JPH0419634B2 - - Google Patents

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JPH0419634B2
JPH0419634B2 JP58118342A JP11834283A JPH0419634B2 JP H0419634 B2 JPH0419634 B2 JP H0419634B2 JP 58118342 A JP58118342 A JP 58118342A JP 11834283 A JP11834283 A JP 11834283A JP H0419634 B2 JPH0419634 B2 JP H0419634B2
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Japan
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word line
address decoder
circuit
word lines
mosfet
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Yoshihisa Koyama
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Hitachi Microcomputer System Ltd
Hitachi Ltd
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Hitachi Microcomputer System Ltd
Hitachi Ltd
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    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices

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Abstract

PURPOSE:To prevent the floating of a non-selecting word line due to the coupling between a word line without increasing the number of element by arranging the word line selected by output signal of adjacent address recorder circuit alternately. CONSTITUTION:MOSFETs Q19-22 and Q39-42 for preventing the floating of the word line at a non-selecting time are connected between respective word lines WL1-4 and WL5-8 and the earth potential of the circuit. When one word line coupled with the same output such as an address decoder part NOR1 (or 2) is selected by word line selecting timing signals phix00-11, word lines to which earth potential is applied by the non-selecting signal of the adjacent address decoder part NOR 2 (or 1) are alternately arranged to prevent the floating of the adjacent non-selecting word lines out of three remaining word lines. Namely, the word lines coupled with the adjacent address decoder parts like WL1, WL5, WL2, WL6,... are alternately arranged.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、半導体記憶装置に関するもので、
例えば、比較的大きな抵抗値を有するMOSFET
(絶縁ゲート形電界効果トランジスタ)によつて
非選択ワード線の浮き上がりを防止する機能を持
つダイナミツク型RAM(ランダム・アクセス・
メモリ)のような半導体記憶装置に有効な技術に
関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field] This invention relates to a semiconductor memory device.
For example, MOSFETs with relatively large resistance values
A dynamic RAM (Random Access
This technology relates to technology that is effective for semiconductor storage devices such as memory (memory).

〔背景技術〕[Background technology]

本願発明者等は、ワード線選択回路として第1
図に示すような回路を既に開発した。この回路
は、ワード線の間隔(ピツチ)を最小にするた
め、アドレスデコーダ部が2分割される。すなわ
ち、代表して示された第1のアドレスデコーダ部
(ノアゲートNOR)は、4本のワード線WL1〜
WL4を同時に選択するアドレスデコーダ出力信
号を形成する。このアドレスデコーダ出力信号
は、そのゲートに電源電圧Vccが定常的に印加さ
れたカツトMOSFETQ11〜Q14を介して伝
送ゲートMOSFETQ15〜Q18のゲートに伝
えられる。一方、残り2ビツトのワード線選択用
のアドレス信号に従つて、第2のアドレスデコー
ダ部によつて4通りのワード線選択タイミング信
号φx00〜φx11が形成され上記伝送ゲート
MOSFETQ15〜Q18を通してそれぞれワー
ド線WL1〜WL4に伝えられる。このようにす
ることによつて、上記第1のアドレスデコーダ部
を構成するノアゲート回路NOR等のピツチとワ
ード線のピツチとを合わせることができる。
The inventors of the present application have developed the first word line selection circuit.
We have already developed a circuit as shown in the figure. In this circuit, the address decoder section is divided into two in order to minimize the pitch between word lines. That is, the first address decoder section (NOR gate NOR) shown as a representative has four word lines WL1 to
Forms an address decoder output signal that simultaneously selects WL4. This address decoder output signal is transmitted to the gates of transmission gate MOSFETs Q15-Q18 via cut MOSFETs Q11-Q14 to whose gates a power supply voltage Vcc is constantly applied. On the other hand, according to the remaining 2-bit word line selection address signal, the second address decoder section forms four word line selection timing signals φx00 to φx11, which are output to the transmission gates.
The signals are transmitted to word lines WL1 to WL4 through MOSFETs Q15 to Q18, respectively. By doing so, it is possible to match the pitch of the NOR gate circuit NOR etc. constituting the first address decoder section with the pitch of the word line.

