JPH0419312B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は例えばプリント配線基板、液晶用ガラ
ス基板、半導体用基板等（以下単に基板と称す
る）を複数種の処理工程内に順次送り込み、一連
の処理を行なう場合に用いられる基板処理装置の
中間搬送装置に関し、殊に前後の処理工程相互間
で搬送速度が異なる場合に、基板を円滑に受け渡
しする技術に関する。

〔従来技術〕

基板を例えば現像処理工程、エツチング処理工
程、水洗処理工程等の表面処理工程へ順次送り込
んで一連の処理をする場合、各処理工程に送り込
まれる基板の搬送速度は通常いずれかの処理工程
の中の最も遅い速度に統一され、これを基準にし
て所要の処理時間が算定され、それに基づいて各
処理工程内の搬送経路長が設定される。

この種の基板処理装置は製造される基板の品
質、性能等について極めて高い信頼性が要請され
るとともに、一方では、基板及び処理液等の条件
が変わることもあり、その条件に適合するように
処理時間等を調整することが必要となる。

そこで従来では先に本出願人が提案した実公昭
55−7560号公報に示すような技術が用いられてい
た。それは例えば第６図に示すように、前段の処
理をする先行処理工程A₁と後続の処理をする後
続処理工程B₁との間に、これら各処理工程に接
続して基板Ｗの受渡しを行う中間の搬送装置D₁
を設けるとともに、この搬送装置D₁の搬送速度
Ｖを前後の搬送装置と独立して変速できるように
したものである。つまり、先行処理工程A₁の搬
送速度Vaに対して中間搬送装置D₁の搬送速度Ｖ
を変えることにより、前段での処理の効果、例え
ばエツチング処理の進行度合いを調整可能にした
ものである。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、上記従来例のものは、先行処理
工程A₁のコンベアC₁の搬送速度Vaと後続処理工
程B₁のコンベアC₂の搬送速度Vbとが同一である
のに対し、中間搬送装置D₁のコンベアＣの速度
Ｖはこれらと相違する。このため基板Ｗを円滑に
受渡しすることができない。

さらに基板ＷがコンベアC₁からコンベアＣへ、
またコンベアＣからコンベアC₂へ乗り移る際に、
基板ＷとコンベアC₁，Ｃ又はＣ，C₂との間に摩
擦が発生することが避けられず、基板Ｗの裏面に
不要なキズを生じ、これに伴ない廛埃が発生し、
基板の処理品質を高める上で問題があつた。殊
に、上記の基板処理装置においては、基板Ｗの各
処理が最適条件の下でなされるべく、搬送速度、
処理時間等を各処理工程ごとに独自に調整可能に
することが望ましく、かゝる場合にはコンベア
C₁の搬送速度VaとコンベアC₂の搬送速度Vbとが
相異することとなるが、上記従来例のものでは基
板Ｗの円滑な受渡しができないうえ、摩擦が起因
して上記のような障害も生ずる。

そこで第６図に仮想線で示すように、例えばコ
ンベアＣ上の所要位置に基板全体がコンベアＣの
搬送経路内にあるか否かを検知するセンサＳを設
け、このセンサＳの検知信号を受けてコンベアＣ
の速度Ｖを先行処理工程A₁の搬送速度Vaから後
続処理工程B₁の搬送速度Vbに変速し、コンベア
Ｃ上の基板Ｗが後続処理工程B₁に送り出され、
センサＳが検知信号を発しなくなるのを待つて再
びコンベアＣの速度Ｖを元の速度Vaに切り換え
る。このようにして基板を円滑に受け渡しするこ
とも考えられる。

しかしながら、それでもなお次のような問題が
残る。

即ち、中間搬送装置D₁の搬送経路内にある基
板Ｗが後続処理工程B₁に送り込まれてしまうま
では、コンベアＣの搬送速度Ｖは後続処理工程
B₁の搬送速度Vbと同調した状態にあるため、コ
ンベアＣの搬送速度Ｖが先行処理工程A₁の搬送
速度Vaに戻るまで待ち時間を設定する必要があ
る。

