JPH041914A

JPH041914A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH041914A
Application number: JP2101565A
Authority: JP
Inventors: Kenichi Masuyama; 健一増山; Kunihiko Honda; 本田　邦彦
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1990-04-19
Filing date: 1990-04-19
Publication date: 1992-01-07

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は磁気記録媒体に関し、特に、高密度記録の磁気
記録テープの電磁変換特性に優れ、摩擦係数を低下させ
、走行耐久性を向上させ、且つ特に長期保存によるＣ／
Ｎ低下が無く、テープのハック削れ等のない優れた磁気
テープに関するものである。

〔従来の技術〕

一般にオーディオ用、ビデオ用あるいはコンピュータ用
の磁気記録テープに於いて、強磁性粉末として１−Ｆｅ
ｚ０３　、Ｆｅ＝０４、Ｃｒａｇ等の他Ｃｏ含有γＦｅ
ｚＯ３、Ｃｏ含有Ｆｅ、０．が使われてきた。

今日においては、高密度記録に適する特性を備えた強磁
性粉末が開発され或いは提案されている。

このような強磁性粉末は、Ｆｅ、　Ｃｏ、　Ｃｏ−Ｎｉ
　、　ＦｅＣｏ　、　Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ等の金属又は合
金、これらと＾ｌ、Ｓｉ、、Ｃｒ、　Ｃａ、、Ｚｎ等と
の合金がある。

かかる強磁性粉末を用いた磁性層は、高密度記録の目的
には高い保磁力と高い残留磁束密度とを有する必要があ
り、上記強磁性粉末がこれらの基準に合致するように種
々の製造方法或いは合金組成を選択する必要がある。

本発明者は、種々の合金強磁性粉末を用いて磁気記録媒
体を製作したところ、強磁性粉末の結晶子サイズが２５
０Å以下で、飽和磁束密度（σＳ）が１２５ｅｍｕ／ｇ
で針状比が１〜８以上で、しかも磁性層の表面粗さ（光
干渉三次元表面粗さ）がＲａ値で６゜０ｎｍ以下の時に
、ノイズレベルが充分低く、高感度で高密度短波長の記
録に適する磁気記録媒体が得られることを見出した。

しかし、このような磁気記録テープは、走行しにくく、
ＶＴＲにかけた時、スティックスリップを起こしたり、
走行ストップや競り上がり等の走行トラブルを起こした
りするという問題があった。

この欠点を防ぐために、磁性層と反対側の支持体面にバ
ック層を設けた磁気記録テープが提案されている。

また、一般に走行性や走行耐久性を向上することを目的
として、バック層を設けると磁気記録媒体（特にテープ
状の時）がロール状に巻き込まれたり、シート状で積み
込まれた場合、へツク層の突起が磁性層表面に写り、磁
性層が損なわれ、この為磁気記録媒体の電磁変換特性、
特にＣ／Ｎ特性が損なわれる事が知られている。Ｃハ特
性が低下するのは、しばしばバック層の走行特性を重ん
じる余り、その表面状態が粗くなり、このため磁気記録
媒体が巻き込まれたり、積み重ねられたりした状態で保
存又は放置されると、バック層の突起が磁性層表面に写
るからである。

特に、高密度記録用の磁性層において超平滑な表面性が
要求されておりバック層の突起が磁性層表面に写る影響
及びバック層の走行性の両立は問題があった。

上記のバック層に基づく欠点を改良するために本発明者
等は先にバック層の表面に高さ０．８〜５゜０−１間隔
２００虜以上でスパイク粒子を設け、バック層の摩擦係
数が０．２５以上であることを特徴とする磁気記録媒体
を提案している特開昭５２〜１０２００４号公報や、バ
ック層の表面に高さ０．０５〜０．８　ｔａｂ、間隔５
〇−以上、５０〜５万個／ｃｔａ！、即ち、０．５〜５
００個／＋ｗｎ＋”の表面突起を設けることを特徴とす
る磁気記録媒体を提案している特開昭５９−３７２３号
公報があるが、この先行技術では巻き端面の揃い、巻き
ゆるみ、巻きずれの問題やＣ／Ｎ特性等がかなり改善さ
れているものの電磁変換特性、走行性の点でまだ問題が
あった。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、電磁変換特性に優れ長期保存によるＣ
／Ｎ劣化のない摩擦係数の増加しない、走行耐久性に優
れた磁気記録媒体を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の目的は、非磁性支持体の一方の表面に結晶子サ
イズが２５０λ以下の合金強磁性粉末を含む磁性層を有
し、磁性層の表面粗さが６．０ｎｍ以下で、非磁性支持
体の他方の面に無機質粉末と結合剤を含み且つｌ−以下
の厚さのハック層を有し、バック層の表面粗さが８．０
ｎｍ以下で且つバック層表面は高さ０．０５〜０．８−
で５００〜５０００ケ／ｌｌｌｌ１１２の突起を有する
ことを特徴とする磁気記録媒体により達成される。

