JPH04197166A - 製麹工程における温湿度制御方法 - Google Patents
製麹工程における温湿度制御方法Info
- Publication number
- JPH04197166A JPH04197166A JP2326516A JP32651690A JPH04197166A JP H04197166 A JPH04197166 A JP H04197166A JP 2326516 A JP2326516 A JP 2326516A JP 32651690 A JP32651690 A JP 32651690A JP H04197166 A JPH04197166 A JP H04197166A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- koji
- temperature
- air
- humidity
- preparing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Control Of Temperature (AREA)
- Micro-Organisms Or Cultivation Processes Thereof (AREA)
- Alcoholic Beverages (AREA)
- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、製麹工程における温湿度制御方法に間する。
[従来技術とその課題]
麹は清酒醸造に必須の原料であり、通常は蒸米に麹菌を
接種し、約40〜50時間培養して目的の麹を製造する
。清酒醸造における麹の主な役割は、アミラーゼやプロ
テアーゼなどの加水分解酵素を供給すること、および、
陀酵工程で酵母が増Mig酵するために必要な栄養源を
供給することである。従って、麹の品質は清酒の品質と
密接な間係があり、目標品質の清酒を得るためには、製
麹工程における温度や湿度などの環境因子の微妙な管理
が要求される。その伝統的製造工程は、麹蓋法と呼ばれ
、木製の箱を積み重ねて製造する方法である。しかし、
この方法にはかなりの熟練を要し、また、作業時間的に
もかなり制約を受けるなどの問題点があった。
接種し、約40〜50時間培養して目的の麹を製造する
。清酒醸造における麹の主な役割は、アミラーゼやプロ
テアーゼなどの加水分解酵素を供給すること、および、
陀酵工程で酵母が増Mig酵するために必要な栄養源を
供給することである。従って、麹の品質は清酒の品質と
密接な間係があり、目標品質の清酒を得るためには、製
麹工程における温度や湿度などの環境因子の微妙な管理
が要求される。その伝統的製造工程は、麹蓋法と呼ばれ
、木製の箱を積み重ねて製造する方法である。しかし、
この方法にはかなりの熟練を要し、また、作業時間的に
もかなり制約を受けるなどの問題点があった。
近年、これらの管理を行ってきた熟練技能者の老齢化、
および、後継者不足などが大きな問題となってきており
、また、吟醸酒を初めとする高級酒の生産などの多品種
化が要求される中、製麹工程の自動化、簡易化が望まれ
ている。
および、後継者不足などが大きな問題となってきており
、また、吟醸酒を初めとする高級酒の生産などの多品種
化が要求される中、製麹工程の自動化、簡易化が望まれ
ている。
このような技術的背景から、1960年代より種々の自
動製麹装置が開発され、普及してきた。これら装置の多
くは、温湿度センサーを取り付け、通風装置や除湿装置
などを用いて、温湿度の制御を行えるような仕様となっ
ている。しかし、製麹装置内は、麹菌の増殖に伴う発熱
のため、かなり高い湿度状態にあることから、市販の半
導体湿度センサーなどによる計測は困難であり、通常、
乾湿度肝による温度計測が行われている。乾湿度肝によ
り正確に湿度を計測するためには、通風2.5n+/s
ec以上の環境条件か要求される。従って、間欠通風な
どによる温湿度制御においては、湿度信号の信頼性の問
題、あるいは、制御応答の遅れ時間などの問題から、湿
度を精度よく制御することは困難であった。このため、
麹表面が乾燥しすぎ、菌体の増殖が抑制されたり、また
、逆に多湿麹となり、ぬり破精と呼ばれる、蒸米表面へ
の集中的な麹菌の繁殖状態が発生するなどといった品質
上好ましくない問題が発生することがしばしばあった。
動製麹装置が開発され、普及してきた。これら装置の多
