JPH0419737A - Silver halide color photographic sensitive material which eliminates trace of taping - Google Patents
Silver halide color photographic sensitive material which eliminates trace of tapingInfo
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- JPH0419737A JPH0419737A JP12483290A JP12483290A JPH0419737A JP H0419737 A JPH0419737 A JP H0419737A JP 12483290 A JP12483290 A JP 12483290A JP 12483290 A JP12483290 A JP 12483290A JP H0419737 A JPH0419737 A JP H0419737A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料に関し、詳しくは
貼り込み跡の改良に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material, and specifically relates to improvement of pasting marks.
近年、印刷製版分野に於いて省力化、合理化及び作業環
境改善のため、従来暗室下で行なわれていたフィルムメ
ーキング、いわゆる返し工程作業を明るい部屋で出来る
ようにするための技術が要求され、感光材料やプリンタ
ー等の機器の改良がなされている。明室で取り扱い可能
な感光材料(以下単に明室感材と称す)としては紫外光
に富む光源、例えば、超高圧水銀灯、メタルハライド光
源、キセノンランプ、ハロゲンランプ等なとに主たる感
度を有するハロゲン化銀写真感光材料があげられる。こ
れらのハロゲン化銀写真感光材料は+00〜300ルッ
クスという明るい一般蛍光灯あるいは紫外線量の少ない
専用の蛍光灯下で取り扱うことかできる。しかし、これ
らの明室感材は従来の暗室下で取り扱われる感光材料と
比較して、また次のごとき性能が劣るという問題点があ
る。即ち返し原稿として網点画像と線画像を重ねて露光
する場合の線画性能(抜き文字性能)が劣ること、また
線画原稿、網原稿を貼り込みベース上に製版用透明テー
プで固定したとき、このテープ跡(貼り込みテープ跡)
が残り、仕上がり画像を損なうという欠点を有している
。In recent years, in order to save labor, rationalize, and improve the working environment in the printing and plate-making field, there has been a demand for technology that allows film making, the so-called film-returning process, which was traditionally carried out in a dark room, to be carried out in a bright room. Improvements have been made to materials and equipment such as printers. Photosensitive materials that can be handled in a bright room (hereinafter simply referred to as bright room photosensitive materials) include halogenated materials that are primarily sensitive to light sources rich in ultraviolet light, such as ultra-high pressure mercury lamps, metal halide light sources, xenon lamps, and halogen lamps. Examples include silver photographic materials. These silver halide photographic light-sensitive materials can be handled under a bright general fluorescent lamp of +00 to 300 lux or a special fluorescent lamp with a low amount of ultraviolet rays. However, these bright room photosensitive materials have the following problems as compared to conventional photosensitive materials that are handled in a dark room. In other words, line drawing performance (cutting character performance) is poor when exposing halftone dot images and line images overlappingly as a returned original, and when line drawing originals and halftone originals are pasted and fixed on the base with transparent plate-making tape. Tape marks (attached tape marks)
This has the disadvantage that it leaves behind and spoils the finished image.
上記のごとき、明室感材の問題点に対して本発明の目的
は、選択した光源による露光で良好な性能、特に写真性
能として返し特性における抜き文字品質が良く、更にテ
ープ貼り込み跡のでないハロゲン化銀写真感光材料を提
供することにある。In order to solve the above-mentioned problems of light-sensitive materials, the purpose of the present invention is to provide good performance when exposed to light from a selected light source, in particular, good photographic performance, with good cutout character quality in return characteristics, and to avoid tape pasting marks. An object of the present invention is to provide a silver halide photographic material.
本発明の上記目的は、一般式〔■〕で示される固体微粒
子分散体を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真
感光材料により達成される。The above object of the present invention is achieved by a silver halide photographic material characterized by containing a solid fine particle dispersion represented by the general formula [■].
さらに本発明のハロゲン化銀写真感光材料はとドラジン
化合物またはテトラゾリウム化合物を含有することか望
ましい。Furthermore, it is desirable that the silver halide photographic material of the present invention contains a drazine compound or a tetrazolium compound.
一般式(1’1
式中、R1及びR2は、水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基、So、M(MはH,Naまたはに原子を表す)、
C00N(NはH,Naまたはに原子を表す)#換又は
非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基を表
す。R,、RいR6はハロゲン原子、ニトロ基を表す。General formula (1'1, where R1 and R2 are a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, So, M (M represents H, Na, or an atom),
C00N (N represents H, Na, or an atom) #Represents a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group. R,, R6 represents a halogen atom or a nitro group.
R8〜R6基中には少なくとも1つのカルボキシル基を
有する。XはNHまたはN、 0、S原子を表す。The R8 to R6 groups contain at least one carboxyl group. X represents NH or an N, 0, or S atom.
以下、本発明につき詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in detail.
本発明に用いられる紫外部に吸収を有する固体微粒子分
散体(以下、単にLJV剤という)を用いる方法は、一
般に広く用いられる紫外線吸収剤を水あるいは有機溶媒
に溶解してバインダー中に含有せしめる方法とは本質的
に異なり、pH6以下では本質的に水に溶解しないタイ
プの紫外線吸収剤を水溶液中あるいはゼラチン液中など
に投入して、ボールミルやサンドミル中で微粒子化せし
めた分散体を用いることにある。本発明はこのようにし
て分散した固体微粒子分散体をハロゲン化銀写真感光材
料中のある層に固定化させることにある。The method of using a solid fine particle dispersion that absorbs in the ultraviolet region (hereinafter simply referred to as LJV agent) used in the present invention is a method in which a commonly used ultraviolet absorber is dissolved in water or an organic solvent and incorporated into a binder. Essentially different from this, we use a dispersion in which a type of ultraviolet absorber that is essentially insoluble in water at pH 6 or below is added to an aqueous solution or gelatin solution and made into fine particles in a ball mill or sand mill. be. The object of the present invention is to fix the solid fine particle dispersion thus dispersed in a certain layer of a silver halide photographic light-sensitive material.
上記の方法によって得られた固体微粒子分散体は画像形
成時に有効に作用し、ヌキ文字品質及び貼り込みを良化
する。The solid fine particle dispersion obtained by the above method acts effectively during image formation and improves the quality of blank characters and pasting.
このような作用を示すのに適した化合物の具体例を以下
に示す。Specific examples of compounds suitable for exhibiting such effects are shown below.
一般式
本発明においてハロゲン化銀乳剤層にテトラゾリウム化
合物又はヒドラジン化合物を含有することが好ましい。General Formula In the present invention, it is preferable that the silver halide emulsion layer contains a tetrazolium compound or a hydrazine compound.
この場合、本発明の実施に際して含有させるテトラゾリ
ウム化合物としては、例えは代表的には下記一般式CT
I)、CTI[)又は[:TI[I:]で示すことがで
きる。In this case, the tetrazolium compound to be contained in carrying out the present invention is typically represented by the following general formula CT
I), CTI[) or [:TI[I:].