本発明は、磁性層に含有される合金強磁性粉末の結晶子
サイズを２５０Å以下に限定すると共に磁性層の表面粗
さを６．０ｎｍ以下に限定することにより、主に電磁変
換特性を良好に改善し、且つバック層の表面粗さを８．
０　ｎｍ以下に限定すると共にハック層表面の突起を高
さ０．０５〜０．８−に制限すると共にその数を５００
〜５０００ケ／１ＩＩｌ！に選定することにより主にバ
ック層の動摩擦係数およびドロップアウトを低減し、走
行耐久性を改善すると共に記録波長が１．０μ以下の高
密度記録に於けるビデオＣ／Ｎの劣化を改善したもので
あるが、上記磁気記録媒体の特性の改善の効果は、磁性
層単独の改善あるいはバック層単独の改善では達成され
ず、両者の改善により初めてその効果を奏するものであ
る。

本発明の磁性層に用いられる合金強磁性粉末とは、金属
単体をも包含するものであり、その結晶子サイズは、Ｘ
線回折装置にて（１１０）面と（２２０）面の回折線の
ピークの半値幅より算出したものである。

また、磁性層及びバンク層の表面粗さは、光三次元によ
り求めたものである。

バック層の突起の高さとは、突起底部の最も非磁性支持
体に近い位置から突起頂部までの距離を意味する。また
、突起の数の確認は、光三次元又は接触式表面粗さ計で
行う事が出来る（接触式表面粗さ計のカットオフは０．
２５ｍｍ）により行うことができる。

本発明において該磁性層の表面粗さおよびバック層の表
面粗さおよび突起の形成手段は特に限定されない。

例えば、該磁性層をおよびバック層を形成する手段とし
ては、下記記載の手段が挙げられる。

■　磁性層及びバック層に含有される研磨剤等の非磁性
粉体のサイズを限定すること。

例えば、バック層の表面突起は、無機粉末として、好ま
しくは、粗粒子と微粒子を混合、組み合わせることによ
り形成される。無機粉末としては、カーボンブランク、
グラファイト、二硫化タングステン、二硫化モリブデン
、窒化ホウ素、チタンブラック、５ｉＯｚ、ＣａＣＯ５
、ＡｌｚＯｚ　、ＦｅｚＯｚ　、Ｔｉ１ｔ、ＭｇＯ、Ｚ
ｎＯ、ＣａＯ等が挙げられる。

上記の中でも、カーボンブラック、ＣａＣ０＋が好まし
く粗粒子と微粒子について同種のものを使用しても異な
った種類を使用しても良い。

粗粒子粉末としては、平均粒子サイズが５０〜５００ｒ
ｉｐのものが好ましく、特に、好ましくは、１５０〜４
００ｎｍのものが好ましい。

微粒子粉末としては、平均粒子サイズが１０〜５０ｎｏ
＋のものが好ましい。

また、磁性層中に添加される研磨剤剤等の無機粉体の平
均粒子サイズは、好ましくは１０〜２，０ＯＯｎ−の範
囲である。ｌ０ｎｍ以下では研磨力が劣り、耐久性が劣
る。２．０Ｏ０ｎｍ以上では表面性が劣り、電磁変換特
性が劣る。

■　合金強磁性粉末、結合剤、溶剤、非磁性粉体等から
なる磁性塗料あるいは、結合剤、溶剤、研磨剤等の非磁
性粉体等からなるバック層用塗料を形成する時の混線分
散条件を適宜選択、調整すること。

例えば、合金強磁性粉末と非磁性粉体とを別々に分散す
ること、混線時間を調整すること、合金強磁性粉末の表
面処理等が挙げられる。

■　磁性層およびハック層の塗布方法、装置を調整する
こと。

・例えば、磁性層とバック層を同時に、あるいは、バッ
ク層→磁性層又は磁性層→ハック層の順に塗布すること
、等が挙げられる。

■　磁性層およびバック層のポリマーや架橋剤等からな
る結合剤の種類を適宜選定すると共に磁性層塗布時及び
／又は後、両層の膜硬化時において、物理的な圧力、熱
、放射線等の印加条件（単なる膜硬化のためのエネルギ
ー付与の他、磁性層及び／またはバック層表面の変形、
研磨等の物理的処理等の表面処理のための印加を含む）
を適宜選択すると共に磁性層及び／またはハック層に該
印加する順序をバック層→磁性層、磁性層→バック層ま
たは磁性層およびバック層同時の中から選択すると共に
磁性層及び／またはバック層の膜硬化の順序を適宜選択
し、それらを適宜組み合わせること。

例えば、ポリイソシアネート化合物およびそれと架橋反
応するポリウレタン等を結合剤とした磁性塗料およびハ
ック層塗料を用いた場合、磁性層塗布乾燥後、カレンダ
ーで、線圧５００　ｋｇ／ｃｍ、速度１００ｍ７分、温
度８０°Ｃの条件にて処理し、次いで、バック層を塗布
乾燥し、巻取り、６０’Ｃ１６０時間バルクサーモする
こと等が挙げられる。

本発明に用いられるカレンダー装置としては、特に制限
されるものではないが、例示すれば、少なくとも一対（
二段）の、好ましくは、三段以上の剛性ロールと弾性ロ
ールの組合せ、剛性ロール同志の組合せ等が挙げられる
。この剛性ロールとしては、例えば、中心表面粗さ（Ｒ
ａ：　カットオフ値、０．２５ｍｍ）が０．５〜３．Ｏ
ｒｖが好ましく、各種の鋼製のロールの表面にハードク
ロムメツキやセラミックコーティングを施したもの、ロ
ール表面が超硬合金製のロール等を挙げることができる
。

