JPH04197444A - 排気ガス浄化用触媒体およびその製造方法 - Google Patents
排気ガス浄化用触媒体およびその製造方法Info
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- JPH04197444A JPH04197444A JP2331256A JP33125690A JPH04197444A JP H04197444 A JPH04197444 A JP H04197444A JP 2331256 A JP2331256 A JP 2331256A JP 33125690 A JP33125690 A JP 33125690A JP H04197444 A JPH04197444 A JP H04197444A
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Landscapes
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- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas After Treatment (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は担体を金属製ハニカム形状とし、エンジンの排
圧を低減した排気ガス浄化用触媒体に関する。
圧を低減した排気ガス浄化用触媒体に関する。
（従来技術およびその問題点）
従来金属ハニカム担体への貴金属の担持は、■金属ハニ
カム担体に直接γ−アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）をウォッシ
ュコートするか、■アルミニウム（１）からなる金属ハ
ニカム担体を空気中で加熱することによってその表面を
Ａｌ２Ｏ３生成させた後、γ−Ａｎ２Ｃｈを約５０μｍ
ウォッシュコートし、その後金属を担持する方法が取ら
れている。■の如（、金属ハニカム担体に直接ウォッシ
ュコートした場合には、金属ハニカム担体とウォッシュ
コートシたγ−Ａ１２０３との間に、強い結合が生成し
にくいため、コートした厚いγ−ＡｌｖＯｓが剥離し易
いという欠点がある。■の場合は、金属ハニカム担体を
予め酸化処理する場合には、酸化処理によって担体表面
に生成たＡｌｚＯｓと、その上にウォッシュコートした
γ−Ａｌｔｏｓとは、Ａｌｔｏｓという点では同一であ
るが、両者間に化学的結合が生じていないので、ウォッ
シュコートされたγ−ＡｎｚＯｓの耐剥離製は不十分で
ある。
カム担体に直接γ−アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）をウォッシ
ュコートするか、■アルミニウム（１）からなる金属ハ
ニカム担体を空気中で加熱することによってその表面を
Ａｌ２Ｏ３生成させた後、γ−Ａｎ２Ｃｈを約５０μｍ
ウォッシュコートし、その後金属を担持する方法が取ら
れている。■の如（、金属ハニカム担体に直接ウォッシ
ュコートした場合には、金属ハニカム担体とウォッシュ
コートシたγ−Ａ１２０３との間に、強い結合が生成し
にくいため、コートした厚いγ−ＡｌｖＯｓが剥離し易
いという欠点がある。■の場合は、金属ハニカム担体を
予め酸化処理する場合には、酸化処理によって担体表面
に生成たＡｌｚＯｓと、その上にウォッシュコートした
γ−Ａｌｔｏｓとは、Ａｌｔｏｓという点では同一であ
