JPH04186703A - 磁界発生装置 - Google Patents
磁界発生装置Info
- Publication number
- JPH04186703A JPH04186703A JP2315422A JP31542290A JPH04186703A JP H04186703 A JPH04186703 A JP H04186703A JP 2315422 A JP2315422 A JP 2315422A JP 31542290 A JP31542290 A JP 31542290A JP H04186703 A JPH04186703 A JP H04186703A
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- JP
- Japan
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- magnetic field
- magnetic
- pole piece
- gap
- shim
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- Pending
Links
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Landscapes
- Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、被検体の断層像を撮影する核磁気共鳴撮像装
置（以下、ＭＨＩ装置と呼ぶ）などに用いられる広い空
隙内に高強度かつ高精度で均一な・静磁場を発生させる
磁界発生装置に関する。
置（以下、ＭＨＩ装置と呼ぶ）などに用いられる広い空
隙内に高強度かつ高精度で均一な・静磁場を発生させる
磁界発生装置に関する。
［従来の技術］
ＭＨＩ装置における磁界発生手段としては、永久磁石方
式、常電導磁石方式、超電導磁石方式の３方式がある。
式、常電導磁石方式、超電導磁石方式の３方式がある。
この中で、永久磁石方式は電力やヘリウムの消費を伴わ
ないため最も経済的であり、また比較的漏洩磁束が少な
い、コンパクトであるため設置性に優れている等の長所
を有する。さらに近年、強い磁力を持つ希土類磁石の出
現と信号検出装置の性能およびイメージング技術の向上
によって、永久磁石方式ＭＨＩ装置は急速に普及してい
る。
ないため最も経済的であり、また比較的漏洩磁束が少な
い、コンパクトであるため設置性に優れている等の長所
を有する。さらに近年、強い磁力を持つ希土類磁石の出
現と信号検出装置の性能およびイメージング技術の向上
によって、永久磁石方式ＭＨＩ装置は急速に普及してい
る。
ＭＨＩ装置では静磁場の強度と均一性が撮影画像の画質
に影響を及ぼすため、被検体が挿入される空隙中心付近
に高強度かつ１０−１以下の精度で均一な磁界が要求さ
れる。
に影響を及ぼすため、被検体が挿入される空隙中心付近
に高強度かつ１０−１以下の精度で均一な磁界が要求さ
れる。
この厳しい条件を満たすために、従来の永久磁石方式の
磁界発生装置においては、特開昭６２−２５６４１６お
よび実開昭６１−１３４０１１に開示される如く、ポー
ルピースの位置や傾きを調整することによって均一な磁
界を発生させる方法や、実開昭６２−１０１２０５およ
び実開昭６０−２３９００５に開示させる如く、磁気回
路の周辺または内部に磁性体を配置して磁界を調節する
方法などが一般的に用いられている。
磁界発生装置においては、特開昭６２−２５６４１６お
よび実開昭６１−１３４０１１に開示される如く、ポー
ルピースの位置や傾きを調整することによって均一な磁
界を発生させる方法や、実開昭６２−１０１２０５およ
び実開昭６０−２３９００５に開示させる如く、磁気回
路の周辺または内部に磁性体を配置して磁界を調節する
方法などが一般的に用いられている。
［発明が解決しようとする課題］
しかし前述の従来技術においては、磁界の局所的な不均
一性を調節することができないため、空隙に均一磁場を
発生させるためには、永久磁石の磁気特性ばかりでなく
各部品の仕上がりや組立てに大変床しい精度が要求され
る。
一性を調節することができないため、空隙に均一磁場を
発生させるためには、永久磁石の磁気特性ばかりでなく
各部品の仕上がりや組立てに大変床しい精度が要求され
る。
そこで本発明の目的とするところは、磁界の局所的な不
均一性を調節できるような調節方法を提案することであ
る。
均一性を調節できるような調節方法を提案することであ
る。
［課題を解決するための手段］
本発明の磁界発生装置は、空隙を形成して対向する一対
のポールピースを有し、前記空隙に磁界を発生させる磁
界発生装置において、前記ポールピースの第２シムの空
隙対向面に１または複数の磁界調整用磁性体を着設した