■　磁性層及び／またはバック層形成後の磁性層及び／
またはバック層表面を物理的に研磨あるいは研削するこ
と。

例えば、磁性層をカレンダー処理し、ハック層を設は次
いで磁性層及び／またはハック層を研磨あるいは研削す
ることが挙げられる。

研磨あるいは研削手段としては、研磨テープ、研磨ホイ
ール、ブレード、回転ブレード等のモース硬度６〜１０
の研磨材料を使用した研磨装置が挙げられる。

本発明に用いられる合金強磁性粉末の飽和磁束密度は、
１２５ｅｍｕ／ｇ以上であることが好ましく、これより
小さいとテープにした時の飽和磁束密度（Ｂｍ）が低く
、。電磁変換特性の出力が劣り好ましくない。また、合
金強磁性粉末の針状比は、電子顕微鏡により測定して、
針状粒子の幅：長さが１：８以上、即ち０．１２５以下
が好ましい。針状比を０．１２５以下にすることにより
Ｂｒ／８ｍ比が高くなり、０．８５以上の値を得ること
ができる。これにより電磁変換特性（特に、ビデオ出力
）が高く、磁性層ヤング率の高いものが得られる。

合金強磁性粉末の結晶子サイズは、２５０Å以下、好ま
しくは、２３０Å以下の範囲であり、２５０Å以下にす
ることにより電磁変換特性のノイズが下がり、Ｃ／Ｎ比
が向上する。

結晶子サイズを２５０Å以下にする製造方法は特開昭６
０−２９５８９号等に記載されている。

本発明に用いられる合金強磁性粉末としては、上記条件
に反しなければ特に制限されることはないが、例えば、
金属分が７５重量％以上であり、そして金属分の８０重
量％以上が少なくとも１種類の強磁性金属あるいは合金
（例、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ、Ｃｏ−
Ｎｉ　−Ｆｅ−Ｂ、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃ
ｒ）であり、該金属分の２０重量％以下の範囲内で他の
成分（例、ＡＩ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍ
ｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ。

Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ。

Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ５ＣｅＳＰｒ、Ｎｄ、Ｂ
、Ｐ）を含むことのある合金等が挙げられる。

特に、本発明に用いられる強磁性合金粉末の製造方法の
例としては、下記の方法を挙げることができる。

（ａ）強磁性金属の有機酸塩を加熱分解し、水素などの
還元性気体で還元する方法。

（ｂ）針状オキシ水酸化物もしくは、これらに他金属を
含有せしめたもの、あるいはこれらのオキシ水酸化物を
加熱して得た針状酸化鉄を、水素などの還元性気体で還
元する方法。

（ｃ）金属カルボニル化合物を熱分解する方法。

（ｄ）強磁性粉末を低圧の不活性ガス中で蒸発させる方
法。

（ｅ）強磁性体を作り得る金属の塩の水溶液中で還元性
物質（水素化ホウ素化合物、次亜リン酸塩あるいはヒド
ラジン等）を用いて還元して強磁性粉末を得る方法。

（ｆ）水銀陰極を用い強磁性金属粉末を電解析出させた
のち水銀と分離する方法。

本発明では、上記いずれの方法で製造された強磁性粉末
でも使用しうるが、磁性特性とコストの両面から（ｂ）
の方法が特に好ましい。

本発明に併用し得る強磁性粉末としては、特に、制限は
なく、上記合金強磁性粉末で本発明の範囲以外のもの、
金属酸化物系強磁性粉末、例えば、７−Ｆｅ、０．、Ｃ
ｏ含有（被着、変成、ドープ）の７−ＦｅｚＯ，、、Ｆ
ｅ５ｏ４　、Ｃｏ含有（被着、変成、ドープ）のＦｅ５
ｏａ　、Ｆｅｏｘ、Ｃｏ含有（被着、変成、ドープ）の
ＦｅＯｘ　（Ｘ＝　１　、３３〜１　、５０　）　、Ｃ
ｒ　ＯｔやＲｎ、Ｔｅ。

Ｓｂ、５ｒＳＦｅ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、ＣｒｚＯｉの少な
くとも一種類を含むｃｒｏ２、板状六方晶のバリウムフ
ェライト等を挙げることができ、これらは本発明の合金
強磁性粉末１００重量部に対し１〜９０重量部の範囲で
使用され得る。

併用し得る方法として、強磁性粉末を混ぜる方法及び層
を複数設けることができる。層を複数設ける場合、記録
再生ヘッドに接する側に合金強磁性粉末を含む磁性層、
その下に上記金属酸化物系強磁性粉末等の磁性層を９９
／１〜１０／９９の厚み割合で設ける事が出来る。

本発明に用いられる結合剤は、従来、磁気記録媒体用の
結合剤として使用されている公知の熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂、放射線硬化性樹脂、反応型樹脂およびこれら
の混合物の何れであってもよい。

上記熱可塑性樹脂としては、アクリル酸エステルアクリ
ロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニリデ
ン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合体、メ
タアクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、メタ
アクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタアク
リル酸エステルスチレン共重合体、塩化ビニル系共重合
体（詳細は後記）、ポリウレタン樹脂（詳細は後記）、
ウレタンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニ
トロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビニル、
塩化ビニリデンアクリロニトリル共重合体、ブタジェン
アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニ
ルブチラール、セルロースｍ１体（メチルセルロース、
エチルセルロース、アセチルセルロース、ヒドロキシエ
チルセルロース、カルボキシメチルセルロース、セルロ
ースアセテートブチレート、セルロースジアセテート、
セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート
、ニトロセルロース等）、スチレンブタジェン共重合体
、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテルアクリル酸
エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱
可塑性樹脂等が挙げられる。