このため、基板と基板との間隔が小さく連続的
に基板を処理する場合には適用できず、従つて基
板処理装置の処理能力を高めることができないと
いう問題がある。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたも
ので、第１の目的は基板処理装置の先行処理工程
と後続処理工程との間に本発明に係る中間搬送装
置を介在させることによつてそれぞれの処理工程
を最適処理速度で稼動できるようにし、もつて基
板処理品質を高めるようにすることであり、第２
の目的は基板を連続的にかつ円滑に受け渡しでき
るようにし、もつて基板処理装置の処理能力を高
めかつ基板受け渡しの際の不要な摩擦、キズ等の
発生を解消することである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は上記目的を達成するために、前記従来
技術を次のように改良したものである。

即ち、第１図に示すように中間搬送装置は複数
の搬送ローラを連設し搬送される基板より長い搬
送経路を有するローラコンベアと、各搬送ローラ
にそれぞれ連結され各搬送ローラの搬送速度を変
速する速度変換手段と、各搬送ローラに対応して
配設され基板の有無を検知することにより基板の
搬送に寄与している搬送ローラを識別するローラ
識別センサと、少なくともローラ識別センサの検
知信号を受けて個々の速度変換手段を制御する制
御手段とにより構成したことを特徴とするもので
ある。

〔作用〕

先行処理工程と、後続処理工程間に所定個数連
設したローラで構成するローラコンベアの搬送方
向長さを、搬送される基板の最大長さより長く設
定し、基板識別センサをローラコンベア終端附近
に吊設しておけば、基板識別センサが基板を検知
した時は、ローラコンベアに最大長さの基板が必
らず載つている状態である。このとき基板の搬送
に寄与しているローラのみ、各ローラ識別センサ
により検知し、その各ローラの搬送速度を基板排
出速度から基板投入速度に切り換え、基板を送り
出したローラは、その上に基板を有していないた
め、再び搬送速度を基板投入速度から基板排出速
度に切り換える。基板排出速度にもどつたローラ
は次の新しい基板を受け入れることができる。

〔実施例〕

以下本発明に係る中間搬送装置の実施例を図面
に基づいて説明する。

第１図は本発明の構成を示す概要図、第２図は
第１の実施例を示す斜視図、第３図はその駆動制
御の態様を示すフローチヤートである。

これらの図において符号Ｄは中間搬送装置全体
を示し、中間搬送装置Ｄは複数種の基板処理工程
を有する基板処理装置の先行処理工程（例えばエ
ツチング処理工程）Ａと後続処理工程（例えば水
洗処理工程）Ｂとの間に介在され、先行処理工程
Ａより搬送速度Vaで排出される基板Ｗをこの排
出速度Vaに同調した速度で受け取り、次いで、
後続処理工程Ｂの搬送速度Vbに変速して基板Ｗ
を後続処理工程Ｂへ引き渡すように構成されてい
る。

この中間搬送装置Ｄは、複数の搬送ローラR₁
〜R_Nを連設して成るローラコンベアＲと、各搬
送ローラR₁〜R_Nの搬送速度Ｖをそれぞれ独立し
て変速する速度変換手段M₁〜M_Nと、各搬送ロー
ラR₁〜R_Nに対応して配設され、基板Ｗの有無を
検知することにより基板Ｗの搬送に寄与している
搬送ローラを識別するローラ識別センサS₁〜S_N
と、中間搬送装置Ｄの搬送経路終端付近に配設さ
れた基板識別センサS₀と、ローラ識別センサS₁〜
S_N及び基板識別センサS₀からの検知信号Ｊを受
けて個々の速度変換手段M₁〜M_Nを制御する制御
手段Ｅを具備して成る。