るが、両者間に化学的結合が生じていないので、ウォッ
シュコートされたγ−ＡｎｚＯｓの耐剥離製は不十分で
ある。
■さらに、特開昭５６−９６７２６には、金属担体箔が
１５〜２５重量％のＣｒ、３〜６重量％のＡ１、所望に
より０．３〜１．０重量％のＹ、そして残部がＦｅであ
るフェライトステンレス鋼合金である時、空気中で８７
０〜９７０℃の間の適当な温度で加熱すると、金属箔の
加工面にＡｕｔｏｓウィスカーが生成し、このウィスカ
ーはγ−ＡｌｚＯｓがウォッシュコートされた際に、コ
ーティング層を該箔に強固に結合するのに役立つと述べ
られている。
１５〜２５重量％のＣｒ、３〜６重量％のＡ１、所望に
より０．３〜１．０重量％のＹ、そして残部がＦｅであ
るフェライトステンレス鋼合金である時、空気中で８７
０〜９７０℃の間の適当な温度で加熱すると、金属箔の
加工面にＡｕｔｏｓウィスカーが生成し、このウィスカ
ーはγ−ＡｌｚＯｓがウォッシュコートされた際に、コ
ーティング層を該箔に強固に結合するのに役立つと述べ
られている。
しかし、金属箔上のＡｌ２Ｏ５ウィスカーの役割はγ−
ＡｌｚＯｓコーティング層に該ウィスカーかからまって
コーティング層の剥離を妨げるというものに過ぎない。
ＡｌｚＯｓコーティング層に該ウィスカーかからまって
コーティング層の剥離を妨げるというものに過ぎない。
従って、この技術によって厚さ５０μｍにもおよぶγ−
ＡＩ２０ｓコーティング層の剥離を抑制できるものでは
ない。
ＡＩ２０ｓコーティング層の剥離を抑制できるものでは
ない。
また、前記したように、ウォッシュコートしたγ−Ａｊ
７をＯ，コート層は厚さが５０μｍと厚い。
７をＯ，コート層は厚さが５０μｍと厚い。
従って、該コーティング層の存在は、ハニカム担体の開
口面積を減少させ、エンジンの排圧を高める原因となっ
ている。もっとも金属担体は、セラミック担体と比較す
ると開口面積はかなり小さい。
口面積を減少させ、エンジンの排圧を高める原因となっ
ている。もっとも金属担体は、セラミック担体と比較す
ると開口面積はかなり小さい。
すなわちセラミック担体では、エンジンの排圧をセラミ
ックハニカム担体に比べかなり軽減できている。しかし
、γ−ＡＩ！ｔＯｓウォッシュコート層を無くすること
が出来れば、さらに開口面積を大きくすることが出来、
それによってさらにエンジンの排圧を低減できることと
なる。
ックハニカム担体に比べかなり軽減できている。しかし
、γ−ＡＩ！ｔＯｓウォッシュコート層を無くすること
が出来れば、さらに開口面積を大きくすることが出来、
それによってさらにエンジンの排圧を低減できることと
なる。
（発明の目的）
本発明は上記従来技術の問題点を解決するために金属ハ
ニカム担体にウォッシュコートしたγ−Ａｆ２０ｓ層を
無くし、エンジンの排圧を低減した排気ガス浄化用触媒
体を提供しようとするものである。
ニカム担体にウォッシュコートしたγ−Ａｆ２０ｓ層を
無くし、エンジンの排圧を低減した排気ガス浄化用触媒
体を提供しようとするものである。
（第１発明の説明）
本第１発明は、金属製ハニカム担体と、その上に形成し
た接合部が拡散反応によって結合している。２〜２０μ
ｍのアルミナ層と、該アルミナ層に担持した貴金属から
なることを特徴とする排気ガス浄化用触媒体に関するも
のである。
た接合部が拡散反応によって結合している。２〜２０μ
ｍのアルミナ層と、該アルミナ層に担持した貴金属から
なることを特徴とする排気ガス浄化用触媒体に関するも
のである。
