JPH04177633A - 塗布溶液およびそれを用いた光ディスク用基板の製造方法 - Google Patents
塗布溶液およびそれを用いた光ディスク用基板の製造方法Info
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- JPH04177633A JPH04177633A JP30415890A JP30415890A JPH04177633A JP H04177633 A JPH04177633 A JP H04177633A JP 30415890 A JP30415890 A JP 30415890A JP 30415890 A JP30415890 A JP 30415890A JP H04177633 A JPH04177633 A JP H04177633A
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- Japan
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- substrate
- coating solution
- solvent
- optical disc
- coating
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、基体上に酸化物被膜を形成する目的で使用さ
れる金属アルコレートを含む塗１ＦＪ溶液およびこの塗
布溶液を用いた光ディスク用基板の製造方法に関するも
のである。
れる金属アルコレートを含む塗１ＦＪ溶液およびこの塗
布溶液を用いた光ディスク用基板の製造方法に関するも
のである。
［従来の技術］
近年、いわゆるゾルゲル法と呼ばれるガラスの低温合成
技術がいろいろな分野で検討されている。
技術がいろいろな分野で検討されている。
光ディスクの分野でも、ゾルゲル法により作製した酸化
物被膜をガラス基板の保護膜として利用するための検討
あるいはゾルゲル法を用いたオールガラスの光ディスク
用基板の作製などが活発に行われている。
物被膜をガラス基板の保護膜として利用するための検討
あるいはゾルゲル法を用いたオールガラスの光ディスク
用基板の作製などが活発に行われている。
このようなゾルゲル法による酸化物被膜の作製にあたっ
ては、金属アルコレート、有機高分子化合物、金属アル
コレートの加水分解用触媒および溶媒などからなる塗布
溶液が用いられている。例えば、ガラス基板の保護膜を
形成するためには、この塗布溶液をスピンコード法など
によりガラス基板上に塗布し、その後、熱処理すること
により容易に実現できる。また、光ディスク用基板の作
製は、次のような手順を踏むことにより行われる。
ては、金属アルコレート、有機高分子化合物、金属アル
コレートの加水分解用触媒および溶媒などからなる塗布
溶液が用いられている。例えば、ガラス基板の保護膜を
形成するためには、この塗布溶液をスピンコード法など
によりガラス基板上に塗布し、その後、熱処理すること
により容易に実現できる。また、光ディスク用基板の作
製は、次のような手順を踏むことにより行われる。
即ち、まず塗布溶液をカラス基板上に塗布する。
次に凹凸パターンを有する型を用いてこの塗布層に所望
の凸凹パターンを形成する。続いて加熱処理して、この
塗布層をガラス化することにより、オールガラスの光デ
ィスク用基板か作製できる。
の凸凹パターンを形成する。続いて加熱処理して、この
塗布層をガラス化することにより、オールガラスの光デ
ィスク用基板か作製できる。
ここで用いられる金属アルコレートとしては各種の金属
アルコレート、例えば３ｉ、Ｔｉ、ｚｒ。
アルコレート、例えば３ｉ、Ｔｉ、ｚｒ。
ＡＩ、Ｂなどのアルコレートが使用できるが、光ディス
クとしての特性、製造上の取り扱い易さなどから、３ｉ
系アルコレートあるいは３ｉ系アルコレートとＴ１系ア
ルコレートの混合系が好んで用いられている。有機高分
子化合物は増粘剤としての役割を担っており、ポリエチ
レングリコールがよく使われている。金属アルコレート
の加水分解用触媒としては、塩酸あるいは硝酸などが挙
げられる。溶媒としては、低級アルコールが多用され、
特に、エタノールはよく使われている。
クとしての特性、製造上の取り扱い易さなどから、３ｉ
系アルコレートあるいは３ｉ系アルコレートとＴ１系ア
ルコレートの混合系が好んで用いられている。有機高分
子化合物は増粘剤としての役割を担っており、ポリエチ
レングリコールがよく使われている。金属アルコレート
の加水分解用触媒としては、塩酸あるいは硝酸などが挙
げられる。溶媒としては、低級アルコールが多用され、
特に、エタノールはよく使われている。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、溶媒としてエタノールなどが使用されて
いるために、先述したスピンコード法による塗布の際、
ストリエーションと呼ばれている現象が生じる。これは
、溶媒の沸点か低いために引き起こされる現象でおり、
