JPH04176125A - ウエハー処理装置 - Google Patents
ウエハー処理装置Info
- Publication number
- JPH04176125A JPH04176125A JP2303455A JP30345590A JPH04176125A JP H04176125 A JPH04176125 A JP H04176125A JP 2303455 A JP2303455 A JP 2303455A JP 30345590 A JP30345590 A JP 30345590A JP H04176125 A JPH04176125 A JP H04176125A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter
- chemical solution
- pump
- air
- pulsation
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- Filtration Of Liquid (AREA)
- Weting (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はウェハー処理装置に関し、特に薬液の移送方法
に関する。
に関する。
従来の半導体ウェハー（以下単にウェハーと記す）の処
理装置は、第２図に示すように、ウェハーを入れフッ酸
や硫酸等の薬液１０で処理を行うための内槽２と、内槽
２からオーバーフローした薬液１０を貯める外槽３と、
外槽３に貯まった薬液１０をフィルター６を通過させて
内槽２に流入させるエアー駆動式ポンプ４と、薬液を高
温に加熱するヒーター１とから主に構成されていた。
理装置は、第２図に示すように、ウェハーを入れフッ酸
や硫酸等の薬液１０で処理を行うための内槽２と、内槽
２からオーバーフローした薬液１０を貯める外槽３と、
外槽３に貯まった薬液１０をフィルター６を通過させて
内槽２に流入させるエアー駆動式ポンプ４と、薬液を高
温に加熱するヒーター１とから主に構成されていた。
次に動作について説明する。内槽２の高温薬液は、ウェ
ハー処理時オーバーフローして外槽３に貯まる。この薬
液１０はエアー駆動式ポンプ４によりフィルター６を通
過して内槽２に戻される。
ハー処理時オーバーフローして外槽３に貯まる。この薬
液１０はエアー駆動式ポンプ４によりフィルター６を通
過して内槽２に戻される。
この一連の動作により、内槽２に存在する塵埃等を低減
させることがてきる。
させることがてきる。
この従来のウェハー処理装置では、主にエアー駆動式ポ
ンプが用いられるか、このエアー駆動式ポンプは、吐出
側で大きい脈動か生しるため、−度はフィルターで捕獲
された塵埃かフィルターの膜から離脱し通り抜けるため
、内槽が汚染されるという問題があった。
ンプが用いられるか、このエアー駆動式ポンプは、吐出
側で大きい脈動か生しるため、−度はフィルターで捕獲
された塵埃かフィルターの膜から離脱し通り抜けるため
、内槽が汚染されるという問題があった。
本発明のウェハー処理装置は、薬液を満たし半導体ウェ
ハーを処理する内槽と、この内槽がら流出した薬液を入
れる外槽と、この外槽の薬液をフィルターを通過させて
内槽に流入さｔ！−るポンプとを有するウェハー処理装
置に於いて、前記ポンプと前記フィルターの間にポンプ
から吐出される薬液の脈動を減衰させるためのタンパ−
を設けたことを特徴とするウェハー処理装置。
ハーを処理する内槽と、この内槽がら流出した薬液を入
れる外槽と、この外槽の薬液をフィルターを通過させて
内槽に流入さｔ！−るポンプとを有するウェハー処理装
置に於いて、前記ポンプと前記フィルターの間にポンプ
から吐出される薬液の脈動を減衰させるためのタンパ−
を設けたことを特徴とするウェハー処理装置。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例の模式断面図である。
第１図においてウェハー処理装置は、薬液１０を満たし
ウェハーを処理するための内槽２と、この内槽２に接続
して設けられ、内槽２からオーバーフローした薬液を貯
める外槽３と、外槽３に貯っな薬液をフィルター６を介
して内槽２に流入さぜるエアー駆動式ポンプ４と、この
ポンプ４とフィルター６の間に設けられポンプから吐出
される薬液の脈動を減衰させるためのタンパー５とから
主に構成されている。以下動作について説明する。
ウェハーを処理するための内槽２と、この内槽２に接続
して設けられ、内槽２からオーバーフローした薬液を貯
める外槽３と、外槽３に貯っな薬液をフィルター６を介
して内槽２に流入さぜるエアー駆動式ポンプ４と、この
ポンプ４とフィルター６の間に設けられポンプから吐出
される薬液の脈動を減衰させるためのタンパー５とから
主に構成されている。以下動作について説明する。
ヒーター］により高温加熱された薬液１０は、処理槽の
内槽２からオーバーフローして外槽３に貯まり、エアー
駆動式ポンプ４によりダンパー５とフィルター６を通過
して内槽２に戻るという一連の動作を行う。
内槽２からオーバーフローして外槽３に貯まり、エアー
駆動式ポンプ４によりダンパー５とフィルター６を通過
して内槽２に戻るという一連の動作を行う。
タンパ−５は、エアー駆動式ポンプ４により生じた薬液
の脈動を減衰させるためのものであり、本実施例てはフ
ィルターニレメン１〜を取り除いたフィルターを用いて
いる。フィルターニレメン）へを取り除いたフィルター
の内部は空洞になっており、空気が充分に溜まる構造に
なっているが、エアー抜きロアとトレン口８があるのて
、空気と薬液か洩れないようにバルブ９により流路をふ
さいている。
の脈動を減衰させるためのものであり、本実施例てはフ
ィルターニレメン１〜を取り除いたフィルターを用いて
いる。フィルターニレメン）へを取り除いたフィルター
の内部は空洞になっており、空気が充分に溜まる構造に
なっているが、エアー抜きロアとトレン口８があるのて
、空気と薬液か洩れないようにバルブ９により流路をふ
さいている。
り゛ンパー５として、フィルターニレメン１〜と収り除
いたフィルターを使うがわりに箱状の１〜ラツプを用い
ても良い。但し、耐熱性、耐薬品性に富んだ材質、例え
はボリテ１〜ラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）樹脂等を