本発明に係る触媒体では、担体表面に形成したＡｆ２Ｏ
ｉ層の厚さを２０μｍ以下に薄（出来るので、従来のγ
−ＡＩ！ｚＯｓウォッシュコート層に比べて厚さを１／
２以下に薄くすることが可能であり、これによって金属
ハニカム担体の開口面積を大きくすることができ、従来
の金属ハニカム担体と比べ、排気ガスの排圧を大幅に低
減できる。また、金属ハニカム担体とＡ １２２０ ｓ
層とは化学反応によって強固に結合しており、単にγ−
Ａ１ｚＯｓをウォッシュコートしたに過ぎない従来の担
体に比較してＡｌｚＯｓ層の耐剥離性が著しく向上した
。
ｉ層の厚さを２０μｍ以下に薄（出来るので、従来のγ
−ＡＩ！ｚＯｓウォッシュコート層に比べて厚さを１／
２以下に薄くすることが可能であり、これによって金属
ハニカム担体の開口面積を大きくすることができ、従来
の金属ハニカム担体と比べ、排気ガスの排圧を大幅に低
減できる。また、金属ハニカム担体とＡ １２２０ ｓ
層とは化学反応によって強固に結合しており、単にγ−
Ａ１ｚＯｓをウォッシュコートしたに過ぎない従来の担
体に比較してＡｌｚＯｓ層の耐剥離性が著しく向上した
。
（第１発明のその他の発明の説明）
前記第１発明において、金属ハニカム担体は鉄基合金、
例えばＦｅ−２０重量％Ｃｒ−５重量％Ａ１合金が用い
られる。該担体はコルゲート状に成形されるので、加工
性の良好な材質でなければならない。通常、箔の状態で
用いる。厚さは３０〜１００μｍ程度が望ましい。３０
μｍより薄いと金属ハニカム担体の強度が十分ではなく
なり、取扱が困難になる。また、１００μｍより厚いと
ハニカム担体の開口面積か小さ（リ、排気ガスの排圧低
減効果が小さくなり、金属ハニカム担体とすることのメ
リットおよび本発明を適用することの効果が小さくなる
。
例えばＦｅ−２０重量％Ｃｒ−５重量％Ａ１合金が用い
られる。該担体はコルゲート状に成形されるので、加工
性の良好な材質でなければならない。通常、箔の状態で
用いる。厚さは３０〜１００μｍ程度が望ましい。３０
μｍより薄いと金属ハニカム担体の強度が十分ではなく
なり、取扱が困難になる。また、１００μｍより厚いと
ハニカム担体の開口面積か小さ（リ、排気ガスの排圧低
減効果が小さくなり、金属ハニカム担体とすることのメ
リットおよび本発明を適用することの効果が小さくなる
。
ＡｌｚＯｓ層の厚さは、２〜２０μｍで用いる。
従来のウォッシュコート層に比べて著しく薄（できる。
２０μｍより厚いと金属ハニカム担体の開口面積が小さ
くなり、排気ガスの排ガスの排圧低減効果が小さ（なる
。逆に２μｍより薄いと貴金属を担持しにくくなる。
くなり、排気ガスの排ガスの排圧低減効果が小さ（なる
。逆に２μｍより薄いと貴金属を担持しにくくなる。
前記担体とＡＩ！ｚＯｓ層との接合部は、拡散反応によ
って結合している。該拡散反応処理は後述するように非
酸化性雰囲気中での加熱によって行う。
って結合している。該拡散反応処理は後述するように非
酸化性雰囲気中での加熱によって行う。
また、触媒金属である貴金属は、触媒において通常用い
るＰｔ、Ｒｈ、Ｐｄ等を用いる。貴金属は通常ＰｔとＲ
ｈ又はＰｔ、ＲｈとＰｄの組合せで用いる。
るＰｔ、Ｒｈ、Ｐｄ等を用いる。貴金属は通常ＰｔとＲ
ｈ又はＰｔ、ＲｈとＰｄの組合せで用いる。
ＰｔおよびＲｈの担持割合は、Ｐ ｔ／Ｒｈ触媒の場合
、Ｐｔは１．０〜２．０ ｇ／Ａ、Ｒｈは０．１０〜０
．５ｇ／１２担持する。望ましくはＰｔは１．２〜１．
６ｇ／β、Ｒｈは０．１６〜０．４ｇ／ｌ担持する。Ｐ
