JPH04199810A - レジスト露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、主に角型基板上に形成する電子デバイスの
写真製版工程における、基板端面及びパターン以外の部
分に塗布された不要なレジストの除去を目的とする角型
基板用のレジスト露光装置に間するものである。

［従来の技術］ 第７図及び第８図は従来、角型の大型基板の露光に用い
られる一般的な装置を示す構成図で、第７図は大型−括
露光装置、第８図はステップ及リピートプロジェクショ
ン露光装置（以下ステッパーと称す）である。第７，８
図において、（２２）は超高圧水銀ランプ、（２８）は
プライアイレンズ、（２９）は凹面鏡、（３０）はマス
ク、（１）はレジストを塗布した基板、（３１）は特定
波長の光を選択するフィルター、（３２）は光の照射範
囲を規制するブラインド、（３３）はコンデンサーレン
ズ、（３４）はレティクル、（３５）は投影レンズ、（
３６）はＸ−Ｙステージ、（３７）は定盤、（３８）は
反射鏡である。

従来は、基板に塗布されたレジストが機械部分やマスク
等と接触することにより発生するゴミを防止するなどの
目的から、これらの露光装置を用いて、パターン部の露
光と同時にパターン部以外の部分の露光も行なっていた
。

第９図（ａ）〜（ｄ）はステッパーを用いた露光例を示
す説明図で、同図（ａ）、（ｂ）は各々マスクのパター
ン例を示し、同図（ｃ）、（ｄ）は各々（ａ）、（ｂ）
のマスクを用いた基板へのパターン転写例を示している
。

（１）はレジストを塗布した基板、（３０）、（３０’
）！よマスク、（α）〜（ξ）はマスクパターン及び基
板上に転写されたマスクパターン相等部分をそれぞれ示
す。ステッパーの場合、このようにパターンを分割し画
面継ぎをしながら露光したり（第９図ａ。

Ｃ）、または半導体ＩＣのように１つのパターンを基板
上に多数配置して露光（第９図す、ｄ）するので、不要
部分のレジストを除去する為には第９図におけるパター
ン（に）、（入）、（し）、（ξ）のようにレジスト除
去専用の露光ショット（パターン無し）を追加する必要
が生じて露光ショツト数が増加し、多くの場合約２倍の
ショツト数となるので、装置の処理能力を落とす原因と
なっている。

また、大型−括露光装置は、基板の全領域を一度に露光
するので、処理能力はステッパーに比べて高いが、パタ
ーン部分に対する解像性能の点て劣っており、微細パタ
ーン部分の露光には適さない。

そこで、これらの装置の長所をとって、微細パターン部
分はステッパーで、また周辺不要部分は一括露光装置で
露光を行なったり、ステッパーの装置台数を増やして処
理能力を高めるなとの方策がとられる場合もある。しか
し、装置台数が増えコスト増につながるなどの問題点が
あった。

ざらに、第１Ｏ図は特開平１−１９２１１７号公報に示
された半導体ウェハーの露光装置を示す構成図である。

第１Ｏ図において、（３９）は半導体ウェハー、（４０
）は真空吸着Ｏリング部、（４１）は回転機構を備えた
ステージ部、（４２）は半導体ウェハーのパターン形成
部、（４３）は光ファイバー及び光照射部、（４５）、
　　（４９）はモーター、（４６）、　　（５０）はボ
ールねし、（４７）はガイド軸、（４８）はＹ方向の移
動部台座、（５１）はＸ方向に移動する露光ヘッド部分
、（４４）はボールねじ（４６）、　　ガイド軸（４７
）、　　移動部台座（４８）。

ボールねじ（ＳＯ）、　　及び露光ヘッド部分（５１）
で構成される移動機構全体を示す。また、（５２）は半
導体ウェハー（３９）のオリエンテーションフラット部
分、（５３）は半導体ウェハー（３９）の本装置による
露光部分、（５４）はオリエンテーションフラット部分
（５２）の左端Ｇを、（５６）は同右端Ｈを、（５５）
は同Ｇ−Ｈの間の部分■を、（５７）は装置本体台座部
分をそれぞれ示す。

