JPH04180888A - オゾン接触装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明はオゾンで被処理水を除臭、殺菌処理する際に
、被処理水のオゾン吸収効率を向上するようにしたオゾ
ン接触装置に関する。

〈従来の技術〉 接触槽内に下部からオゾンガスな通気すると共に、上部
から被処理水を散水装置で散水して下向流で通水するオ
ゾン接触装置は従来から公知である。

〈発明が解決しようとする課題〉 上記のような気泡塔式オゾン接触装置では被処理水の混
合状態が完全混合に近いためオゾン吸収効率は８０〜９
０％であって低い。

そこで従来はオゾン接触槽を多段に分割したり、未反応
オゾン（排オゾンガス）を回収して再度、液と向流接触
させる等の対策を講じ、オゾン吸収率を高めているが、
そのようにすると装置が複雑化し、設置コストが著しく
嵩む。

又、特公昭５４−２４２１６号公報により充填塔式オゾ
ン接触装置も公知であるが、オゾンの吸収効率は気泡塔
式より悪い上に、河川水等の浄化処理には処理工程でポ
ンプ動力を用いない高低差（落差）移水であることから
適用不向きとされている。

〈課題を解決するための手段〉 そこで本発明は装置を複雑化することなく、また落差水
流を利用して被処理水のオゾン吸収効率を高めることを
目的に開発したのであって、接触槽内の散水装置の下方
で、且つ水面より上方の位置に充填層を設けたことを特
徴とする。

く実　施　例〉 図示の各実施例において、１は接触槽で、被処理水は槽
内上部に設けた分配器２から一様に散水され、はｆ均等
に槽内を下向流する。又、槽内底部には散気法３を取付
けたヘッダー４が設けてあり、オゾンガスは給気管５に
よりヘッダー４に供給され、散気法３・・・から槽内を
一様に上向流し、頂壁の放出口６から放出される。接触
槽１に隣接して同高の反応槽７を縦割壁８で劃して設け
、縦割壁８の底部には両槽１，７を連通する連絡口９、
反応槽７の上部には水の溢出口１０が設けである。

従って、接触槽１内を下向流し、オゾンガスと向流接触
してこれを吸収し、処理水となった水は、連絡口９から
反応槽７の底部に入り、該槽７内を上向流して溢出口１
０から排水される。これによって、接触槽１内の被処理
水の水面Ｗは反応槽の溢出口１０になる。

接触槽１内にはこの水面Ｗ上で、且つ分配器２の下に充
填層１１を設ける。充填層１１の一部を水面下に水没し
て設けると、オゾンガスの気泡は会合により径が大きく
なり、ガス表面積が小さくなるので水没部分の充填層の
効果は失われ、その分吸収効率は低下するので好ましく
ないが、水面より上の充填層は吸収効率を高めることが
できる。充填層１１は多孔支持板１２上に充填した充填
材で構成する。

充填材は塩化ビニール、テフロン、ステンレス、ポリプ
ロピレン、磁性物、砂、アンスラサイトなどの破砕物、
加工物などなんでもよいが、オゾンによって品質が変化
しないものであることが好ましい。又、その形状は球形
、円柱形、円筒形、不定形等なんでもよいが、水やガス
の流れに対して抵抗の少ない１０〜２００ｍｍ、好まし
くは２０〜１００ｍｍ位の大きさが良い。充填層の層高
は２００〜５０００ｍｍ位あればよいが、許容される水
落差や、充填層内での水の流れの均一化などから３００
〜１０００ｍｍが望ましい。

前述した反応槽７の溢出口１０は、上記充填層の高さに
応じ、核層が水面Ｗ上にあるよう、充填層下面よりも低
い位置に設けるのである。

これによって分配器２から散水された被処理水は、充填
層１１中を流下する際に該層中な上昇するオゾンガスと
接触してこれを吸収し、その後、水面下を下向流する際
に前述したようにオゾンと向流接触して更にオゾンを吸
収する。こうしてオゾンを吸収した処理水は連絡口９か
も反応槽８に入って槽内を上向流し、溢出口１０から排
水される。この反応槽は残溜溶存オゾンの反応用のもの
で、溶存しているオゾンが酸化反応に供され、消滅する
のに充分な滞溜時間を与える。

被処理水と処理水との落差がある場合は、第１図の実施
例でよいが、落差がない場合は第２図の実施例のように
被処理水の一部を接触槽の水面上に供給し、被処理水の
残部はポンプ１３で充填層１１の上方から散水すればよ
い。この場合は充填層の層高を１０００〜５０００ｍｍ
に高（する、又、ポンプ１３で充填層１１に上から散水
する被処理水の水量は、被処理水全体の水量の２５〜２
５％程度がよい。

そして、第１図、第２図、いずれの実施例でも、接触槽
１の水中を、上下方向に開放した格子体やハニカム簡の
集積体で多数の小区劃に仕切り、散気法３を各小区劃の
中心下方に配置することにより下向流する被処理水を栓
流にし、オゾンの吸収効率を更に向上することができる
。

−辺が２ｍの正方形で、高さ６ｍの接触槽内に高さ６ｍ
の位置から被処理水を散水して被処理水の水深を４ｍに
保つようにし、直径２５ｍｍのラッシヒリングを槽内の
下から４ｍと５ｍの間の空間に充填して充填層としたオ
ゾン接触装置（実施例）と、同じ接触槽で被処理水の水
深を５ｍに保ち、充填層は設けないオゾン接触装置（比
較例）とによりオゾンガスの吸収率を測定した所、下表
の結果が得られた。

尚、被処理水は河川の凝集沈殿処理水を使用し、オゾン
ガス濃度２０　ｍ　ｇ　／　１２、オゾン注入率３　ｍ
　ｇ　／　１２、接触槽内での被処理水の沸溜時間１０
分、水温３０℃であった。

〈発明の効果〉 本発明によればオゾンガスの吸収効率が高まるため、無
駄が少なくなり、コストの低減が図れる。又、排オゾン
量が少なくなり、その処理費が低減する。

更に、オゾンガスの吸収効率が被処理水の水質変動に対
して安定するので、排オゾンガス中のオゾン濃度が安定
し、その結果、排オゾン処理の安定運転が可能になる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は夫々本発明のオゾン接触装置の実施例
を示す断面図である。 図中、１は接触槽、２は被処理水を散水する分配器、３
はオゾンガスの散気法、４はヘッダー、５は給気管、６
は排オゾンガスの放出口、７は反応槽、８は縦側壁、９
は連絡口、１０は処理水の溢出口、１１は充填層、１２
は多孔支持板を示す。 出願人　　　　　　　栗田工業　株式会社出願人　　　
　宗像地区水道企業口 −つ゛

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 接触槽内に下部からオゾンガスを通気すると共に、上部
   から被処理水を散水装置で散水して下向流で通水するオ
   ゾン接触装置において、 上記接触槽内の散水装置の下方で、且つ水面より上方の
   位置に充填層を設けたことを特徴とするオゾン接触装置
   。