ｔ／Ｐｄ／Ｒｈ触媒の場合は、Ｐ １０．２〜１．ｏｇ
／ｉ！、ＰｄＯ１２〜１．２ｇ／ｌ、Ｒｈを０．０５〜
０．４ｇ、＃担持する。望ましくはｐｔを０．３〜０．
７ｇ／ｌ、Ｐｄを０．３〜１．Ｏｇ／Ａ、Ｒｈを０．０
７〜０．３ｇ／Ｉ！担持する。
、Ｐｔは１．０〜２．０ ｇ／Ａ、Ｒｈは０．１０〜０
．５ｇ／１２担持する。望ましくはＰｔは１．２〜１．
６ｇ／β、Ｒｈは０．１６〜０．４ｇ／ｌ担持する。Ｐ
ｔ／Ｐｄ／Ｒｈ触媒の場合は、Ｐ １０．２〜１．ｏｇ
／ｉ！、ＰｄＯ１２〜１．２ｇ／ｌ、Ｒｈを０．０５〜
０．４ｇ、＃担持する。望ましくはｐｔを０．３〜０．
７ｇ／ｌ、Ｐｄを０．３〜１．Ｏｇ／Ａ、Ｒｈを０．０
７〜０．３ｇ／Ｉ！担持する。
Ｐｔ／Ｒｈ触媒において、Ｐｔ量量を１．０〜２．０ｇ
／ＣＲｈの量を０．１〜０．５／ｌとする理由は、Ｐｔ
量か１．０＃、Ｒｈ量が０．１ｇ／ｊｌ！以下では、排
気ガスのエミッションが規制値を満足することが出来な
いからである。また、Ｐｔ量を２．０ｇ／ｌ、Ｒｈ量を
０．５ｇ／Ａ以上としてもそれに見合う効果が無いから
である。Ｐｔ／Ｐｄ／Ｒｈ触媒においても限定理由は同
様である。
／ＣＲｈの量を０．１〜０．５／ｌとする理由は、Ｐｔ
量か１．０＃、Ｒｈ量が０．１ｇ／ｊｌ！以下では、排
気ガスのエミッションが規制値を満足することが出来な
いからである。また、Ｐｔ量を２．０ｇ／ｌ、Ｒｈ量を
０．５ｇ／Ａ以上としてもそれに見合う効果が無いから
である。Ｐｔ／Ｐｄ／Ｒｈ触媒においても限定理由は同
様である。
また、前記Ａ（２２Ｃｈ層にＣｅをＣｅｎ２の形で含有
せしめても良い。ＣａＯ２を含有させると、その酸素ス
トレージ能を利用して、理論空燃比近傍でのＮＯ，ＨＣ
，ＣＯの浄化活性の幅を広げることができる。
せしめても良い。ＣａＯ２を含有させると、その酸素ス
トレージ能を利用して、理論空燃比近傍でのＮＯ，ＨＣ
，ＣＯの浄化活性の幅を広げることができる。
その含有量は０，１３〜０．５３モル／βが望ましい。
２．５％より少ないと前述したＣｅによる酸素ストレー
ジ能を発揮させることができない。一方ｌＯ％を越える
量を添加しても効果を期待できない。
ジ能を発揮させることができない。一方ｌＯ％を越える
量を添加しても効果を期待できない。
（第２発明の説明）
本第２発明は、鉄基合金薄板の表面に蒸着によってアル
ミニウム層を形成する工程と、該鉄基台金薄板をハニカ
ム形状の担体に成形する工程と、該ハニカム担体を非酸
化性雰囲気中で加熱してノ１ニカム担体とアルミニウム
層とを拡散によって結合する拡散処理工程と、該拡散処
理を行ったノ＼ニカム担体を酸化雰囲気中で加熱し、ア
ルミニウムを酸化してアルミナに変える酸化工程と、該
ハニカム担体に貴金属を担持する工程とからなる排気ガ
ス浄化用触媒体の製造方法に関するものである。
ミニウム層を形成する工程と、該鉄基台金薄板をハニカ
ム形状の担体に成形する工程と、該ハニカム担体を非酸
化性雰囲気中で加熱してノ１ニカム担体とアルミニウム
層とを拡散によって結合する拡散処理工程と、該拡散処
理を行ったノ＼ニカム担体を酸化雰囲気中で加熱し、ア
ルミニウムを酸化してアルミナに変える酸化工程と、該
ハニカム担体に貴金属を担持する工程とからなる排気ガ
ス浄化用触媒体の製造方法に関するものである。
本第２発明の製造方法によれば、金属ハニカム担体の表
面に２０μｍ以下の薄いＡｆ２Ｃｈを容易に形成するこ
とができるので、エンジン排カスの排圧を低減化し得る
触媒体を容易に製造できる。また、蒸着によって形成し
