JPH0419609B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0419609B2 JPH0419609B2 JP56042968A JP4296881A JPH0419609B2 JP H0419609 B2 JPH0419609 B2 JP H0419609B2 JP 56042968 A JP56042968 A JP 56042968A JP 4296881 A JP4296881 A JP 4296881A JP H0419609 B2 JPH0419609 B2 JP H0419609B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- protective film
- antistatic agent
- magnetic memory
- alloy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
本発明は磁気的記憶装置(磁気デイスク又は磁
気ドラムなど)に用いられる磁気記憶体、得に連
続薄膜形磁気記憶体に関するものである。
連続薄膜形磁気記憶体では、高密度に記録を行
なうために磁気ヘツドをできる限り接近させて記
録、再生を行なうことを目的として、その表面は
極めて平滑に仕上げられている。
このような磁気記憶体を用いて、操作開始時に
磁気ヘツドと磁気記憶体表面とを接触状態にセツ
トしておき、その磁気記憶体に所要の回転を与え
ることにより磁気ヘツドと磁気記憶体表面間に空
気層分の空間を作り、この状態で記録、再生を行
なう、所謂コンタクト・スタートス・ストツプ方
式での操作を行なつていると、次のような問題が
起ることが明らかとなつた。
磁気記憶体が停止しているときは磁気ヘツドが
磁気記憶体の表面に接触しているが、このとき磁
気ヘツドと磁気記憶体との密着が強く、操作開始
時に磁気ヘツドに過大な力が作用して磁気ヘツド
を破壊したり、磁気ヘツドが磁気記憶体表面上を
バウンドして磁気記憶体に損傷を与えるなどの事
故が発生することがある。また、操作中において
も、磁気ヘツドが磁気記憶体に衝突したり、特に
磁気ヘツドの浮揚力が弱くなる回転開始直後又は
停止直前においてフライングが不安定になつて磁
気ヘツドが磁気記憶体に衝突する事故が発生する
こともある。さらに、操作中に磁気ヘツドと磁気
記憶体間で放電が起り、これがノイズとなつて記
録、再生時の誤動作の原因になることもある。
このような現象は、磁性金属やフエライトを記
憶媒体とする連続薄膜形磁気記憶体において顕著
に現れ、磁性粉末をバインダー中に分散させて塗
布した形の、所謂、コーテツド・デイスクではあ
まり問題にならない。これは前者においては磁気
記憶体表面が極めて平滑であることと、磁気ヘツ
ドと磁気記憶体間の距離が小さいことに起因して
いると考えられる。
本発明は、連続薄膜形磁気記憶体のうち、特に
磁性金属を記憶媒体とする磁気記憶体において上
記問題点を解決することを目的とするものであつ
て、その磁気記憶体の表面を被覆している保護膜
に帯電防止剤を含有せしめたことを特徴とする磁
気記憶体である。
本発明で用いる保護膜は、珪素化合物または非
磁性金属酸化物である。また、本発明の帯電防止
剤は、イオン化されたアミン系界面活性剤であ
る。界面活性剤の主なものを次表に例示する。
尚、その表の化学構造式においてRはアルキル基
を表わし、m、nは整数を表わしている。
The present invention relates to a magnetic storage medium used in a magnetic storage device (such as a magnetic disk or magnetic drum), and particularly to a continuous thin film magnetic storage medium. The surface of a continuous thin film magnetic memory is finished to be extremely smooth in order to allow the magnetic head to move as close as possible to recording and reproducing information in order to perform high-density recording. Using such a magnetic memory, the magnetic head and the surface of the magnetic memory are set in contact at the start of operation, and by applying the required rotation to the magnetic memory, the distance between the magnetic head and the surface of the magnetic memory is created. It has become clear that the following problems occur when using the so-called contact start-stop method, in which an air space is created in the recording medium and recording and playback is performed in this state. . When the magnetic storage body is stopped, the magnetic head is in contact with the surface of the magnetic storage body, but at this time, the close contact between the magnetic head and the magnetic storage body is strong, and an excessive force is applied to the magnetic head when the operation starts. Accidents may occur in which the magnetic head is destroyed by the magnetic head, or the magnetic head bounces on the surface of the magnetic storage medium and damages the magnetic storage medium. Also, during operation, the magnetic head may collide with the magnetic storage body, or the flying becomes unstable, especially immediately after the start of rotation or just before stopping when the levitation force of the magnetic head becomes weak, causing the magnetic head to collide with the magnetic storage body. Accidents may occur. Furthermore, during operation, discharge occurs between the magnetic head and the magnetic storage body, which may generate noise and cause malfunctions during recording and reproduction. This phenomenon is noticeable in continuous thin-film magnetic storage materials that use magnetic metals or ferrite as storage media, but is less of a problem in so-called coated disks, in which magnetic powder is dispersed and coated in a binder. . This is considered to be due to the fact that in the former case, the surface of the magnetic storage body is extremely smooth and the distance between the magnetic head and the magnetic storage body is small. The present invention aims to solve the above-mentioned problems in a continuous thin-film magnetic memory, especially in a magnetic memory using magnetic metal as a storage medium, and the present invention aims to solve the above-mentioned problems in a magnetic memory using a magnetic metal as a storage medium. This magnetic memory is characterized by containing an antistatic agent in the protective film. The protective film used in the present invention is a silicon compound or a nonmagnetic metal oxide. Further, the antistatic agent of the present invention is an ionized amine surfactant. Examples of the main surfactants are shown in the table below.