くは、温湿度センサーを取り付け、通風装置や除湿装置
などを用いて、温湿度の制御を行えるような仕様となっ
ている。しかし、製麹装置内は、麹菌の増殖に伴う発熱
のため、かなり高い湿度状態にあることから、市販の半
導体湿度センサーなどによる計測は困難であり、通常、
乾湿度肝による温度計測が行われている。乾湿度肝によ
り正確に湿度を計測するためには、通風2.5n+/s
ec以上の環境条件か要求される。従って、間欠通風な
どによる温湿度制御においては、湿度信号の信頼性の問
題、あるいは、制御応答の遅れ時間などの問題から、湿
度を精度よく制御することは困難であった。このため、
麹表面が乾燥しすぎ、菌体の増殖が抑制されたり、また
、逆に多湿麹となり、ぬり破精と呼ばれる、蒸米表面へ
の集中的な麹菌の繁殖状態が発生するなどといった品質
上好ましくない問題が発生することがしばしばあった。
本発明の目的は、従来技術の温湿度制御での課題を合理
的に解決することにあり、安定した製麹室内の温湿度制
御の実施を可能となし、麹菌の生育状態に応して循環風
量の適切な制御を可能とし、目標品質の麹を再現性よく
製造することができる製麹工程における温温度制御方法
を提供することにある。
的に解決することにあり、安定した製麹室内の温湿度制
御の実施を可能となし、麹菌の生育状態に応して循環風
量の適切な制御を可能とし、目標品質の麹を再現性よく
製造することができる製麹工程における温温度制御方法
を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
従来技術の課題を解決する本発明の構成は、製麹装置を
構成する!1w1室内の製麹原料堆積層上部の空気を循
環させる手段と、上記空気の循環量を制御するための手
段と、上記空気の循環量を、製麹室内温湿度、および、
製麹原料品温などの状態変化に基いてファジィ推論を施
し決定するための手段とよりなるものである。
構成する!1w1室内の製麹原料堆積層上部の空気を循
環させる手段と、上記空気の循環量を制御するための手
段と、上記空気の循環量を、製麹室内温湿度、および、
製麹原料品温などの状態変化に基いてファジィ推論を施
し決定するための手段とよりなるものである。
[作 用コ
上記方法によれば、装置内空気の連続循環の実施により
制御応答の遅れ時間の影響が軽減できること、また、麹
の発熱量に応じて循環風量の調整が可能となり、より安
定した麹の品質管理の実施が可能となる。
制御応答の遅れ時間の影響が軽減できること、また、麹
の発熱量に応じて循環風量の調整が可能となり、より安
定した麹の品質管理の実施が可能となる。
[発明の効果]
上述のように本発明の構成によれば、次のような効果が
得られる。
得られる。
製麹室内の空気を循環させるとともに、この循環風量を
制御し、而も、この循環風量に製麹室内の温湿度、およ
び、品温なとの状態変化に基いてファジィ推論を施し決
定することにより、安定した製麹室内の温湿度制御の実
施が可能となり、また、麹菌の生育状態に応じて循環風
量の適切な制御を可能とすることができ、目標品質の麹
を再現性良く製造することができる。
制御し、而も、この循環風量に製麹室内の温湿度、およ
び、品温なとの状態変化に基いてファジィ推論を施し決
定することにより、安定した製麹室内の温湿度制御の実
施が可能となり、また、麹菌の生育状態に応じて循環風
量の適切な制御を可能とすることができ、目標品質の麹
を再現性良く製造することができる。
[実施例]
第1図に示す製麹装置Aを使用した本発明方法の実施例
を説明する。
を説明する。
上記製I!I装置Aを構成する円爾形構造の製麹槽l内
には、回転駆動機構(図示略)によって回動する軸2上
に設けた麹支持台3が配設されており、該麹支持台3上
には、製麹原料層4が堆積されている。この製麹原料層
4の上部に形成される製麹室5には、除湿装置Bを構成
する冷却コイル6、加熱コイル7、および、循環ファン
8を備えた空気の循環ダクト9が設けられている。そし
て、上記循環ファン8により製麹室5内の空気が矢印方
向に循環されるようにしである。上記循環ダクト9の空
気排出側には乾球温度計10と湿球温度計11とが配設
されている。
には、回転駆動機構(図示略)によって回動する軸2上
に設けた麹支持台3が配設されており、該麹支持台3上
には、製麹原料層4が堆積されている。この製麹原料層
4の上部に形成される製麹室5には、除湿装置Bを構成