たＡ１層を非酸化性雰囲気中で拡散処理した後に、該Ａ
Ｉ！を酸化してＡ１．ｔＯｓ層とするため、金属ハニカ
ム担体とＡ１２Ｃｈ層が強固に結合した触媒体を得るこ
とができる。
面に２０μｍ以下の薄いＡｆ２Ｃｈを容易に形成するこ
とができるので、エンジン排カスの排圧を低減化し得る
触媒体を容易に製造できる。また、蒸着によって形成し
たＡ１層を非酸化性雰囲気中で拡散処理した後に、該Ａ
Ｉ！を酸化してＡ１．ｔＯｓ層とするため、金属ハニカ
ム担体とＡ１２Ｃｈ層が強固に結合した触媒体を得るこ
とができる。
（第２発明のその他の発明の説明）
前記第２発明においてＡＡの蒸着は真空蒸着によって行
う。鉄基合金薄板の両面に蒸着を行う。
う。鉄基合金薄板の両面に蒸着を行う。
真空蒸着はスパッタあるいは電子ビーム蒸着等の通常の
方法によって行う。
方法によって行う。
次に前記ＡＪ７を蒸着した薄板の一部をコルゲート状に
成形する。該コルゲート状の薄板と前記Ａｌを蒸着した
平板を重ねて、平板が内側になるように巻き取り、ハニ
カム状に成形し、ハニカム担体を得る。
成形する。該コルゲート状の薄板と前記Ａｌを蒸着した
平板を重ねて、平板が内側になるように巻き取り、ハニ
カム状に成形し、ハニカム担体を得る。
このハニカム担体を真空中あるいはＨ２等の非酸化性気
流中３００℃ないし６５０°Ｃの間で拡散処理を行う。
流中３００℃ないし６５０°Ｃの間で拡散処理を行う。
処理時間は３００℃近い低温では２時間程度の処理が必
要である。しかし温度と共に処理時間は短縮でき、６５
０°Ｃでは処理時間は３０分程度でもよい。この処理に
よってＡｆの一部が下地の鉄基合金中に拡散し、１１層
と担体とは結合し、かつコルゲート状の箔の突起部と平
板との間も強固に結合される。
要である。しかし温度と共に処理時間は短縮でき、６５
０°Ｃでは処理時間は３０分程度でもよい。この処理に
よってＡｆの一部が下地の鉄基合金中に拡散し、１１層
と担体とは結合し、かつコルゲート状の箔の突起部と平
板との間も強固に結合される。
次に、このハニカム担体を１０００℃以上１２００°Ｃ
以下の温度で酸化雰囲気中で１〜２時間程度加熱すると
、Ａ１層は酸化されてＡｆｆｉ２ＣＬ層となる。
以下の温度で酸化雰囲気中で１〜２時間程度加熱すると
、Ａ１層は酸化されてＡｆｆｉ２ＣＬ層となる。
このようにして生成したＡＩ！２０３層は、下地の鉄基
合金と強固に結合しており、剥離することはない。
合金と強固に結合しており、剥離することはない。
次にこのようにして作製した金属製ハニカム担体に貴金
属を担持する。本発明では貴金属粒子径が微細でかつ均
一な状態で担持されるように貴金属の分子あるいはコロ
イドを用いる方法によって行う。
属を担持する。本発明では貴金属粒子径が微細でかつ均
一な状態で担持されるように貴金属の分子あるいはコロ
イドを用いる方法によって行う。
貴金属の分子としては金属カルボニルクラスターがある
。Ｐｔのカルボニルクラスターとしては（ＮＥ ｔ ４
）［（Ｐ ｔ ５（ＣＯ）ｓ） ｎコ （ｎ＝１〜５
）等がある。ＲｈのカルボニルクラスターとしてはＲｈ
ａ（Ｃｏ）１６やＲｈ ４（ＣＯ）１□等がある。
。Ｐｔのカルボニルクラスターとしては（ＮＥ ｔ ４
）［（Ｐ ｔ ５（ＣＯ）ｓ） ｎコ （ｎ＝１〜５
）等がある。ＲｈのカルボニルクラスターとしてはＲｈ
ａ（Ｃｏ）１６やＲｈ ４（ＣＯ）１□等がある。
これらのクラスターをテトラヒドロフラン等の溶媒に溶
解し、これを前記のハニカム担体に含浸担持する。その
後ハニカムを空気中で５００℃、１時間加熱し、カルボ