ことを特徴とする磁界発生装置。
のポールピースを有し、前記空隙に磁界を発生させる磁
界発生装置において、前記ポールピースの第２シムの空
隙対向面に１または複数の磁界調整用磁性体を着設した
ことを特徴とする磁界発生装置。
［実施例コ
第１図（ａ）（ｂ’）は本発明の実施例における磁界発
生装置に用いる磁気回路を示す断面図である。磁気回路
は、空隙５を形成して対向する一対の永久磁石部１と該
永久磁石部１に固着した一対の磁界調整用ポールピース
２を板状ヨーク３と支支柱４で磁気的結合した構造から
成る。ポールピース２は円盤状ポールピース２０および
その表面の周縁部に設けられた環状突起（以下、第１シ
ムと呼ぶ）２１と、中央部に設けられた円盤状突起すな
わち第２シム２２とから成る。また、６は空隙５の中心
、７は磁界調整用磁性体である。ただし、ここで使用す
る永久磁石は、磁気回路の重量増加を避けるため最大エ
ネルギー積（ＢＨ）、、、が２５メガガウスエルステツ
ド（ＭＧｏｅ）以上であるＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系、あるいは
Ｐｒ−Ｆｅ−Ｂ系などの希土類磁石が望ましいため、本
実施例においては、永久磁石部１に基本組成がＰｒ１７
原子％、Ｆｅ７６．５原子％、Ｂ５原子％、Ｃｕｌ。
生装置に用いる磁気回路を示す断面図である。磁気回路
は、空隙５を形成して対向する一対の永久磁石部１と該
永久磁石部１に固着した一対の磁界調整用ポールピース
２を板状ヨーク３と支支柱４で磁気的結合した構造から
成る。ポールピース２は円盤状ポールピース２０および
その表面の周縁部に設けられた環状突起（以下、第１シ
ムと呼ぶ）２１と、中央部に設けられた円盤状突起すな
わち第２シム２２とから成る。また、６は空隙５の中心
、７は磁界調整用磁性体である。ただし、ここで使用す
る永久磁石は、磁気回路の重量増加を避けるため最大エ
ネルギー積（ＢＨ）、、、が２５メガガウスエルステツ
ド（ＭＧｏｅ）以上であるＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系、あるいは
Ｐｒ−Ｆｅ−Ｂ系などの希土類磁石が望ましいため、本
実施例においては、永久磁石部１に基本組成がＰｒ１７
原子％、Ｆｅ７６．５原子％、Ｂ５原子％、Ｃｕｌ。
５原子％で、熱間／圧延加工によって製造された希土類
磁石で、最大エネルギー積が２６．２ＭＧＯｅの性能を
有するものを用いた。また、磁石総使用量は１．４ｔｏ
ｎである。有効ギャップ長さＬは５００順に設定した。
磁石で、最大エネルギー積が２６．２ＭＧＯｅの性能を
有するものを用いた。また、磁石総使用量は１．４ｔｏ
ｎである。有効ギャップ長さＬは５００順に設定した。
第２図は本実施例における測定位置を示す説明図である
。空隙中心６を中心点とした直径３００世の球の表面が
測定対象領域である。この図において（ｒ＋ θ、φ
）は球座標を表わし、本実施例においてはｒは１５０
ｍｍ、θおよびφは３０″毎の値をとる。このように空
間の表面を３０″ピツチで５つの横断面に分割し、分割
した各面上３０°ピツチで磁束密度を測定する。この方
法で測定された６０点と空隙中心６および球の最上点と
最下点の計６３点で均一性を評価した。
。空隙中心６を中心点とした直径３００世の球の表面が
測定対象領域である。この図において（ｒ＋ θ、φ
）は球座標を表わし、本実施例においてはｒは１５０
ｍｍ、θおよびφは３０″毎の値をとる。このように空
間の表面を３０″ピツチで５つの横断面に分割し、分割
した各面上３０°ピツチで磁束密度を測定する。この方
法で測定された６０点と空隙中心６および球の最上点と
最下点の計６３点で均一性を評価した。
まずはじめに、磁界調整用磁性体７を着設せずに測定し
た結果、測定領域全体の均一度は１２５ｐｐｍ、空隙中
心６の磁束密度は１６５０Ｇであった。第３図は測定領
域をＸ軸方向から見た図であるが、このとき （ｒ＋ θ、 φ）＝（１５０，３０，９０）、（１
５０，３０，２７０）、 （１５０，６０，１２０） の３点の磁束密度が他の測定点に比べて低かった。
た結果、測定領域全体の均一度は１２５ｐｐｍ、空隙中
心６の磁束密度は１６５０Ｇであった。第３図は測定領
域をＸ軸方向から見た図であるが、このとき （ｒ＋ θ、 φ）＝（１５０，３０，９０）、（１
５０，３０，２７０）、 （１５０，６０，１２０） の３点の磁束密度が他の測定点に比べて低かった。
従来技術のように支柱４の高さを変えたり、ポールピー
ス２を水平移動させて調整を行った後の磁界の均一性は
５５ｐｐｍまで向上したが、上記３点の磁束密度は他の
測定点に比べて相変わらず低かった。そこで、−辺が２
ｍｍの立方体形状を成す３個の純鉄性の磁界調整用磁
性体７を第４図に示す位置に着設したところ、上記の３
点の磁束密度は向上し、測定領域全体の均一性も３０ｐ