する冷却コイル6、加熱コイル7、および、循環ファン
8を備えた空気の循環ダクト9が設けられている。そし
て、上記循環ファン8により製麹室5内の空気が矢印方
向に循環されるようにしである。上記循環ダクト9の空
気排出側には乾球温度計10と湿球温度計11とが配設
されている。
上記冷却コイル6と加熱コイル7との間にはダクト内温
度計測用温度計12が配設され、また、上記製麹原料層
4に品温測定用温度計13を挿入するとともに、上記製
麹室5内に乾球温度計14と湿球温度計15を配設する
0図中16は冷水量調節バルブ、 17は温水量調節バ
ルブ、 +8はインバータ、 +9はプログラムコント
ローラ(PC)、20はコンピュータである。そして、
上記乾球温度計10.14.湿球温度計11.15.ダ
クト内温度計測用温度計12゜品温測定用温度計13.
冷水量調節バルブ16.温水量調節バルブ17、および
、インバータ18は夫々上記プログラムコントローラ1
9に接続されでいる。
度計測用温度計12が配設され、また、上記製麹原料層
4に品温測定用温度計13を挿入するとともに、上記製
麹室5内に乾球温度計14と湿球温度計15を配設する
0図中16は冷水量調節バルブ、 17は温水量調節バ
ルブ、 +8はインバータ、 +9はプログラムコント
ローラ(PC)、20はコンピュータである。そして、
上記乾球温度計10.14.湿球温度計11.15.ダ
クト内温度計測用温度計12゜品温測定用温度計13.
冷水量調節バルブ16.温水量調節バルブ17、および
、インバータ18は夫々上記プログラムコントローラ1
9に接続されでいる。
除湿装置B内での空気の冷却は、冷却コイル6内の冷却
水循環量を調節することにより実施し、同様に加熱は加
熱コイル7内の温水循環量を調節することにより実施し
た。また、各温度信号はプログラムコントローラ19を
介してコンピュータ20内にシリアル通信するものとし
た。そして手続きは全てコンピュータ20により処理し
た。
水循環量を調節することにより実施し、同様に加熱は加
熱コイル7内の温水循環量を調節することにより実施し
た。また、各温度信号はプログラムコントローラ19を
介してコンピュータ20内にシリアル通信するものとし
た。そして手続きは全てコンピュータ20により処理し
た。
次に、ファジィ推論による循環風量の制御結果について
述べる。基本的には、麹の増殖が活発て、発熱量が大き
いときには除湿能力を上げる必要があるため、循環風量
を大きくし、また、装置内の温湿度が設定値を上回った
場合にも、循環風量を大きくするという経験上の知識を
整理して制御則を作成した。以下、具体的に説明する。
述べる。基本的には、麹の増殖が活発て、発熱量が大き
いときには除湿能力を上げる必要があるため、循環風量
を大きくし、また、装置内の温湿度が設定値を上回った
場合にも、循環風量を大きくするという経験上の知識を
整理して制御則を作成した。以下、具体的に説明する。
先ず、製麹原料品温の現在値と設定値の偏差(KE)、
麹品温の変化率偏差(KCE)、ならびに、製麹装置内
の温度(RT) 、湿度(RM)を制御指標、また、制
御出力を循環風量の操作量(OUT)として以下に例を
示すような制御則を作成した。
麹品温の変化率偏差(KCE)、ならびに、製麹装置内
の温度(RT) 、湿度(RM)を制御指標、また、制
御出力を循環風量の操作量(OUT)として以下に例を
示すような制御則を作成した。
1f=(KE=Z) and (にCE=P) the
n 0UT=PS1f=(RT=P) or (RM=
P) then 0UT=PBここで、Z、Pなどは、
以下に示したような各ファジィ変数の言語ラベルを表す
。
n 0UT=PS1f=(RT=P) or (RM=
P) then 0UT=PBここで、Z、Pなどは、
以下に示したような各ファジィ変数の言語ラベルを表す
。
P:正
Z:ゼロ位
N:負
NB:小さくする
NS:少し小さくする
ZE:そのままにする
PS:少し大きくする
PB:大きくする
参考として、KE、および、OUTを表すメンバーシッ
プ間数を第2図から第4図に記載した。
プ間数を第2図から第4図に記載した。
そして、これらの制御則を用いて、制御周期を1分とし
て、ファジィ推論を施し、得られた循環風量の操作量を
確定値に変換した後、この値と現在出力(0〜100%
)から制御出力を算出し、インバータ18のアナログ制