塩化ビニル系共重合体またはセルロース誘導体を本発明
の磁性層に用いる場合、軟化温度が１５０℃以下で、そ
れらの数平均分子量は、１．０００〜１００，０００、
好ましくは、５，０００〜５０．０００であり、それら
をバック層の用いる場合は、数平均分子量は、５，００
０〜１０００００、好ましくは、１０．０００〜７０，
０００である。

上記熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗布液の状
態では２０万以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱
することにより、分子量が極めて大きくなるものとなる
物であり、例えばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラ
ミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系
反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロー
スメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシア
ネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体
とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジ
オール／トリフェニルメタントリイソシアネート等のポ
リイソシアネートの混合物、ポリアミン樹脂、ポリイミ
ン樹脂及びこれらの混合物等が挙げられる。

更に、放射線硬化性樹脂としては放射線照射により硬化
させることができる炭素炭素不飽和結合を分子中に少な
くとも１個有する樹脂を使用することができる。放射線
硬化性樹脂の例としては、前記塩化ビニル系共重合体や
ポリウレタン樹脂に、分子中に炭素炭素不飽和結合を分
子中に少なくとも１個有する化合物を、重合時の共重合
成分として前記共重合体や樹脂と反応させたりすること
によって含有させることにより製造されたものを挙げる
ことができる。炭素炭素不飽和結合を分子中に少なくと
も１個有する化合物としては、分子中に少なくとも１個
の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物が好ましく
、このような化合物には更にグリシジル基や水酸基が含
まれていてもよい。

更に、前記結合剤に、放射線照射により重合可能な化合
物を添加してもよい。このような化合物としては、（メ
タ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類
、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類
、ビニルＩ節理化合物、Ｎ−ビニル化合物、スチレン類
、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、オレ
フィン類等が挙げられる。これらのうち特に好ましいも
のとして一分子中に（メタ）アクリロイル基を２個以上
有する化合物、例えば、ジエチレングリコールジ（メタ
）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アク
リレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリ
レート、ポリイソシアネートとポリ（メタ）アクリレー
トとの反応生成物等を挙げることができる。

本発明に使用される塩化ビニル系共重合体としては、例
えば、次のものから選定することができる。

好ましい塩化ビニル系共重合体の具体例としては、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
−マレイン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレ
イン酸共重合体−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニ
ル−プロピオン酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、
塩化ビニル−酢酸ビニル−アクリル酸共重合体、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−アクリル酸−ビニルアルコール共重
合体、およびこれらの共重合体を酸化したもの等を挙げ
ることができる。

特に、カルボン酸基またはその塩、スルホン酸基または
その塩、リン酸基またはその塩、アミノ基、水酸基等の
極性基を有する塩化ビニル系共重合体が、強磁性粉末に
分散性向上のため好ましい。

また、上記ポリウレタンとしては、ポリエーテルポリオ
ールやポリエステルポリオール等のポリオールとジイソ
シアネートと、更に必要に応じて鎖延長剤とから、それ
自体公知のポリウレタンの製造方法によって製造された
ポリウレタンを使用することができる。

上記ポリオールは、例えば、ポリエーテルジオール、ポ
リエステルジオール、ポリカーボネートジオール、ポリ
カプロラクトンジオールのような化合物である。

上記ポリエーテルポリオールの代表例としては、ポリエ
チレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリ
アルキレングリコールを挙げることができる。

上記ポリエステルポリオールは、例えば、二価のアルコ
ールと二塩基酸との重縮合、ラクトン類、例えば、カプ
ロラクトンの開環重合等によって合成することができる
。代表的な二価のアルコールとしでは、エチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、ブタンジオール、１
，６−ヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタツール
等のグリコールを例示することができる。また、代表的
な二塩基酸としては、アジピン酸、ピメリン酸、アゼラ
イン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸等を例示
することができる。

また、ポリカーボネートポリオールは、例えば、下記一
般式（１）％式％（１）〔式中、Ｒ１は、例えば、−（Ｃｆｂ）　−−（ｎ　□
３〜１４）、を有する多価アルコールと、ホスゲン、クロルギ酸エス
テル、ジアルキルカーボネートまたはジアリールカーボ
ネートとの縮合またはエステル交換により合成される、
分子量３００〜２万、水酸基価２０〜３００のポリカー
ボネートポリオール、或いは、該ポリカーボネートポリ
オールと例えば、一般式（ｎ）ＨＯＯＣ−Ｒ”−ＣＯＯＨ（ＩＩ）〔式中、Ｒ２は、例えば、炭素数３〜６個のアルキレン
基、１．４−１．３−もしくはｌ、２−フェニレン基又
は１．４−１．３−もしくは１゜２−シクロヘキシレン
基等を表す、〕を有する二価カルボン酸との縮合により得られる、分子
量４００〜３万、水酸基価５〜３００のポリカーボネー
トポリエステルポリオールである。

