JPH04200893A - リフロー装置 - Google Patents
リフロー装置Info
- Publication number
- JPH04200893A JPH04200893A JP2333936A JP33393690A JPH04200893A JP H04200893 A JPH04200893 A JP H04200893A JP 2333936 A JP2333936 A JP 2333936A JP 33393690 A JP33393690 A JP 33393690A JP H04200893 A JPH04200893 A JP H04200893A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating chamber
- nitrogen gas
- nitrogen
- oxygen concentration
- concn
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はリフロー装置に係り、酸素濃度計やチッソ濃度
計により加熱室の内外の酸素濃度やチッソ濃度を計測し
て、加熱室に供給するチッソガス量を制御し、また加熱
室外の酸素濃度の低下を報知するようにしたものである
。
計により加熱室の内外の酸素濃度やチッソ濃度を計測し
て、加熱室に供給するチッソガス量を制御し、また加熱
室外の酸素濃度の低下を報知するようにしたものである
。
（従来の技術）
電子部品が実装された基板は、リフロー装置の加熱室へ
送られ、電子部品の電極を基板に接着する半田の加熱処
理が行われる。この場合、半田、基板の回路パターン、
電子部品の電極などの金属部分が加熱されて酸化するの
を防止するために、加熱室にチッソガスを供給し、チ・
７ソガス雰囲気中において半田の加熱処理を行うことが
知られている。
送られ、電子部品の電極を基板に接着する半田の加熱処
理が行われる。この場合、半田、基板の回路パターン、
電子部品の電極などの金属部分が加熱されて酸化するの
を防止するために、加熱室にチッソガスを供給し、チ・
７ソガス雰囲気中において半田の加熱処理を行うことが
知られている。
（発明が解決しようとする課題）
ところが加熱室は、基板を搬入搬出するだめの入口と出
口が開口されているので、この入口と出口からチッソガ
スが加熱室外へ流出し、またここから外部空気が加熱室
内に流入して、加熱室のチッソガス濃度が次第に低下し
やすい問題点があった。また入口や出口からチッソガス
が流出する結果、リフロー装置が設置された作業室内の
酸素濃度が次第に低下し、作業者が酸欠症状を起すなど
、作業者の健康上の問題点があった。
口が開口されているので、この入口と出口からチッソガ
スが加熱室外へ流出し、またここから外部空気が加熱室
内に流入して、加熱室のチッソガス濃度が次第に低下し
やすい問題点があった。また入口や出口からチッソガス
が流出する結果、リフロー装置が設置された作業室内の
酸素濃度が次第に低下し、作業者が酸欠症状を起すなど
、作業者の健康上の問題点があった。
（課題を解決するための手段）
本発明は、加熱室と、この加熱室に配設されたヒータと
、電子部品が実装された基板をこの加熱室内を搬送する
コンベヤと、この加熱室にチッソガスを供給するチッソ
ガス発生手段と、この加熱室の内部及び外部の酸素濃度
又はチ。
、電子部品が実装された基板をこの加熱室内を搬送する
コンベヤと、この加熱室にチッソガスを供給するチッソ
ガス発生手段と、この加熱室の内部及び外部の酸素濃度
又はチ。
ソ温度を計測する酸素濃度計又はチッソ濃度計と、加熱
室内の酸素濃度又はチッソ濃度に応じて上記チッソガス
発生手段から加熱室に供給するチッソガス量を制御する
制御装置と、加熱室外の酸素濃度が低下したことを報知
する警報素子とからリフロー装置を構成している。
室内の酸素濃度又はチッソ濃度に応じて上記チッソガス
発生手段から加熱室に供給するチッソガス量を制御する
制御装置と、加熱室外の酸素濃度が低下したことを報知
する警報素子とからリフロー装置を構成している。
（作用）
上記構成において、基板はコンベヤにより搬送されなが
ら、チッソガス雰囲気中において、半田の加熱処理が行
われるが、加熱室内の酸素濃度が高くなると、チッソガ
ス発生手段からのチッソガス供給量は増加される。また
加熱室外の酸素濃度が低下したならば、ブザーやモニタ
ー−テレビなどの警報素子によりその旨報知する。
ら、チッソガス雰囲気中において、半田の加熱処理が行
われるが、加熱室内の酸素濃度が高くなると、チッソガ
ス発生手段からのチッソガス供給量は増加される。また
加熱室外の酸素濃度が低下したならば、ブザーやモニタ
ー−テレビなどの警報素子によりその旨報知する。
（実施例）
次に、図面を参照しながら本発明の詳細な説明する。
第１図はリフロー装置の側面図である。１は加熱室であ
り、その内部にはヒータ２とファン３が配設されており
、また電子部品Ｐが実装された基板Ｓを搬送するコンベ
ヤ４が設けられて、 いる。５は基板搬入用コン−、ヤ
、６は基板搬出用コンベヤ、７．８は入口と出口である
