JPH0419911A - 強誘電体薄膜形成前駆体溶液の製造方法および強誘電体薄膜の製造方法 - Google Patents
強誘電体薄膜形成前駆体溶液の製造方法および強誘電体薄膜の製造方法Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
、レーザの変調素子、光シャッタ、キャパシタ膜、不揮
発性のDRAM等に適用される例えばPT、PZT、P
LZT等の強誘電体薄膜の製造方法およびその強誘電体
薄膜形成前駆体溶液の製造方法に関する。
下に示す方法(特開昭60−236404号公報)があ
る。
を、低級アルコール類等の有機溶媒に溶解して誘電体形
成前駆体溶液を形成する。
乾燥して、基板上に塗膜を形成する。
結晶化温度以下の温度で仮焼する。
れるものである。
有の複合金属酸化物(誘電体)薄膜の形成方法にあって
は、単に前駆体化合物を混ぜ合わせたものでは大気中の
水分により容易に加水分解され、均質な膜を得るのが困
難であった。そして、その膜の状態も微細な粉状となっ
ていた。
、熱分解時(焼成時)には、それぞれが単独の金属酸化
物を生成し、それらの固相反応で複合化するものである
が、その焼成時にはそれぞれの金属または化合物の揮発
性の違い(高温てはPbOは揮発し易い)から、その薄
膜の結成の制御が困難であったものである。また、1分
子レベルだけてその化合物の結合があったとしても成膜
時には微細な粉状の膜となり易く、導通を生じ易い等の
問題があった。
強誘電体薄膜を得ることを目的としている。また、本発
明は、その強誘電体薄膜形成工程において、強誘電相で
あるペロブスカイト型結晶への転移を非常に容易にする
強誘電体薄膜形成前駆体溶液の製造方法、および、この
形成前駆体溶液を用いた強誘電体薄膜の製造方法を提供
することを目的としている。
その他の成分の金属有機化合物を有機溶媒に溶解するこ
とにより、これらの金属のそれぞれについて酸素を介し
て有機基と結合した金属化合物の混合溶液を形成し、こ
の混合溶液に安定化剤を添加した後、この混合溶液に所
定量の水を加え、部分加水分解させることにより、混合
溶液中に金属−酸素−金属結合を形成して強誘電体薄膜
の形成前駆体溶液を作成する方法、および、この形成前
駆体溶液を基板上に塗布し、乾燥、熱分解を行い酸化膜
を形成した後、この酸化膜を適当な温度で焼成すること
により、チタン酸鉛(P T)、チタン酸ジルコン酸鉛
(PZT)、第3成分添加チタン酸ジルコン酸鉛(3成
分系PZT)、および、ランタン添加チタン酸ジルコン
酸鉛(PLZT)からなる群から選択される1種の強誘
電体薄膜を形成した強誘電体薄膜の製造方法である。
ケトエステル顛、オキシ酸類、高級カルボン酸類、アミ
ン類からなる群の内から選択される1種であり、その安
定化剤の添加量は、総金属原子数1molに対して0.
2〜3mo 1である強誘電体薄膜形成前駆体溶液の製
造方法である。
する強誘電体薄膜を構成するチタン酸鉛(PT)、チタ
ン酸ジルコン酸鉛(PZT)、第3成分を添加したチタ
ン酸ジルコン酸鉛(3成分系PZT)、または、ランタ
ン添加チタン酸ジルコン酸鉛(PLZT)を、形成する
ための鉛、ランタン、チタン、ジルコニウムおよびその
他の成分の有機化合物を有機溶媒に溶解する。この結果
、チタン、鉛、ランタン、ジルコニウム、および、これ
らの化合物に酸素を介して有機基と結合した金属化合物
の混合溶液が形成される。なお、有機溶媒としては低級
アルコール類、β−ジケトン類、ケトン酸類、ケトエス
テル類、オキシ酸類、オキシ酸エステル類等を使用する
。
molのβ−ジケトン類、ケトン酸類、ケトエステル類
、オキシ酸類、高級カルボン酸類、アミン類の内の一つ
を、この溶液中に添加して安定化する。金属−酸素−金
属結合を、全体としてゆるやかに重合させておくもので
ある。安定化剤を加え、溶液を部分的に安定化させるも
のである。
じず金属−酸素一命属結合が生じない虞があり、また溶
解度の問題から沈澱が生ずることもある。
1の水を、この溶液中に加え、部分加水分解すること
によって重合を進める。
するための前駆体溶液が形成されるものである。この加
える水量をコントロールすることは容易であり、その結
果、前駆体溶液の金属−酸素−金属結合を充分にコント
ロールすることができる。
することにより酸化膜を形成する。またはこれを繰り返
すことにより所定の厚さ(例えば3゜000A程度)の
薄膜を得る。
加熱焼成し、所望の結晶相、または、2相混在(例えば
強誘電相と常誘電相)のpb金含有複合金属酸化物薄膜
を形成するものである。
た特定基板上で特定の配向膜が得られる。
キューリー点以上で立方晶、それ以下で正方晶あるいは
三方晶をとり、温度低下とともに、その格子定数のa軸
は縮小し、a軸は伸張することに、着目することができ
る。
、熱膨張率の差によって基板から薄膜に伝わる応力は、
温度変化の際にa軸の挙動と一致するような方向に働き
、a軸は基板と平行になる傾向かあり、C軸配向となる
。
配向となる傾向がある。
下げの繰り返しによってその配向の傾向を高めることが
できる。
ZT)のキューリー点を中心として冷却と加熱を繰り返
す。PZT膜と基板(例えば白金基板)の熱膨張率の差
を利用して配向性を改善することとなる。
説明していくが、本発明はこれらによって限定されるも
のではない。
し、溶媒との共沸混合物として水を除去した後、テトラ
イソプロポキシチタン4.55gと、テトラブトキシジ
ルコニウム6.65gを加え、さらにアセチルアセトン
(安定化剤)10gを加えた。
、つついてイソプロピルアルコールで全体を109.3
gとし、酸化物換算で10%溶液とした。強誘電体薄膜
の形成前駆体溶液を作成するものである。
00rpmの条件で白金基板上に塗布した後、この塗膜
を乾燥する。
で1時間焼成してPZT (52/48)の薄膜を得た
。
を用いて調べたところ、強誘電性を示すペロブスカイト
型結晶の単相膜であることがわかった。
チタン7.11gとを、イソプロピルアルコールに溶解
し、さらにアセト酢酸エチル(安定化剤)9.75gを
これに加えた。
コールと水0.93gをこれに加え、全体で75.77
gとし、酸化物換算で10%濃度の強誘電体薄膜形成前
駆体溶液を作成した。
rpmの条件で白金基板上に塗布した後、この塗膜を乾
燥する。
1時間焼成してPTのN膜を得た。
用いて調べたところ、強誘電性を示すペロブスカイト型
結晶の単相膜であることがわかった。
トキシエタノールに溶解し、溶媒との共沸混合物として