御を実施した。尚、これらの手続きは全てコンピュータ
20により行った。
て、ファジィ推論を施し、得られた循環風量の操作量を
確定値に変換した後、この値と現在出力(0〜100%
)から制御出力を算出し、インバータ18のアナログ制
御を実施した。尚、これらの手続きは全てコンピュータ
20により行った。
第5図a、bに、この方法により回転円盤式の自動製麹
機にて、白米量換算で 100kg (&I麹麹原料的
約5cm)の制御試験を行った結果を記載した。
機にて、白米量換算で 100kg (&I麹麹原料的
約5cm)の制御試験を行った結果を記載した。
また、対照として循環風量の制御を行わなかった場合の
結果を第6図a、bに記載した。これら第5図a、b、
第6図a、bより、本発明により、精度良く、かつ安定
した制御を実施できることが明らかとなった。また、第
1表に循環風量の制御を行った場合に得られた麹の酵素
活性、および、水分の分析結果を示した。循環風量の制
御を行わなかった場合、部表面が乾燥したため、酵素活
性が目標値を大巾に下回ったのに対し、制御を施した場
合には、目標酵素活性を得ることができ、破積込み状態
の良好な麹を生産することができた。
結果を第6図a、bに記載した。これら第5図a、b、
第6図a、bより、本発明により、精度良く、かつ安定
した制御を実施できることが明らかとなった。また、第
1表に循環風量の制御を行った場合に得られた麹の酵素
活性、および、水分の分析結果を示した。循環風量の制
御を行わなかった場合、部表面が乾燥したため、酵素活
性が目標値を大巾に下回ったのに対し、制御を施した場
合には、目標酵素活性を得ることができ、破積込み状態
の良好な麹を生産することができた。
第1表
第1図は本発明方法を実施するに当り使用する製麹装置
の一実施例を示す概略正面図、第2図。 第3図、および、!4図は、KE、および、OUTを表
すメンバーシップ間数図、第5図aは本発明方法による
制御試験を行った結果の相対湿度特性図、第5図すは同
上温度特性図、第6図aは循環風量の制御を行わなかっ
た場合の結果の相対湿度特性図、第6図すは同上温度特
性図である。 A・・・製麹装置、B・・・除湿装置、l・・・製麹槽
、2・・・軸、3・・・麹支持台、4・・・i!麹原料
層、5・・・製麹室、6・・・冷却コイル、7・・・加
熱コイル、8・・・循環ファン、9・・・循環ダク)、
10・・・乾球温度計、 11・・・湿球温度計、 1
2・・・ダクト内温度測定用温度計゛、13・・・品温
測定用温度計、 14・・・乾球温度計、 15・・・
湿球温度計、 16・・・冷水量調節バルブ、 !?・
・・温水量調節バルブ、 +8・・・インバータ、 1
9・・・プログラムコントローラ、20・・・コンピュ
ータ。 特 許 出 願 人 月 桂 冠 株 式
会 杜氏 理 人 佐
野 義 雄第1図 A 第2図 第511良 時 間(分) 第5 mb 時 間(分) 第6!II′L 時 間(分) 第6図す 時 間(分) 手 続 補 正 書(自発) 平成2年12月28日 平成2年 特許順 第326516号 2、発明の名称 製麹工程における温湿度制御方法 3、補正をする者 事件との間係 特許出願人 月桂冠株式会社 4、代理人 自 発 1、明細書中、第9頁v、8行の次に下記を加入する。 記 尚、対照として従来の麹蓋法により製造した麹の酵素活
性を第1表に示す。 2、同第9頁の第1表を下記のように補正する。 記 以 上
の一実施例を示す概略正面図、第2図。 第3図、および、!4図は、KE、および、OUTを表
すメンバーシップ間数図、第5図aは本発明方法による
制御試験を行った結果の相対湿度特性図、第5図すは同
上温度特性図、第6図aは循環風量の制御を行わなかっ
た場合の結果の相対湿度特性図、第6図すは同上温度特
性図である。 A・・・製麹装置、B・・・除湿装置、l・・・製麹槽
、2・・・軸、3・・・麹支持台、4・・・i!麹原料
層、5・・・製麹室、6・・・冷却コイル、7・・・加
熱コイル、8・・・循環ファン、9・・・循環ダク)、
10・・・乾球温度計、 11・・・湿球温度計、 1
2・・・ダクト内温度測定用温度計゛、13・・・品温
測定用温度計、 14・・・乾球温度計、 15・・・
湿球温度計、 16・・・冷水量調節バルブ、 !?・
・・温水量調節バルブ、 +8・・・インバータ、 1
9・・・プログラムコントローラ、20・・・コンピュ
ータ。 特 許 出 願 人 月 桂 冠 株 式