次にこの従来例の動作の概略について述べる。

まず、半導体ウェハー（３９）はローダ−なとによって
ステージ（４１）上に搬送され、○リング部分（４０）
で真空吸着される。次に、半導体ウェハー（３９）のエ
ツジ部上に（４３）の光フアイバ一部分が来るようにモ
ーター（４５）、　　（４９）が回転し、露光ヘッド部
分（５１）を移動させる。そして、（４３）の光ファイ
バーを通してレジストの露光領域の波長の光が照射され
、同時にステージ（４１）があるスピードをもって回転
してエツジ部の露光を閏始する。この時、ウェハーの外
周を一定幅で露光するために、露光ヘット部（５１）に
取り付けられたエツジ検出センサーによってウェハーの
エツジを検出して　モーター（４５）、　　（４９）の
回転へフィードバックをかける機構となっている。オリ
エンテーションフラット部分（５２）の露光時は、オリ
エンテーションフラット部分（５２）がＸ軸と平行な位
置でステージの回転が停止し、モーター（４９）が回転
して露光ヘッド部（５１）をＸ軸方向に移動させて露光
を行なう。

［発明が解決しようとする課題］ このように半導体ウェハーなとの丸型基板用の周辺露光
専用装置は存在していたが、角型基板用の不要レジスト
周辺露光専用装置は存在しておらず、又、先に述へたよ
うに従来のステッパーや一括露光装置では、装置コスト
や処理能力の点て問題かあった。

この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、簡単な光学系及び装置構成にして、低コス
トを実現し、さらに、ステージに９０°毎の回転機構を
設け、特に角型基板のパターン外周部等のレジスト除去
露光に高い処理能力、高信頼性、汎用性を備えた角型基
板用不要レジスト露光装置を得ることを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 二の発明におけるレジスト露光装置は、レジストの感度
領域の波長の光を照射する光源、上記光を導く光ファイ
バーからなる導光系、上記光の照射を制御するシャッタ
ー、及び上記光の照射範囲を規制するブラインドで構成
され、上記光を角型基板に照射する露光ヘッド、この露
光ヘッドを上記角型基板の辺に沿った一軸方向に移動さ
せる露光ヘット駆動装置、９０’毎の基板回転機構、ビ
ンアライメント機構、及び位置座標管理機構を有し、上
記基板を保持するステージ、上記基板の搬送・搬出機構
、並びにこれらをコントロールするシーケンサ−を備え
るものである。

［作用］ この発明におけるレジスト露光装置は、レンズやミラー
を多数用いて微細パターンを結像させるような複雑な光
学系を有するパターン形成用のステッパーなとの露光装
置と異なり、複雑な光学系を必要とせず、光ファイバー
及び集光用レンズなど基板に光を照射しレジストを除去
する為の比較的簡単な光学系構成としたので、装置コス
トが低くできる。さらに、ステージ部に基板を９０°毎
に回転させる基板回転機構を設けたので、角型の大型基
板のパターン外周部分を基板の辺に沿って効率よく露光
でき、露光時間の短縮及び露光ヘット部の移動機構の簡
素化ができる。この為、光学系及びその移動機構が１組
であっても基板周辺の４辺共露光可能であり、２ないし
４Ｍｉの構成とすれは、より高い露光処理能力が発揮で
きる。そして、基板上で田の字型のように周辺部以外の
除去露光も行なうことができる。また、基板に非接触て
露光が行なえるので製品の歩留りを低下させることもな
い。

さらに、角型基板用ステップ及リピートプロジェクショ
ン露光装置と組み合わせることによって、基板の待機時
間等を利用し・て同時に処理することが可能となり、装
置の処理能力を下げる事無く露光工程の処理能力を高め
られ、かつ、水銀灯ランプ（光源）なと共通部分の共有
利用によって、装置を別々に形成した場合よりも装置コ
ストの低減がはかれる効果がある。

