JPH04176529A - 移動案内装置 - Google Patents
移動案内装置Info
- Publication number
- JPH04176529A JPH04176529A JP2301207A JP30120790A JPH04176529A JP H04176529 A JPH04176529 A JP H04176529A JP 2301207 A JP2301207 A JP 2301207A JP 30120790 A JP30120790 A JP 30120790A JP H04176529 A JPH04176529 A JP H04176529A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- surface plate
- guide
- fixed guide
- face
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は半導体露光装置、精密測定器、精密加工機械な
どに用いて高速移動、Ｐ！密位置決めを繰り返す移動案
内装置に関する。
どに用いて高速移動、Ｐ！密位置決めを繰り返す移動案
内装置に関する。
［従来技術］
第６図に従来の移動案内装置を示す。同図において、１
は定盤であり、該定盤上にＹ方向の移動機構としてのＹ
ステージ４が搭載されている。またＹステージ４上には
Ｘ方向の移動機構としてのＸステージ５が搭載されてい
る。
は定盤であり、該定盤上にＹ方向の移動機構としてのＹ
ステージ４が搭載されている。またＹステージ４上には
Ｘ方向の移動機構としてのＸステージ５が搭載されてい
る。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、上記従来例では、装置か積み上げ構造、
即ち定盤１、Ｙステージ４、Ｘステージ５と積み上げて
いるため高さ方向に高くなる。
即ち定盤１、Ｙステージ４、Ｘステージ５と積み上げて
いるため高さ方向に高くなる。
また、Ｘステージ５が移動する際、Ｙステージ４に偏荷
重が発生し第７図に示すようにＹステージ４が変形しＸ
ステージ５の静的な精度が劣化する。また、Ｘ、Ｙステ
ージを剛体と仮定すると、Ｘ、Ｙ、ステージとも動的な
動きは第８図に示すように６つの自由度を持ち、これら
のＸ、Ｙステージの６自由度がすべて速成するため動的
にも姿勢精度が劣化するなどの欠点かあった。
重が発生し第７図に示すようにＹステージ４が変形しＸ
ステージ５の静的な精度が劣化する。また、Ｘ、Ｙステ
ージを剛体と仮定すると、Ｘ、Ｙ、ステージとも動的な
動きは第８図に示すように６つの自由度を持ち、これら
のＸ、Ｙステージの６自由度がすべて速成するため動的
にも姿勢精度が劣化するなどの欠点かあった。
本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされたものであっ
て、構造を高くせず、移動時の偏荷重による静的精度低
下や動的姿勢精度の劣化を防止した移動案内装置の提供
を目的とする。
て、構造を高くせず、移動時の偏荷重による静的精度低
下や動的姿勢精度の劣化を防止した移動案内装置の提供
を目的とする。
［課題を解決するための手段および作用］前記目的を達
成するため、本発明では、定盤上に１本の固定ガイドを
配置し、該固定ガイドと定盤との間を静圧空気軸受によ
り第１の移動体を該固定ガイドと平行に移動するように
支持し、該第１の移動体と該定盤との間を静圧空気軸受
により第２の移動体を該第１の移動体と直角方向に移動
するように支持した移動案内機構において、前記第１の
移動体の垂直方向の案内を前記定盤で行い横方向の案内
を前記固定ガイドにより行うと共に前記第２の移動体の
垂直方向の案内を定盤とし、横方向の案内を前記第１の
移動体の一側面とする。
成するため、本発明では、定盤上に１本の固定ガイドを
配置し、該固定ガイドと定盤との間を静圧空気軸受によ
り第１の移動体を該固定ガイドと平行に移動するように
支持し、該第１の移動体と該定盤との間を静圧空気軸受
により第２の移動体を該第１の移動体と直角方向に移動
するように支持した移動案内機構において、前記第１の
移動体の垂直方向の案内を前記定盤で行い横方向の案内
を前記固定ガイドにより行うと共に前記第２の移動体の
垂直方向の案内を定盤とし、横方向の案内を前記第１の
移動体の一側面とする。
上記構成においては、Ｘ、Ｘステージとも定盤、固定ガ
イドを基準に移動するため移動荷重か発生せず、静的な
姿勢精度が変化しない。
イドを基準に移動するため移動荷重か発生せず、静的な
姿勢精度が変化しない。
また、Ｘステージのピッチング、水平方向、垂直方向の
振動の達成か全く無い。
振動の達成か全く無い。
Ｘステージのローリングは、静圧空気軸受の隙間を介し
てのみＸステージを伝わる。このため振動の達成が極力
抑えられ動的な姿勢を高精度に保てる。
てのみＸステージを伝わる。このため振動の達成が極力
抑えられ動的な姿勢を高精度に保てる。
また、Ｘステージの垂直方向、横方向、Ｘステージの垂
直方向、横方内金ての静圧空気軸受には本出願人が先に
提案した特願昭６２−６２７３５号に記載されている予