また、上記各ワード線WL1〜WL4と回路の
接地電位との間には、非選択時のワード線の浮き
上がりを防止するためのMOSFETQ19〜Q2
2が設けられる。すなわち、交差配置されるデー
タ線等とのカツプリング等により非選択のワード
線が浮き上がるので、上記第1のアドレスデコー
ダ部の出力信号を受けるMOSFETQ23を介し
て上記MOSFETQ19〜Q22のゲートにワー
ド線選択タイミングにロウレベルとなるタイミン
グ信号φWLTを供給するものである。これによ
り、アドレスデコーダ出力信号がハイレベル(選
択状態)ならば、上記MOSFETQ23がオン状
態となつているので、上記タイミング信号
φWLTのロウレベルとともにMOSFETQ19〜
Q22がオフ状態になる。一方、上記アドレスデ
コーダ出力信号がロウレベル(非選択状態)なら
ば、上記MOSFETQ23がオフ状態となつて、
タイミング信号φWLTのロウレベルにかかわら
ずオン状態を維持するものである。これらの
MOSFETQ19〜Q22のオン状態によつて非
選択ワード線の浮き上がりを防止する。
Additionally, MOSFETs Q19 to Q2 are connected between each of the word lines WL1 to WL4 and the ground potential of the circuit to prevent the word lines from rising when not selected.
2 is provided. That is, since unselected word lines are lifted up due to coupling with data lines etc. arranged in an intersecting manner, the word line selection timing is transmitted to the gates of MOSFETs Q19 to Q22 via MOSFET Q23 which receives the output signal of the first address decoder section. The timing signal φWLT is supplied with a low level. As a result, when the address decoder output signal is at a high level (selected state), the MOSFET Q23 is in the on state, and together with the low level of the timing signal φWLT, the MOSFET Q19 to
Q22 is turned off. On the other hand, if the address decoder output signal is at a low level (non-selected state), the MOSFET Q23 is turned off, and
It maintains the on state regardless of the low level of the timing signal φWLT. these
The ON state of MOSFETs Q19 to Q22 prevents unselected word lines from floating.

ところで、半導体技術の進展により、半導体基
板上に形成される素子、配線が微細化される。こ
の場合、配線に着目するとその厚さは段差切れを
防止するために薄くできない反面、配線幅は増々
狭くなる傾向にある。したがつて、1Mビツトの
ようなダイナミツク型RAMを考える場合、配線
の厚みより、幅の方が小さくなるとともに、配線
の間隔も増々狭くなるので、平行に走つているワ
ード線間の寄生容量が無視できなくなる。したが
つて、上記のように4本のうち1本のワード線を
選択状態として、他の残りの3本をフローテイン
グ状態のロウレベルとしたのでは、上記寄生容量
によるカツプリングによつて非選択のワード線が
浮き上がつてしまうという新な問題が生じること
が本願発明者によつて見い出されたのである。
By the way, with the progress of semiconductor technology, elements and wiring formed on a semiconductor substrate are becoming finer. In this case, when focusing on the wiring, the thickness cannot be reduced to prevent step breakage, but the wiring width tends to become narrower and narrower. Therefore, when considering a dynamic RAM such as 1Mbit, the width of the wiring becomes smaller than the thickness, and the spacing between the wiring also becomes narrower, so the parasitic capacitance between word lines running in parallel increases. It becomes impossible to ignore. Therefore, if one of the four word lines is set to the selected state and the remaining three are set to the floating state and low level as described above, the coupling due to the parasitic capacitance will cause the unselected word line to become unselected. The inventor of the present invention has discovered that a new problem arises in that the word line rises.

そこで、各ワード線にラツチ形態のMOSFET
を設けることが考えられるが、1つのワード線に
2個のMOSFETが必要となつて素子数が大幅に
増大する。
Therefore, a latch type MOSFET is installed on each word line.
Although it is conceivable to provide a MOSFET, two MOSFETs are required for one word line, which greatly increases the number of elements.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明の目的は、素子数を増加させることな
く、ワード線間のカツプリングによる非選択ワー
ド線の浮き上がりを防止した半導体記憶装置を提
供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that prevents unselected word lines from floating due to coupling between word lines without increasing the number of elements.

この発明の前記ならびにその他の目的と新規な
特徴は、この明細書の記述および添付図面から明
らかになるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本願において開示される発明のうち代表的なも
のの概要を簡単に説明すれば、下記の通りであ
る。すなわち、互いに隣接するアドレスデコーダ
回路の出力信号によつて選択されるワード線を交
互に配置することによつて、選択されたワード線
に隣接するワード線が隣接するアドレスデコーダ
回路の出力信号により常に非選択状態としてその
浮き上がりを防止するものである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows. That is, by alternately arranging word lines that are selected by the output signals of adjacent address decoder circuits, the word lines adjacent to the selected word line are always selected by the output signals of the adjacent address decoder circuits. This prevents it from rising up as a non-selected state.