In the chemical structural formula in the table, R represents an alkyl group, and m and n represent integers.
【表】
炭素粉末、金属粉末又は金属繊維など導電性の
ある粉末又は繊維も帯電を防止する上では有効で
あるが、これらは保護膜に含有させた場合、保護
膜の表面平滑性を損ねるので本発明の帯電防止剤
としては望ましいものではない。
本発明の対象とする連続薄膜形磁気記憶体は、
第1図に示すような基板1の上に厚さ数十μmの
下地体層2が設けられ、その上に厚さ0.03〜0.1μ
mの金属磁性媒体層3が被覆され、さらにその上
に厚さ0.01〜0.3μmの保護膜4が被覆された構
造、又は第2図に示すような金属磁性媒体層3と
保護膜4の間にさらに厚さ0.02μm程度の非磁性
合金層5が設けられた構造をもつている。
基板1としてはチタン合金や軽くて加工性のよ
いアルミ合金をその表面粗さが円周方向で50μm
以下、半径方向で100μm以下になるように旋盤
加工と熱矯正により機械加工して用いられる。
下地体層2は平滑な表面を得るために設けられ
るものであつて、Ni−P合金などがめつきによ
り被覆され、その表面粗さが最大で0.03μmぐら
いになるように機械的に研磨される。
金属磁性媒体層3はCo、No又はFeを含む合金
で代表的なものとしてはCo−Ni−P、Co−Mn
−P、Co−W−P、Co−Crなどがあり、これら
はめつき法、蒸着法、スパツタ法又はイオンブレ
ーテイング法で形成される。
保護膜4としては珪酸ポリマー(ポリ珪酸)、
ガラスその他の珪素酸化物若しくは珪素窒化物な
どの珪素化合物、Rn若しくはCrなど高硬度で耐
食性のある非磁性金属若しくはそれらの合金、又
はAl、Co、Ni、Cr、Ti、Zr若しくはCe若しく
はそれらの合金の酸化物が、塗布法、蒸着法又は
スパツタ法で形成されたものが用いられる。
また、非磁性合金層5は金属磁性媒層3とその
上の保護膜4との密着を向上させるために設けら
れるものであつて、Ni−Pが好ましい。
帯電防止剤を保護膜に含有させるには保護膜の
種類により適宜望ましい方法を選択することがで
きる。例えば珪酸ポリマーのように塗布法により
形成される保護膜の場合には、保護膜形成のため
の溶液に希望の帯電防止剤を所定量溶解させ、そ
の溶液を金属磁性媒体層上又はその上に設けられ
た非磁性合金層上にスピン塗布法で塗布し、乾燥
させ、必要があれば焼成することにより、帯電防
止剤を含有した保護膜が得られる。また、ガラ
ス、合金又は金属酸化物のように蒸着法又はスパ
ツタ法で形成される保護膜の場合には、そのよう
な保護膜が被覆された磁気記憶体を帯電防止剤中
又は帯電防止剤を溶解している溶液中に浸漬し
て、帯電防止剤を保護膜中に浸透させることによ
り帯電防止膜を含有した保護膜が得られる。
帯電防止剤の含有量は、多い程帯電防止の効果
が著しくなるが、一方、多過ぎると保護膜の耐摩
耗性の特性を低下させることになる。したがつ
て、多くても50°重量%ぐらいまでに抑えるのが
好ましく、実用的には数重量%で十分帯電防止上
の効果を発揮することができる。
保護膜中に含有された帯電防止剤は、保護膜の
電気抵抗を低下させ、記憶装置の操作中に磁気ヘ
ツドと磁気記憶体の相対運動により保護膜表面に
発生する荷重を金属磁性媒体その他の金属部分を
経由して放電させ、これにより磁気ヘツドのフラ
イングを安定させて磁気記憶体との衝突を防ぎ、
また、これらの間での放電に基因するノイズの発
生を防ぐように作用する。さらに、帯電を防ぐこ
とにより磁気記憶体停止時における磁気ヘツドと
磁気記憶体との密着強度を弱くして、操作開始時
の事故を少なくするように作用するものである。
特に、本発明では、保護膜材料として珪素化合
物または非磁性金属酸化物を用い、帯電防止剤と
してイオン化されたアミン系界面活性剤を用いた
ことにより、優れた帯電防止効果を得ることがで