［実施例］ 以下、この発明の実施例を図について説明する。

第１図はこの発明の一実施例のレジスト露光装置を示す
構成図、第２図はこ、の一実施例の露光装置の光学系部
分を示す構成図、第３図はこの発明に係わる基板例を示
す平面図、第４図（Ｉ）〜（ＩＶ）はこの一実施例の露
光装置の動作、露光工程を順に示す説明図である。第１
〜４図において、（１）はレジストを塗布した角型基板
、Ａは基板（１）の点線で囲んだ内側部分を示し、微細
なパターンの形成される矩形領域、９．１，９．２は領
域への２辺の長さ、Ｌｌ、Ｌ２は基板（１）の２辺の長
さ、Ｂは基板（１）の点線で表した外側、周辺部を示し
、パターンの形成されないレジスト除去領域、ｄ　＋　
ｇ　ｄ　２１ｄｉ、　　ｄａはレジスト除去領域Ｂのそ
れぞれの幅、（２）は基板（１）を真空吸着方式などで
保持し基板回転機構（回転中心０）を備えたステージ、
（３ａ）はピンアライメント機構を構成する基板（１）
の中心をステージの回転中心０と一致させ、露光ヘッド
部の移動軸（Ｘ　、Ｙ　）と基板（１）の各辺とを平行
な位置間係にする為の固定アライメントビン、及び（３
ｂ）は同、基板（１）を押し・つける為の移動アライメ
ントピン、（４）、（１２）は光を導く光ファイバー及
び基板（１）に光を照射する露光ヘッド部分、（５）。

（１３）は露光ヘット部分（４）、（１２）によって照
射される光の領域、（６）、（１４）は露光ヘッド部分
（４）、（１２）の支持機構、（７）、（８）、（＋５
）、（１６）はそれぞれ露光ヘット部（４）、（１２）
を基板（１）の辺に平行に移動させる為のボールネジ、
（９）、（１０）、（１７）、（１８）はそれぞれボー
ルネジ（７）、（８）、（１５）、（１６）を回転させ
る為のモータ、（ＩＩ）は露光ヘッド部分（４）、その
支持機構（６）、ボールネジ（７）、モータ（ｌＯ）な
との支持体、（１９〉は露光ヘッド部分（１２）、　　
支持機構（１４）。

ボールネジ（１５）、　　モータ（１８）なとの支持体
、（２０）は（４）〜（１１）、　　（１２）〜（１９
）の移動機構のガイドレールで、これらで露光ヘッドを
一軸方向に移動させる露光ヘッド駆動機構及び位置座標
管理機構が構成されている。（２１）はこの露光装置の
基台部分をそれぞれ示す。また（２２）は光源の超高圧
水銀灯、（２３）は集光用レンズ、（２４）は光の照射
を制御する為のシャッター、Ｄは光の照射領域の幅、（
２５）は光の照射領域の幅りを可変する為のブラインド
、ＥはＤの照射領域の基板中心に近い方の端、Ｆは同し
く基板外周に近い方の端、（２６）はステージ（２）を
回転させる基板回転機構の回転用モータを示す。第４図
において斜線で示す領域（２７）はレジストの露光され
た領域を示す。

次にこの実施例における動作・作用について説明する（
Ｄ≧ｄｌ、　ｄ２．ｄ３．ｄａの場合）。まず、基板の
搬送・搬出機構であるローダ−などによって基板（１）
がステージ（２）上に搬送され、移動アライメントピン
（３ｂ）によって基板（１）が固定ピン（３ａ）にそれ
ぞれ押しつけられ、基板（１）とステージの回転中心を
一致させ、露光ヘットの移動方向（Ｘ、Ｙ〉と基板の各
辺とがそれぞれ平行になるようにアライメントを行なう
（第４図Ｉ）。次に、露光照射領域（５）、　　（１３
）の間隔が２１となり、基板（１）上でｄ＋、ｄ２の位
置関係になるようにモータ（９）、　　（１７）が回転
し、移動機構（７）〜（１１）・（１５）〜（＋９）に
よって露光ヘット部分（４）、（＋２）の移動が行なわ
れる。次に　露光ヘッド部分（４）、（１２）が基板（
１）の平行な２辺に沿って矢印の方向に平行移動するよ
うにモータ（ｔｏ）、（１８）が回転し、移動機構（６
）、（７）、（ｔｏ）および（１４）、（１５）、（１
８）によって移動が行なわれる。この時、露光光学系の
シャッター（２４）が開き光照射が行なわれる。尚、露
光ヘッドの移動速度は、レジストの感光に十分な露光エ
ネルギーが与えられるように決定される。また、基板（
１）の２辺の露光が終了したらシャッター（２４）は閉
じられ光照射は一時中断する。その後ステージ（２）の
基板回転機構（回転用モータ（２６））によって回転中
心○を中心として基板（１）が９０°反時計方向に回転
される（第４図■）。次に露光照射領域（５）、（１３
）の間隔が２２となり、基板（１）上てｄ３＋ｄ４の位
置関係になるようにモータ（９）、（１７）が回転し、
移動機構（７）〜（１１）・（１５）〜（１９）によっ
て露光ヘッド部分（４）、　（１２）の移動が行なわれ
る。次に露光ヘット部分（４）、（１２）が基板（１）
の平行な残りの２辺に沿って矢印の方向に平行移動する
ようにモータ（１０）、　　（１８）が回転し、移動機
構（６）、　（７）。