〔実施例〕〔Example〕

第2図には、この発明の一実施例の回路図が示
されている。
FIG. 2 shows a circuit diagram of an embodiment of the present invention.

同図に示した実施例回路では、nチヤンネル
MOSFETを代表とするIGFET(Insulated Gate
Field Effect Transistor)を例にして説明する。
In the example circuit shown in the figure, the n-channel
IGFET (Insulated Gate
This will be explained using the Field Effect Transistor as an example.

1ビツトのメモリセルMCは、その代表として
示されているように情報記憶キヤパシタCsとア
ドレス選択用MOSFETQmとからなり、論理
“1”,“0”の情報はキヤパシタCsに電荷が有る
か無いかの形で記憶される。
As shown as a representative, a 1-bit memory cell MC consists of an information storage capacitor Cs and an address selection MOSFET Qm, and logic "1" or "0" information indicates whether there is a charge in the capacitor Cs or not. is stored in the form of

情報の読み出しは、MOSFETQmをオン状態
にしてキヤパシタCsを共通のデータ線DLにつな
ぎ、データ線DLの電位がキヤパシタCsに蓄積さ
れた電荷量に応じてどのような変化が起きるかを
センスすることによつて行われる。
To read information, turn on MOSFETQm, connect capacitor Cs to the common data line DL, and sense how the potential of data line DL changes depending on the amount of charge accumulated in capacitor Cs. It is carried out by.

メモリセルMCを小さく形成し、かつ共通のデ
ータ線DLに多くのメモリセルをつないで高集積
大容量のメモリマトリツクスにしてあるため、上
記キヤパシタCsと、共通データ線DLの浮遊容量
Coとの関係は、Cs/Coの比が非常に小さな値に
なる。したがつて、上記キヤパシタCsに蓄積さ
れた電荷量によるデータ線DLの電位変化は、非
常に微少な信号となつている。
Since the memory cells MC are formed small and many memory cells are connected to a common data line DL to form a highly integrated and large capacity memory matrix, the stray capacitance of the capacitor Cs and the common data line DL is reduced.
Regarding the relationship with Co, the ratio of Cs/Co becomes a very small value. Therefore, the change in the potential of the data line DL due to the amount of charge accumulated in the capacitor Cs becomes an extremely small signal.

このような微少な信号を検出するための基準と
してダミーセルDCが設けられている。このダミ
ーセルDCは、そのキヤパシタCdの容量値がメモ
リセルMCのキヤパシタCsのほぼ半分であること
を除き、メモリセルMCと同じ製造条件、同じ設
計定数で作られている。キヤパシタCdは、アド
レツシングに先立つて、MOSFETQd′によつて
接地電位に充電される。
A dummy cell DC is provided as a reference for detecting such a minute signal. This dummy cell DC is manufactured under the same manufacturing conditions and the same design constants as the memory cell MC, except that the capacitance value of its capacitor Cd is approximately half that of the capacitor Cs of the memory cell MC. Capacitor Cd is charged to ground potential by MOSFET Qd' prior to addressing.

上記のように、キヤパシタCdは、キヤパシタ
Csの約半分の容量値に設定されているので、メ
モリセルMCからの読み出し信号のほぼ半分に等
しい基準電圧を形成することになる。
As mentioned above, the capacitor Cd is
Since the capacitance value is set to approximately half that of Cs, a reference voltage equal to approximately half of the read signal from the memory cell MC is formed.

センスアンプSAは、上記アドレツシングによ
り生じるこのような電位変化の差を、タイミング
信号(ケンスアンプ制御信号)φpa1,φpa2で
決まるセンス期間に拡大するセンスアンプであり
(その動作は後述する)、1対の平行に配置された
相補データ線DL,にその入出力ノードが結合
されている。相補データ線DL,に結合される
メモリセルの数は、検出精度を上げるため等しく
され、DL,のそれぞれに1個ずつのダミーセ
ルが結合されている。また、各メモリセルMC
は、1本のワード線WLと相補対データ線の一方
との間に結合される。各ワード線WLは双方のデ
ータ線対と交差しているので、ワード線WLに生
じる雑音成分が静電結合によりデータ線にのつて
も、その雑音成分が双方のデータ線対DL,に
等しく現れ、差動型のセンスアンプSAによつて
相殺される。
The sense amplifier SA is a sense amplifier that expands the difference in potential change caused by the above-mentioned addressing into a sensing period determined by the timing signals (sense amplifier control signals) φpa1 and φpa2 (its operation will be described later). Its input/output nodes are coupled to complementary data lines DL, arranged in parallel. The number of memory cells coupled to the complementary data lines DL is made equal to increase detection accuracy, and one dummy cell is coupled to each of the complementary data lines DL. In addition, each memory cell MC
is coupled between one word line WL and one of the complementary pair of data lines. Since each word line WL crosses both data line pairs, even if a noise component generated on the word line WL is transferred to the data line due to capacitive coupling, the noise component appears equally on both data line pairs DL. , are canceled by the differential sense amplifier SA.

