JPH041927A - 薄膜磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
薄膜磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH041927A JPH041927A JP23078890A JP23078890A JPH041927A JP H041927 A JPH041927 A JP H041927A JP 23078890 A JP23078890 A JP 23078890A JP 23078890 A JP23078890 A JP 23078890A JP H041927 A JPH041927 A JP H041927A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、コンピュータなどの情報処理装置の外部記
憶装置の一つである固定磁気ディスク装置に使用される
薄膜磁気記録媒体の製造方法に関する。
憶装置の一つである固定磁気ディスク装置に使用される
薄膜磁気記録媒体の製造方法に関する。
薄膜磁気記録媒体（以下、単に媒体とも称する）は、一
般に１．Ｖ合金などからなる非磁性板を所要の平行度、
平面度１表面粗度に仕上げ、その表面にアルマイト処理
あるいはＮ＋−Ｐ合金無電解めっき処理を施して表面層
を形成し、その表面を所要の粗度に研磨仕上げし洗浄を
して非磁性基板とし、この非磁性基板を静止純水中に浸
漬保管しておき、順次取り出して精密洗浄を施し、引き
続いてこの非磁性基板上に、スパッタ成膜法により、磁
性を高めるための例えばＣｒからなる非磁性金属下地層
、［０合金などの強磁性金属からなる連続薄膜磁性層を
順次形成し、さらにその上に硬質保護膜としてＣ，Ｓ＋
０２などの薄膜をスパッタ成膜法。
般に１．Ｖ合金などからなる非磁性板を所要の平行度、
平面度１表面粗度に仕上げ、その表面にアルマイト処理
あるいはＮ＋−Ｐ合金無電解めっき処理を施して表面層
を形成し、その表面を所要の粗度に研磨仕上げし洗浄を
して非磁性基板とし、この非磁性基板を静止純水中に浸
漬保管しておき、順次取り出して精密洗浄を施し、引き
続いてこの非磁性基板上に、スパッタ成膜法により、磁
性を高めるための例えばＣｒからなる非磁性金属下地層
、［０合金などの強磁性金属からなる連続薄膜磁性層を
順次形成し、さらにその上に硬質保護膜としてＣ，Ｓ＋
０２などの薄膜をスパッタ成膜法。
スピンコード法などにより形成し、かつ、必要に応じて
潤滑・耐磨耗特性を改善させるための液体潤滑剤の塗布
などを行って作製される。
潤滑・耐磨耗特性を改善させるための液体潤滑剤の塗布
などを行って作製される。
固定磁気ディスク装置においては、このような媒体に対
して磁気ヘッドを介して情報のＲｅａｄ／Ｗｒｉｔｅが
行われる。磁気ヘッドは、媒体に対し、Ｒｅａｄ／Ｗｒ
ｉｔｅが行われる駆動時には、回転する媒体との間に生
じる空気流の作用により極低浮上走行状態にあるが、駆
動の開始、停止時点では両者は接触し摺動する。そのた
め、媒体表面の摩擦係数が大きい場合、磁気ヘッドと媒
体との間に一種の焼き付き状態が発生するという不具合
が生じる。
して磁気ヘッドを介して情報のＲｅａｄ／Ｗｒｉｔｅが
行われる。磁気ヘッドは、媒体に対し、Ｒｅａｄ／Ｗｒ
ｉｔｅが行われる駆動時には、回転する媒体との間に生
じる空気流の作用により極低浮上走行状態にあるが、駆
動の開始、停止時点では両者は接触し摺動する。そのた
め、媒体表面の摩擦係数が大きい場合、磁気ヘッドと媒
体との間に一種の焼き付き状態が発生するという不具合
が生じる。
このような欠点をなくすために、媒体の表面状態は、で
きるかぎり、同一媒体面内において、また、媒体間にお
いて、ばらつきのない均一な微小突起を有する表面粗度
であることが必要である。
きるかぎり、同一媒体面内において、また、媒体間にお
いて、ばらつきのない均一な微小突起を有する表面粗度
であることが必要である。
このような均一な表面粗度の媒体を得るために、基板表
面を機械加工により所要の均一な粗度に精密に加工し、