きる。すなわち、塩基性であるアミン界面活性剤
は酸性である珪素化合物や非磁性金属酸化物と親
和性がよく、保護膜表面に吸着しやすいという特
徴がある。さらに、このように保護膜表面に吸着
した分子がイオン化されているため、導電性がよ
く、保護膜表面に発生する電荷を効率よく放電さ
せることができるという特徴がある。
次に実施例と比較例により本発明をさらに詳細
に説明する。
実施例 1
表面粗さが円周方向で50μm以下、半径方向で
10μm以下に加工されたアルミ合金からなるデイ
スク状基板上に、下地体層としてNi−P合金を
約50μmの厚さにめつきし、これを表面の最大粗
が0.02μmになるように厚さ30μmまで鏡面研磨仕
上げした。その上に金属磁性媒体層としてCo−
Ni−P合金を0.05μmの厚さにめつきし、さらに
その上に帯電防止剤を含有した保護膜を形成する
溶液として下記の溶液をスピン塗布法により塗布
し、乾燥させた後、空気中で200℃で5時間焼成
して磁気デイスクを作つた。尚、この場合の保護
膜はポリ珪酸である。
テトラヒドロキシシラン2%n−ブチルアルコ
ール溶液 99.9g
テトラメチルアンモニウムクロライド 0.1g
実施例 2
実施例1と同様にして、但し、帯電防止剤を含
有した保護膜を形成する溶液として下記の溶液を
用いて磁気デイスクを作つた。
テトラヒドロキシシラン2%n−プロピルアル
コール溶液 99.9g
メチルペタイン 0.1g
実施例 3
実施例1と同様にして、但し、帯電防止剤を含
有した保護膜を形成する溶液として下記の溶液を
用いて磁気デイスクを作つた。
テトラヒドロキシシラン2%エチルアルコール
溶液 99.9g
N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)メチル
アミン 0.1g
実施例 4
実施例1と同様にして基板上にNi−P合金層、
さらにその上にCo−Ni−P合金層を形成し、但
し、保護膜はポリ珪酸に代えてそのCo−Ni−P
合金磁性媒体層の表面を酸化してその酸化物を保
護膜とした。これをテトラメチルアンモニウムナ
トリウムを9重量%含むエチルアルコール溶液中
に15時間浸漬して金属合金酸化物保護膜中に帯電
防止剤を含有した磁気デイスクを作つた。
実施例 5
実施例1と同様にして、但し、帯電防止剤を含
有した保護膜を形成する溶液として下記の溶液を
用いて磁気デイスクを作つた。
テトラヒドロキシシラン2%n−ブチルアルコ
ール溶液 99.5g
トリメチルベンジルアンモニウムクロライド
0.5g
実施例 6
実施例1と同様にして、但し、帯電防止剤を含
有した保護膜を形成する溶液として下記の溶液を
用いて磁気デイスクを作つた。
テトラヒドロキシシラン2%n−プロピルアル
コール溶液 99.5g
ラウソルイミダソン誘導体
[Table] Conductive powders or fibers such as carbon powder, metal powder, or metal fibers are also effective in preventing static electricity, but if they are included in the protective film, they will impair the surface smoothness of the protective film. This is not desirable as an antistatic agent in the present invention. The continuous thin film magnetic storage body that is the object of the present invention is
A base layer 2 with a thickness of several tens of μm is provided on a substrate 1 as shown in FIG.