上記アドレツシングにおいて、相補データ線対
DL,の一方に結合されたメモリセルMCが選
択された場合、他方のデータ線には必ずダミーセ
ルDCが結合されるように一対のダミーワード線
DWL,の一方が選択される。
In the above addressing, complementary data line pair
A pair of dummy word lines are connected so that when a memory cell MC coupled to one of DL, is selected, a dummy cell DC is always coupled to the other data line.
One of DWL, is selected.

上記センスアンプSAは、一対の交差結線され
たMOSFETQ1,Q2を有し、これらの正帰還
作用により、相補データ線DL,に現れた微少
な信号を差動的に増幅する。この正帰還動作は、
2段回に分けておこなわれ比較的小さいコンダク
タンス特性にされたMOSFETQ7が比較的早い
タイミング信号φpa1によつて導通し始めると同
時に開始され、アドレツシングによつて相補デー
タ線DL,に与えられた電位差に基づき高い方
のデータ線電位は遅い速度で、低い方のそれは速
い速度で共にその差が広がりながら下降してい
く。この時、上記電圧差がある程度大きくなつた
タイミングで比較的大きいコンダクタンス特性に
されたMOSFETQ8がタイミング信号φpa2に
よつて導通するので、上記低い方のデータ線電位
が急速に低下する。このように2段階にわけてセ
ンスアンプSAの動作を行わせることによつて、
上記高い方の電位落ち込みを防止する。こうして
低い方の電位が交差結合MOSFETのしきい値電
圧以下に低下したとき正帰還動作が終了し、高い
方の電位の下降は電源電圧Vccより低く上記しき
い値電圧より高い電位に留まるとともに、低い方
の電位は最終的に接地電位(0V)に到達する。
The sense amplifier SA has a pair of cross-connected MOSFETs Q1 and Q2, and differentially amplifies a minute signal appearing on the complementary data line DL by the positive feedback action of these MOSFETs. This positive feedback operation is
The process starts at the same time that MOSFET Q7, which has been made into a relatively small conductance characteristic in two stages, begins to conduct due to the relatively early timing signal φpa1, and the addressing process causes the voltage difference applied to the complementary data line DL to be Based on this, the higher data line potential falls at a slower rate, and the lower one falls at a faster rate, with the difference widening. At this time, the MOSFET Q8, which has a relatively large conductance characteristic, is made conductive by the timing signal φpa2 at a timing when the voltage difference becomes large to a certain extent, so that the lower data line potential rapidly decreases. By operating the sense amplifier SA in two stages in this way,
This prevents the higher potential from dropping. In this way, when the lower potential drops below the threshold voltage of the cross-coupled MOSFET, the positive feedback operation ends, and the higher potential decreases while remaining at a potential lower than the power supply voltage Vcc and higher than the threshold voltage. The lower potential eventually reaches ground potential (0V).

上記のアドレツシングの際、一旦破壊されかか
つたメモリセルMCの記憶情報は、このセンス動
作によつて得られたハイレベル若しくはロウレベ
ルの電位をそのまま受け取ることによつて回復す
る。しかしながら、前述のようにハイレベルが電
源電圧Vccに対して一定以上落ち込むと、何回か
の読み出し、再書込みを繰り返しているうちに論
理“0”として読み取られるところの誤動作が生
じる。この誤動作を防ぐために設けられるのがア
クテイブリストア回路ARである。このアクテイ
ブリストア回路ARは、ロウレベルの信号に対し
て何ら影響を与えずハイレベルの信号にのみ選択
的に電源電圧Vccの電位にブートストする働きが
ある。
During the above-mentioned addressing, the stored information in the memory cell MC, which is once about to be destroyed, is recovered by directly receiving the high-level or low-level potential obtained by this sensing operation. However, as described above, if the high level drops by more than a certain level with respect to the power supply voltage Vcc, a malfunction will occur where the data will be read as a logic "0" while reading and rewriting are repeated several times. An active restore circuit AR is provided to prevent this malfunction. This active restore circuit AR has the function of selectively bootstrapping only high level signals to the potential of power supply voltage Vcc without having any effect on low level signals.