その後静止純水中に浸漬保管しておき、成膜直前に取り
出して精密洗浄して、できるだけ清浄にした基板表面に
成膜する製造方法が行われてきた。
面を機械加工により所要の均一な粗度に精密に加工し、
その後静止純水中に浸漬保管しておき、成膜直前に取り
出して精密洗浄して、できるだけ清浄にした基板表面に
成膜する製造方法が行われてきた。
ところが、上述の従来の方法においては、精密洗浄前の
静止純水中での基板の浸？ｌｔ保管中に、特に保管が長
期間（例えば１２時間以上）にわたった場合に、基板を
固定支持するステンレス鋼などの材質からなる治具など
に微量に吸着されている研磨液、洗剤などの残渣が純水
を介して基板表面に強固に再付着し、精密洗浄を行って
も完全には除去できない場合が生じ、一定条件で精密洗
浄を行っても基板表面の清浄度にばらつきが生じる。ま
た、このような付着物が精密洗浄後の基板乾燥時。
静止純水中での基板の浸？ｌｔ保管中に、特に保管が長
期間（例えば１２時間以上）にわたった場合に、基板を
固定支持するステンレス鋼などの材質からなる治具など
に微量に吸着されている研磨液、洗剤などの残渣が純水
を介して基板表面に強固に再付着し、精密洗浄を行って
も完全には除去できない場合が生じ、一定条件で精密洗
浄を行っても基板表面の清浄度にばらつきが生じる。ま
た、このような付着物が精密洗浄後の基板乾燥時。
さらに続いて行われるスパッタリング時に基板表面の酸
化（Ｎｉの酸化）を誘発する。このように表面状態にば
らつきのある基板表面に非磁性金属下地層１例えばＣｒ
下地層をスパッタ成膜すると結晶成長による表面微小突
起の均一な形成が阻害され、その上に磁性層、保護膜を
成膜積層して媒体を作製しても、同−媒体内あるいは媒
体間においてばらつきのない均一な微小突起の形成され
た一定の表面粗度が得られないきいう問題が生じ、かつ
、磁性層の均一な結晶成長が阻害されて高保磁力角形比
、高角形比を得ることができないという問題があった。
化（Ｎｉの酸化）を誘発する。このように表面状態にば
らつきのある基板表面に非磁性金属下地層１例えばＣｒ
下地層をスパッタ成膜すると結晶成長による表面微小突
起の均一な形成が阻害され、その上に磁性層、保護膜を
成膜積層して媒体を作製しても、同−媒体内あるいは媒
体間においてばらつきのない均一な微小突起の形成され
た一定の表面粗度が得られないきいう問題が生じ、かつ
、磁性層の均一な結晶成長が阻害されて高保磁力角形比
、高角形比を得ることができないという問題があった。
この発明は、上述の問題点を解消して、同−媒体内およ
び媒体間でばらつきのない均一な表面微小突起を有する
表面粗度で、かつ、高保磁力角形比、高角形比の薄膜磁
気記録媒体の製造方法を提供することを解決しようとす
る課題とする。
び媒体間でばらつきのない均一な表面微小突起を有する
表面粗度で、かつ、高保磁力角形比、高角形比の薄膜磁
気記録媒体の製造方法を提供することを解決しようとす
る課題とする。
上記の課題は、この発明によれば、非磁性基板表面に微
細粗面化加工を施し、その非磁性基板表面上にスパッタ
法により非磁性金属下地層、連続薄膜磁性層、保護層を
順次形成する薄膜磁気記録媒体の製造方法において、前
記微細粗面化加工後の非磁性基板をスパッタ成膜前の精
密洗浄工程まで純水流水中に前記基板表面に対して純水
が激しく流動していて常に清浄な純水が接触する状態で
保管する工程を含む製造方法とすることによって解決さ
れる。
細粗面化加工を施し、その非磁性基板表面上にスパッタ
法により非磁性金属下地層、連続薄膜磁性層、保護層を
順次形成する薄膜磁気記録媒体の製造方法において、前
記微細粗面化加工後の非磁性基板をスパッタ成膜前の精
密洗浄工程まで純水流水中に前記基板表面に対して純水
が激しく流動していて常に清浄な純水が接触する状態で
保管する工程を含む製造方法とすることによって解決さ
れる。
純水流水中に保管している非磁性基板表面に対して純水
が激しく流動していて常に清浄な純水が接触する状態を
実現するためには、純水を流しながら基板表面近傍で不
活性ガスによるバブリングを行うことが好適である。ま
た、基板表面近傍で純水を撹拌してもよい。