圧を設けている。これによりステージがガイドから離脱
することなく、予圧により静圧空気軸受の剛性を保証し
、またステージの設置の方向を選ばず、縦型横型あるい
は逆さまに設置してもステージが脱落しない。
直方向、横方内金ての静圧空気軸受には本出願人が先に
提案した特願昭６２−６２７３５号に記載されている予
圧を設けている。これによりステージがガイドから離脱
することなく、予圧により静圧空気軸受の剛性を保証し
、またステージの設置の方向を選ばず、縦型横型あるい
は逆さまに設置してもステージが脱落しない。
［実施例コ
本発明の実施例を第１図〜第５図に示す、、第１図は斜
視図、第２図は第１図のＡ−Ａ’断面図、第３図は第１
図のＢ矢視図、第４図は裏面図、第５図は第２図のＤ−
Ｄ’断面図である。
視図、第２図は第１図のＡ−Ａ’断面図、第３図は第１
図のＢ矢視図、第４図は裏面図、第５図は第２図のＤ−
Ｄ’断面図である。
１は定盤であり、上面が基準面となっている。
２は固定ガイドで、その側面が基準となっている。４は
移動体としてのＸステージ、５は移動体としてのＸステ
ージである。６ （６ａ、６ｂ。
移動体としてのＸステージ、５は移動体としてのＸステ
ージである。６ （６ａ、６ｂ。
６ｃ、６ｄ）は多孔質の静圧空気軸受であり、６ａはＸ
ステージの垂直方向、６ｂはＸステージの横方向、６Ｃ
はＸステージの垂直方向、６ｄはＸステージの横方向を
各々案内している。
ステージの垂直方向、６ｂはＸステージの横方向、６Ｃ
はＸステージの垂直方向、６ｄはＸステージの横方向を
各々案内している。
７ （７ａ、７ｂ）はＸステージ用の駆動アクチュエー
タ、８はＸステージの駆動用アクチュエータであり、本
実施例において例えばりニアモータ、油圧直流モータな
どを用いている。９（９ａ。
タ、８はＸステージの駆動用アクチュエータであり、本
実施例において例えばりニアモータ、油圧直流モータな
どを用いている。９（９ａ。
９ｂ、９ｃ、９ｄ）は、静圧空気軸受６（６８〜６ｄ）
の予圧機構であり、本出願人による特願昭６２−６２７
３５号に記載されている。
の予圧機構であり、本出願人による特願昭６２−６２７
３５号に記載されている。
本実施例においてはＸステージ４は静圧空気軸受６ａ、
６ｂに給気することにより定盤１より浮上させ２つのア
クチュエータ７ａ、７ｂにより固定ガイド２に沿って移
動する。
６ｂに給気することにより定盤１より浮上させ２つのア
クチュエータ７ａ、７ｂにより固定ガイド２に沿って移
動する。
また、Ｘステージ５は静圧空気軸受６ｃ、６ｄに給気す
ることによりＸステージ４と同様定盤１より浮上させ、
Ｘステージ４の側面の一面を案内として駆動アクチュエ
ータ８によりＸ方向に移動する。
ることによりＸステージ４と同様定盤１より浮上させ、
Ｘステージ４の側面の一面を案内として駆動アクチュエ
ータ８によりＸ方向に移動する。
また、９ａはＸステージの横方向の予圧機構でありＸス
テージのガイドよりの離脱を防ぎ、静圧空気軸受６ａの
剛性も保証している。９ｂはＸステージの垂直方向の予
圧機構であり、Ｘステージの垂直方向の剛性を保証して
いる。９ｃ、９ｄはそれぞれＸステージの予圧機構であ
り、Ｘステージの予圧と同様の機能を持っている。
テージのガイドよりの離脱を防ぎ、静圧空気軸受６ａの
剛性も保証している。９ｂはＸステージの垂直方向の予
圧機構であり、Ｘステージの垂直方向の剛性を保証して
いる。９ｃ、９ｄはそれぞれＸステージの予圧機構であ
り、Ｘステージの予圧と同様の機能を持っている。
上記構成においては、ＸステージおよびＸステージの垂
直方向の案内をいずれも定盤より行い、Ｘステージある
いはＸステージが移動しても相手側のステージに移動荷
重が発生せず、静的な姿勢精度を良好に保っている。
直方向の案内をいずれも定盤より行い、Ｘステージある
いはＸステージが移動しても相手側のステージに移動荷
重が発生せず、静的な姿勢精度を良好に保っている。
Ｘステージの縦方向（第１図のＸ方向）、垂直方向（第
１図のＺ方向）、ピッチングの振動の速成を全くなくし
た。
１図のＺ方向）、ピッチングの振動の速成を全くなくし
た。
また、ローリングに関しては、静圧空気軸受の隙間を介
してＸステージに伝わるようにし、振動の速成を極力抑
えた。
してＸステージに伝わるようにし、振動の速成を極力抑
えた。
定盤１、固定ガイド２とＹステージ４、Ｘステージ５と
を熱膨張係数の異なる異種部材で構成することか可能に
なる。
を熱膨張係数の異なる異種部材で構成することか可能に
なる。
第６図に示す従来の移動案内装置に比へ、Ｘステージを
固定ガイド２もしくはＹステージ駆動用アクチュエータ
７ａ、７ｂにオーバーハングさせることにより、定盤移
動体の占有面積を略一致させている。また、予圧磁石の
力を十分に与えることにより、ステージの設置方向を選
ばない。
固定ガイド２もしくはＹステージ駆動用アクチュエータ
７ａ、７ｂにオーバーハングさせることにより、定盤移
動体の占有面積を略一致させている。また、予圧磁石の
力を十分に与えることにより、ステージの設置方向を選
ばない。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、定盤上に１木の