ニルクラスターを分解し、貴金属を析出担持させる。
解し、これを前記のハニカム担体に含浸担持する。その
後ハニカムを空気中で５００℃、１時間加熱し、カルボ
ニルクラスターを分解し、貴金属を析出担持させる。
貴金属コロイドは塩化白金酸、塩化ロジウム、塩化パラ
ジウム等の水／アルコール溶液中で高分子（例えばＮ−
ｖｉｎｙｌ −２−ｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ ）の存在
下での環流によって得られる。このコロイド溶液を用い
て前記ハニカム担体にコロイドを含浸担持する。含浸後
学気中で約５００℃で１時間加熱し、高分子を分解し、
ハニカム中に貴金属を担持する。
ジウム等の水／アルコール溶液中で高分子（例えばＮ−
ｖｉｎｙｌ −２−ｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ ）の存在
下での環流によって得られる。このコロイド溶液を用い
て前記ハニカム担体にコロイドを含浸担持する。含浸後
学気中で約５００℃で１時間加熱し、高分子を分解し、
ハニカム中に貴金属を担持する。
また、貴金属の担持は三元触媒において、ウォッシュコ
ートＡｎｚ０３層に貴金属を担持する通常なされる方法
によって行ってもよい。
ートＡｎｚ０３層に貴金属を担持する通常なされる方法
によって行ってもよい。
また、Ｃｅ ０２を含むＡｌｔｏｓ層を形成するには、
ＡＩを蒸着する際に同時にＣｅの蒸着を、例えば二元同
時真空蒸着によって行う。ＡＩ！、Ｃｅ同時蒸着後の処
理は前記Ａｌのみを蒸着した場合と同様に行えばよい。
ＡＩを蒸着する際に同時にＣｅの蒸着を、例えば二元同
時真空蒸着によって行う。ＡＩ！、Ｃｅ同時蒸着後の処
理は前記Ａｌのみを蒸着した場合と同様に行えばよい。
（実施例）
まず、Ｆｅ−２０重量％Ｃｒ−５重量％Ａｎ鉄基合金を
冷間圧延し、厚さ５０μｍの箔を作製した。この箔を真
空蒸着装置の中に装入し、Ａ１およびＣｅを蒸発源とし
二次元同時蒸着を行い、前記箔の両面に蒸着層を形成し
た。得られた層の厚さは約ＩＯμｍであり、数層にはＣ
ｅを０．３モル／ｌ担持せしめた。
冷間圧延し、厚さ５０μｍの箔を作製した。この箔を真
空蒸着装置の中に装入し、Ａ１およびＣｅを蒸発源とし
二次元同時蒸着を行い、前記箔の両面に蒸着層を形成し
た。得られた層の厚さは約ＩＯμｍであり、数層にはＣ
ｅを０．３モル／ｌ担持せしめた。
このようにＡＩとＣｅを同時に蒸着した箔をコルゲート
状に成形した。また、同条件で蒸着した別の箔は平板の
ままとした。前記コルゲート状の箔に平板の箔を重ねて
、平板の箔が内側になるように緊密に巻き取り、ハニカ
ム構造体とした。該ハニカム担体の容積は１．３１、セ
ル密度は４００Ｃｅｌｈ ／ ｓｑ、 １ｎｃｈ、セル
の壁厚さは５０μｍである。得られた層の厚さは約ＩＯ
μｍであり、数層にはＣｅを０．３モル／ｌ含有せしめ
た。
状に成形した。また、同条件で蒸着した別の箔は平板の
ままとした。前記コルゲート状の箔に平板の箔を重ねて
、平板の箔が内側になるように緊密に巻き取り、ハニカ
ム構造体とした。該ハニカム担体の容積は１．３１、セ
ル密度は４００Ｃｅｌｈ ／ ｓｑ、 １ｎｃｈ、セル
の壁厚さは５０μｍである。得られた層の厚さは約ＩＯ
μｍであり、数層にはＣｅを０．３モル／ｌ含有せしめ
た。
次に該ハニカム構造体を真空中５００℃で１時間加熱処
理を行った。この処理によって鉄基合金箔とＡｆ−Ｃｅ