（１０）および（１４）、　　（１５）、　　（１８）
によって移動が行なわれる。この時、露光光学系のシャ
ッター（２４）が開き、再び光照射が行なわれる。尚、
露光ヘットの移動速度は、レジストの感光に十分な露光
エネルギーが与えられるように決定される。また、基板
（１）の辺の露光が終了したらシャッター（２４）は閉
じられ光照射は終了する。その後ステージ（２）の基板
回転機構（回転用モータ（２６））によって回転中心○
を中心として基板（１）が９０°時計方向に回転される
（第４図■）。次に移動アライメントピン（３ｂ）の押
しつけ及びステージ（２）の真空吸着が解除され、基板
の搬送・搬出機構であるアンローダ−などによって基板
（１）がステージから搬出される（第４図■）。なお、
これらの制御はシーケンサ−で行われている。

このように、ステージに９０°毎の回転機能をもたせて
いるので、露光に要する時間が短縮でき、効率よく周辺
露光を行なうことができる。また、露光する光照射部分
に可変できるブラインドを設けたので、基板周辺部分′
口の字型′はもちろん、基板に対して′田の字型パ目の
字型′のように周辺部位外のレジスト不要部分を露光す
るような場合でも露光が可能で、露光の幅も自由に可変
でき、汎用性がある。また、周辺露光に必要な最小限の
簡単な光学系で構成したので装置コストが低減できる。

次にこの発明の角型基板用不要レジスト露光装置をステ
ップ及リピートプロジェクション露光装置に付加した一
実施態様について説明する。第５図はこの実施態様のレ
ジスト露光装置を上方から示す構成図であり、この不要
レジスト露光の光学系は第２図と同様、その露光動作は
第４図（Ｉ）〜（ｒＶ）と同様である。また、第６図に
おける破線Ｊで囲んだ部分は第８図に示す従来のステッ
プ及リピートプロジェクション露光装置と同様に構成さ
れている。（１）はレジストを塗布した第１図と同様の
基板、（５８）は基板（１）′を真空吸着方式などて保
持し回転機構（回転中心０）を備えた基板搬送機構の台
座、（３ａ）は基板（１）の中心を基板搬送機構の回転
中心Ｏと一致させ、露光ヘッド部の移動軸（Ｘ、　　Ｙ
）と基板（１）の各辺とを平行な位置関係にする為の固
定アライメントビン、（３ｂ）は同、基板（１）を押し
つける為の移動アライメントビン、（３５）はステップ
及リピートプロジェクション露光装置の投影レンズ、（
３６）はＸ−Ｙステージ、（３７）は定盤、（４）、（
１２）は光を導く光ファイバー及び基板（１）に光を照
射する露光ヘッド部分、（６）、（１４）は露光ヘッド
部分（４）、（１２）の支持機構、（７）、（８）。

（１５）、（１６）はそれぞれ露光ヘッド部（４）、（
１２）を基板（１）の辺に平行に移動させる為のボール
ネジ、（６０）は（５９）の搬送アーム部をボールネジ
（６０）の長さ方向に移動させる為のボールネジ、（６
１）、　　（６２）はＸ−Ｙステージ（３６）をＸ、−
Ｙ方向に移動させる為のボールネジ、（９）、（１０）
、（１７）ア（１８）　、　（６３）　、　（６４）。