ｐｍまで向上させることができた。
ス２を水平移動させて調整を行った後の磁界の均一性は
５５ｐｐｍまで向上したが、上記３点の磁束密度は他の
測定点に比べて相変わらず低かった。そこで、−辺が２
ｍｍの立方体形状を成す３個の純鉄性の磁界調整用磁
性体７を第４図に示す位置に着設したところ、上記の３
点の磁束密度は向上し、測定領域全体の均一性も３０ｐ
ｐｍまで向上させることができた。
本実施例においては、第４図に示す位置に一辺が２ ｍ
ｍの立方体形状を成す純鉄性の磁界調整用磁性体を３個
着設したが、磁界調整用磁性体の材質、形状、個数、位
置はこれに限られるものではなく適宜選足すことが望ま
しい。
ｍの立方体形状を成す純鉄性の磁界調整用磁性体を３個
着設したが、磁界調整用磁性体の材質、形状、個数、位
置はこれに限られるものではなく適宜選足すことが望ま
しい。
［発明の効果コ
以上述べたように本発明によれば、空隙を形成して対向
する一対のポールピースを有し、空隙に磁界を発生させ
る磁界発生装置において、ポールピースの第２シムの空
隙対向面に１または複数の磁界調整用磁性体を着設する
ことによって、磁界の局所的な不均一性を解消し均一性
の向上を実現することが可能となった。
する一対のポールピースを有し、空隙に磁界を発生させ
る磁界発生装置において、ポールピースの第２シムの空
隙対向面に１または複数の磁界調整用磁性体を着設する
ことによって、磁界の局所的な不均一性を解消し均一性
の向上を実現することが可能となった。
第１図（ａ）は本発明の実施例における磁界発生装置の
磁気回路の基本構造を示す縦断面図。 第１図（ｂ）は本発明の実施例における磁界発生装置の
磁気回路の基本構造を示す横断面図。 第２図は本発明の実施例における測定領域を示す説明図
。 第３図は測定領域をＸ軸方向から見た正面図。 第４図は磁界調整用磁性体の着設位置を示す説明図。 １・・・永久磁石部、２・・・ポールピース、２０・・
・円盤上ポールピース ２１・・・第１シム、２２・・・第２シム、３・・・ヨ
ーク、４・・・支柱、５・・・空隙、６・・・空隙中心
、７・・・磁界調整用磁性体 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人弁理士 鈴木 喜三部 他１名 むっ
磁気回路の基本構造を示す縦断面図。 第１図（ｂ）は本発明の実施例における磁界発生装置の
磁気回路の基本構造を示す横断面図。 第２図は本発明の実施例における測定領域を示す説明図
。 第３図は測定領域をＸ軸方向から見た正面図。 第４図は磁界調整用磁性体の着設位置を示す説明図。 １・・・永久磁石部、２・・・ポールピース、２０・・
・円盤上ポールピース ２１・・・第１シム、２２・・・第２シム、３・・・ヨ
ーク、４・・・支柱、５・・・空隙、６・・・空隙中心
、７・・・磁界調整用磁性体 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人弁理士 鈴木 喜三部 他１名 むっ
Claims (1)
- 空隙を形成して対向する一対のポールピースを有し、
前記空隙に磁界を発生させる磁界発生装置において、前
記ポールピースの中央部の円盤状突起（以下、第２シム
と呼ぶ）の空隙対向面に１または複数の磁界調整用磁性
体を着設したことを特徴とする磁界発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2315422A JPH04186703A (ja) | 1990-11-20 | 1990-11-20 | 磁界発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2315422A JPH04186703A (ja) | 1990-11-20 | 1990-11-20 | 磁界発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04186703A true JPH04186703A (ja) | 1992-07-03 |
Family
ID=18065193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2315422A Pending JPH04186703A (ja) | 1990-11-20 | 1990-11-20 | 磁界発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04186703A (ja) |
-
1990
- 1990-11-20 JP JP2315422A patent/JPH04186703A/ja active Pending
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