同図において代表として示されているデータ線
対DL,は、カラムスイツチCWを構成する
MOSFETQ3,Q4を介してコモン相補データ
線対CDL,に接続される。他の代表として
示されているデータ線対についても同様な
MOSFETQ5,Q6を介してコモン相補データ
線対CDL,に接続される。このコモン相補
データ線対CDL,には、出力アンプを含む
データ出力バツフアDOBの入力端子とデータ入
力バツフアDIBの出力端子に接続される。
The data line pair DL, shown as a representative in the figure, constitutes a column switch CW.
It is connected to the common complementary data line pair CDL via MOSFETQ3 and Q4. The same applies to the other representative data line pairs.
It is connected to the common complementary data line pair CDL via MOSFETQ5 and Q6. This common complementary data line pair CDL is connected to the input terminal of a data output buffer DOB including an output amplifier and the output terminal of a data input buffer DIB.

ロウデコーダ及びカラムデコーダRC−DCR
は、アドレスバツフアADBで形成された内部相
補アドレス信号を受けて、1本のワード線及びダ
ミーワード線並びにカラムスイツチ選択信号を形
成してメモリセル及びダミーセルのアドレツシン
グを行う。すなわち、ロウアドレスストローブ信
号により形成されたタイミング信号φarに同
期して外部アドレス信号AX0〜AXiをアドレス
バツフアADBに取込み、ロウデコーダR−DCR
に伝えるとともに、ワード線選択タイミング信号
φxにより所定のワード線及びダミーワード線選
択動作を行う。そして、カラムアドレスストロー
ブ信号により形成されたタイミング信号φac
に同期して外部アドレス信号AY0〜AYiをアド
レスバツフアADBに取込み、カラムデコーダC
−DCRに伝えるとともに、データ線選択タイミ
ング信号φyによりデータ線の選択動作を行う。
Row decoder and column decoder RC-DCR
receives an internal complementary address signal formed by the address buffer ADB, forms one word line, dummy word line, and column switch selection signals to address memory cells and dummy cells. That is, external address signals AX0 to AXi are taken into the address buffer ADB in synchronization with the timing signal φar generated by the row address strobe signal, and the row decoders R-DCR
At the same time, predetermined word line and dummy word line selection operations are performed using the word line selection timing signal φx. and a timing signal φac formed by the column address strobe signal.
The external address signals AY0 to AYi are taken into the address buffer ADB in synchronization with the column decoder C.
-DCR and performs a data line selection operation using the data line selection timing signal φy.

タイミング制御回路TCは、外部から供給され
たアドレスストローブ信号,と、ライ
トイネーブル信号とを受け、上記代表として
示されたタイミング信号の他各種タイミング信号
を形成する。
The timing control circuit TC receives an address strobe signal and a write enable signal supplied from the outside, and forms various timing signals in addition to the representative timing signals shown above.

リフレツシユ制御回路REFCは、特に制限され
ないが、タイマー回路と、内部ロウアドレス信号
ax0〜axiを形成するカウンタ回路とを内蔵して
おり、外部端子から供給されるリフレツシユ信号
REFにより起動される。
The refresh control circuit REFC includes, but is not limited to, a timer circuit and an internal row address signal.
It has a built-in counter circuit that forms ax0 to axi, and a refresh signal supplied from an external terminal.
Triggered by REF.

例えば、リフレツシユ信号を一定時間以
上ロウレベルにしつづけると上記タイマー回路が
作動して、内蔵の発振回路(図示せず)により形
成されたタイミング信号φに従つてカウンタ回路
を歩進させて内部アドレス信号を連続的に切り換
えて発生させる。この発振回路は、特に制限され
ないが、基板バイアス電圧発生回路(図示せず)
を構成するための発振回路を共用することが便利
である。
For example, if the refresh signal is kept at a low level for a certain period of time or more, the timer circuit is activated, and the counter circuit is incremented in accordance with the timing signal φ generated by the built-in oscillation circuit (not shown), thereby generating the internal address signal. Generate by switching continuously. This oscillation circuit may include, but is not limited to, a substrate bias voltage generation circuit (not shown).
It is convenient to share the oscillation circuit for configuring.