（６５）はそれらのボールネジ（７）　、（８）　、（
＋５）、（１６）。

（６０）、（６１）、（６２）を回転させる為のモータ
、（１１）は露光ヘッド部分（４）、その支持機構（６
）、ボールネジ（７）、モータ（１０）などの支持体、
（１９）は露光ヘット部分（１２）、　　支持機構（１
４）、　　ボールネジ（＋５）、　　モータ（１８）な
どの支持体、（２０）は（４）〜（１１）、　（１２）
〜（１９）の移動機構のガイドレール、（６６）は上下
方向に可動な機構を備えた基板カセットなとの基板供給
部分、（６７）は同基板収納部分、（６８）は本露光装
置の基台部分、点線で囲んだＪの部分は第８図に示すス
テップ及リピートプロジェクション露光装置をそれぞれ
示す。

次にこの一実施態様における動作・作用について説明す
る（Ｄ≧ｄｌ＋　ｄ２．ｄ３．ｄ４の場合）。まず、回
転側ＩＦ（５８）、　　搬送アーム（５９）、　　ボー
ルネジ（６０）、　　モータ（６３）などによって基板
（１）が基板供給部分（６６）より搬出され、移動アラ
イメントビン（３ｂ）によって基板（１）が固定ビン（
３ａ）にそれぞれ押しつけられ基板（１）とガイトレー
ル（２０）の回転中心を一致させ、露光ヘッドの移動方
向（Ｘ、　　Ｙ）と基板（１）の各辺とがそれぞれ平行
になるようにアライメントを行なう（第４図Ｉ）。次に
露光照射領域（５）、（１３）の間隔が２１となり、基
板（１）上でｄ＋、ｄ２の位置間係になるようにモータ
（９）、（＋７）が回転し、移動機構（７）〜（１１）
及び（１５）〜（１９）によって露光ヘッド部分（４）
、（１２）の移動が行なわれる。次に露光ヘット部分（
４）、（１２）が基板（１）の平行な２辺に沿って矢印
の方向に平行移動するようとこモータ（１０）、　　（
＋８）が回転し、移動機構（６）、（７）。

（、１０）および（１４）、（１５）、（１８）によっ
て移動が行なわれる。この時、露光光学系のシャッター
（２４）が開き光照射が行なわれる。尚、露光ヘットの
移動速度は、レジストの感光に十分な露光エネルギーが
与えられるように決定される。また、基板（１）の２辺
の露光が終了したらシャッター（２４）は閉じられ光照
射は一時中断する。その後、基板搬送機構（５８）の回
転機構（モータ（２６））によって回転中心Ｏを中心と
して基板（１）が９０°反時計方向に回転される（第４
図■）。次に露光照射領域（５）、（１３）の間隔が２
２となり、基板（１）上てｄ３．　　ｄ−の位置間係に
なるようにモータ（９）、（１７）が回転し、移動機構
（７）〜（１１）及び（１５）〜（１９）によって露光
ヘッド部分（４）、（１２）の移動が行なわれる。次に
露光ヘッド部分（４）、（１２）が基板（１）の平行な
残りの２辺に沿って矢印の方向に平行移動するようにモ
ータ（１０）、　　（１８）が回転腰　移動機構（６）
、　（７）、　（ｔｏ）および（１４）、　　（１５）
、　　（ｉ８）によって移動が行なわれる。

この時、露光光学系のシャッター（２４）が開き再び光
照射が行なわれる。尚、露光ヘットの移動速度は、レジ
ストの感光に十分な露光エネルギーが与えられるように
決定される。また、基板（１）の辺の露光が終了したら
シャッター（２４）は閉しられ光照射は終了する。その
後、基板搬送機構（５８）の回転機構（モータ（２６）
）によって回転中心０を中心として基板（１）が９０°
時計方向に回転される（第４図■）。次に移動アライメ
ントビン（３ｂ）の押しつけ及びステージ（２）の真空
吸着が解除され（第４図■）、ボールネジ（６０）、　
　モータ（６３）、　　アーム（５９）によって基板（
１）は、Ｘ−Ｙステージ（３６）上に搬送され、第８図
（第６図におけるＪ）の（２２）。

（３１）、　　（３２）、　　（３５）なとの光学系に
よって、レティクル（３４）のパターンの露光が行なわ
れる。

この実施態様においては角型基板用ステップ及リピート
プロジェクション露光装置と組み合わせることによって
、基板の待機時間等を利用して同時に処理することが可
能となり、装置の処理能力を下げる事無く露光工程の処
理能力を高められ、かつ、水銀灯ランプ、ンーケンサー
など共通部分の共有利用によって、装置を別々に形成し
た場合よりも総合的に装置コストの低減がはかれる。