塗布層の膜厚分布が基板の回転中心から放射状に発生す
る。このストリエーションがあると、形成した保護膜の
表面が凸凹状になる、あるいは光ディスク用基板作製時
には凹状欠陥となって残るなどの問題があった。
いるために、先述したスピンコード法による塗布の際、
ストリエーションと呼ばれている現象が生じる。これは
、溶媒の沸点か低いために引き起こされる現象でおり、
塗布層の膜厚分布が基板の回転中心から放射状に発生す
る。このストリエーションがあると、形成した保護膜の
表面が凸凹状になる、あるいは光ディスク用基板作製時
には凹状欠陥となって残るなどの問題があった。
本発明はこのような従来の問題点を解決して、平坦な金
属酸化物層を形成することのできる塗布溶液および該塗
布溶液を用いて欠陥のない高品質な光ディスク用基板を
製造する方法を提供することを目的とする。
属酸化物層を形成することのできる塗布溶液および該塗
布溶液を用いて欠陥のない高品質な光ディスク用基板を
製造する方法を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
本発明は、少なくとも金属アルコレート、有機高分子化
合物、金属アルコレートの加水分解用触媒および溶媒を
含む塗布溶液において、溶媒としてエーテルアルコール
が含まれていることを特徴とする塗布溶液、および少な
くとも金属アルコレート、有機高分子化合物、金属アル
コレートの加水分解用触媒および溶媒を含む塗布溶液に
おいて、溶媒として多価アルコールが含まれていること
を特徴とする塗布溶液である。
合物、金属アルコレートの加水分解用触媒および溶媒を
含む塗布溶液において、溶媒としてエーテルアルコール
が含まれていることを特徴とする塗布溶液、および少な
くとも金属アルコレート、有機高分子化合物、金属アル
コレートの加水分解用触媒および溶媒を含む塗布溶液に
おいて、溶媒として多価アルコールが含まれていること
を特徴とする塗布溶液である。
また本発明の光ディスク用基板の製造方法は、上記塗布
溶液をガラス基板上に塗布する工程と、凹凸パターンを
有する型を用いて前記塗布層に所望の凸凹パターンを形
成する工程と、加熱処理することにより前記塗布層をガ
ラス化する工程とからなることを特徴とする。
溶液をガラス基板上に塗布する工程と、凹凸パターンを
有する型を用いて前記塗布層に所望の凸凹パターンを形
成する工程と、加熱処理することにより前記塗布層をガ
ラス化する工程とからなることを特徴とする。
本発明で用いられるエーテルアルコールとしては、沸点
が１００〜３００℃のものが好ましく、具体的には２−
メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブ
トキシェタノール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、２−（２−メトキシエトキシ）エタノー
ル、２−（２−エトキシエトキシ）エタノールなどが挙
げられる。
が１００〜３００℃のものが好ましく、具体的には２−
メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブ
トキシェタノール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、２−（２−メトキシエトキシ）エタノー
ル、２−（２−エトキシエトキシ）エタノールなどが挙
げられる。
本発明で用いられる多価アルコールとしては、沸点が１
００〜３００℃のものが好ましく、具体的にはエチレン
グリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリ
コール、ブタンジオール、ベンタンジオール、ヘキサン
ジオール、グリセリン、ブタントリオール、ヘキサント
リオールなどが挙げられる。
００〜３００℃のものが好ましく、具体的にはエチレン
グリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリ
コール、ブタンジオール、ベンタンジオール、ヘキサン
ジオール、グリセリン、ブタントリオール、ヘキサント
リオールなどが挙げられる。
［実施例］
以下、本発明の実施例について詳細に説明する。
実施例１
次の組成の塗布溶液を調製した。
シリコンテトラエトキシド ２１重量部エタノール
２５重量部２−エトキシエタノール
７０重量部塩酸（１Ｎ） １０
重鏝部ポリエチレングリコール （分子量６００） ６重量部 この塗布溶液をガラス基板上に、２０００ ｒｐｍ、３
０ ｓｅｃでスピンコードした。この時、いわゆる、ス
トリエーションと呼ばれる放射状の塗つむらば認められ
なかった。次いで、このカラス基板を１００ ’Ｃ１１
０ｍｉｎの熱処理をした後、３５０℃、２０ｍ１ｎの熱
処理を行った。このようにして、ガラス基板上に平坦な
ＳｉＯ２膜を作製することができた。
２５重量部２−エトキシエタノール
７０重量部塩酸（１Ｎ） １０
重鏝部ポリエチレングリコール （分子量６００） ６重量部 この塗布溶液をガラス基板上に、２０００ ｒｐｍ、３