A structure in which a metal magnetic medium layer 3 with a thickness of m is coated and a protective film 4 with a thickness of 0.01 to 0.3 μm is further coated thereon, or between a metal magnetic medium layer 3 and a protective film 4 as shown in FIG. It has a structure in which a non-magnetic alloy layer 5 with a thickness of about 0.02 μm is further provided. The substrate 1 is made of titanium alloy or aluminum alloy, which is light and easy to work with, and has a surface roughness of 50 μm in the circumferential direction.
Hereinafter, it is used after being machined by lathe processing and thermal straightening to a thickness of 100 μm or less in the radial direction. The base layer 2 is provided to obtain a smooth surface, and is coated with Ni-P alloy or the like by plating, and is mechanically polished to a maximum surface roughness of about 0.03 μm. . The metal magnetic medium layer 3 is an alloy containing Co, No or Fe, typically Co-Ni-P or Co-Mn.
-P, Co-W-P, Co-Cr, etc., and these are formed by a plating method, a vapor deposition method, a sputtering method, or an ion blating method. As the protective film 4, silicic acid polymer (polysilicic acid),
Silicon compounds such as glass and other silicon oxides or silicon nitrides, non-magnetic metals with high hardness and corrosion resistance such as Rn or Cr, or alloys thereof, or Al, Co, Ni, Cr, Ti, Zr or Ce or their An alloy oxide formed by a coating method, a vapor deposition method, or a sputtering method is used. Further, the nonmagnetic alloy layer 5 is provided to improve the adhesion between the metal magnetic medium layer 3 and the protective film 4 thereon, and is preferably made of Ni-P. In order to incorporate the antistatic agent into the protective film, a suitable method can be selected depending on the type of the protective film. For example, in the case of a protective film formed by a coating method such as a silicic acid polymer, a desired amount of antistatic agent is dissolved in a solution for forming the protective film, and the solution is applied to or on the metal magnetic medium layer. A protective film containing an antistatic agent can be obtained by coating the provided nonmagnetic alloy layer by spin coating, drying, and baking if necessary. In addition, in the case of a protective film formed by a vapor deposition method or a sputtering method such as glass, alloy, or metal oxide, the magnetic memory body coated with such a protective film is placed in an antistatic agent or an antistatic agent. A protective film containing an antistatic film can be obtained by immersing the protective film in a solution in which the antistatic agent is dissolved. The higher the content of the antistatic agent, the more remarkable the antistatic effect will be, but on the other hand, if it is too large, the abrasion resistance of the protective film will be reduced. Therefore, it is preferable to limit the amount to about 50% by weight at most, and practically a few weight% can sufficiently exhibit the antistatic effect. The antistatic agent contained in the protective film reduces the electrical resistance of the protective film and reduces the load generated on the surface of the protective film due to relative movement between the magnetic head and the magnetic storage body during operation of the storage device. Discharge occurs via the metal part, thereby stabilizing the flying of the magnetic head and preventing collision with the magnetic storage body.
It also acts to prevent the generation of noise due to discharge between them. Furthermore, by preventing charging, the adhesion strength between the magnetic head and the magnetic storage body is weakened when the magnetic storage body is stopped, thereby reducing accidents at the start of operation. In particular, in the present invention, an excellent antistatic effect can be obtained by using a silicon compound or a nonmagnetic metal oxide as the protective film material and using an ionized amine surfactant as the antistatic agent. That is, the basic amine surfactant has a good affinity with acidic silicon compounds and nonmagnetic metal oxides, and is characterized by being easily adsorbed onto the surface of the protective film. Furthermore, since the molecules adsorbed on the surface of the protective film are ionized, it has good conductivity and can efficiently discharge charges generated on the surface of the protective film. Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. Example 1 Surface roughness is 50 μm or less in the circumferential direction and radial direction.
On a disk-shaped substrate made of aluminum alloy processed to a thickness of 10 μm or less, a Ni-P alloy is plated as a base layer to a thickness of about 50 μm, and this is coated to a thickness such that the maximum surface roughness is 0.02 μm. Mirror polished to 30μm. On top of that is Co-co as a metal magnetic medium layer.