一方、上記リフレツシユ信号として比較
的短い時間だけロウレベルにすると上記タイマー
回路が作動せず、このリフレツシユ信号に
従つて上記カウンタ回路を歩進させる。このよう
な自動リフレツシユ回路は、前記文献によつて公
知であるので、その詳細な説明を省略する。な
お、上記リフレツシユ信号をロウレベルに
すると、マルチプレクサMPXは、リフレツシユ
制御回路REFC側に切り換えられ、上記内部アド
レス信号ax0〜axiをロウアドレスデコーダに伝
える。
On the other hand, if the refresh signal is kept at a low level for a relatively short period of time, the timer circuit will not operate and the counter circuit will be incremented in accordance with this refresh signal. Since such an automatic refresh circuit is known from the above-mentioned document, a detailed explanation thereof will be omitted. Note that when the refresh signal is set to low level, the multiplexer MPX is switched to the refresh control circuit REFC side and transmits the internal address signals ax0 to axi to the row address decoder.

第3図には、上記第2図におけるロウデコーダ
回路R−DCRの一実施例の回路図が示されてい
る。同図には、代表として2つのアドレスデコー
ダ部が示されている。
FIG. 3 shows a circuit diagram of an embodiment of the row decoder circuit R-DCR in FIG. 2. In the figure, two address decoder sections are shown as representatives.

この実施例では、代表して示された第1の2つ
のアドレスデコーダ部(ノアゲートNOR1,
NOR2)は、それぞれ4本のワード線WL1〜
WL4,WL5〜WL8を同時に選択するアドレ
スデコーダ出力信号を形成する。これらのアドレ
スデコーダ出力信号は、そのゲートに電源電圧
Vccが定常的に印加されたカツトMOSFETQ1
1〜Q14,Q31〜Q34を介してそれぞれ伝
送ゲートMOSFETQ15〜Q18,Q35〜Q
38のゲートに伝えられる。一方、残り2ビツト
のワード線選択用のアドレス信号に従つて、第2
のアドレスデコーダ部によつて4通りのワード線
選択タイミング信号φx00〜φx11が形成され
上記伝送ゲートMOSFETQ15〜Q18,Q3
5〜Q38を通してそれぞれワード線WL1〜
WL4,WL5〜WL8に伝えられる。このよう
にすることによつて、上記第1のアドレスデコー
ダ部を構成するノアゲート回路NOR等のピツチ
とワード線のピツチとを合わせることができる。
In this embodiment, the first two address decoder sections (NOR gate NOR1,
NOR2) has four word lines WL1~
An address decoder output signal that simultaneously selects WL4, WL5 to WL8 is formed. These address decoder output signals have supply voltages on their gates.
Cut MOSFET Q1 to which Vcc is constantly applied
Transmission gate MOSFET Q15-Q18, Q35-Q via Q1-Q14, Q31-Q34, respectively
It will be sent to 38 gates. On the other hand, according to the remaining 2-bit word line selection address signal, the second
Four word line selection timing signals φx00 to φx11 are formed by the address decoder section of the transmission gate MOSFETs Q15 to Q18, Q3.
Word lines WL1~ through 5~Q38, respectively.
It is communicated to WL4, WL5 to WL8. By doing so, the pitch of the NOR gate circuit NOR etc. constituting the first address decoder section can be matched with the pitch of the word line.

また、上記各ワード線WL1〜WL4,WL5
〜WL8と回路の接地電位との間には、非選択時
のワード線の浮き上がりを防止するための
MOSFETQ19〜Q22,Q39〜42それぞ
れが設けられる。すなわち、交差配置されるデー
タ線等とのカツプリング等により非選択のワード
線が浮き上がるので、上記第1のアドレスデコー
ダ部の出力信号を受けるMOSFETQ23を介し
て上記MOSFETQ19〜Q22のゲートに所定
のタイミング信号φWLTを提供するものである。
これらのMOSFETQ19〜Q22,Q39〜Q
42のオン状態によつて非選択ワード線の浮き上
がりを防止する。
In addition, each of the above word lines WL1 to WL4, WL5
~ There is a connection between WL8 and the circuit ground potential to prevent the word line from rising when not selected.
MOSFETs Q19 to Q22 and Q39 to Q42 are provided, respectively. That is, since unselected word lines are lifted up due to coupling with intersecting data lines, etc., a predetermined timing signal is applied to the gates of the MOSFETs Q19 to Q22 via the MOSFET Q23 that receives the output signal of the first address decoder section. It provides φWLT.
These MOSFETQ19~Q22,Q39~Q
The on-state of 42 prevents unselected word lines from floating.