会 杜氏 理 人 佐
野 義 雄第1図 A 第2図 第511良 時 間(分) 第5 mb 時 間(分) 第6!II′L 時 間(分) 第6図す 時 間(分) 手 続 補 正 書(自発) 平成2年12月28日 平成2年 特許順 第326516号 2、発明の名称 製麹工程における温湿度制御方法 3、補正をする者 事件との間係 特許出願人 月桂冠株式会社 4、代理人 自 発 1、明細書中、第9頁v、8行の次に下記を加入する。 記 尚、対照として従来の麹蓋法により製造した麹の酵素活
性を第1表に示す。 2、同第9頁の第1表を下記のように補正する。 記 以 上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 製麹装置を構成する製麹室内の製麹原料堆積層上部の空
気を循環させる手段と、 上記空気の循環量を制御するための手段と、上記空気の
循環量を、製麹室内温湿度、および、製麹原料品温など
の状態変化に基いてファジィ推論を施し決定するための
手段、 とよりなることを特徴とする製麹工程における温湿度制
御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2326516A JPH04197166A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 製麹工程における温湿度制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2326516A JPH04197166A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 製麹工程における温湿度制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04197166A true JPH04197166A (ja) | 1992-07-16 |
Family
ID=18188708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2326516A Pending JPH04197166A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 製麹工程における温湿度制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04197166A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003047454A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-02-18 | Takara Holdings Inc | 自動製麹装置における製麹環境調節方法及び装置 |
| JP2008125415A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-06-05 | Mitsuo Higano | 真空蒸米冷却調湿方法およびその装置 |
| CN106547284A (zh) * | 2015-09-22 | 2017-03-29 | 华为数字技术(苏州)有限公司 | 除湿方法及摄像机 |
-
1990
- 1990-11-28 JP JP2326516A patent/JPH04197166A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003047454A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-02-18 | Takara Holdings Inc | 自動製麹装置における製麹環境調節方法及び装置 |
| JP2008125415A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-06-05 | Mitsuo Higano | 真空蒸米冷却調湿方法およびその装置 |
| CN106547284A (zh) * | 2015-09-22 | 2017-03-29 | 华为数字技术(苏州)有限公司 | 除湿方法及摄像机 |
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