一般式CTI:]
一般式(Tll)
一般式
%式%[)
式中、R+、Rs、R−、Rs、Ra、RI+Rl。及
びR1は、それぞれアルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ドデシル基等)、アルケニル基(例
えばビニル基、アリル基、プロペニル基等)、アリール
基(例えばフェニル基、トリル基、ヒドロキシフエニル
基、カルボキシフェニル基、アミノフェニル基、メルカ
プトフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、ヒ
ドロキシナフチル基、カルボキシナフチル基、アミノナ
フチル基等)、及び複素環基(例えばチアゾリル基、ベ
ンゾチアゾリル基、オキサシリル基、ピリミジニル基、
ピリジル基等)から選ばれる基を表し、これらは(・ず
れも金属キレートあるいは錯体を形成するような基でも
よい。General formula CTI: ] General formula (Tll) General formula % formula % [) In the formula, R+, Rs, R-, Rs, Ra, RI+Rl. and R1 each represent an alkyl group (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, dodecyl group, etc.), an alkenyl group (e.g., vinyl group, allyl group, propenyl group, etc.), an aryl group (e.g., phenyl group, tolyl group, hydroxyl group, etc.). enyl group, carboxyphenyl group, aminophenyl group, mercaptophenyl group, α-naphthyl group, β-naphthyl group, hydroxynaphthyl group, carboxynaphthyl group, aminonaphthyl group, etc.), and heterocyclic groups (e.g. thiazolyl group, benzothiazolyl group) , oxacylyl group, pyrimidinyl group,
(pyridyl group, etc.), and these may also be groups that form metal chelates or complexes.
R2,R、及びR7はそれぞれアリル基、置換基を有し
てもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基
、複素環基、アルキル基(例えはメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、メルカプトメチル基、メルカプ
トエチル基等)、ヒドロキシル基、カルボキシル基又は
その塩、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカル
ボニル基、エトキシカルボニル基等)、アミノ基(例え
はアミン基、エチルアミノ基、アニリノ基等)、メルカ
プト基、ニトロ基又は水素原子から選ばれる基を表し、
Dは2価の芳香族基を表し、Eはアルキレン基、アリレ
ン基、アラルアルキレン基から選ばれる基を表し、Xo
は硫黄原子化されたアニオンを表し、nはl又は2の整
数を表す。ただし化合物が分子内塩を形成する場合nは
lである。R2, R, and R7 each represent an allyl group, a phenyl group that may have a substituent, a naphthyl group that may have a substituent, a heterocyclic group, an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group,
propyl group, butyl group, mercaptomethyl group, mercaptoethyl group, etc.), hydroxyl group, carboxyl group or its salt, alkoxycarbonyl group (e.g. methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc.), amino group (e.g. amine group, ethylamino group, anilino group, etc.), a mercapto group, a nitro group, or a hydrogen atom,
D represents a divalent aromatic group, E represents a group selected from an alkylene group, an arylene group, an aralalkylene group, and Xo
represents a sulfur atomized anion, and n represents an integer of l or 2. However, when the compound forms an inner salt, n is l.
次ぎに前記一般式〔TI:]、CTII)又は〔Tm〕
で表されるテトラゾリウム化合物のカチオン部の具体例
を示すが、本発明はこれらのみに限定されるものではな
い。Next, the general formula [TI:], CTII) or [Tm]
Specific examples of the cation moiety of the tetrazolium compound represented by are shown below, but the present invention is not limited to these.
例示化合物:
■
2−(ベンゾチアゾール−2−イル)−3−フェニル−
5−ドデシル−2H−テトラゾリウムT−2)2、3−
ジフェニル−5−(4−t−オクチルオキ・7フエニル
)−2H−テトラツリウム
2、3.5− )リフユニルー2Hーテトラゾリウム2
、3.5− トリ(p−カルポキンユチルフェニル)−
2H−テトラゾリウム
2−(ベンゾチアゾール−2−イル)−3−フェニル−
5−(o− クロルフェニル)−28−テトラゾリウム
2、3−ジフェニル−2H−テトラゾリウム2、3−ヒ
ス(p−メトキンフェニル)−5−フェニル−2H−テ
トラツリウム
2−(p−メトキシフェニル)−3−(p− トルイル
〕5ーフェニルー2Hーテトラゾリウム
2、3−ジフェニル−5−モチルー2H−テトラゾリウ
ム
2、3−ジフェニル−5−n−ベキ/ルー2Hーテトラ
ゾリウム
5−シアノ−2.3−ジフェニル−2H−テトラソT
−12
T−13
リウム
2−(ベンゾチアゾール−2−イル)−5−フェニル−
3−(4−トリル)−2H−テトラゾリウム2−(ベン
ゾチアゾール−2−イル)−5−(4−クロロフェニル
)−3−(4−ニトロフェニル)2H−テトラゾリウム
5−エトキシカルボニル−2,3−ジ(3−ニトロフェ
ニル)−2H−テトラゾリウム
5−アセチル−2,3−ジ(p−エトキシフェニル)2
H−テトラゾリウム
2.5−ジフェニル−3−(p−トリール)−2H−テ
トラゾリウム
2.5−ジフェニル−3−(p−ヨードフェニル)−2
)1−テトラゾリウム
2.3−ジフェニル−5−(p−ジフェニル)−2H−
テトラゾリウム
5−(p−ブロモフェニル)−2−フェニル−3−(2
゜46−ドデシルフェニル)−2H−テトラゾリウム
3−(p−ハイドロキシフェニル)−5−(p−ニトロ
フェニル)−2−フェニル−2H−テトラゾリウム
T−215−(3,4−ジメトキンフエニル)−3−(
2−エトキシフェニル)−2−(4−メトキシフェニル
)−2H−テトラゾリウム
T−225−(4−シアノフェニル)−2,3−、ジフ
ェニル2H−テトラツリウム
T−233−(p−アセトアミドフェニル)−2,5−
シ゛フェニルー2H−テトラゾリウム
T−245−アセチル−2,3−ジフェニル−2H−テ
トラゾリウム
T−255−(フルー2−イル)−2,3−ジフェニル
−2H−テトラゾリウム
T−265−(チエシー2−イル)−2,3−ジフェニ
ル−2Hテトラゾリウム
T−272,3−ジフェニル−5−(ピリド−4−イル
)−28テトラゾリウム
T−282,3−ジフェニル−5−(キノール−2−イ
ル)−2H−テトラゾリウム
T−292,3−ジフェニル−5−(ベンゾオキサソー
ル2−イル)−2H−テトラゾリウム
T−302,3,5−トリ(p−エチルフェニル)−2
H−テトラゾリウム
T−312,3,51す(p−アリルフェニル)−2H
−テトラゾリウム
T−322,3,5−トリ(p−ヒドロキンエチルオキ
シエトキノフェニル)−2H−テトラゾリウムT−33
2,3,51−リ(p−ドデシルフェニル)−2H−テ
トラゾリウム
T−342,3,5−hす(p−ベンジルフェニル)−
2H−テトラゾリウム
次に前記一般式〔■〕、〔■〕又は(nl’lで表され
るテトラゾリウム化合物のアニオン部は下記一般式(a
) 、 (b) 、 [:cl 、 [:d〕又は〔e
〕で表すことかできる。Exemplary compounds: ■ 2-(benzothiazol-2-yl)-3-phenyl-
5-dodecyl-2H-tetrazolium T-2) 2,3-
Diphenyl-5-(4-t-octylox.7phenyl)-2H-tetrathulium 2,3.5- )rifuniru2H-tetrazolium 2
, 3.5-tri(p-carpoquinyuthylphenyl)-
2H-tetrazolium 2-(benzothiazol-2-yl)-3-phenyl-
5-(o-chlorophenyl)-28-tetrazolium 2,3-diphenyl-2H-tetrazolium 2,3-his(p-methquinphenyl)-5-phenyl-2H-tetrazolium 2-(p-methoxyphenyl) -3-(p-tolyl)5-phenyl-2H-tetrazolium 2,3-diphenyl-5-moty-2H-tetrazolium 2,3-diphenyl-5-n-bek/ru2H-tetrazolium 5-cyano-2,3-diphenyl -2H-tetrasoT
-12 T-13 Lium 2-(benzothiazol-2-yl)-5-phenyl-
3-(4-tolyl)-2H-tetrazolium 2-(benzothiazol-2-yl)-5-(4-chlorophenyl)-3-(4-nitrophenyl)2H-tetrazolium 5-ethoxycarbonyl-2,3- Di(3-nitrophenyl)-2H-tetrazolium 5-acetyl-2,3-di(p-ethoxyphenyl)2