尚、上記実施例では、基板の回転を反時計・時計方向に
行なったが、それぞれ反対方向でも良く、ローダ−・ア
ンローダ−の位置関係等によって回転方向は変えてもか
まわない。

また、上記実施例では、基板は長方形であったが、正方
形（Ｌ　＋　＝　Ｌ　２　）でもかまわない。そして、
Ｄ≧ｄ　ｌ、ｄ　２．ｄ　３．ｄ　４の場合を示したが
、Ｄの最大幅よりもｄ　＋　＋　ｄ　２ｒ　ｄ　３　！
　ｄ　ａが大きい場合は、複数回、露光ヘットを往復移
動させて所望の領域の露光を行なうことができる。

また、レジストを除去するための領域を上記実施例では
基板周辺（口の字型）として考えたが、基板に対して′
田の字型′や９目の字型２のような場合でも、ブライン
ド・シャッター・露光ヘッドの動き等をそれらに対応さ
せることによって露光可能である。

さらに、移動する露光ヘッド部分の数を、上記実施例で
は２Ｍとしたが、第６図の他の実施例の構成図に示すよ
うに１組の構成としてもよく、あるいは処理能力をより
向上させるために４組の構成としてもよい。

また、露光ヘット等を移動させる機構をボールネジとモ
ーターによったが他のりニアモータやヘルド駆動等の機
構でも構わない。

［発明の効果］ 以上のように、この発明によれば、レジスト露光装置を
周辺露光に必要な最小限の簡単な光学系、光源、光ファ
イバーからなる導光系等で構成したので装置コストが低
減できる。また基板を保持するステージに９０°毎の回
転機能を持たせているので、露光に要する時間が短縮で
き、露光ヘッドが１組の場合でも露光が可能であり、ざ
らに２組。

４組とすることによってより効率よく周辺露光を行なう
ことができる。また、露光する光照射部分に可変できる
ブラインドを設けたので、基板周辺部分はもちろん、基
板に対して例えば′田の字型′にレジスト不要部分を露
光するような場合でも露光が可能で、露光の幅゛も自由
に可変できろ効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例のレジスト露光装置を示す
構成図、第２図はこの発明の一実施例に係る光学系部分
を示す構成図、第３図はこの発明に係る基板例を示す平
面図、第４図（Ｉ）〜（ＩＶ）はこの発明の一実施例に
よる露光工程図、第５図は、この発明の一実施態様のレ
ジスト露光装置を示す構成図、第６図はこの発明の他の
実施例のレジスト露光装置を示す構成図、第７図は従来
の大型−括露光装置を示す構成図、第８図は従来のステ
ッパー露光装置を示す構成図、第９図（ａ）〜（ｄ）は
従来のステッパー露光装置によるマスク及び基板へのパ
ターン転写例を示す説明図、第１０図は従来のウェハー
用周辺露光装置を示す構成図である。 （１）・・・角型基板、（２）・・・９０°毎の回転機
構を備えたステージ、（３ａ）、　　（３ｂ）・・・ア
ライメントピン、（４）、（１２）・・・露光ヘッド部
、（７）、（８）、（１５）、（１６）・−・露光ヘッ
ド駆動機構及び位置座標管理機構を構成するボールネジ
、（９）、（１０）、（１７）、（１８））−・・同モ
ータ、（２２）・・・光源の超高圧水銀灯ランプ、（２
４）・・・シャッター、　（２５）・・・ブラインド、
（２６）・・・基板回転機構を構成する回転用モータ なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　レジストの感度領域の波長の光を照射する光源、上記
   光を導く光ファイバーからなる導光系、上記光の照射を
   制御するシャッター、及び上記光の照射範囲を規制する
   ブラインドで構成され、上記光を角型基板に照射する露
   光ヘッド、この露光ヘッドを上記角型基板の辺に沿った
   一軸方向に移動させる露光ヘッド駆動機構、９０゜毎の
   基板回転機構、ピンアライメント機構、及び位置座標管
   理機構を有し、上記基板を保持するステージ、上記基板
   の搬送・搬出機構、並びにこれらをコントロールするシ
   ーケンサーを備えるレジスト露光装置。