また、アドレスデコーダ部NOR1(又はNOR
2)のように同じ出力に結合され、上記ワード線
選択タイミング信号φx00〜φx11によつて1
つのワード線が選択される時、残りの3つのワー
ド線のうち隣りの非選択ワード線が浮き上がつて
しまうのを防止するため、隣接するアドレスデコ
ーダ部NOR2(又はNOR1)の非選択信号によ
つて上述のように接地電位が与えられるワード線
を交互に配置するものである。すなわち、ワード
線は、WL1,WL5,WL2,WL6,…のよう
に隣接するアドレスデコーダ部に結合されるワー
ド線を交互に配置するものである。
Also, the address decoder section NOR1 (or NOR
2), the word line selection timing signals φx00 to φx11
When one word line is selected, in order to prevent the adjacent unselected word line from floating among the remaining three word lines, the unselected signal of the adjacent address decoder unit NOR2 (or NOR1) is Therefore, as described above, the word lines to which the ground potential is applied are arranged alternately. That is, the word lines, such as WL1, WL5, WL2, WL6, . . . , are alternately arranged to be coupled to adjacent address decoder sections.

これにより、例えば、アドレスデコーダ部
NOR1の出力信号がハイレベルの選択信号を出
力するとき、ワード線選択タイミング信号φx0
0〜φx11のハイレベルによつてワード線WL1
〜WL4のうちいずれか1つのワード線がハイレ
ベルの選択状態にされ、残り3つのワード線がフ
ローテイング状態でのロウレベルとなつて非選択
状態にされる。このとき、隣りのアドレスデコー
ダ部NOR2の出力信号がロウレベルになつて、
上述のようにMOSFETQ39〜Q42がオン状
態となつてワード線WL5〜WL8を接地電位の
ロウレベルにする。したがつて、上記アドレスデ
コーダ部NOR1の出力信号によつて選択される
ワード線の隣の非選択ワード線は必ず他のアドレ
スデコーダ部NOR2の出力信号によつて接地電
位にラツチされているから、ワード線間の寄生容
量によるカツプリングにより浮き上がることはな
い。
This allows, for example, the address decoder section
When the output signal of NOR1 outputs a high level selection signal, the word line selection timing signal φx0
The word line WL1 is set by the high level of 0 to φx11.
Any one of the word lines WL4 to WL4 is set to a high level selected state, and the remaining three word lines are set to a floating state low level and set to a non-selected state. At this time, the output signal of the adjacent address decoder section NOR2 becomes low level,
As described above, MOSFETs Q39 to Q42 are turned on, and the word lines WL5 to WL8 are brought to the low level of the ground potential. Therefore, the unselected word line next to the word line selected by the output signal of the address decoder section NOR1 is always latched to the ground potential by the output signal of the other address decoder section NOR2. It does not float due to coupling due to parasitic capacitance between word lines.

〔効果〕〔effect〕

(1) ワード線の配置を隣接する2組のアドレスデ
コーダ部に結合されるワード線を交互に配置す
ることにより、選択状態にされるワード線の隣
のワード線は、常にその非選択出力信号によつ
てオン状態となるMOSFETによつて接地電位
に固定される。したがつて、ワード線間の寄生
容量によるカツプリングにより非選択ワード線
が浮き上がることを確実に防止することができ
るという効果が得られる。
(1) By alternately arranging the word lines connected to two adjacent sets of address decoders, the word line next to the word line to be selected always receives its non-selected output signal. The MOSFET is turned on by , and is fixed to the ground potential. Therefore, it is possible to reliably prevent unselected word lines from floating due to coupling due to parasitic capacitance between word lines.

(2) 上記非選択ワード線の浮き上がりを防止する
ための手段は、1個のMOSFETにより構成で
きることによつて、回路素子数の増加を防止で
きるという効果が得られる。
(2) Since the means for preventing floating of the unselected word line can be constructed from one MOSFET, it is possible to prevent an increase in the number of circuit elements.

(3) ワード線間の容量結合による非選択ワード線
の浮き上がりの防止は、単にワード線のレイア
ウトを変更するだけであるので、極めて簡単に
実施することができるという効果が得られる。
(3) Preventing unselected word lines from floating due to capacitive coupling between word lines can be achieved very simply by simply changing the layout of the word lines.