H-tetrazolium 2.5-diphenyl-3-(p-tolyl)-2H-tetrazolium 2.5-diphenyl-3-(p-iodophenyl)-2
) 1-tetrazolium 2.3-diphenyl-5-(p-diphenyl)-2H-
Tetrazolium 5-(p-bromophenyl)-2-phenyl-3-(2
゜46-dodecylphenyl)-2H-tetrazolium 3-(p-hydroxyphenyl)-5-(p-nitrophenyl)-2-phenyl-2H-tetrazolium T-215-(3,4-dimethquinphenyl)- 3-(
2-ethoxyphenyl)-2-(4-methoxyphenyl)-2H-tetrazolium T-225-(4-cyanophenyl)-2,3-, diphenyl 2H-tetrazolium T-233-(p-acetamidophenyl)- 2,5-
Diphenyl-2H-tetrazolium T-245-acetyl-2,3-diphenyl-2H-tetrazolium T-255-(fluor-2-yl)-2,3-diphenyl-2H-tetrazolium T-265-(thiec-2-yl)- 2,3-diphenyl-2H-tetrazolium T-272,3-diphenyl-5-(pyrid-4-yl)-28tetrazolium T-282,3-diphenyl-5-(quinol-2-yl)-2H-tetrazolium T -292,3-diphenyl-5-(benzoxasol-2-yl)-2H-tetrazolium T-302,3,5-tri(p-ethylphenyl)-2
H-tetrazolium T-312,3,51su(p-allylphenyl)-2H
-Tetrazolium T-322,3,5-tri(p-hydroquinethyloxyethoquinophenyl)-2H-tetrazolium T-33
2,3,51-li(p-dodecylphenyl)-2H-tetrazolium T-342,3,5-h(p-benzylphenyl)-
2H-Tetrazolium Next, the anion part of the tetrazolium compound represented by the general formula [■], [■] or (nl'l) is represented by the following general formula (a
), (b), [:cl, [:d] or [e
] can be expressed as
一般式〔a〕
式中、R12は炭素原子数1〜32のアルキル基で、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ヘキ。General Formula [a] In the formula, R12 is an alkyl group having 1 to 32 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a hexyl group.
ル基、ノニル基、ドデシル基、ヘキサデンル基等を表す
が、これらの基は少なくとも1つの硫黄原子を含む。n
は1〜3の整数を表わし、nlは0〜4の整数を表す。represents a sulfur group, a nonyl group, a dodecyl group, a hexadenyl group, etc., and these groups contain at least one sulfur atom. n
represents an integer of 1 to 3, and nl represents an integer of 0 to 4.
一般式〔b〕 R13−OCO−CH2 R,、−0Co−CH−R,。General formula [b] R13-OCO-CH2 R,, -0Co-CH-R,.
一般式(c) R,6−OCO−CH2 R17−OCO−CH R,、−0CO−CH−R,。General formula (c) R,6-OCO-CH2 R17-OCO-CH R,, -0CO-CH-R,.
式中、R131R+a+R16+ R11及びR16は
、それぞれ炭素原子数l〜32の直鎖又は分岐状のアル
キル基で、例えばメチル基、エチル基、ブチル基、イソ
ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニ
ル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基等を表す
が環状をなすアルキル基でもよく、これらの基は少なく
とも1つの硫黄原子を含む。またR 13+R14+R
16+R17及びReaは、それぞれアリール基、例え
はフェニル基、ナフチル基等を表し、これらのアリール
基は少なくとも1つの硫黄原子を含む。In the formula, R131R+a+R16+ R11 and R16 are each a linear or branched alkyl group having 1 to 32 carbon atoms, such as methyl group, ethyl group, butyl group, isobutyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, nonyl group. It represents a decyl group, a dodecyl group, an octadecyl group, etc., but it may also be a cyclic alkyl group, and these groups contain at least one sulfur atom. Also R 13+R14+R
16+R17 and Rea each represent an aryl group, such as a phenyl group, a naphthyl group, etc., and these aryl groups contain at least one sulfur atom.
さらにR15及びR1,はカルボキシラド基、スルホナ
ト基又はリン酸基等の酸基を表す。Further, R15 and R1 represent an acid group such as a carboxylad group, a sulfonate group or a phosphoric acid group.
一般式〔d〕
式中、R2゜は炭素原子数1〜32の飽和、不飽和の直
鑓又は分岐状のアルキル基を表し、例えば飽和アルキル
基としては、メチル基、エチル基、ブチル基、インブチ
ル基、ヘキンル基、ドデンル基、オクタデシル基等を表
し、不飽和アルキル基としては例えばアリル基、プデニ
ル基、オクテニル基等を表す。そしてこれらの飽和、不
飽和のアルキル基は少なくとも1つの硫黄原子を含むo
R2及びR3は1〜3の整数を示す。またn、は0〜
6の整数を表す。General formula [d] In the formula, R2 represents a saturated or unsaturated straight or branched alkyl group having 1 to 32 carbon atoms, and examples of the saturated alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a butyl group, It represents an inbutyl group, a hequinyl group, a dodenyl group, an octadecyl group, etc., and as an unsaturated alkyl group, it represents, for example, an allyl group, a podenyl group, an octenyl group, etc. And these saturated and unsaturated alkyl groups contain at least one sulfur atom.
R2 and R3 represent integers of 1 to 3. Also, n is 0~
Represents an integer of 6.
一般式〔e〕
式中、Yは硫黄原子、セレン原子、酸素原子、窒素原子
又はR22基(ここでR22は水素原子又はN−
炭素原子数1〜3のアルキル基、例えばメチル基、エチ
ル基を表す)を表しR21は、前記一般式(a)におけ
るR12で表される基と同義の基又は少なくとも1つの
硫黄原子を含むアリール基(例えばフェニル基、ナフチ
ル基等)を表す。またZは、5員又は6員ヘテロ環を形
成するのに必要な原子群を表し、これらの例としては、
チアゾール環、セレナゾール環、オキサゾール環、イミ
ダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、テトラゾ
ール環、ピリミジン環。トリアジン環等を挙げることが
できる。General formula [e] In the formula, Y is a sulfur atom, a selenium atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, or an R22 group (where R22 is a hydrogen atom or an N- alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group R21 represents a group having the same meaning as the group represented by R12 in the general formula (a) or an aryl group containing at least one sulfur atom (eg, phenyl group, naphthyl group, etc.). In addition, Z represents an atomic group necessary to form a 5- or 6-membered heterocycle, examples of which include:
Thiazole ring, selenazole ring, oxazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, triazole ring, tetrazole ring, pyrimidine ring. A triazine ring etc. can be mentioned.