蒸着層の間で相互に拡散が生じ、鉄基合金箔との接触部
で凝着が生じ、ハニカム構造体は強固に一体化する。こ
の時点でハニカム構造体の端部を部分的に溶接し、ハニ
カム構造体を固定化する。
理を行った。この処理によって鉄基合金箔とＡｆ−Ｃｅ
蒸着層の間で相互に拡散が生じ、鉄基合金箔との接触部
で凝着が生じ、ハニカム構造体は強固に一体化する。こ
の時点でハニカム構造体の端部を部分的に溶接し、ハニ
カム構造体を固定化する。
こうして得られたハニカム構造体を大気中１１００℃で
１時間加熱した。この加熱により鉄基合金箔に蒸着した
Ａｆ−Ｃｅ合金層は完全に酸化され、Ａｌ２Ｏ５とＣｅ
Ｏ２の混合層となる。この混合層は下地の鉄基合金層
と強固に結合しており、下地との間で剥離を生じること
はない。
１時間加熱した。この加熱により鉄基合金箔に蒸着した
Ａｆ−Ｃｅ合金層は完全に酸化され、Ａｌ２Ｏ５とＣｅ
Ｏ２の混合層となる。この混合層は下地の鉄基合金層
と強固に結合しており、下地との間で剥離を生じること
はない。
次に、ハニカム構造体の表面にＰｔ／Ｒｈ貴金属を担持
した。ＰｔおよびＲｈの担持量はｐｔが１．５ｇ／ｌＲ
ｈが０．３ｇ／ｌとした。ＰｔおよびＲｈの担持は、Ｐ
ｔおよびＲｈのカルボニルクラスタである（ＮＥ ｔ
４） ［（Ｐ ｔ ５（Ｃｏ）ｓ） ｎコ（ｎ＝１〜５
’）ならびにＲｈ ｓ（ＣＯ）＋２を溶媒であるテトラ
シトロフランに溶解し、この溶液をハニカム構造体の端
部から他端へ流してＰｔおよびＲｈが均一に担持された
触媒体（実施例触媒Ｎａ１）を得た。
した。ＰｔおよびＲｈの担持量はｐｔが１．５ｇ／ｌＲ
ｈが０．３ｇ／ｌとした。ＰｔおよびＲｈの担持は、Ｐ
ｔおよびＲｈのカルボニルクラスタである（ＮＥ ｔ
４） ［（Ｐ ｔ ５（Ｃｏ）ｓ） ｎコ（ｎ＝１〜５
’）ならびにＲｈ ｓ（ＣＯ）＋２を溶媒であるテトラ
シトロフランに溶解し、この溶液をハニカム構造体の端
部から他端へ流してＰｔおよびＲｈが均一に担持された
触媒体（実施例触媒Ｎａ１）を得た。
次に比較触媒として実施例触媒で用いたのと同様の金属
製ハニカム担体にγ−Ａｆ２０ｓをウォッシュコートし
、これにＰｔ／Ｒｈ貴金属を実施例触媒と同量含浸担持
した触媒（比較例触媒ＮｌＩＣ１）を得た。ウォッシュ
コート層の厚さは５０μｍであった。
製ハニカム担体にγ−Ａｆ２０ｓをウォッシュコートし
、これにＰｔ／Ｒｈ貴金属を実施例触媒と同量含浸担持
した触媒（比較例触媒ＮｌＩＣ１）を得た。ウォッシュ
コート層の厚さは５０μｍであった。
これら実施例触媒ｂｔ、比較例触媒ＮｎＣ１の触媒体の
排気ガス流通抵抗を同一容積、セル密度で求め、比較し
た。流通抵抗は次のような方法によって行った。金属製
ハニカム担体を自動車に装置する際と同一の円筒状の保
持具内に排気ガスがハニカム内のみを通過するように装
着し、保持具の両端のフランジにパイプを接続した。一
方のパイプから空気を４ｒｒｌ’／ｍｉｎ、の流量でハ
ニカム中に流した。この時、両パイプに細管を取りつけ
、マノメータによって両端での圧力差を測定し、ハニカ
ムの流通抵抗を求めた。
排気ガス流通抵抗を同一容積、セル密度で求め、比較し
た。流通抵抗は次のような方法によって行った。金属製
ハニカム担体を自動車に装置する際と同一の円筒状の保
持具内に排気ガスがハニカム内のみを通過するように装
着し、保持具の両端のフランジにパイプを接続した。一
方のパイプから空気を４ｒｒｌ’／ｍｉｎ、の流量でハ
ニカム中に流した。この時、両パイプに細管を取りつけ
、マノメータによって両端での圧力差を測定し、ハニカ
