JPH04200882A - 電子ビーム溶接法 - Google Patents
電子ビーム溶接法Info
- Publication number
- JPH04200882A JPH04200882A JP32897590A JP32897590A JPH04200882A JP H04200882 A JPH04200882 A JP H04200882A JP 32897590 A JP32897590 A JP 32897590A JP 32897590 A JP32897590 A JP 32897590A JP H04200882 A JPH04200882 A JP H04200882A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- penetration
- electron
- base metal
- welding
- Prior art date
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- Pending
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- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野１
本発明は電子ビームン岩接における溶け込みン某さの自
動制御法に関するものである。
動制御法に関するものである。
［従来の技術１
従来の方法６：Ｊ−１あらがしめ試料にて溶け込み深さ
を確認Ｌ−Ｃその時の適正条件−Ｃもって実機を施Ｉ−
シていた。なお、この種の技術として関連するものには
、例えば、文献 産業出版、現代溶接技術大系「溶接法
の基礎」第（３３亘へ第６５亘記載のものがある。
を確認Ｌ−Ｃその時の適正条件−Ｃもって実機を施Ｉ−
シていた。なお、この種の技術として関連するものには
、例えば、文献 産業出版、現代溶接技術大系「溶接法
の基礎」第（３３亘へ第６５亘記載のものがある。
「発明が解決しようとする課題１
手記従来技術は、破細ｌＬ物の板厚や開先精度のバラツ
ギで試料と溶け込み深さが異なったり、溶接執のび；
４に’４ゝで同し開先内でも浩１）〉開始部と終了部ど
ではその）ｈけ込み深さが違ってくる。又、電子銃陰極
部の消耗でビーム焦点距離が経時変化し、同様Ｇごイー
の溶け込み深さが違ってくる。つまり、同一条件で施工
しても、その時、その部位で溶け込み深さが異なってく
るもので、−４の点についての対策がなされていなかっ
た。
ギで試料と溶け込み深さが異なったり、溶接執のび；
４に’４ゝで同し開先内でも浩１）〉開始部と終了部ど
ではその）ｈけ込み深さが違ってくる。又、電子銃陰極
部の消耗でビーム焦点距離が経時変化し、同様Ｇごイー
の溶け込み深さが違ってくる。つまり、同一条件で施工
しても、その時、その部位で溶け込み深さが異なってく
るもので、−４の点についての対策がなされていなかっ
た。
本発明の［］的は、溜は込み深さを自動的に制御Ｊろ′
１［了ビーム溶接法を提供することにある。
１［了ビーム溶接法を提供することにある。
［課題を解決するだめの手段１
手記目的を達成するためＧ乙ＦＩ材をＶ［通、つまり透
過する電工の量や一すイクルを検出し、これを基じ、溶
け込み深さの諸元である加速電圧やヒーノ＼電？Ａ１、
ビーム焦点位置を；演算 制御して、常に一定の謂は込
み深さとなるようにしたものである。
過する電工の量や一すイクルを検出し、これを基じ、溶
け込み深さの諸元である加速電圧やヒーノ＼電？Ａ１、
ビーム焦点位置を；演算 制御して、常に一定の謂は込
み深さとなるようにしたものである。
［作 用］
透過電子の量やサイクルを検出するために、母材や電子
ビーム溶接機から絶縁されている状態の導電体でその透
過電子を受け、アース線へ流ず。
ビーム溶接機から絶縁されている状態の導電体でその透
過電子を受け、アース線へ流ず。
その途中に電流計を設け、電流として測定をする。
母材を貫通する透過電子の量やサイクルは、溶け込み深
さに比例して増加する。この関係を利用して、溶接条件
を制御して溶け込み深さをコン１−ロールすることがで
きる。
さに比例して増加する。この関係を利用して、溶接条件
を制御して溶け込み深さをコン１−ロールすることがで
きる。
〔実 施 例］
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。図に
おいて、電子銃１から発射された電子ビーム（入射電子
）２は母材３へ衝突し、そのエネルギーでもって溶融部
４を形成して溶接する。溶融部の板厚方向の長さ、つま
り溶け込み深さが増ずと母材固体部の厚さが薄くなり、
電子の透過率が増ずにの透過電子５を導電体７で受ける
。この導電体７は、セラミックスなどの非導電体６でも
って、母材３や電子ビーム溶接機などと絶縁された状態
に保持される。導電体７からアース線８でもってアース
する。この中間に電流計９を設け、透過電子の流れを電
流として測定する。この電子ビーム溶接における溶け込
み深さと透過電子（電流）との関係の一例を第２図に示
す。第２図において、横軸に母材３厚み（１）から溶融
部４厚み（ｄ）を差し引いた状態の寸法、縦軸にその状
態におりる電流計９での検出電流（Ｉし）を示す電子ビ
ーム溶接時の入射電子（例えば６０ＫＶｘ１００ｍＡ）
の透過電流の特性図である。つまり、このデータを随時
、マイクロコンピュータ−０で演算−解析して、溶接込
み深さに影響する加速電圧、ビーム電流、ビーム焦点位
置の諸条件を選定し直し、溶け込み深さが常に一定にな
るように指令信号を電子ビーム溶接機へ流し、その溶け
込み深さを制御する。
おいて、電子銃１から発射された電子ビーム（入射電子
）２は母材３へ衝突し、そのエネルギーでもって溶融部
４を形成して溶接する。溶融部の板厚方向の長さ、つま
り溶け込み深さが増ずと母材固体部の厚さが薄くなり、
電子の透過率が増ずにの透過電子５を導電体７で受ける
。この導電体７は、セラミックスなどの非導電体６でも
って、母材３や電子ビーム溶接機などと絶縁された状態