が激しく流動していて常に清浄な純水が接触する状態を
実現するためには、純水を流しながら基板表面近傍で不
活性ガスによるバブリングを行うことが好適である。ま
た、基板表面近傍で純水を撹拌してもよい。
バブリングを行う不活性ガスとしては窒素（Ｎ２）ガス
が好適に用いられる。
が好適に用いられる。
上述のように、非磁性基板を純水流水中に、その表面に
対して純水が激しく流動していて常に清浄な純水が接触
する状態で浸漬保管することにより、保管中に基板表面
が汚染されるのを防ぐことができ、スパッタ成膜直前に
所要の一定条件での精密洗浄を行うことにより、基板表
面は均一に極めて高い清浄度に洗浄されることになり、
また、基板表面が局部的に異常に酸化されることもなく
なる。従って、引き続いてその基板表面に非磁性金属下
地層をスパッタ成膜すると結晶成長による表面微小突起
が均一に形成されることになり、その上に磁性層、保護
膜を形成して得られる媒体は、同−媒体内はもちろん媒
体間でもばらつきのない均一な表面微小突起の形成され
た一定の表面粗度ををすることになる。
対して純水が激しく流動していて常に清浄な純水が接触
する状態で浸漬保管することにより、保管中に基板表面
が汚染されるのを防ぐことができ、スパッタ成膜直前に
所要の一定条件での精密洗浄を行うことにより、基板表
面は均一に極めて高い清浄度に洗浄されることになり、
また、基板表面が局部的に異常に酸化されることもなく
なる。従って、引き続いてその基板表面に非磁性金属下
地層をスパッタ成膜すると結晶成長による表面微小突起
が均一に形成されることになり、その上に磁性層、保護
膜を形成して得られる媒体は、同−媒体内はもちろん媒
体間でもばらつきのない均一な表面微小突起の形成され
た一定の表面粗度ををすることになる。
また、磁性層成膜時の結晶成長も均一となり、所要の一
定の結晶状態を得ることができ、高保磁力角形比、高角
形比の媒体を得ることが可能となる。
定の結晶状態を得ることができ、高保磁力角形比、高角
形比の媒体を得ることが可能となる。
第１図は、この４発明の製造方法に用いる純水浸漬保管
装置の一実施例の概念図で、第１図（ａ）は保管される
基板を側面からみる断面図であり、第１図（社）は第１
図（ａ）のｘ−Ｘ断面図である。第１図において、浸漬
される基板１はステンレス製の治具２に保持され保管槽
３内に浸漬保管される。純水は純水供給管４より矢印Ａ
、矢印Ｂに示すように保管槽３内に流入し、オーバーフ
ロ一部６より矢印Ｃに示すように流出する。また、Ｎ２
ガス供給管５より矢印り、 矢印Ｅに示すようにＮ２ガ
スが送り込まれ保管槽３内の純水中に噴出する。このＮ
２ガスによりバブル状態が生じ、基板２０表面に接する
純水が激しく流動し常に清浄な新しい純水が接する状態
が実現できる。
装置の一実施例の概念図で、第１図（ａ）は保管される
基板を側面からみる断面図であり、第１図（社）は第１
図（ａ）のｘ−Ｘ断面図である。第１図において、浸漬
される基板１はステンレス製の治具２に保持され保管槽
３内に浸漬保管される。純水は純水供給管４より矢印Ａ
、矢印Ｂに示すように保管槽３内に流入し、オーバーフ
ロ一部６より矢印Ｃに示すように流出する。また、Ｎ２
ガス供給管５より矢印り、 矢印Ｅに示すようにＮ２ガ
スが送り込まれ保管槽３内の純水中に噴出する。このＮ
２ガスによりバブル状態が生じ、基板２０表面に接する
純水が激しく流動し常に清浄な新しい純水が接する状態
が実現できる。
上述のような、純水が流れオーバーフローしている保管
装置中に Ｎ２ガスでバブリングを行いながら１２時間
浸漬保管した基板に精密洗浄を施し、続いて、スパッタ
成膜法によりＣｒ下地層、 Ｃｏ合金磁性層、ａ−Ｃ保
護層を積層形成して実施例の媒体を作製した。
装置中に Ｎ２ガスでバブリングを行いながら１２時間
浸漬保管した基板に精密洗浄を施し、続いて、スパッタ
成膜法によりＣｒ下地層、 Ｃｏ合金磁性層、ａ−Ｃ保
護層を積層形成して実施例の媒体を作製した。
比較のために、従来の静止純水中浸漬保管方法で１２時
間保管した基板を用い、その他は実施例と同様にして比
較例の媒体を作製した。