上記ポリオールに、その他のポリオール、例えばポリエ
ステルエーテルポリオール等を上記ポリオールの９０重
量％まで配合し併用してもよい。

上記ポリオールと反応させてポリウレタンを形成する゛
ために用いられるポリイソイアネートとしては、特に制
限はなく通常使用されているものを用いることができる
。例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリジン
ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネー）、１．
３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレン
ジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、
トルイジンジイソシアネート、２．４−１リレンジイソ
シアネート、２．６−）リレンジイソシアネート、４，
４゛−ジフェニルメタンジイソシアネート、ｐ−フェニ
レンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネー
ト、ｌ、５−ナフチレンジイソシアネート、３３”−ジ
メチルフェニレンジイソシアネート、ジシクロヘキシル
メタンジイソシアネート等を挙げることができる。

鎖延長剤としては、例えば、前記の多価アルコール、脂
肪族ポリアミン、脂環式ポリアミン、芳香族ポリアミン
等を挙げることができる。

上記ポリウレタンは、例えば、−Ｃ００Ｍ基、ＳＯ３Ｍ
基、−０ＰＯＪｚ基、−囲碁（但し、門は水素、ナトリ
ウム、またはカリウムを示す。）等の極性基を含有して
いてもよい。

又、上記結合剤には、更にイソシアネート基を２個以上
有する化合物（ポリイソシアネート）を含有させてよい
。このようなポリイソイアネート化合物としては、例え
ば、トリレンジイソシアネート、４．４′−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、０−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、これらのイ
ソシアネート類とポリアルコールとの反応生成物、およ
びこれらのイソシアネート［の縮合により生成したポリ
イソシアネート等を挙げることができる。上記ポリイソ
シアネートは、例えば、日本ポリウレタン工業■からコ
ロネートし、コロネートＨＬ、コロネートＨ、コロネー
トＥＨ、コロネート２０３０、コロネー）２０３１、コ
ロネート２０３６、コロネート３０１５、コロネート３
０４１、コロネート２０１４、ミリオネートＭＲ、ミリ
オネー）ＭＴＬ、ダルトセック１３５０、ダルトセック
２１７０、ダルトセック２２８０、武田薬品工業■から
タケネー［）−１０２、タケネートＤ−１１ＯＮ、タケ
ネー）Ｄ−２００、タケネー）Ｄ−２０２、住友バイエ
ル■からスミジュールＮ７５、西独バイエル社からデス
モジュールしいデスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ
。

デスモジュールＨＬ、大日本インキ化学工業■からバー
ノックＤ−８５０、パーノックＤ−８０２などの商品名
で販売されている。

本発明の磁気記録媒体の磁性層における強磁性粉末と結
合剤との配合割合は、強磁性粉末１００重量部あたり結
合剤１０〜３０重量部であることが好ましい。

本発明の磁気記録媒体の好ましい磁性層用結合剤組成と
しては、重合度１００〜５００で、かつ５０３Ｍ　、−
０５０３Ｍ、−ＰＯ３Ｍ□、−０ＰＯ，Ｍ２等（ここで
門は水素、アルカリ金属、アンモニウム等を示す）より
選ばれた極性基を有する塩化ビニル系共重合体を結合剤
中３０〜８０重量％と数平均分子量１〜３万のポリウレ
タンを同１０〜５０重量％、その他ｌＯ〜５０重量％等
を含む樹脂組成等が挙げられる。磁性層用結合剤組成物
のガラス転温度は、３０°Ｃ以上、好ましくは、５０℃
以上であることが望ましい。

同じくバック層用結合剤組成としては、ニトロセルロー
スを５０〜８０重量％、数平均分子量２〜５万のポリウ
レタンを５〜５０重量％、ポリイソシアネート１０〜５
０重量％等からなる樹脂組成等があげられる。バック層
用結合剤組成物のガラス転移温度は、４０°Ｃ以上であ
ることが望ましく、特に６０℃以上であることが好まし
い。

放射線硬化型の不飽和結合含有モノマーを含む樹脂組成
の場合、磁性層及び／またはバック層硬化のための放射
線処理において照射される放射線としては、電子線、Ｔ
線、β線、紫外線などを使用できるが、好ましくは電子
線である。電子線照射は電子線加速器を用いて行われる
。

照射する放射線が電子線の場合は、５０〜５００ｋＶ、
好ましくは１００〜３００ｋＶの加速電圧のものが使用
される。また、吸収線量は、一般に１〜５０メガランド
、好ましくは２〜１５メガランドである。又、温度は、
３０〜１２０℃の範囲で上記処理工程に応じて選択でき
る。

本発明の磁気記録媒体には上記強磁性粉末、結合剤の外
に、上述の通り他の各種の添加物、例えば、カーボンブ
ラック、充填材、研磨材、分散剤、帯電防止剤、潤滑剤
等を含有させることができる。

このような各種の添加物の含有量は、結合剤の含有量よ
りも少ないことが好ましい。

上記カーボンブラックとしては、公知のカーボンブラッ
ク、例えば、ファーネスブラック、カラー用ブラック、
アセチレンブラック、等の任意のカーボンブラックを任
意に使用することができる。

カーボンブラックの表面の一部がグラフト化しているも
のを用いてもよい。該微粒子のカーボンブラックと粗粒
子のカーボンブラックとを併用してもよい。

上記充填材としては特に制限はなく、例えば、二硫化タ
ングステン、炭酸カルシウム、二酸化チタン、酸化マグ
ネシウム、酸化亜鉛、酸化カルシウム、リトポンおよび
タルクなどの粒子を挙げることができ、これらを単独で
あるいは混合して使用することができる。