Ni-P alloy is plated to a thickness of 0.05 μm, and the following solution containing an antistatic agent is applied by spin coating to form a protective film on top of the Ni-P alloy. After drying, The material was baked at 200℃ for 5 hours to create a magnetic disk. Note that the protective film in this case is polysilicic acid. Tetrahydroxysilane 2% n-butyl alcohol solution 99.9g Tetramethylammonium chloride 0.1g Example 2 In the same manner as in Example 1, except that the following solution was used as a solution for forming a protective film containing an antistatic agent. I made a magnetic disk. Tetrahydroxysilane 2% n-propyl alcohol solution 99.9g Methylpetaine 0.1g Example 3 A magnetic disk was prepared in the same manner as in Example 1, except that the following solution containing an antistatic agent was used to form a protective film. I made it. Tetrahydroxysilane 2% ethyl alcohol solution 99.9g N,N-bis(2-hydroxyethyl)methylamine 0.1g Example 4 A Ni-P alloy layer was formed on the substrate in the same manner as in Example 1.
Furthermore, a Co-Ni-P alloy layer is formed on top of the Co-Ni-P alloy layer, but the protective film is made of Co-Ni-P instead of polysilicate.
The surface of the alloy magnetic medium layer was oxidized and the oxide was used as a protective film. This was immersed in an ethyl alcohol solution containing 9% by weight of sodium tetramethylammonium for 15 hours to produce a magnetic disk containing an antistatic agent in a metal alloy oxide protective film. Example 5 A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the following solution containing an antistatic agent was used as a solution for forming a protective film. Tetrahydroxysilane 2% n-butyl alcohol solution 99.5g Trimethylbenzylammonium chloride
0.5g Example 6 A magnetic disk was prepared in the same manner as in Example 1, except that the following solution containing an antistatic agent was used as a solution for forming a protective film. Tetrahydroxysilane 2% n-propyl alcohol solution 99.5g Lausol imidasone derivative
【式】 0.5g
比較例 1〜4
実施例1〜4において、保護膜に帯電防止剤を
含有させないで磁気デイスクを作成し、これらを
実施例1〜4にそれぞれ対応して比較例1〜4と
する。
実施例1〜6、比較例1〜3で作成した磁気デ
イスクを用いて湿度30%の環境でコンタクト・ス
タート・ストツプ方式で記録、再生を繰り返して
実験を行なつたところ、比較例の磁気デイスクで
は操作開始時の磁気ヘツドと磁気デイスク表面と
の衝突が1%ぐらいの率で発生したが、実施例の
磁気デイスクではこの衝突はほとんど発生するこ
とがなかつた。
再生出力を比較してみると、比較例の磁気デイ
スクでは磁気ヘツドのフライングの不安定性に起
因してその再生出力が5〜10%変動するが、実施
例の磁気デイスクの場合、この再生出力の変動が
2〜3%に減少した。また、実施例のものでは記
録、再生時の放電ノイズが全く見られなくなつ
た。[Formula] 0.5g Comparative Examples 1 to 4 In Examples 1 to 4, magnetic disks were prepared without containing an antistatic agent in the protective film, and these were prepared in Comparative Examples 1 to 4 corresponding to Examples 1 to 4, respectively. shall be. When an experiment was conducted using the magnetic disks prepared in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 by repeatedly recording and reproducing in an environment with a humidity of 30% using the contact start-stop method, it was found that the magnetic disks of Comparative Examples In this case, collisions between the magnetic head and the surface of the magnetic disk occurred at a rate of about 1% at the start of operation, but this collision almost never occurred with the magnetic disk of the example. Comparing the playback output, the playback output of the magnetic disk of the comparative example fluctuates by 5 to 10% due to the instability of flying the magnetic head, but in the case of the magnetic disk of the example, the playback output fluctuates by 5 to 10%. The fluctuation was reduced to 2-3%. Furthermore, in the examples, no discharge noise was observed during recording or reproduction.
第1図及び第2図はそれぞれ本発明を示す部分
断面図である。
1……基板、2……下地体層、3……金属磁性
媒体層、4……保護膜、5……非磁性合金層。
1 and 2 are partial cross-sectional views showing the present invention, respectively. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Substrate, 2...Underlayer, 3...Metal magnetic medium layer, 4...Protective film, 5...Nonmagnetic alloy layer.