間保管した基板を用い、その他は実施例と同様にして比
較例の媒体を作製した。
このようにして得られた媒体について、それぞれの表面
粗度プロファイルを調べた結果を第２図に示す。第２図
（ａ）は実施例の媒体、第２図（′ｂ）は比較例の媒体
についてのプロファイルを示す。第２図より比較例に比
べて実施例の媒体表面の方が表面微小突起が均一に形成
されていることが判る。
粗度プロファイルを調べた結果を第２図に示す。第２図
（ａ）は実施例の媒体、第２図（′ｂ）は比較例の媒体
についてのプロファイルを示す。第２図より比較例に比
べて実施例の媒体表面の方が表面微小突起が均一に形成
されていることが判る。
また、これらの媒体について、表面粗度パラメータΔＣ
ｖ （１０％−１％）を測定した結果を第３図に示す。
ｖ （１０％−１％）を測定した結果を第３図に示す。
第３図より、実施例はΔＣν（１０％−１％）の平均値
は１６６μｍと大きく、そのばらつきは２８μｍと少な
く、均一な表面微小突起を有する表面粗度を呈するが、
比較例はΔＣｖ（１０％−１％）の平均値は１０７μｍ
と小さく、 そのばらつきが８６μｍと大きく均一な表
面微小突起が形成されていないことが判る。
は１６６μｍと大きく、そのばらつきは２８μｍと少な
く、均一な表面微小突起を有する表面粗度を呈するが、
比較例はΔＣｖ（１０％−１％）の平均値は１０７μｍ
と小さく、 そのばらつきが８６μｍと大きく均一な表
面微小突起が形成されていないことが判る。
第２図および第３図より、実施例の保管方法が優れてい
ることは明らかである。
ることは明らかである。
次に、これらの媒体について、磁気特性を測定した。そ
の結果を第１表に示す。
の結果を第１表に示す。
第１表
第１表に見られるとふり、実施例の媒体が比較例の媒体
よりも角形比Ｓ、保磁力角形比Ｓ０が高く、磁気特性の
面でも実施例の保管方法が優れていることが判る。
よりも角形比Ｓ、保磁力角形比Ｓ０が高く、磁気特性の
面でも実施例の保管方法が優れていることが判る。
この発明によれば、薄膜磁気記録媒体の製造方法におい
て、表面微細加工後の非磁性基板を精密洗浄工程直前ま
で純水流水中にその表面に対して純水が激しく流動して
常に清浄な純水が接触する状態で浸漬保管する。
て、表面微細加工後の非磁性基板を精密洗浄工程直前ま
で純水流水中にその表面に対して純水が激しく流動して
常に清浄な純水が接触する状態で浸漬保管する。
このような方法で保管された非磁性基板を用いて媒体を
製造することにより、同−媒体内ではもちろん媒体間に
おいてもばらつきの小さい均一な表面微小突起を有する
表面粗度で、かつ、高保磁力角形比、高角形比の媒体が
得られることになる。
製造することにより、同−媒体内ではもちろん媒体間に
おいてもばらつきの小さい均一な表面微小突起を有する
表面粗度で、かつ、高保磁力角形比、高角形比の媒体が
得られることになる。
特に、精密洗浄前の基板の保管期間が長時間（例えば１
２時間以上）にわたる場合にも、上述のような良好な表
面粗度および優れた磁気特性の媒体を得ることが可能で
、媒体製造上、基板の保管期間による制約が少なくなる
という大きな効果も得られる。
２時間以上）にわたる場合にも、上述のような良好な表
面粗度および優れた磁気特性の媒体を得ることが可能で
、媒体製造上、基板の保管期間による制約が少なくなる
という大きな効果も得られる。
第１図はこの発明の製造方法に用いる純水浸漬保管装置
の一実施例の概念図、第２図は媒体の表面粗度のプロフ
ァイルを示す線図で、第２図（ａ）は実施例の媒体に関
する線図、第２図の〕は比較例の媒体に関する線図、第
３図は実施例および比較例の媒体の表面粗度パラメータ
ΔＣｖ （１０％−１％）の平均値およびばらつきをそ
れぞれ示す線図である。 １ 基板、２ 治具、３ 保管槽、４ 純水供給管、５
Ｎ２ガス供給管、 ６ オーバーフロー（ａ） （ｂ） 第 図
の一実施例の概念図、第２図は媒体の表面粗度のプロフ
ァイルを示す線図で、第２図（ａ）は実施例の媒体に関
する線図、第２図の〕は比較例の媒体に関する線図、第
３図は実施例および比較例の媒体の表面粗度パラメータ