上記研磨剤としては一般に使用される研磨作用若しくは
琢磨作用をもつ材料で、熔融アルミナ、α−アルミナ、
Ｔ−アルミナ、α−Ｔ−アルミナ、炭化硅素、酸化クロ
ム、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモンド、α
−酸化鉄、ザクロ石、エメリー（主成分：コランダムと
磁鉄鉱）、ガーネット、珪石、窒化硅素、窒化硼素、炭
化モリブデン、炭化硼素、炭化タングステン、チタンカ
ーバイド、クォーツ、トリポリ、珪藻土、ドロマイト等
が、磁気記録媒体の磁性層の耐久性の面から代表的なも
のとして挙げられる。特に、モース硬度６以上の研磨材
を１種内至４種迄組合わせて使用することが好ましい。

分散剤としては、炭素数９〜２２の脂肪酸（例、カプリ
ル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミ
チン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライ
ジン酸、リノール酸、リルン酸、ステアロール酸等）、
上記脂肪酸とアルカリ金属（Ｌ　ｉ、Ｎａ、に等）また
はアルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）から成る金
属石鹸、上記脂肪酸のエステル及びその化合物の水素の
一部あるいは全部をフッ素原子で置換した化合物、上記
脂肪酸のアミド、脂肪族アミン、高級アルコール、ポリ
アルキレンオキサイドアルキルリン酸エステル、アルキ
ルリン酸エステル、アルキルホウ酸エステル、サルコシ
ネート類、アルキルエーテルエステル類、トリアルキル
ポリオレフィンオキシ第４級アンモニウム塩及びレシチ
ン等の公知の分散剤を挙げることができる。分散剤を使
用する場合、通常は使用する結合剤１００重量部に対し
て０．０５〜２０重量部の範囲で使用される。

帯電防止剤としては、カーボンブラックグラフトポリマ
ー等の導電性微粉末；サポニン等の天然界面活性剤；ア
ルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系
等のノニオン性界面活性剤；高級アルキルアミン類、第
四級アンモニウム塩類、ホスホニウムまたはスルホニウ
ム類等のカチオン性界面活性剤；カルボン酸、スルホン
酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性
基を含むアニオン性界面活性剤；アミノ酸類、アミノス
ルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステ
ル類等の両性界面活性側等が使用される。帯電防止剤と
して上記の導電性微粉末を使用する場合には、例えば結
合剤１００重量部に対して０．２〜２０重量部の範囲で
使用され、界面活性剤を使用する場合には０．１−１０
重量部の範囲で使用される。

潤滑剤としては、前記の脂肪酸、高級アルコール類、ブ
チルステアレート、ソルビタンオレエートなどの炭素数
１２〜２０の一塩基性脂肪酸と炭素数３〜２０の一価も
しくは多価アルコールからなる脂肪酸エステル類、鉱物
油、動植物油、オレフィン低重合体、α−オレフィン低
重合体の他に、シリコンオイル、グラファイト微粉末、
二硫化モリブデン微粉末、テフロン微粉末等の公知の潤
滑剤およびプラスチック用潤滑剤を挙げることができる
。潤滑剤の添加量は、公知技術に従って任意に決定する
ことができる。

混線の際に使用する溶剤に特に制限は無く、通常磁性塗
料の調製に使用されている溶剤を使用することができる
。

混線の方法にも特に制限はなく、また各成分の添加順序
などは適宜設定することができる。

磁性塗料の調製には通常の混練機、例えば、二本ロール
ミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、トロ
ンミル、サンドグラインダー、ゼグバリ（Ｓｚｅｇｖａ
ｒｉ）、アトライター、高速インペラー、分散機、高速
ストーンミル、高速度衝撃ミル、デイスパー、ニーダ−
１高速ミキサー、ホモジナイザー及び超音波分散機など
を挙げることができる。

なお、上述した分散剤、帯電防止剤、潤滑剤などの添加
剤は、厳密に上述した作用効果のみを有するものである
との限定の下に記載したものではなく、例えば、分散剤
が潤滑剤あるいは帯電防止剤として作用することも有り
うる。従って、上記分類により例示した化合物などの効
果作用が、上記分類に記載された事項に限定されないこ
とは勿論であり、また複数の作用効果を奏する物質を使
用する場合には、添加量は、その作用効果を考慮して決
定することが好ましい。

その他、清浄分散剤、粘度指数向上側、流動点降下剤、
泡止め剤などを添加することもできる。

このようにして調製された磁性塗料の粘度は、通常６０
〜２００ｐｓの範囲内にある。

磁性塗料の塗布は、前記非磁性支持体上に直接行うこと
も可能であるが、また、接着剤層等を介して、または、
非磁性支持体に物理的処理（例えば、コロナ放電処理、
電子線照射処理）を施した後、非磁性支持体上に塗布す
ることもできる。

非磁性支持体上への塗布の例としてはエアードクターコ
ート、ブレードコート、ロッドコート、押し出しコート
、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リ
バースロールコート、トランスファーロールコート、グ
ラビアコート、キスコート、キャストコート、スプレィ
コート、バーコード、スピンコード等かの方法を挙げる
ことができ、これらの方法以外であっても利用すること
ができる。同時重層塗布（Ｗｅｔ　　ｏｎ　　Ｗｅｔ法
）でもよい。