Claims (1)
磁性媒体層が被覆され、さらにこの金属磁性媒体
層上に直接又は非磁性合金層を介して保護膜が被
覆されている磁気記憶体において、前記保護膜が
珪素化合物または非磁性金属酸化物からなり、イ
オン化されたアミン系界面活性剤からなる帯電防
止剤を含有していることを特徴とする磁気記憶
体。 2 前記珪素化合物がポリ珪酸である特許請求の
範囲第1項に記載の磁気記憶体。 3 前記珪素化合物がSiO2である特許請求の範
囲第1項に記載の磁気記憶体。 4 前記非磁性金属酸化物がNi−Coの酸化物で
ある特許請求の範囲第1項に記載の磁気記憶体。 5 前記非磁性金属酸化物がNi酸化物である特
許請求の範囲第1項に記載の磁気記憶体。[Claims] 1. A metal magnetic medium layer is coated on a mirror-polished base layer on a substrate, and a protective film is further coated on the metal magnetic medium layer directly or via a non-magnetic alloy layer. 1. A magnetic memory, wherein the protective film is made of a silicon compound or a nonmagnetic metal oxide, and contains an antistatic agent made of an ionized amine surfactant. 2. The magnetic memory according to claim 1, wherein the silicon compound is polysilicic acid. 3. The magnetic memory according to claim 1, wherein the silicon compound is SiO2 . 4. The magnetic memory according to claim 1, wherein the nonmagnetic metal oxide is an oxide of Ni-Co. 5. The magnetic memory according to claim 1, wherein the nonmagnetic metal oxide is a Ni oxide.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56042968A JPS57158036A (en) | 1981-03-24 | 1981-03-24 | Magnetic storage body |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56042968A JPS57158036A (en) | 1981-03-24 | 1981-03-24 | Magnetic storage body |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57158036A JPS57158036A (en) | 1982-09-29 |
| JPH0419609B2 true JPH0419609B2 (en) | 1992-03-31 |
Family
ID=12650831
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56042968A Granted JPS57158036A (en) | 1981-03-24 | 1981-03-24 | Magnetic storage body |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57158036A (en) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0650683B2 (en) * | 1982-09-30 | 1994-06-29 | 日本電気株式会社 | Magnetic memory |
| JPS5961106A (en) * | 1982-09-30 | 1984-04-07 | Nec Corp | Magnetic memory body |
| JPS5988805A (en) * | 1982-11-12 | 1984-05-22 | Nec Corp | Magnetic storage body |
| JPS5988806A (en) * | 1982-11-12 | 1984-05-22 | Nec Corp | Magnetic storage body |
| JPS5988807A (en) * | 1982-11-12 | 1984-05-22 | Nec Corp | Magnetic storage body |
| JPH0642425B2 (en) * | 1982-12-22 | 1994-06-01 | 日本電気株式会社 | Magnetic memory |
| JPS59116924A (en) * | 1982-12-22 | 1984-07-06 | Nec Corp | Magnetic storage medium |
| JPS59116925A (en) * | 1982-12-22 | 1984-07-06 | Nec Corp | Magnetic storage medium |
| JPS61137221A (en) * | 1984-12-06 | 1986-06-24 | Mitsubishi Electric Corp | magnetic disk |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5442107A (en) * | 1977-08-02 | 1979-04-03 | Nec Corp | Magnetic storage medium |
| JPS54143114A (en) * | 1978-04-27 | 1979-11-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
-
1981
- 1981-03-24 JP JP56042968A patent/JPS57158036A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57158036A (en) | 1982-09-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0419609B2 (en) | ||
| JPH0580804B2 (en) | ||
| JPH0440782B2 (en) | ||
| JPS639297B2 (en) | ||
| JPH0650683B2 (en) | Magnetic memory | |
| JP2952967B2 (en) | Magnetic recording media | |
| JPH0357538B2 (en) | ||
| JPH0364956B2 (en) | ||
| JPS61208620A (en) | Magnetic disk | |
| JPS6117280A (en) | Magnetic head | |
| JPS61188727A (en) | Magnetic recording medium | |
| JPH02198001A (en) | Magnetic recording and reproducing method, magnetic recording medium and floating type magnetic head | |
| JPS6028053B2 (en) | magnetic memory | |
| JPH01122028A (en) | Production of magnetic disk | |
| JPH06111282A (en) | Magnetic recording medium | |
| JPH0556006B2 (en) | ||
| JPH0770041B2 (en) | Magnetic disk | |
| JPH03102615A (en) | Magnetic recording medium | |
| JPS5988807A (en) | Magnetic storage body | |
| JPH0556007B2 (en) | ||
| JPS63161523A (en) | Magnetic recording medium | |
| JPH08167140A (en) | Magnetic recording media | |
| JP2002146375A (en) | Magnetic recording media | |
| JPH01184717A (en) | Magnetic recording medium | |
| JPH03102616A (en) | Magnetic recording medium |