja) * | 2012-03-23 | 2013-10-31 | Rigaku Corp | X線複合装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2900086B2 (ja) | 1999-06-02 |
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