塗布厚さは、最終的に得られる磁気記録媒体の磁性層の
厚さが２〜１０μの範囲内の厚さとなるようにすること
が好ましい。

本発明に使用する非磁性支持体としては、特に制限はな
く、通常使用されているものを用いることができる。非
磁性支持体を形成する素材の例としては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエ
ステル類、ポリプロピレン、ポリエチレン等ポリオレフ
ィン類、セルローストリアセテート、セルロースダイア
セテート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン等のビニル系樹脂類、ポリカーボネート
、ポリアミド、ポリスルホン等のプラスチックのほかに
アルミニウム、銅等の金属、ガラス等のセラミックス等
も使用出来る。これらの支持体は塗布に先立って、コロ
ナ放電処理、プラズマ処理、下塗処理、熱処理、除塵埃
処理、金属蒸着処理、アルカリ処理をおこなってもよい
。これら支持体に関しては例えば西独特許３３３８８５
４Ａ１特開昭５９−１１６９２６号、米国特許４３８８
３６８号；三石幸夫著、　　「繊維と工業」３１巻　ｐ
５０〜５５．１９７５琴などに記載されている。

また該支持体の表面粗さ（Ｒａ：光干渉式表面粗さ）は
、Ｉｏｎｓ以下、好ましくは、７．０ｎ■以下が良い。

又、非磁性支持体の磁性面側の表面粗さとバック面の表
面粗さは同じでも異なっていてもよい。但し、磁性面側
の表面粗さは前記の範囲が必要であり、バック面の表面
粗さは、この範囲で無くとも良い。

このような方法により、支持体上に塗布された磁性層は
、例えば、必要により層中の強磁性粉末を直ちに乾燥し
ながら所望の方向へ配向させる処理を施したのち、形成
した磁性層を乾燥する。このときの支持体の搬送速度は
、通常１０ｍ／分〜１０００ｍ／分でおこなわれ、乾燥
温度が２０°Ｃ−１３０℃で制御される。又必要により
前記表面平滑化加工を施したり、所望の形状に裁断した
りして、本発明の磁気記録体を製造する。これらの製造
方法はフィラーの表面処理、混練・分散、塗布、熱処理
、カレンダー、放射線照射（ＥＢ）処理、表面研磨処理
、裁断の工程を連続して行う事が好ましい。また必要に
応じて幾つかに工程を分ける事ができる。

これらの工程においては、温度、湿度が制御され、温度
は１０℃〜１３０°、湿度は空気中の水分量で表すと、
５ｍｇ／ｎ（〜２０ｍｇ／ｒｒｆである。

これらは、例えば、特公昭４０−２３６２５号公報、特
公昭３９−２８３６８号公報、米国特許第３４７３９６
０号明細書、等にしめされている。又、特公昭４１−１
３１８１号公報にしめされる方法はこの分野における基
本的、且つ重要な技術と考えられている。

〔発明の効果〕

本発明によれば、前述したごとき特性を持つ磁気記録媒
体が得られる。即ち、従来の技術によれば、バック層の
表面に高さ０．０５〜０．８　ｍ、間隔５０−以上、０
．５〜５００個／ａｍ”の表面突起を設ける等のバック
層表面突起の改良により巻き端面の揃い、巻き緩み、巻
きずれ、等の走行性、および電磁変換特性を改善するこ
とができたが、尚、走行性および電磁変換特性、特に、
Ｃ／Ｎ特性に問題があった。本発明は、磁性層に結晶子
サイズが２５０Å以下の合金強磁性粉末を使用し、且つ
表面粗さ（Ｒａ）が６ｎｌＩ＋以下の超平滑な表面性に
することにより、記録波長が１．Ｏｎ以下の高密度記録
においてビデオ感度が優れ、更にバック層のＲａが８．
０ｎｍ以下の超平滑な表面性で且つ表面に高さ０．０５
〜０．８−で５００〜５０００ケ／ｌｌ１１２の突起を
設けることにより記録波長が１．Ｏｔｒｙｓ以下の高密
度記録におけるビデオＣ／Ｎの劣化がなく走行μ値の上
昇が無（、特に、長期保存によるバック面突起写りによ
るビデオＣ／Ｎの劣化がない極めて優れた磁気記録媒体
を提供するものである。

〔実施例〕

以下に本発明を実施例により更に具体的に説明する。こ
こに示す成分、割合、操作順序等は本発明の精神から逸
脱しない範囲において変更しうるちのであることは本業
界に携わるものにとっては容易に理解されることである
。

従って、本発明は下記の実施例に制限されるべきではな
い。尚、実施例及び比較例中の部は重量部をしめす。

実施例厚さ１０−のポリエチレンテレフタレートベース（磁性
面側の表面粗さ：４ｎｔａ、バック面の表面粗さ：　６
．　５ｒｖ）の磁性面側表面に下記°の様な磁性塗料組
成物を用いこれを第１表に示した種々の合金強磁性粉末
と混線分散したものを塗布し、乾燥後の厚さが３−にな
るようにした。