ローラコンベアＲの搬送経路は、基板Ｗの送り
方向長さより長く設定されており、基板Ｗの先端
が送り出し側ローラR_Nに達したときには、基板
Ｗの後端は少なくとも受け入れ側ローラR₁から
完全に離脱するようになつている。

各搬送ローラR₁〜R_Nは回転軸１の合成樹脂製
の複数の搬送輪２を適当な間隔で嵌着固定し、こ
の搬送輪２上の基板Ｗを載せて搬送するように構
成されている。

各速度変換手段M₁〜M_Nはそれぞれ搬送ローラ
R₁〜R_Nの回転軸１にカツプリング３を介して連
結された回転数可変式駆動モータを具備して成
り、各モータM₁〜M_Nの回転数は少なくとも先行
処理装置Ａの基板排出速度Vaと、後続処理装置
Ｂの基板投入速度Vbとに対応させて出力させる
ことができるようにあらかじめ調節して設定され
る。

各ローラ識別センサS₁〜S_Nは各搬送ローラR₁
〜R_Nに対応させて吊設され、基板Ｗが搬送輪２
上に載置される手前ないし直前に当該基板Ｗの到
来を検知して検知信号J₁〜J_N発し、これにより基
板Ｗの搬送に寄与している搬送ローラ、例えば第
１図ではローラR_J〜R_Nを識別するようにしてあ
る。これは後述するように基板Ｗの搬送に寄与し
ているローラを同期して変速できればよいので例
えば、上記ローラR_J〜R_Nのうち最後部のローラ
R_Jを識別して、前方のローラR_J〜R_Nを全て変速
させてもよい。

基板識別センサS₀は基板Ｗの到来を検知するこ
とによつて、基板Ｗ全体が確実に搬送経路内にあ
ることを識別し、検知信号J₀を出力するようにし
てある。なおこの基板識別センサS₀は上記した識
別機能を撥揮できる位置に適宜配設すればよいの
で、必ずしも基板送り出し側でなくてもよく、又
ローラ識別センサS₁〜S_Nと別体のものではなく
てもよい。例えば受け入れ側のローラ識別センサ
S₁で基板識別センサS₀を兼用せしめ、このセンサ
S₁の検知信号が出力されなくなつたことで基板Ｗ
全体が確実に搬送経路内にあることを識別するよ
うにしてもよい。なお、これらのセンサS₀〜S_N
としては反射型光センサの他、透過型光センサ、
静電センサ、磁気センサ等を用いることができ
る。

制御手段Ｅはローラ識別センサS₁〜S_Nからの
検知信号Ｊを受けて基板Ｗの搬送に寄与している
搬送ローラ（第１図ではR_J〜R_L）をあらかじめ
識別し、基板識別センサS₀の検知信号J₀を受け
て、当該ローラR_J〜R_Nに対応する各モータM_J〜
M_Nを変速制御する制御信号Ｋ（第３図ではK_J〜
K_L）を出力するとともに、基板Ｗが離脱したロ
ーラ識別センサ、例えば第１図ではセンサS₃から
の検知信号J₃が出力されなくなつたことにより当
該ローラR₃に対応するモータM₃を再び元の速度
に制御する制御信号K₃を出力するように構成さ
れている。

なお符号E₀は電源スイツチ、速度設定スイツ
チ、スタートスイツチ等（いずれも図示せず）を
有する操作盤である。

以下第３図に基づいて上記中間搬送装置Ｄの作
動態様を説明する。

まず搬送ローラR₁〜R_Nに連結された変速用モ
ータM₁〜M_Nの回転数を先行処理工程Ａの基板排
出速度Va及び後続処理装置Ｂの基板投入速度Vb
に対応させて変速することができるようにあらか
じめ設定しておく。