上記のへテロ環には更にアルキル基、アリール基等の置
換基を有してもよい。The above heterocycle may further have a substituent such as an alkyl group or an aryl group.
本発明に使用するテトラゾリウム化合物は、1種を用い
てもよく、また、2種以上を任意の比率で組み合わせて
併用することもできる。The tetrazolium compounds used in the present invention may be used alone or in combination of two or more in any ratio.
本発明に係わるテトラゾリウム化合物は本発明の感光材
料中に含有されるハロゲン化銀1モル当りl X 10
−’モルから10モルまで、特に2 X 10−’−1
1−ルから2 X to−’モルまでの範囲で用いるの
か好ましい。The tetrazolium compound according to the present invention has an amount of 1 x 10 per mole of silver halide contained in the light-sensitive material of the present invention.
-' mol to 10 mol, especially 2 X 10-'-1
It is preferable to use it in the range of 1 to 2 x to' moles.
好ましい添加量は架橋剤に対して、5〜200wt%で
ある。A preferable addition amount is 5 to 200 wt% based on the crosslinking agent.
本発明に用いられるヒドラジン化合物は、好ましくは下
記一般式〔H〕で表される化合物である。The hydrazine compound used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula [H].
一般式〔H〕 Q、 Q2 X。General formula [H] Q, Q2 X.
R,−N −N −C−R2
式中、R1は1価の有機残基を表し、R2は水素原子ま
たは1価の有機残基を表し、Q、及びQ2は水素原子、
アルキルスルホニル基(置換基を有するものも含む)、
アリールスルホニル基(置換基を宵するものも含む)を
表し、Xlは酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式
〔H〕で表される化合物のうち、Xlか酸素原子であり
、かつR2か水素原子である化合物が更に好ましい。R, -N -N -C-R2 In the formula, R1 represents a monovalent organic residue, R2 represents a hydrogen atom or a monovalent organic residue, Q and Q2 are a hydrogen atom,
Alkylsulfonyl group (including those with substituents),
It represents an arylsulfonyl group (including those having a substituent), and Xl represents an oxygen atom or a sulfur atom. Among the compounds represented by the general formula [H], compounds in which Xl is an oxygen atom and R2 is a hydrogen atom are more preferred.
上記R1及びR2の1価の有機残基としては、芳香族残
基、複素環残基及び脂肪族残基か包含される。The monovalent organic residues for R1 and R2 include aromatic residues, heterocyclic residues, and aliphatic residues.
芳香族残基としては、フェニル基、ナフチル基及びこれ
らに置換基(例えはアルキル基、アルコキノ基、アフル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキンカルボ
ニル基、シアノ基、カルボキシ基、ニド四基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アンルアミノ基、スルホンアミド基、
ウレア基、チオウレア基など)のついたものを含む。置
換基のついたものの具体例として、例えば、4メチルフ
エニル基、4−エチルフェニル基、4−オキシエチルフ
ェニル基、4−ドデシルフェニル基、4〜カルボキシフ
エニル基、4−’;エチルアミノフユニル基、4−オク
チルアミノフェニル基、4−ベンジルアミノフェニル基
、4−アセトアミド−2−メチルフェニル基、4−(3
−エチルチオウレイド)フェニル基、4−[2−(2,
4−ジーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド]
フェニル基、4−[2−(2,4−シーtert−ブチ
ルフェノキシ)ブチルアミド1 フェニル基などを挙げ
ることができる。Aromatic residues include phenyl groups, naphthyl groups, and substituents thereof (for example, alkyl groups, alkokino groups, afurhydrazino groups, dialkylamino groups, alkoxycarbonyl groups, cyano groups, carboxy groups, nido tetragroups, and alkylthio groups). , hydroxy group, sulfonyl group, carbamoyl group, halogen atom, anruamino group, sulfonamide group,
urea group, thiourea group, etc.). Specific examples of those with substituents include 4-methylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 4-oxyethylphenyl group, 4-dodecylphenyl group, 4-carboxyphenyl group, 4-'; ethylaminophenyl group, 4-octylaminophenyl group, 4-benzylaminophenyl group, 4-acetamido-2-methylphenyl group, 4-(3
-ethylthioureido)phenyl group, 4-[2-(2,
4-di-tert-butylphenoxy)butyramide]
Examples include phenyl group, 4-[2-(2,4-tert-butylphenoxy)butyramide 1 phenyl group, and the like.
複素環残基としては、酸素、窒素、硫黄、またはセレン
原子のうち少なくとも一つを有する工員もしくは六員の
単環または縮合環で、これらに置換基がついてもよい。The heterocyclic residue is a membered or six-membered monocyclic or condensed ring having at least one of oxygen, nitrogen, sulfur, or selenium atoms, and a substituent may be attached thereto.
具体的には例えば、ビロリン環、ピリジン環、キノリン
環、インドール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾー
ル環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾ
イミダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、
ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環なとの残
基を挙げることが出来る。Specifically, for example, biroline ring, pyridine ring, quinoline ring, indole ring, oxazole ring, benzoxazole ring, naphthoxazole ring, imidazole ring, benzimidazole ring, thiazoline ring, thiazole ring, benzothiazole ring, naphthothiazole ring, selenazole ring,
Examples include residues such as a benzoselenazole ring and a naphthoselenazole ring.
これらの複素環は、メチル基、エチル基等炭素数1〜4
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ本等炭素数1〜4
のアルコキシ基、フェニル基等ノ炭素数6〜18のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シカルボニル基、シアノ基、アミノ基等で置換されてい
てもよい。These heterocycles have 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group or an ethyl group.
Alkyl group, methoxy group, ethoxy group, etc. having 1 to 4 carbon atoms
may be substituted with an aryl group having 6 to 18 carbon atoms such as an alkoxy group or a phenyl group, a halogen atom such as chloro or bromine, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, or an amino group.
脂肪族残基としては、直鎖及び分岐のアルキル基、シク
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル基及びアルキニル基を含む。Aliphatic residues include linear and branched alkyl groups, cycloalkyl groups, and those with substituents, as well as alkenyl groups and alkynyl groups.
直鎖及び分岐のアルキル基としては、例えば炭素数1−
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えはメチル基、エチル基、イソブチル基、1−オ
クチル基等である。Straight-chain and branched alkyl groups include, for example, carbon atoms with 1-
18, preferably 1 to 8 alkyl groups, and specific examples include methyl group, ethyl group, isobutyl group, and 1-octyl group.
シクロアルキル基としては、例えば炭素数3〜10のも
ので、具体的には例えはシクロ70ビル基、シクロ70
ビル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキ。Examples of the cycloalkyl group include those having 3 to 10 carbon atoms, such as cyclo70vir group, cyclo70vir group, etc.