に保持される。導電体７からアース線８でもってアース
する。この中間に電流計９を設け、透過電子の流れを電
流として測定する。この電子ビーム溶接における溶け込
み深さと透過電子（電流）との関係の一例を第２図に示
す。第２図において、横軸に母材３厚み（１）から溶融
部４厚み（ｄ）を差し引いた状態の寸法、縦軸にその状
態におりる電流計９での検出電流（Ｉし）を示す電子ビ
ーム溶接時の入射電子（例えば６０ＫＶｘ１００ｍＡ）
の透過電流の特性図である。つまり、このデータを随時
、マイクロコンピュータ−０で演算−解析して、溶接込
み深さに影響する加速電圧、ビーム電流、ビーム焦点位
置の諸条件を選定し直し、溶け込み深さが常に一定にな
るように指令信号を電子ビーム溶接機へ流し、その溶け
込み深さを制御する。
本実施例によれば、溶融部の板厚方向の長さ・つまり溶
け込み深さを上手にコントロールできるので、溶け込み
不足による開先未溶着部の発生、溶け過ぎによる溶融金
属の流出つまり溶け落ち等を防止できる。
け込み深さを上手にコントロールできるので、溶け込み
不足による開先未溶着部の発生、溶け過ぎによる溶融金
属の流出つまり溶け落ち等を防止できる。
［発明の効果］
本発明によれば、常に溶け込み深さを一定にコントロー
ルできるので、安定した溶接品質を得ることができる。
ルできるので、安定した溶接品質を得ることができる。
第１図は本発明の一実施例の電子ビーム溶接法の系統図
、第２図は第１図における電子ビーム（ｈ接時の溶け込
み深さと透過電流との特性図である。 １−−−−−一電子銃、２−一〜−−−電子ビーム、３
−−−−−一附材、４．−−−−−一溶融部、５−−−
−−一透過電子、６−−−＝−非導電体、７−−−−−
−導電体、８−−−−−−アース線、９−一一一一一電
流計、１．０−−−−−−マイクロコンビュ／−−−−
一電ｊ＆ ２−一一−−電子ヒ私（Ｒ１〃 ３−−−４ 、ｆＪ
、第２図は第１図における電子ビーム（ｈ接時の溶け込
み深さと透過電流との特性図である。 １−−−−−一電子銃、２−一〜−−−電子ビーム、３
−−−−−一附材、４．−−−−−一溶融部、５−−−
−−一透過電子、６−−−＝−非導電体、７−−−−−
−導電体、８−−−−−−アース線、９−一一一一一電
流計、１．０−−−−−−マイクロコンビュ／−−−−
一電ｊ＆ ２−一一−−電子ヒ私（Ｒ１〃 ３−−−４ 、ｆＪ
Claims (1)
- １、母材を貫通した透過電子を、母材や電子ビーム溶接
機と絶縁された状態の導電体で受け、該導体からアース
線へ流れる電流を電流計で測定し、加速電圧、ビーム電
流や焦点位置などの溶接条件をマイクロコンピュータで
演算し、所定の溶け込み深さとなるように制御したこと
を特徴とする電子ビーム溶接法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32897590A JPH04200882A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 電子ビーム溶接法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32897590A JPH04200882A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 電子ビーム溶接法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04200882A true JPH04200882A (ja) | 1992-07-21 |
Family
ID=18216209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32897590A Pending JPH04200882A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 電子ビーム溶接法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04200882A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115533290A (zh) * | 2022-11-11 | 2022-12-30 | 中国航发沈阳黎明航空发动机有限责任公司 | 一种电子束焊接电流点穿透控制工装及控制方法 |
| EP3091617B1 (en) * | 2011-04-06 | 2023-08-30 | TE Connectivity Germany GmbH | Method for manufacturing at least one functional area on an electric contact element such as a switching contact or a plug contact |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP32897590A patent/JPH04200882A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3091617B1 (en) * | 2011-04-06 | 2023-08-30 | TE Connectivity Germany GmbH | Method for manufacturing at least one functional area on an electric contact element such as a switching contact or a plug contact |
| CN115533290A (zh) * | 2022-11-11 | 2022-12-30 | 中国航发沈阳黎明航空发动机有限责任公司 | 一种电子束焊接电流点穿透控制工装及控制方法 |
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