用い、極力一体成形で作る必要がある。
いたフィルターを使うがわりに箱状の１〜ラツプを用い
ても良い。但し、耐熱性、耐薬品性に富んだ材質、例え
はボリテ１〜ラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）樹脂等を
用い、極力一体成形で作る必要がある。
薬液１０の脈動減衰メカニズムはタンパ−５内部の空洞
部に残存する空気が圧縮系の気体であることから、エア
ー駆動式ポンプ４の吐出圧力であるＯ〜２ ｋｇ ／
Ｃ％の圧力変動に対して、充分に圧力の均一化が図られ
脈動を減衰できるものである。
部に残存する空気が圧縮系の気体であることから、エア
ー駆動式ポンプ４の吐出圧力であるＯ〜２ ｋｇ ／
Ｃ％の圧力変動に対して、充分に圧力の均一化が図られ
脈動を減衰できるものである。
以上説明したように本発明は、ポンプにより生じた薬液
の脈動をダンパーにより減衰させることにより、フィル
ターに大量に捕獲された塵埃がフィルターから離脱し、
通り抜ける確率を大幅に低減できる。このため処理槽の
汚染を防止することができるという効果を有する。
の脈動をダンパーにより減衰させることにより、フィル
ターに大量に捕獲された塵埃がフィルターから離脱し、
通り抜ける確率を大幅に低減できる。このため処理槽の
汚染を防止することができるという効果を有する。
第１図は本発明の一実施例の模式断面図、第２図は従来
のウェハー処理装置の一例の模式断面図である。 ＝５− ■・・・ヒーター、２・・内槽、３ 外槽、４・・エア
ー駆動式ポンプ、５ ・ダンパー、６・・フィルター、
７ ・エアー抜き口、８・・トレン口、９・・・バルブ
、１０・薬液。
のウェハー処理装置の一例の模式断面図である。 ＝５− ■・・・ヒーター、２・・内槽、３ 外槽、４・・エア
ー駆動式ポンプ、５ ・ダンパー、６・・フィルター、
７ ・エアー抜き口、８・・トレン口、９・・・バルブ
、１０・薬液。
Claims (1)
- 薬液を満たし半導体ウェハーを処理する内槽と、この
内槽から流出した薬液を入れる外槽と、この外槽の薬液
をフィルターを通過させて内槽に流入させるポンプとを
有するウェハー処理装置に於いて、前記ポンプと前記フ
ィルターの間にポンプから吐出される薬液の脈動を減衰
させるためのダンパーを設けたことを特徴とするウェハ
ー処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2303455A JP2853317B2 (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | ウエハー処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2303455A JP2853317B2 (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | ウエハー処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04176125A true JPH04176125A (ja) | 1992-06-23 |
| JP2853317B2 JP2853317B2 (ja) | 1999-02-03 |
Family
ID=17921190
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2303455A Expired - Fee Related JP2853317B2 (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | ウエハー処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2853317B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0620052A1 (en) * | 1993-04-16 | 1994-10-19 | Martin Marietta Corporation | Controlled agitation cleaning system |
| CN115799112A (zh) * | 2022-11-28 | 2023-03-14 | 赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司 | 一种流速平稳的湿法设备槽 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6366116U (ja) * | 1986-10-22 | 1988-05-02 | ||
| JPH0441704U (ja) * | 1990-08-01 | 1992-04-09 |
-
1990
- 1990-11-08 JP JP2303455A patent/JP2853317B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6366116U (ja) * | 1986-10-22 | 1988-05-02 | ||
| JPH0441704U (ja) * | 1990-08-01 | 1992-04-09 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0620052A1 (en) * | 1993-04-16 | 1994-10-19 | Martin Marietta Corporation | Controlled agitation cleaning system |
| CN115799112A (zh) * | 2022-11-28 | 2023-03-14 | 赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司 | 一种流速平稳的湿法设备槽 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2853317B2 (ja) | 1999-02-03 |
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