These include vil group, adamantyl group, etc. Substituents for alkyl groups and cycloalkyl groups include alkoxy groups (eg, methoxy group, ethoxy group).
基、プロポキシ基、ブトキン基等)、アルコキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、ヒドロキン基、アルキルチオ
基、アミド基、アシロキン基、シアノ基、スルホニル基
、ハロゲン原子(例えば塩素、臭素、弗素、沃素など)
、アリール基(例えはフェニル基、ハロゲン置換フェニ
ル基、アルキル置換フェニル基)等であり、置換された
ものの具体例としては例えば3−メトキシグロピル基、
エトキシカルボニルメチル基、4−クロロシクロヘキ/
ル基、ベンジル基、p−メチルベンジル基、p−クロロ
ベンジル基などを挙げることができる。また、アルケニ
ル基としては例えばアリル(alLyl) 基、アルキ
ニル基としては例えばプロパルギル基を挙げることがで
きる。group, propoxy group, butquine group, etc.), alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, hydroquine group, alkylthio group, amide group, acyloquine group, cyano group, sulfonyl group, halogen atom (e.g. chlorine, bromine, fluorine, iodine, etc.)
, aryl groups (e.g. phenyl group, halogen-substituted phenyl group, alkyl-substituted phenyl group), etc. Specific examples of substituted groups include 3-methoxyglopyl group,
Ethoxycarbonylmethyl group, 4-chlorocyclohexyl/
Examples include a p-chlorobenzyl group, a benzyl group, a p-methylbenzyl group, and a p-chlorobenzyl group. Examples of alkenyl groups include allyl (alLyl) groups, and examples of alkynyl groups include propargyl groups.
本発明のヒドラジン化合物の好ましい具体例を以下に示
すか、本発明は何等これによって限定されるものではな
い。Preferred specific examples of the hydrazine compound of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto in any way.
UH2(JH
H3
H3
しh3
=40
=43
一般式〔H〕で表わされるヒドラジン化合物の)添加位
置はハロゲン化銀乳剤層及び/または支持体上のハロゲ
ン化銀乳剤層側にある非感光層でおるが、好ましくは、
ハロゲン化銀乳剤層及び/またはその下層である。添加
量は、10−5〜10− ’モル/銀1モルか好ましく
、更に好ましくは10−4〜10−2モル/銀1モルで
ある。The addition position of UH2 (the hydrazine compound represented by the general formula [H]) is the silver halide emulsion layer and/or the non-photosensitive layer on the silver halide emulsion layer side of the support. However, preferably,
The silver halide emulsion layer and/or its lower layer. The amount added is preferably 10-5 to 10-' mol/silver 1 mol, more preferably 10-4 to 10-2 mol/silver 1 mol.
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いるハロゲン化
銀は、任意の組成の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、で
少なくとも50モル%の塩化銀を含有するものである。The silver halide used in the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention is silver chloride, silver chlorobromide, or silver chloroiodobromide of any composition, and contains at least 50 mol % of silver chloride.
ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.025〜0.5μm
の範囲のものが用いられるか0.05〜0.30μmか
より好ましい。The average particle size of silver halide grains is 0.025 to 0.5 μm
0.05 to 0.30 μm is more preferable.
本発明に係るハロゲン化銀粒子の単分散度は、下記の如
く定義する。その値は5〜60、好ましくは8〜30と
なるよう調製することが重要である。The monodispersity of silver halide grains according to the present invention is defined as follows. It is important to adjust the value to 5-60, preferably 8-30.
本発明に係るハロゲン化銀粒子の粒径は、便宜的に立方
晶粒子の穂長で表わし、単分散度は粒径の標準偏差を平
均粒径で割った値を100倍した数値で表わす。The grain size of the silver halide grains according to the present invention is conveniently expressed by the spike length of cubic grains, and the degree of monodispersity is expressed by the value obtained by dividing the standard deviation of the grain size by the average grain size times 100.
また、本発明で用い得るハロゲン化銀としては、少なく
とも2層の多層積層構造を有するタイプを用いることが
できる。例えばコア部に塩化銀、シェル部に臭化銀、逆
にコア部を臭化銀、シェル部を塩化銀である塩臭化銀粒
子であってもよい。このときヨードは任意の層に5モル
%以内で含有させることができる。Further, as the silver halide that can be used in the present invention, a type having a multilayer laminated structure of at least two layers can be used. For example, silver chlorobromide particles may have silver chloride in the core and silver bromide in the shell, or conversely, silver bromide in the core and silver chloride in the shell. At this time, iodine can be contained in any layer within 5 mol%.
本発明のハロゲン化銀乳剤調製時にはロジウム塩を添加
して感度または階調をコントロールする事かできる。ロ
ジウム塩の添加は一般にii粉粒子形成時好ましいが、
化学熟成時、乳剤塗布液調製時でも良い。When preparing the silver halide emulsion of the present invention, a rhodium salt can be added to control the sensitivity or gradation. Although the addition of rhodium salts is generally preferred during powder particle formation,
It may be used during chemical ripening or during preparation of an emulsion coating solution.
又本発明において用いられるハロゲン化銀は写真感光材
料業界で公知の種々の化学増感剤によって増感すること
ができる。Further, the silver halide used in the present invention can be sensitized with various chemical sensitizers known in the photographic material industry.
本発明に用いられるハロケン化銀は、すてに写真感光材
料業界で公知の種々な増感剤、安定剤その他の添加剤を
添加する事か出来る。The silver halide used in the present invention may contain various sensitizers, stabilizers and other additives known in the photographic material industry.
又前記ハロゲン化銀は親水性コロイド層中に話力口せし
められるか、これらの親水性コロイドはセラチンを始め
写真感光材料業界公知の種々な親水性コロイドを使用す
ることか出来、これらの親水性コロイドは、ハロゲン化
銀を含有しない層、例えはハレーンヨン防止層、保護層
、中間層にも適用出来る。The silver halide may be incorporated into a hydrophilic colloid layer, or various hydrophilic colloids known in the photographic material industry, including ceratin, may be used as the hydrophilic colloid. Colloids can also be applied to layers that do not contain silver halide, such as antihalation layers, protective layers, and interlayers.
更に本発明に用いる支持体もポリエステルフィルム等写
真感光材料業界で公知の各種支持体を用いることか出来
る。Further, as the support used in the present invention, various supports known in the photographic material industry, such as polyester film, can be used.
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いられる
現像主薬としては次のものが挙げられる。The following developing agents can be used for developing the silver halide photographic material of the present invention.
HO−(CH=CH)−OH型現像主薬の代表的なもの
としては、ハイドロキノンがあり、その他にカテコール
、ヒロガロールおよびその誘導体ならびにアス:] ル
l:” :/ 酸、クロロハイドロキノン、ブロモハイ
ドロキノン、メチルハイドロキノン、2.3−ジブロモ
ハイドロキノン、2.5−ジエチルハイドロキノン、カ
テコール、4−クロロカテコール、4−フェニル−カテ
コール、3−メトキシ−カテコール、4−アセチルーピ
ロ力ロール、アスコルヒン酸ソータ等かある。Typical examples of HO-(CH=CH)-OH type developing agents include hydroquinone, as well as catechol, hyrogallol and its derivatives, and acetic acid, chlorohydroquinone, bromohydroquinone, Examples include methylhydroquinone, 2,3-dibromohydroquinone, 2,5-diethylhydroquinone, catechol, 4-chlorocatechol, 4-phenyl-catechol, 3-methoxy-catechol, 4-acetyl-pyrolyrolyl, ascorhinic acid sorta, and the like.