ムの流通抵抗を求めた。
流量が４ｒｒｒ／ｍｉｎ、のもとで、比較例触媒階ＣＩ
の流通抵抗は７５ｍｍＡｑであったが、実施例触媒階１
は６８ｍｍＡｑであり、本実施例の触媒体によれば流通
抵抗を低下し得ることが分る。
の流通抵抗は７５ｍｍＡｑであったが、実施例触媒階１
は６８ｍｍＡｑであり、本実施例の触媒体によれば流通
抵抗を低下し得ることが分る。
Claims (2)
- （１）金属製ハニカム担体と、 その上に形成した接合部が拡散反応によって結合してい
る２〜２０μｍのアルミナ層と、該アルミナ層に担持し
た貴金属からなることを特徴とする排気ガス浄化用触媒
体。 - （２）鉄基合金薄板の表面に蒸着によってアルミニウム
層を形成する工程と、 該鉄基合金薄板をハニカム状の担体に成形する工程と、 該ハニカム担体を非酸化性雰囲気中で加熱してハニカム
担体とアルミニウム層とを拡散によって結合する拡散処
理工程と、 該拡散処理を行ったハニカム担体を酸化雰囲気中で加熱
し、アルミニウムを酸化してアルミナに変える酸化工程
と、 該ハニカム担体に貴金属を担持する工程と、からなる排
気ガス浄化用触媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2331256A JPH04197444A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 排気ガス浄化用触媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2331256A JPH04197444A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 排気ガス浄化用触媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04197444A true JPH04197444A (ja) | 1992-07-17 |
Family
ID=18241654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2331256A Pending JPH04197444A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 排気ガス浄化用触媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04197444A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006026561A (ja) * | 2004-07-16 | 2006-02-02 | Japan Science & Technology Agency | 触媒体、排気ガス浄化用触媒体及び触媒体の製造方法 |
-
1990
- 1990-11-28 JP JP2331256A patent/JPH04197444A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006026561A (ja) * | 2004-07-16 | 2006-02-02 | Japan Science & Technology Agency | 触媒体、排気ガス浄化用触媒体及び触媒体の製造方法 |
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