しかる後、操作盤E₀の駆動スイツチ（図示せ
ず）をオンにする（ステツプP₁）と、搬送ロー
ラR₁〜R_Nは先行処理工程Ａの搬送速度と対応し
た速度で回転し、先行処理工程Ａより排出された
基板Ｗはその排出速度Vaに同調された搬送ロー
ラR₁，R₂……に順次載置されながら搬送される。
その後基板識別センサS₀が基板Ｗを検知する（ス
テツプP₂）と、基板Ｗの搬送に寄与しているロ
ーラ（例えばR_J〜R_N）が、対応するローラ識別
センサS_J〜S_Nによつて識別される（ステツプP₃）。
次いで識別されたローラR_J〜R_Nだけが基板排出
速度Vaから後続処理工程Ｂの基板投入速度Vbに
同期して変速され（ステツプP₄）、基板Ｗは後続
処理工程Ｂへ円滑に引き渡される。

他方基板Ｗの後端が搬送ローラR_J〜R_Nから離
脱するとローラ識別センサS_J〜S_Nは順次検知信号
を出力しなくなり（ステツプP₅）対応するロー
ラR_J〜R_Nの搬送速度Ｖが順次元の基板排出速度
Vaに変速され（ステツプ６）、次の基板Ｗを受け
入れることができる状態になる。次の基板Ｗが排
出されてくるとステツプP₂へ移り同様のステツ
プが繰り返され、次の基板がなければそこで終了
となる。

なお、かかる実施例においてはステツプP₄の
変速は基板が摩擦により障害を受けるのを無くす
ため一定時間内でスムースにスローアツプするの
が望ましい。

第４図〜第５図は本発明に係る中間搬送装置の
第２の実施例を示し、第４図はその斜視図、第５
図は速度変換手段の縦断側面図である。これらの
図において第２図のものと同一の符号は同一の部
材を表わし、重複した説明を省くとともに相異す
る機能についてのみ説明する。

各々の搬送ローラR₁〜R_Nの回転軸１の一側に
それぞれクラツチ式変換手段M₁₁，M₁₂〜M_INが
連結され、先行処理工程Ａの搬送駆動源M_Aに連
結された駆動軸４を介して各々の搬送ローラを基
板排出速度Vaで同期駆動可能に設けられている。
また回転軸１の他方の一側には、同様にそれぞれ
クラツチ式変速手段M₂₁，M₂₂〜M_2Nが連結され、
後続処理工程Ｂの搬送駆動源M_Bに連結された駆
動軸５を介して各々の搬送ローラを基板投入速度
Vbで同期駆動可能に設けられている。

これらの速度変換手段は例えば第５図に示すよ
うに回転軸１にヘリカルギヤ６を固設し、このヘ
リカルギヤ６と係合させたスクリユーギヤ（ネジ
歯車）７をベアリング８を介して駆動軸４に回転
自在に設け、電磁クラツチ１０でスクリユーギヤ
７を駆動軸４と接離自在に切換えるように構成さ
れている。

この電磁クラツチ１０は駆動軸４を遊嵌状に貫
通させて取付枠１４に取付けた電磁コイル１１と
駆動軸４にキー１５を介して固設された円板１２
と、スクリユーギヤ７の側面に固定された筒体１
６に戻しバネ１７を介して設けられ、円板１２か
ら離間する方向へ付勢されたクラツチ板１３とを
具備して成り電磁コイルの磁力によりクラツチ板
１３が戻しバネ１７に抗して円板１２に吸着され
駆動軸４の駆動力がローラの回転軸１に伝達され
るように構成されている。

従つて速度変換手段のうち一側ヘM₁₁〜M_1Nは
各搬送ローラR₁〜R_Nの搬送速度Ｖをそれぞれ先
行処理工程Ａの基板排出速度に切換えるのに用い
られ、他側のM₂₁〜M_2Nは前記基板識別センサS₀
の信号を受けて基板Ｗの搬送に寄与している各搬
送ローラのみを後続処理工程Ｂの基板投入速度
Vbに切換えるのに用いられる。