また、HO−(CI(=CH)−NH2型現像剤として
は、オルトおよびパラのアミノフェノールまt二はアミ
ノヒラソロンか代表的なもので、4−アミノフェノール
、2−アミノ−6−フェニルフェノール、2−アミノ−
4−クロロ−6−フェニルフェノール、N−メチル−p
−アミノフェノール、等がある。In addition, as a HO-(CI(=CH)-NH2 type developer, ortho and para aminophenol, aminohyrasolone, 4-aminophenol, 2-amino-6-phenyl Phenol, 2-amino-
4-chloro-6-phenylphenol, N-methyl-p
-Aminophenol, etc.
更に、12N−(CH=CH)−NH2型現像剤として
は例えは4−アミノ−2−メチル−N、N−ジエチルア
ニリン、2.4−ジアミノ−N、N−ジエチルアニリン
、N−(4−アミノ−3−メチルフェニル)−七ルホリ
ン、p−フェニレンジアミン、等かある。Furthermore, examples of the 12N-(CH=CH)-NH2 type developer include 4-amino-2-methyl-N, N-diethylaniline, 2,4-diamino-N, N-diethylaniline, N-(4 -Amino-3-methylphenyl)-7-ruforine, p-phenylenediamine, etc.
ヘテロ環型現像剤としては、1−7二二ルー3−ヒラゾ
リドン、l−フェニル−44−ジメチル−3−ヒラゾリ
ドン、1〜フェニル−4−メチル−4−ヒト口キ/メチ
ル−3−ヒラゾリドン、のような3−ヒラゾリドン類、
1−フェニル−4−アミノ−5−ヒ°ラソロン、5−7
ミ ノウラノル等を挙けることかできる。Examples of the heterocyclic developer include 1-722-3-hyrazolidone, l-phenyl-44-dimethyl-3-hyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl-4-human mouth/methyl-3-hyrazolidone, 3-hyrazolidones, such as
1-phenyl-4-amino-5-hyrasolone, 5-7
I can mention things like Minouranor.
その他、T、H,ジェームス著ザ・セオリ・万ブ・ザ・
ホトグラフインク・70セス第4版(The Theo
ry of the Photographic Pr
occssFourth Edition)第291−
334頁およびン゛ヤーナル・オブ・ザ・アメリカン・
ケミカル・ソサエテ・(Journal of the
Americah Chemical 5ociet
y)第73巻、第3,100頁(1951)に記載され
ているごとき現像剤か本発明に有効に使用し得るものて
ある。これらの現像剤は単独で使用しても2種以上組合
せてもよいが、2種以上を組合せて用いる方か好ましい
。また本発明の感光材料の現像に使用する現像液には保
恒剤として、例えば亜硫酸ソータ、亜硫酸カリ、等の亜
硫酸塩を用いても、本発明の効果が損なわれることはな
く、本発明の1つの特徴として挙げることかできる。ま
た保恒剤としてヒドロキシルアミン、ヒドラジド化合物
を用いて現像液IQ当り5〜500gで、より好ましく
は20〜200gである。Others: The Theory of Everything by T. H. James
Photograph Inc. 70th edition 4th edition (The Theo
ry of the Photographic Pr
occssFourth Edition) No. 291-
334 pages and Annual of the American
Chemical Society (Journal of the
America Chemical 5ociet
y) Developers such as those described in Vol. 73, p. 3, 100 (1951) can be effectively used in the present invention. These developers may be used alone or in combination of two or more types, but it is preferable to use two or more types in combination. Furthermore, even if a sulfite salt such as sulfite sorter or potassium sulfite is used as a preservative in the developing solution used for developing the photosensitive material of the present invention, the effects of the present invention will not be impaired. This can be mentioned as one of its characteristics. Further, hydroxylamine or a hydrazide compound is used as a preservative in an amount of 5 to 500 g, more preferably 20 to 200 g, per developer IQ.
また上記のグリコール類としては、エチレングリコール
、ジエチレングリコール、フロピレンゲリコール、トリ
エチレングリコール、1.4−ブタンジオール、1.5
−ベンタンジオール等があるが、ジエチレングリコール
が好ましく用いられる。そしてこれらグリコール類の好
ましい使用量は現像液IQ当す5−500gテ、より好
マL < ハ20−200gテある。これらの有機溶媒
は単独でも併用しても用いることかできる。In addition, the above-mentioned glycols include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, 1.4-butanediol, 1.5
-bentanediol and the like, but diethylene glycol is preferably used. The preferred amount of these glycols to be used is 5 to 500 g per developer IQ, and more preferably 20 to 200 g per developer IQ. These organic solvents can be used alone or in combination.
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、上記の如き現像
抑制剤を含んだ現像液を用いて曳像旭理することにより
極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることかできる
。The silver halide photographic light-sensitive material of the present invention can be image-processed using a developer containing the above-mentioned development inhibitor to obtain a light-sensitive material with extremely excellent storage stability.
上記の組成になる現像液のpH値は9〜12であるか、
保恒性および写真特性上からpH値はlO〜11の範囲
か好ましい。Is the pH value of the developer having the above composition between 9 and 12?
From the viewpoint of stability and photographic properties, the pH value is preferably in the range of 10 to 11.
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件で処
理することができる。処理温度は、例えば現像温度は5
0°C以下が好ましく、特に30°C前後が好ましく、
また現像時間は3分以内に終了することが一般的である
か、特に好ましくは2分以内か好効果をもたらすことか
多い。また現像以外の処理工程、例えば水洗、停止、安
定、定着、さらに必要に応して前硬膜、中和等の工程を
採用することは任意であり、これらは適宜省略すること
もてきる。さらにまた、これらの処理は皿現像、枠現像
なといわゆる手現像処理でも、ローラー現像、ハンガー
現像など機械現像であってもよい。The silver halide photographic material of the present invention can be processed under various conditions. The processing temperature is, for example, the development temperature is 5
The temperature is preferably 0°C or less, particularly preferably around 30°C,
In addition, it is common for the development time to be completed within 3 minutes, and particularly preferably within 2 minutes, which often brings about good effects. Furthermore, it is optional to employ processing steps other than development, such as washing, stopping, stabilizing, fixing, and if necessary, prehardening and neutralization, and these may be omitted as appropriate. Furthermore, these treatments may be so-called manual development such as plate development or frame development, or mechanical development such as roller development or hanger development.
以下実施例によって本発明を具体的に説明する。 EXAMPLES The present invention will be specifically explained below with reference to Examples.