水を除去した後、テトライソプロポキシチタン2.43
gとテトラブトキシジルコニウム6.09gを加え、さ
らにアセチルアセトン(安定化剤)6.83gを加えた
。
コールと水1.23gを加え、全体で80.85gとし
、酸化物換算で10%濃度の強誘電体薄膜形成前駆体溶
液を作成した。
rpmの条件で白金基板上に塗布した後、乙の塗膜を乾
燥する。
で1時間焼成してPLZT (9/65/35)の薄膜
を得た。
置を用いて調べたところ、強誘電性を示すペロブスカイ
ト型結晶の単相膜であることがわかった。
と、水を加える工程とを除き、上記実施例と同様に各成
分を混合した後、その混合溶液を10時間沸点直下の温
度で加熱還流して反応させて、酸化物換算で10%溶液
を得た。
薄膜を得た。基板への塗布、乾燥を繰り返すものである
。
調べたところ、強誘電性を示すペロブスカイト型構造の
結晶と、常誘電性を示すパイロクロア型構造の結晶との
混晶膜であることがわかった。
膜形成前駆体溶液の製造方法にあっては、焼成時におい
ても鉛等の成分元素または化合物が揮発することなく均
質な強誘電体薄膜を得ることができる。また、容易に強
誘電相であるペロブスカイト型結晶へ転移させることが
できる。
Claims (3)
- (1)鉛、ランタン、チタン、ジルコニウムの金属有機
化合物を有機溶媒に溶解することにより、これらの金属
のそれぞれについて酸素を介して有機基と結合した金属
化合物の混合溶液を形成し、この混合溶液に安定化剤を
添加した後、 この混合溶液に所定量の水を加え、部分加水分解させ、
混合溶液中に金属−酸素−金属結合を形成することによ
り、 チタン酸鉛(PT)、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)
、第3成分添加チタン酸ジルコン酸鉛(3成分系PZT
)、および、ランタン添加チタン酸ジルコン酸鉛(PL
ZT)からなる群から選択される1種の強誘電体薄膜を
形成するための強誘電体薄膜形成前駆体溶液を作成する
ことを特徴とする強誘電体薄膜形成前駆体溶液の製造方
法。 - (2)上記安定化剤は、β−ジケトン類、ケトン酸類、
ケトエステル類、オキシ酸類、高級カルボン酸類、アミ
ン類からなる群の内から選択される1種であり、 その安定化剤の添加量は、総金属原子数1molに対し
て0.2〜3molである請求項(1)に記載の強誘電
体薄膜形成前駆体溶液の製造方法。 - (3)上記請求項(1)または(2)に記載の強誘電体
薄膜形成前駆体溶液を基板上に塗布し、乾燥、熱分解を
行い酸化膜を形成した後、 この酸化膜を適当な温度で焼成することにより、チタン
酸鉛(PT)、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)、第3
成分添加チタン酸ジルコン酸鉛(3成分系PZT)、お
よび、ランタン添加チタン酸ジルコン酸鉛(PLZT)
からなる群から選択される1種の強誘電体薄膜を形成し
たことを特徴とする強誘電体薄膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2121755A JP3026310B2 (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | 強誘電体薄膜形成前駆体溶液の製造方法および強誘電体薄膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2121755A JP3026310B2 (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | 強誘電体薄膜形成前駆体溶液の製造方法および強誘電体薄膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0419911A true JPH0419911A (ja) | 1992-01-23 |
| JP3026310B2 JP3026310B2 (ja) | 2000-03-27 |
Family
ID=14819087
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2121755A Expired - Lifetime JP3026310B2 (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | 強誘電体薄膜形成前駆体溶液の製造方法および強誘電体薄膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3026310B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5679937A (en) * | 1994-08-22 | 1997-10-21 | Toyodenso Kabushiki Kaisha | Switching device |
| US6001416A (en) * | 1994-11-24 | 1999-12-14 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Oxide thin film and process for forming the same |
| US6203608B1 (en) | 1998-04-15 | 2001-03-20 | Ramtron International Corporation | Ferroelectric thin films and solutions: compositions |
| JP2003133605A (ja) * | 2001-10-26 | 2003-05-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 強誘電体素子およびそれを用いたアクチュエータ、インクジェットヘッドならびにインクジェット記録装置 |
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-
1990
- 1990-05-11 JP JP2121755A patent/JP3026310B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3026310B2 (ja) | 2000-03-27 |
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