なお第４図において駆動軸４及び５をそれぞれ
先、後処理工程Ａ，Ｂの搬送駆動源M_A，M_Bに連
結したものについて説明したが、これに限ること
なく、別途駆動源を設けることもできる。

また、先行処理工程Ａ及び後続処理工程Ｂはそ
れぞれ工程内で一定の搬送速度を維持するものを
前提としない。つまり、基板の投入速度や排出速
度が同一工程内で異なるものであつても切換える
べき搬送速度を多数設定しておき適宜それを切換
え得るように構成しておくことにより本発明の中
間搬送装置を適用し得る。

なお、本発明の中間搬送装置は露光装置（例：
スキヤナ、スリツト露光カメラ）と自現機との間
にも適用することが可能である。

〔発明の効果〕

本発明は上記のように構成され、作用すること
から次のような優れた効果を奏する。

イ 搬送ローラのそれぞれを基板の排出速度に同
調させて先行処理工程から基板を受け取りかつ
基板の投入速度に同調させて後続処理工程へ基
板を引き渡すことができるので、それぞれの処
理工程を最適処理速度で稼動させることが可能
となり、基板処理の品質を向上させることがで
きる ロ 先行処理工程から排出される基板を待ち時間
を設けることなく連続的にかつ円滑に受け取り
次の工程へ引き渡すことが可能となり基板処理
の能力を高めることができる。

ハ 基板の受け渡しに際し、不要な摩擦やこれに
起因する基板のキズ等の発生を解消することが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第５図は本発明の実施例を示し、第１
図は本発明の構成を示す概要図、第２図は第１の
実施例を示す中間搬送装置の斜視図、第３図は本
装置の駆動制御の態様を示すフローチヤート、第
４図は第２の実施例を示す中間搬送装置の斜視
図、第５図は速度変換手段の縦断側面図、第６図
は従来例を示す概要図である。 Ａ…先行処理工程、Ｂ…後続処理工程、Ｅ…制
御手段、M₁〜M_N…速度可変式モータ（速度変換
手段）、M₁₁〜M_2N…クラツチ式変速手段、Ｒ…
ローラコンベア、R₁〜R_N…搬送ローラ、S₀…基
板識別センサ、S₁〜S_N…ローラ識別センサ、Va
…基板排出速度、Vb…基板投入速度、Ｖ…ロー
ラコンベアの搬送速度、Ｗ…基板。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 複数種の基板処理工程を有する基板処理装置
   の先行処理工程と後続処理工程との間に介在さ
   れ、先行処理工程より排出された基板を受け取
   り、変速して後続処理工程へ引き渡すように構成
   した基板処理装置の中間搬送装置であつて、中間
   搬送装置は、複数の搬送ローラを連設し搬送され
   る基板より長い搬送経路を有するローラコンベア
   と、各搬送ローラにそれぞれ連結され各搬送ロー
   ラの搬送速度を変速する速度変換手段と、各搬送
   ローラに対応して配設され基板の有無を検知する
   ことにより基板の搬送に寄与している搬送ローラ
   を識別するローラ識別センサと、少なくともロー
   ラ識別センサの検知信号を受けて個々の速度変換
   手段を制御する制御手段とにより構成したことを
   特徴とする基板処理装置の中間搬送装置。 ２ 速度変換手段を速度可変式モータで構成した
   特許請求の範囲第１項に記載した基板処理装置の
   中間搬送装置。 ３ 速度変換手段をクラツチ式変速手段で構成
   し、各搬送ローラの回転軸の一側をそれぞれ当該
   クラツチ式変速手段を介在させて先行処理工程の
   基板搬送用駆動軸に接離自在に連結し、回転軸の
   他側をそれぞれ当該クラツチ式変速手段を介在さ
   せて後続処理工程の基板搬送用駆動軸に接離自在
   に連結して構成した特許請求の範囲第１項に記載
   した基板処理装置の中間搬送装置。