実施例=1
(紫外線吸収剤の固体微粒子分散)
紫外線吸収剤の分散は、ポールに容器にH2O1000
g
セラチン 120g一般
式〔■〕の化合物 200gドデシルス
ルホン酸エステルナトリウム塩0g
フン素化オクチルベンゼンスルホン酸
ナトリウム塩 2gマット
剤(S]0゜平均粒径5μm) 5g以上と酸
化ジルコニウムのヒースを入れて容器を密閉し、5日間
ボールミル分散した。分散径前記ヒーズを取り除き分散
液を得た。Example = 1 (Dispersion of solid fine particles of ultraviolet absorber) For dispersion of ultraviolet absorber, 1000 ml of H2O was placed in a container on a pole.
g Ceratin 120g Compound of general formula [■] 200g Sodium dodecyl sulfonate salt 0g Fluorinated octylbenzenesulfonic acid sodium salt 2g Matting agent (S) 0° average particle size 5 μm) 5g or more and zirconium oxide heather. The container was sealed and ball mill dispersion was performed for 5 days. Dispersion Diameter The heat was removed to obtain a dispersion.
(ハロゲン化銀乳剤の調製)
pH3,0の酸性雰囲気下で、コンドロールドタプルジ
ェット法によりロジウムを銀1モル当たり10″5モル
含有する下記表−1に示す平均粒径、ハロゲン化銀組成
単分散度の粒子を作成した。粒子の成長は、ベンジルア
デニンが1%のセラチン水溶液1f2当たり30mg含
有する系で行った。銀とハライドの混合後6−メチルー
4−ヒドロキン−L3.3a、7テトラザインデンをハ
ロゲン化銀1モル当たす600mg加えた後水洗、脱塩
した。(Preparation of silver halide emulsion) In an acidic atmosphere of pH 3.0, the average grain size and silver halide composition containing 10"5 mol of rhodium per 1 mol of silver and the composition of silver halide were prepared by the Chondral tuple jet method in an acidic atmosphere at pH 3.0. Monodispersity particles were created. The particles were grown in a system containing 30 mg of benzyladenine per 1 f2 of a 1% aqueous solution of ceratin. After mixing silver and halide, 6-methyl-4-hydroquine-L3.3a, 7 After adding 600 mg of tetrazaindene per mole of silver halide, the mixture was washed with water and desalted.
その後、ハロゲン化銀1モル当たり6Qmgの6−メチ
ル−4−ヒドロキン−1,3,3a、7−チトラザイ〉
タンを加えた後、硫黄増感をした。硫黄増感後安定剤と
して6−メチル−4−ヒドロキン−1,3,3a、7−
チトラザインデンを加えた。Thereafter, 6Qmg of 6-methyl-4-hydroquine-1,3,3a,7-titrazai per mole of silver halide
After adding tan, sulfur sensitization was performed. 6-methyl-4-hydroquine-1,3,3a,7- as a stabilizer after sulfur sensitization
Added chitrazainden.
このハロゲン化銀乳剤に下記添加剤を夫々のゑ:布量に
なるように添加し、特開昭59−19941号公報の実
施例1に開示しであるラテックス下引処理をした100
μm厚のポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布し
た。The following additives were added to this silver halide emulsion in respective amounts, and a latex subbing treatment was applied as disclosed in Example 1 of JP-A-59-19941.
It was coated on a μm thick polyethylene terephthalate support.
ラテックスポリマー・ス千しンーフ゛チルアクリレート
−アクリル酸3元共重合ポリマー10g/m’
サポニン 200mg、7m”
ドデ/ルベンセンスルホン酸ナトリウム100 m g
/’ m ”
ハイドロキノン 200mg/m2
スチレンーマレイン酸共重合体 200mg/m2没
食子酸ブチルエステル 500mg/m25−
メチルベンゾトリアゾール 30mg/m2本発
明の固体微粒子分散染料
表−1に示す
2−メルカプトベンツイミタソール−5−スルホン酸
30mg/m”イナートオセインゼラチン 1
.5g/m”銀量 2.8
g/m2上記乳剤層の上に下記保護膜層を塗布した。Latex Polymer String - Phyl acrylate - Acrylic acid ternary copolymer 10g/m'Saponin 200mg, 7m"
Dode/Sodium rubensenesulfonate 100 mg
/' m ” Hydroquinone 200mg/m2
Styrene-maleic acid copolymer 200mg/m2 Gallic acid butyl ester 500mg/m25-
Methylbenzotriazole 30mg/m2 Solid fine particle disperse dye of the present invention 2-mercaptobenzimitasole-5-sulfonic acid shown in Table 1
30mg/m” inert ossein gelatin 1
.. 5g/m” Silver amount 2.8
g/m2 The following protective film layer was coated on the above emulsion layer.
乳剤層保護膜
弗素化ジオクチルスルホコハク酸エステル300mg/
m2
マット剤:合成シリカ(平均粒径3.5μm)100m
g/m2
酸処理セラチン 1.2g/m”支
持体に対し乳剤層と反対側の面に下記バッキング層なら
びに保護膜層を塗布した。Emulsion layer protective film fluorinated dioctyl sulfosuccinate 300mg/
m2 Matting agent: Synthetic silica (average particle size 3.5μm) 100m
g/m2 Acid-treated Seratin 1.2 g/m'' The following backing layer and protective film layer were coated on the opposite side of the support from the emulsion layer.
バッキング層
ラテックスポリマー:
チレン共重合体
サポニン
バッキング染料
(a)
ブチルアクリ
レードース
0.5g、’□2
200mg、/+n2
(b)
オセインゼラチン
2.0g/m”
バッキング層保護膜
ジオクチルスルホコハク酸エステル
300mg/m2
マット剤・メタクリル酸メチル(平均粒径4,0μm)
100mg/m2
オセインセラチン(等電点4.9) 1 、1g
/m”弗素化ドブ・シルベンゼンスルホン酸ナトリウム
50mg/m”
こうして得られた試料を下記に示す露光方法により露光
し下記に示す現像液、定着液を使用して現像処理した。Backing layer latex polymer: tyrene copolymer saponin backing dye (a) Butyl acrylate dose 0.5g, '□2 200mg, /+n2 (b) Ossein gelatin 2.0g/m'' Backing layer protective film Dioctylsulfosuccinate ester 300mg/m2 Matting agent/methyl methacrylate (average particle size 4.0μm)
100mg/m2 Osein Seratin (isoelectric point 4.9) 1, 1g
/m"Sodium fluorinated dobu-silbenzenesulfonate 50 mg/m" The sample thus obtained was exposed by the exposure method shown below and developed using the developer and fixer shown below.
評価は以下のようにして行った。The evaluation was performed as follows.