ΔＣｖ （１０％−１％）の平均値およびばらつきをそ
れぞれ示す線図である。 １ 基板、２ 治具、３ 保管槽、４ 純水供給管、５
Ｎ２ガス供給管、 ６ オーバーフロー（ａ） （ｂ） 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）非磁性基板表面に微細粗面化加工を施し、その非磁
性基板表面上にスパッタ法により非磁性金属下地層、連
続薄膜磁性層、保護層を順次形成する薄膜磁気記録媒体
の製造方法において、前記微細粗面化加工後の非磁性基
板をスパッタ成膜前の精密洗浄工程まで純水流水中に前
記基板表面に対して純水が激しく流動していて常に清浄
な純水が接触する状態で保管する工程を含むことを特徴
とする薄膜磁気記録媒体の製造方法。 ２）純水流水中に保管している非磁性基板表面に対して
純水を激しく流動させ常に清浄な純水を接触させるため
に、前記基板表面近傍で不活性ガスによるバブリングを
行いながら保管することを特徴とする請求項１記載の薄
膜磁気記録媒体の製造方法。 ３）バブリングを行う不活性ガスとして窒素（Ｎ＿２）
ガスを用いることを特徴とする請求項２記載の薄膜磁気
記録媒体の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-89424 | 1990-04-04 | ||
| JP8942490 | 1990-04-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH041927A true JPH041927A (ja) | 1992-01-07 |
| JP2621616B2 JP2621616B2 (ja) | 1997-06-18 |
Family
ID=13970281
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23078890A Expired - Lifetime JP2621616B2 (ja) | 1990-04-04 | 1990-09-01 | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2621616B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009020964A (ja) * | 2007-07-12 | 2009-01-29 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 磁気記録媒体用基板の洗浄方法および磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2010225240A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Showa Denko Kk | 円盤状基板の製造方法および円盤状基板の収納用治具 |
-
1990
- 1990-09-01 JP JP23078890A patent/JP2621616B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009020964A (ja) * | 2007-07-12 | 2009-01-29 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 磁気記録媒体用基板の洗浄方法および磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2010225240A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Showa Denko Kk | 円盤状基板の製造方法および円盤状基板の収納用治具 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2621616B2 (ja) | 1997-06-18 |
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