磁性塗料組成物合金強磁性粉末（第１表記載）１００部ＭＲＩＩＯ１０
部（−５Ｏ３Ｎａ含有塩化ビニル樹脂、日本ゼオン■製）
ＵＲ８３００１０部（−ＳＯ３Ｎａ含有ポリウレタン樹脂、東洋紡味製）ポ
リイソシアネート　　　　　　　　　５部（コロネート
し、日本ポリウレタン■製）ミリスチン酸　　　　　　
　　　　　　１部ブチルステアレート　　　　　　　　
　２部メチルエチルケトン　　　　　　　　１５０部酢
酸ブチル　　　　　　　　　　　　１５０部更に、該ベ
ースのバック面に下記のようなバック層塗料組成物を用
い、これを第１表記載の種々の無機粉末と混線分散した
ものを塗布し、乾燥後の厚さが０．５−になるようにし
た。

無機粉末８１００部（カーボンブラック　第１表記載）無機粉末ｂ（カーボンブラック　部数は第１表記載）ニトロセルロ
ース　　　　　　　　　１５部ポリウレタン　　　　　
　　　　　３０部（商品名：ニラポラン２３０１、日本
ポリウレタン■製）ポリイソシアネート　　　　　　　　　１５部（商品名
：ニラポラン２３ｏ１、日本ポリウレタン■製）メチルエチルケトン　　　　　　　　３００部磁性層お
よびバック層の表面粗さについては、第１表記載の様に
混線分散時間及びカレンダー温度を選定することにより
調整した。尚、カレンダーとして、材料が金属ロールと
ナイロンロールの組合せからなる構成のものを使用し、
線圧を３５０ｋｇ／ｃ−とした、バック層の表面の突起
の高さ、数については、上記無機粉末のサイズや添加量
で調整した。

上記のようにして得られたサンプル１〜２２のテープを
８−１１１幅にカットして８１１１１＋ビデオテープを
作成した。

得られたテープの性能を下記の試験法により評価し、そ
の結果も第１表に示した。

Ｃ／Ｎ比：市販の８ｍｍビデオテープレコーダー（Ｆｕ
ｊ　１ｘ−８）を用いて、５ＭＨｚの信号を記録し、こ
の信号を再生した時の５±ＩＭＨｚの範囲に発生するノ
イズを測定し、このノイズに対する再生信号の比を測定
した。測定は、ＮＶ−８７０ＨＤ型出力レベル測定機（
松下電気産業■製）を用いて行った。なお、表記した値
は比較例１で得られた磁気記録媒体のＣ／Ｎ比をＯｄＢ
としたときの値である。

保存後のＣ／Ｎ比：６０℃、８０χ、７日間保存後のＣ
／Ｎを上記と同様に測定し、保存後のＣ／Ｎ比゛とした
。

動摩擦係数二８−幅テープを使って下記条件でバック層
表面のμ値を測定した。

被測定物：５ａ＋ｍφのＳＵＳ棒（Ｒａ：５０ｎｓ）速
度：１４ｍｍ／ｓｅｃ荷重：３０ｇ走行後のドロップアウト：８ｓ＋ｍＶＴＲ（Ｆｕｊ　１
ｘ８）を使い、８ｍ１１１カセツトに組み込まれた測定
サンプルを１２０分長１Ｏ０ｐａｓｓ繰り返し走行後、
ドロップアウトカウンター（シバツクＶＨＯＩ　ＢＺ）
につなぎ５ＭＨｚの出力を入力し、５μｓｅｃで１６ｄ
Ｂ以上落ちたドロップアウトをカウントした。

ドロップアウト評価レベル０　：　２００ケ／分以下のもの。

△：２００〜４００ケ／分以下のもの。

Ｘ　：　４００ケ／分以上のもの。

又、他の特性の評価のＯは、良好、Δは普通、×は不良
、ＯΔはＯとΔの中間を示す。

評価結果従来使われているＣｏ−１ＦｅｔＯ３に比べＦｅ−Ｎ１
−Ｃ。

合金強磁性粉末は、Ｃ／Ｎが高く、高密度記録に適して
いることがわかる。

磁性層面の表面粗さが粗くなるとスペース損やノイズが
高くなるためＣハが劣る。

バック層の表面粗さは、８ｎ＋＋を越えると磁性層面の
表面粗さが劣りＣ／Ｎが劣化した。

これはカレンダーでのバックの粗さが磁性層に影響して
いるものと考えられる。

バック面の突起の高さ及びケ数は保存後のＣ／Ｎが劣化
及びμ値に影響があった。

突起の高さは、０．０５〜０．８−１突起の数は５００
〜５０００ケ／＋ｕｅ”が保存後のＣ／Ｎ劣化が少なく
μ値も低い値が得られた。

手続補正書平成３年（５月２１０

Claims

【特許請求の範囲】

（１）非磁性支持体の一方の表面に結晶子サイズが２５
０Å以下の合金強磁性粉末を含む磁性層を有し、磁性層
の表面粗さが６．０ｎｍ以下で、非磁性支持体の他方の
面に無機質粉末と結合剤を含み且つ１μｍ以下の厚さの
バック層を有し、バック層の表面粗さが８．０ｎｍ以下
で且つバック層表面は高さ０．０５〜０．８μｍで５０
０〜５０００ヶ／ｍｍ＾２の突起を有することを特徴と
する磁気記録媒体。
（２）合金強磁性粉末の飽和磁束密度が１２５ｅｍｕ／
ｇ以上であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録
媒体。
（３）合金強磁性粉末の針状比が１：８以上であること
を特徴とする請求項１または２記載の磁気記録媒体。