固定ガイドを配置し、Ｙステージの垂直方向を定盤、横
方向を固定ガイドにより案内し、Ｘステージの垂直方向
の案内を定盤、横方向の案内をＹステージ側面の一面と
することにより、Ｙステージ上の移動荷重を無くし、Ｘ
、Ｙステージ間の振動の速成を水平方向（Ｘ方向）、垂
直方向、Ｘステージのピッチング（Ｙステージのローリ
ング）に関しては全くなくした。また、Ｘステージのロ
ーリング（Ｙステージのピッチング）に関しては静圧空
気軸受の隙間を介してのみ伝わるようにし、振動の速成
をきわめて少なくし、高精度の位置決めを可能にした。
固定ガイドを配置し、Ｙステージの垂直方向を定盤、横
方向を固定ガイドにより案内し、Ｘステージの垂直方向
の案内を定盤、横方向の案内をＹステージ側面の一面と
することにより、Ｙステージ上の移動荷重を無くし、Ｘ
、Ｙステージ間の振動の速成を水平方向（Ｘ方向）、垂
直方向、Ｘステージのピッチング（Ｙステージのローリ
ング）に関しては全くなくした。また、Ｘステージのロ
ーリング（Ｙステージのピッチング）に関しては静圧空
気軸受の隙間を介してのみ伝わるようにし、振動の速成
をきわめて少なくし、高精度の位置決めを可能にした。
さらに熱膨張により特性の差か生しない高精度の移動案
内装置か可能になる。
内装置か可能になる。
第１図は本発明の実施例の斜視図、
第２図は第１図の実施例のＡ−Ａ’断面図、第３図は第
１図の実施例のＢ矢視図、 第４図は第１図の実施例の裏面図、 第５図は第２図のＤ−Ｄ′断面図、 第６図は従来装置の斜視図、 第７図（Ａ）および（Ｂ）は各々ステージ変形の説明図
、 第８図はステージ運動方向の説明図である。 １：ベース、 ２ 固定ガイド、 ４ Ｙステージ、 ５、Ｘステージ、 ６：静圧空気軸受、 ７：Ｙステージ駆動用リニアモータ、 ８：ｘステージ駆動用リニアモータ、 ９、静圧軸受の予圧機構である。 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士 伊 東 哲 也 代理人 弁理士 伊 東 辰 雄
１図の実施例のＢ矢視図、 第４図は第１図の実施例の裏面図、 第５図は第２図のＤ−Ｄ′断面図、 第６図は従来装置の斜視図、 第７図（Ａ）および（Ｂ）は各々ステージ変形の説明図
、 第８図はステージ運動方向の説明図である。 １：ベース、 ２ 固定ガイド、 ４ Ｙステージ、 ５、Ｘステージ、 ６：静圧空気軸受、 ７：Ｙステージ駆動用リニアモータ、 ８：ｘステージ駆動用リニアモータ、 ９、静圧軸受の予圧機構である。 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士 伊 東 哲 也 代理人 弁理士 伊 東 辰 雄
Claims (2)
- （１）案内基準面を有する定盤と、該定盤上に設けた固
定ガイドと、該固定ガイドに沿つて前記定盤上を移動す
る第１の移動体と、該第１の移動体に沿って前記固定ガ
イドと、直角な方向に移動する第２の移動体とを具備し
、前記第１および第２の移動体同士は前記定盤の基準面
に垂直な方向に関し、相互に荷重を付与しないように分
離した構成としたことを特徴とする移動案内装置。 - （２）前記第１の移動体と固定ガイドおよび定盤との間
の各々に静圧気体軸受および拘束手段を設け、前記第２
の移動体と前記第１の移動体の一側面および定盤との間
の各々に静圧気体軸受および拘束手段を設けたことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の移動案内装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2301207A JPH04176529A (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | 移動案内装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2301207A JPH04176529A (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | 移動案内装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04176529A true JPH04176529A (ja) | 1992-06-24 |
Family
ID=17894073
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2301207A Pending JPH04176529A (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | 移動案内装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04176529A (ja) |
-
1990
- 1990-11-08 JP JP2301207A patent/JPH04176529A/ja active Pending
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