０ ｓｅｃでスピンコードした。この時、いわゆる、ス
トリエーションと呼ばれる放射状の塗つむらば認められ
なかった。次いで、このカラス基板を１００ ’Ｃ１１
０ｍｉｎの熱処理をした後、３５０℃、２０ｍ１ｎの熱
処理を行った。このようにして、ガラス基板上に平坦な
ＳｉＯ２膜を作製することができた。
実施例２
実施例］の２−エトキシエタノールの代わりに、ジエチ
レングリコールを用いて、塗布溶液を調製した。
レングリコールを用いて、塗布溶液を調製した。
実施例１と同様に、この塗布溶液をガラス基板上にスピ
ンコードし、次いで熱処理することにより平坦な５ｉ０
２膜を作製した。
ンコードし、次いで熱処理することにより平坦な５ｉ０
２膜を作製した。
実施例３
実施例１と同様に、ガラス基板上にスピンコードを行っ
た。次いで、真空下、このスピンコードした面に、高さ
約１０００オングストローム、幅約０．５μ１１ピッチ
約１．６μｍのスパイラル状に配置された凸部を有する
樹脂製の型を押し当てた。
た。次いで、真空下、このスピンコードした面に、高さ
約１０００オングストローム、幅約０．５μ１１ピッチ
約１．６μｍのスパイラル状に配置された凸部を有する
樹脂製の型を押し当てた。
この状態で、１００℃、１０ ｍｉｎの熱処理を行った
。
。
離型後、更に大気中、３５０℃、１５ ｍｉｎの熱処理
を行った。このようにして、高さ約７５０オングストロ
ーム、幅約１．０μｍ、ピッチ約１．６μｍのスパイラ
ル状に配置された凸部を有するオールカラスの光ディス
ク用の基板を作製した。得られた基板は欠陥のない良好
なものであった。
を行った。このようにして、高さ約７５０オングストロ
ーム、幅約１．０μｍ、ピッチ約１．６μｍのスパイラ
ル状に配置された凸部を有するオールカラスの光ディス
ク用の基板を作製した。得られた基板は欠陥のない良好
なものであった。
実施例４
次の組成の塗′＠溶液を調製した。
シリコンテトラエトキシド ２１重量部エタノール
２３重量部エチレングリコール
８０重量部塩酸（１Ｎ＞ １ｏ重
量部ポリエチレングリコール （分子量６００） ６重量部 この塗布溶液をガラス基板上に、２００Ｏｒｐｍ、３０
ｓｅｃでスピンコードした。この時、いわゆるストリ
エーションと呼ばれる放射状の塗つむらば認められなか
った。次いで、このガラス基板を１００℃、１０ ｍｉ
ｎの熱処理をした後、３５０’Ｃｌ２Ｏｍｉｎの熱処理
を行った。このようにしてガラス基板上に平坦なＳｉＯ
２膜を作製することができた。
２３重量部エチレングリコール
８０重量部塩酸（１Ｎ＞ １ｏ重
量部ポリエチレングリコール （分子量６００） ６重量部 この塗布溶液をガラス基板上に、２００Ｏｒｐｍ、３０
ｓｅｃでスピンコードした。この時、いわゆるストリ
エーションと呼ばれる放射状の塗つむらば認められなか
った。次いで、このガラス基板を１００℃、１０ ｍｉ
ｎの熱処理をした後、３５０’Ｃｌ２Ｏｍｉｎの熱処理
を行った。このようにしてガラス基板上に平坦なＳｉＯ
２膜を作製することができた。
実施例５
実施例４のエチレングリコールの代わりに、プロピレン
グリコールを用いて、塗布溶液を調製した。
グリコールを用いて、塗布溶液を調製した。
実施例４と同様に、この塗布溶液をガラス基板上にスピ
ンコードし、次いで熱処理することにより平坦なＳｉＯ
２膜を作製した。
ンコードし、次いで熱処理することにより平坦なＳｉＯ
２膜を作製した。
実施例６
実施例４と同様に、ガラス基板上にスピンコードを行っ
た。次いて、真空下、このスピンコードした面に、高さ
約１０００オングストローム、幅約０．５μｍ、ピッチ
約１，６μｍのスパイラル状に配置された凸部を有する
樹脂製の型を押し当てた。
た。次いて、真空下、このスピンコードした面に、高さ
約１０００オングストローム、幅約０．５μｍ、ピッチ
約１，６μｍのスパイラル状に配置された凸部を有する
樹脂製の型を押し当てた。
この状態で、１００℃、１０ ｍｉｎの熱処理を行った
。
。
離型後、更に大気中、３５０℃、１５ ｍｉｎの熱処理
を行った。このようにして、高さ約７５０オングストロ
ーム、幅約１．０μｍ、ピッチ約１゜６μｍのスパイラ
ル状に配置された凸部を有するオールガラスの光ディス
ク用の基板を作製した。得られた基板は欠陥のない良好
なものであった。
を行った。このようにして、高さ約７５０オングストロ
ーム、幅約１．０μｍ、ピッチ約１゜６μｍのスパイラ
ル状に配置された凸部を有するオールガラスの光ディス
ク用の基板を作製した。得られた基板は欠陥のない良好
なものであった。
比較例１
次の組成の塗布溶液を調製した。
シリコンテトラエトキシド ２１重量部エタノール
７８重量部塩酸（１Ｎ ＞
１０重量部ポリエチレングリコール （分子量６００） ６重量部 実施例１と同様に、この塗布溶液をガラス基板上にスピ
ンコードしたところ、ストリエーションが発生した。熱
処理後も、このストリエーションによる凹凸は消えず、
表面粗さ計による測定では数百オングストロームの凹凸
であった。
７８重量部塩酸（１Ｎ ＞