[現像液処方]
(組成A)
純水(イオン交換水) 150mf
fエチレンジアミン四酢酸ニナトリウム塩 2gジエチ
レングリコール 50g亜硫酸カリウ
ム(55%W/V水溶液) 100mα炭酸カ
リウム 50gハイドロキ
ノン 15g5−メチルベン
ゾトリアゾール 200mg1−フェニル・5
−メルカプトテトラゾール 30mg水酸化カリウム
使用液のpHを1O14にする量
臭化カリウム 4.5g(組成
り)
純水(イオン交換水) 3mCジ
エチレングリコール 50gエチレン
ソアミン四酢酸ニナトリウム@ 25mg酢酸(90%
水溶液’+ 0.3mQ訃ニトロ
インタノール 110mg現像液の使用
時に水500mC中に上記組成A、組成りの順に溶かし
、IQに仕上げて用いた。[Developer prescription] (Composition A) Pure water (ion exchange water) 150mf
f Ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt 2g diethylene glycol 50g potassium sulfite (55% W/V aqueous solution) 100mα potassium carbonate 50g hydroquinone 15g 5-methylbenzotriazole 200mg 1-phenyl.5
-Mercaptotetrazole 30mg Amount to bring the pH of the potassium hydroxide working solution to 1O14 Potassium bromide 4.5g (composition) Pure water (ion-exchanged water) 3mC diethylene glycol 50g Ethylenesoaminetetraacetic acid disodium @ 25mg Acetic acid (90%
Aqueous solution '+ 0.3mQ nitrointanol 110mg When using a developer, the above composition A was dissolved in the order of composition A and composition in water 500mC, and used after finishing to IQ.
[定着液処方]
(組成A)
チオfiA酸アンモニウム
(72,5%w、’v水溶液:) 2
40mC亜硫酸ナトリウム 17
g酢酸ナトリウム・3水塩 6.5gr
lII+酎61!
クエン酸ナトリウム・2水塩 2g酢酸(
90%W/V水溶液) 13.6mQ
(組成り)
純水(イオン交換水) 17mQ硫
酸(50%Wハの水溶液) 4.7g硫
酸アルミニウム
(ALCh換算含量が8.1%W/V)水溶液) 26
.5g定着液の使用時に水500m1l中に上記組成人
1組成りの順に溶かし、112に仕上げて用いた。この
定着液のpHは約4.3であった。[Fixer formulation] (Composition A) Ammonium thiofiA acid (72.5% w, 'v aqueous solution:) 2
40mC sodium sulfite 17
g Sodium acetate trihydrate 6.5gr
lII + chu61! Sodium citrate dihydrate 2g acetic acid (
90% W/V aqueous solution) 13.6mQ
(Composition) Pure water (ion exchange water) 17 mQ sulfuric acid (50% W/V aqueous solution) 4.7 g aluminum sulfate (ALCh equivalent content 8.1% W/V aqueous solution) 26
.. When using 5 g of fixer, the above compositions were dissolved in 500 ml of water in the order of composition 1 and finished to 112 before use. The pH of this fixer was about 4.3.
[現像処理条件]
(工 程) (温 度) (時 間)現 像
38℃ 20秒定 着
28℃ 20秒水 洗 常温
20秒
露光方法
第1図に示すスペクトルを持つ米国ヒユージョン(FU
SION)社製、無電極放電管光源をガラス板下に装着
し、ガラス面上には第2図に示す貼り込み跡、抜き文字
品質を評価できるように原稿と感光材料を重ね露光した
。[Development processing conditions] (Process) (Temperature) (Time) Development
Fix at 38℃ for 20 seconds
28℃ 20 seconds water wash Room temperature
20 second exposure method
An electrodeless discharge tube light source (manufactured by SION) was attached below the glass plate, and the original and the photosensitive material were exposed in an overlapping manner so that the quality of pasting marks and cut-out characters as shown in FIG. 2 could be evaluated on the glass surface.
写真性能評価方法
(1)貼り込み跡
第2図に於いて貼り込み用ベース3.5上に網フィルム
2を載せて、更に網フィルムの周辺を透明な製版用スコ
ッチテープで固定しておき、露光現像処理した後このテ
ープ跡(貼り込み跡)がないときを「5」跡が目立ち最
も悪いレベルをrlJとして5段階評価をした。Photographic performance evaluation method (1) At the pasting mark in Figure 2, place the mesh film 2 on the pasting base 3.5, and further fix the periphery of the mesh film with transparent scotch tape for plate making. When there was no tape mark (pasting mark) after the exposure and development process, a rating of "5" was given, with the worst level being rlJ, where the mark was conspicuous and the worst level was rated on a five-point scale.
(2)抜き文字品質
抜き文字品質は、第2図に於ける網フィルム2の50%
の網点面積を持つ部分か、返し用感光材料1に50%の
網点面積となるように適正露光したとき第2図に於ける
線画フィルム4上の50μmの線巾か再現される画質を
言い、非常に良い抜き文字画質を「5」とし、最も悪い
レベルをN、+とじて5段階評価をした。(2) Cutout character quality The cutout character quality is 50% of the mesh film 2 in Figure 2.
The reproduced image quality is the line width of 50 μm on the line drawing film 4 in FIG. A five-point evaluation was made, with very good cutout character image quality being rated "5" and the worst being N and +.
結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.
〔発明の効果〕
本発明の紫外線吸収剤の固体微粒子分散体を含有する層
を設けたハロゲン化銀写真感光材料は貼り込み後の優れ
ていることか分かる。またテトラゾリウム化合物あるい
はヒドラジン化合物を含有すると更に貼り込み跡及び抜
き文字品質か優れていることが分かる。[Effects of the Invention] It can be seen that the silver halide photographic material provided with the layer containing the solid fine particle dispersion of the ultraviolet absorber of the present invention is superior after lamination. It is also found that when a tetrazolium compound or a hydrazine compound is contained, the pasting mark and cutout character quality are even better.
第1図は無電極放電管の波長と比エネルギーの関係を示
すグラフである。
第2図は貼り込み跡の評価方法を示す構成口である。FIG. 1 is a graph showing the relationship between wavelength and specific energy of an electrodeless discharge tube. FIG. 2 shows a configuration showing a method for evaluating pasting marks.
Claims (2)
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。(1) A silver halide photographic material containing a solid fine particle dispersion represented by the general formula [I].
含有することを特徴とする請求項1記載のハロゲン化銀
写真感光材料。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1及びR_2は、水素原子、ハロゲン原子
、ニトロ基、SO_3M(MはH、NaまたはK原子を
表す)、COON(NはH、NaまたはK原子を表す)
置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリー
ル基を表す。R_3、R_4、R_5はハロゲン原子、
ニトロ基を表す。R_1〜R_5基中には少なくとも1
つのカルボキシル基を有する。XはNHまたはN、O、
S原子を表す。〕(2) The silver halide photographic material according to claim 1, which contains a hydrazine compound or a tetrazolium compound. General formula [I] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, R_1 and R_2 are hydrogen atoms, halogen atoms, nitro groups, SO_3M (M represents H, Na or K atoms), COON (N represents H, Na or K atom)
Represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. R_3, R_4, R_5 are halogen atoms,
Represents a nitro group. At least 1 in R_1 to R_5 groups
It has two carboxyl groups. X is NH or N, O,
Represents an S atom. ]
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12483290A JP2829665B2 (en) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | Silver halide photographic light-sensitive material with improved imprint |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12483290A JP2829665B2 (en) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | Silver halide photographic light-sensitive material with improved imprint |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0419737A true JPH0419737A (en) | 1992-01-23 |
| JP2829665B2 JP2829665B2 (en) | 1998-11-25 |
Family
ID=14895202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12483290A Expired - Lifetime JP2829665B2 (en) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | Silver halide photographic light-sensitive material with improved imprint |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2829665B2 (en) |
-
1990
- 1990-05-15 JP JP12483290A patent/JP2829665B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2829665B2 (en) | 1998-11-25 |
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