以上本発明者によつてなされた発明を実施例に
基づき具体的に説明したが、この発明は上記実施
例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。例えば、リフレツシユ回路は、省略するも
のであつてもよい。また、ダイナミツク型RAM
を構成する他の回路は、種々の実施形態を採るこ
とができるものである。また、アドレスデコーダ
部をそれぞれ構成する上記ノアゲートNOR1と
NOR2は、互いに隣接していなくてもよい。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained based on Examples above, this invention is not limited to the above Examples, and it is understood that various changes can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say. For example, the refresh circuit may be omitted. In addition, dynamic RAM
Other circuits constituting the circuit can take various embodiments. In addition, the above NOR gate NOR1 and the address decoder section are respectively configured.
NOR2 does not have to be adjacent to each other.

〔利用分野〕[Application field]

以上の説明では主として本願発明者によつてな
された発明をその背景となつた利用分野であるダ
イナミツク型RAMに適用した場合について説明
したが、これに限定されるものではなく、前記同
様なワード線の選択を行う半導体記憶装置に広く
利用できるものである。
In the above explanation, the invention made by the inventor of the present application was mainly applied to a dynamic RAM, which is the background field of application. It can be widely used in semiconductor memory devices that select the following.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明に先立つて開発されたアド
レスデコーダ回路の一例を示す回路図、第2図
は、この発明の一実施例を示すダイナミツク型
RAMのブロツク図、第3図は、第2図のロウア
ドレスデコーダR−DCRの具体的一実施例を示
す回路図である。 MC……メモリセル、DC……ダミーセル、CW
……カラムスイツチ、SA……センスアンプ、
AR……アクテイブリストア回路、RC−DCR…
…ロウ/カラムデコーダ、ADB……アドレスバ
ツフア、DOB……データ信号バツフア、DIB…
…データ入力バツフア、TC……タイミング制御
回路、MPX……マルチプレクサ、REFC……リ
フレツシユ制御回路。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of an address decoder circuit developed prior to the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a dynamic type address decoder circuit developed prior to the present invention.
FIG. 3, a block diagram of the RAM, is a circuit diagram showing a specific embodiment of the row address decoder R-DCR of FIG. 2. MC...Memory cell, DC...Dummy cell, CW
...column switch, SA ... sense amplifier,
AR...Active restore circuit, RC-DCR...
…Row/column decoder, ADB…Address buffer, DOB…Data signal buffer, DIB…
…data input buffer, TC…timing control circuit, MPX…multiplexer, REFC…refresh control circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 複数のワード線の選択信号を形成する第1ア
ドレスデコーダ回路と、他の複数のワード線の選
択信号を形成する第2アドレスデコーダ回路と、
ワード線選択タイミング信号線と上記ワード線を
電気的に接続する、複数の伝送ゲートMOSFET
と、上記第1、第2アドレスデコーダ回路の出力
が上記伝送ゲートMOSFETのゲートに印加され
るとともに、上記各ワード線と回路の接地電位点
との間にそれぞれ1つのMOSFETを設け、上記
第1アドレスデコーダ回路の出力により選択され
る対象のワード線と上記第2アドレスデコーダ回
路の出力により選択される対象のワード線を交互
に配置する構成とし、上記第1アドレスデコーダ
回路の出力によりワード線を選択したとき、上記
第2アドレスデコーダ回路の出力に基づいて、選
択されないワード線に接続された上記MOSFET
をオンにして該選択されないワード線は回路の接
地電位に固定されることを特徴とする半導体記憶
装置。 2 上記ワード線には、情報記憶用キヤパシタと
アドレス選択用MOSFETとからなるメモリセル
のうち、アドレス選択用MOSFETのゲートが接
続されるものであることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の半導体記憶装置。
[Scope of Claims] 1. A first address decoder circuit that forms selection signals for a plurality of word lines, a second address decoder circuit that forms selection signals for another plurality of word lines,
Multiple transmission gate MOSFETs that electrically connect the word line selection timing signal line and the word line above.
The outputs of the first and second address decoder circuits are applied to the gate of the transmission gate MOSFET, and one MOSFET is provided between each word line and the ground potential point of the circuit, The target word line selected by the output of the address decoder circuit and the target word line selected by the output of the second address decoder circuit are arranged alternately, and the word line is selected by the output of the first address decoder circuit. When selected, the MOSFET connected to the unselected word line based on the output of the second address decoder circuit.
1. A semiconductor memory device characterized in that when the unselected word line is turned on, the unselected word line is fixed at a ground potential of a circuit. 2. Claim 1, characterized in that the word line is connected to the gate of an address selection MOSFET of a memory cell consisting of an information storage capacitor and an address selection MOSFET. semiconductor storage device.
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