１０重量部ポリエチレングリコール （分子量６００） ６重量部 実施例１と同様に、この塗布溶液をガラス基板上にスピ
ンコードしたところ、ストリエーションが発生した。熱
処理後も、このストリエーションによる凹凸は消えず、
表面粗さ計による測定では数百オングストロームの凹凸
であった。
比較例２
比較例１の塗布溶液をガラス基板上にスピンコードシた
。次いで、実施例３と同様な操作により、高さ約７５０
オングストローム、幅約１．０μｍ１ピッチ約１．６μ
ｍのスパイラル状に配置された凸部を有するオールガラ
スの光ディスク用基板を作製した。
。次いで、実施例３と同様な操作により、高さ約７５０
オングストローム、幅約１．０μｍ１ピッチ約１．６μ
ｍのスパイラル状に配置された凸部を有するオールガラ
スの光ディスク用基板を作製した。
得られた基板の表面観察を行ったところ、スピンコード
時に発生したストリエーションに対応した放射状の微小
な凹状欠陥群が認められた。
時に発生したストリエーションに対応した放射状の微小
な凹状欠陥群が認められた。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明の塗布溶液によれば、スピ
ンコード時のストリエーションが抑えられるため、平坦
な金属酸化物層を基板上に形成できる。また、この塗布
溶液を用いて光ディスク用基板を作製すると、欠陥のな
い高品質な光ディスク用基板を得ることができる。
ンコード時のストリエーションが抑えられるため、平坦
な金属酸化物層を基板上に形成できる。また、この塗布
溶液を用いて光ディスク用基板を作製すると、欠陥のな
い高品質な光ディスク用基板を得ることができる。
Claims (3)
- （１）少なくとも金属アルコレート、有機高分子化合物
、金属アルコレートの加水分解用触媒および溶媒を含む
塗布溶液において、溶媒としてエーテルアルコールが含
まれていることを特徴とする塗布溶液。 - （２）少なくとも金属アルコレート、有機高分子化合物
、金属アルコレートの加水分解用触媒および溶媒を含む
塗布溶液において、溶媒として多価アルコールが含まれ
ていることを特徴とする塗布溶液。 - （３）請求項１または２記載の塗布溶液をガラス基板上
に塗布する工程と、凹凸パターンを有する型を用いて前
記塗布層に所望の凸凹パターンを形成する工程と、加熱
処理することにより前記塗布層をガラス化する工程とか
らなることを特徴とする光ディスク用基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30415890A JPH04177633A (ja) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | 塗布溶液およびそれを用いた光ディスク用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30415890A JPH04177633A (ja) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | 塗布溶液およびそれを用いた光ディスク用基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04177633A true JPH04177633A (ja) | 1992-06-24 |
Family
ID=17929757
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30415890A Pending JPH04177633A (ja) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | 塗布溶液およびそれを用いた光ディスク用基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04177633A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012003505A3 (en) * | 2010-07-02 | 2012-05-03 | Donaldson Company, Inc. | Low temperature catalyst for disk drives article and method |
-
1990
- 1990-11-13 JP JP30415890A patent/JPH04177633A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012003505A3 (en) * | 2010-07-02 | 2012-05-03 | Donaldson Company, Inc. | Low temperature catalyst for disk drives article and method |
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