。
り、その内部にはヒータ２とファン３が配設されており
、また電子部品Ｐが実装された基板Ｓを搬送するコンベ
ヤ４が設けられて、 いる。５は基板搬入用コン−、ヤ
、６は基板搬出用コンベヤ、７．８は入口と出口である
。
１０はチッソ・ガス発生手段であって、管路１１を通し
て、上記加熱室１にチッソガスを供給する。１２は酸素
濃度計であって、加熱室１の内部と加熱室１の外部に酸
素取入部１３．１４．１５を有している。１６は酸素濃
度計１２に接続されたコンピュータのような制御装置で
あって、上記チッソガス発生手段１０や、ブザー、モニ
ターテレビ、ランプのような警報素子１７−３＝ を制御する。
て、上記加熱室１にチッソガスを供給する。１２は酸素
濃度計であって、加熱室１の内部と加熱室１の外部に酸
素取入部１３．１４．１５を有している。１６は酸素濃
度計１２に接続されたコンピュータのような制御装置で
あって、上記チッソガス発生手段１０や、ブザー、モニ
ターテレビ、ランプのような警報素子１７−３＝ を制御する。
上記構成において、電子部品Ｐが実装された基板Ｓはコ
ンベヤ４により搬送されながら、チッソガス雰囲気中に
おいて、半田の加熱処理が行われる。加熱室１は、入ロ
アや出口８により内外と連通しているので、加熱室１内
のチッソガスは加熱室１外に流出し、また加熱室１外の
空気は加熱室１内に流入し、加熱室１内の酸素濃度は次
第に高くなる。そこで酸素濃度計１２により加熱室１内
の酸素濃度を計測し、酸素濃度が高くなったならば、チ
・７ソガス発生手段１０から加熱室０へのチッソガス供
給■を増大する。
ンベヤ４により搬送されながら、チッソガス雰囲気中に
おいて、半田の加熱処理が行われる。加熱室１は、入ロ
アや出口８により内外と連通しているので、加熱室１内
のチッソガスは加熱室１外に流出し、また加熱室１外の
空気は加熱室１内に流入し、加熱室１内の酸素濃度は次
第に高くなる。そこで酸素濃度計１２により加熱室１内
の酸素濃度を計測し、酸素濃度が高くなったならば、チ
・７ソガス発生手段１０から加熱室０へのチッソガス供
給■を増大する。
また加熱室１内のチッソガスか加熱室１外へ流出するこ
とから、このリフロー装置が設置された作業室内の酸素
濃度は次第に低下する。このように作業室内の□蔽素儂
度が低下すると、作業者は酸欠症状を起すの妃その場合
は警報素Ｔ−１７によりその旨報知し、あるいは装置の
運転を停止する。
とから、このリフロー装置が設置された作業室内の酸素
濃度は次第に低下する。このように作業室内の□蔽素儂
度が低下すると、作業者は酸欠症状を起すの妃その場合
は警報素Ｔ−１７によりその旨報知し、あるいは装置の
運転を停止する。
−４＝
上記実施例では、酸素濃度計１２により加熱室１内外の
酸素濃度を計測しているが、酸素濃度計１２に替えてチ
ッソ濃度計を設置し、チッソ濃度計により加熱室１内の
内部や外部のチッソ濃度を計測してもよいものである。
酸素濃度を計測しているが、酸素濃度計１２に替えてチ
ッソ濃度計を設置し、チッソ濃度計により加熱室１内の
内部や外部のチッソ濃度を計測してもよいものである。
（発明の効果）
以上説明したように本発明は、加熱室と、この加熱室に
配設されたヒータと、電子部品が実装された基板をこの
加熱室内を搬送するコンベヤと、この加熱室にチッソガ
スを供給するチッソガス発生手段と、この加熱室の内部
及び外部内の酸素？；度又はチッソ濃度を計測する酸素
濃度計又はチッソ濃度計と、加熱室内の酸素濃度又はチ
ッソ濃度に応じて上記チッソガス発生手段から加熱室に
供給するチッソガス量を制御する制御装置と、加熱室外
の酸素濃度が低下したことを報知する警報素子とからリ
フロー装置を構成しているので、加熱室１内のチッソ濃
度を自動調整して、半田の加熱処理を良好に行うことか
でき、また作業者の安全を図ることができる。
配設されたヒータと、電子部品が実装された基板をこの
加熱室内を搬送するコンベヤと、この加熱室にチッソガ
スを供給するチッソガス発生手段と、この加熱室の内部
及び外部内の酸素？；度又はチッソ濃度を計測する酸素
濃度計又はチッソ濃度計と、加熱室内の酸素濃度又はチ
ッソ濃度に応じて上記チッソガス発生手段から加熱室に
供給するチッソガス量を制御する制御装置と、加熱室外
の酸素濃度が低下したことを報知する警報素子とからリ
フロー装置を構成しているので、加熱室１内のチッソ濃
度を自動調整して、半田の加熱処理を良好に行うことか
でき、また作業者の安全を図ることができる。
図は本発明の実施例を示すものであって、第１図はリフ
ロー装置の側面図である。 １・・・加熱室 ２・・・ヒータ ４・・ ・コンベヤ １０・・・チッソガス発生手段 １２・・・酸素濃度計 １６・・・制御装置 １７・・・警報素子
ロー装置の側面図である。 １・・・加熱室 ２・・・ヒータ ４・・ ・コンベヤ １０・・・チッソガス発生手段 １２・・・酸素濃度計 １６・・・制御装置 １７・・・警報素子
Claims (1)
- 加熱室と、この加熱室に配設されたヒータと、電子部
品が実装された基板をこの加熱室内を搬送するコンベヤ
と、この加熱室にチッソガスを供給するチッソガス発生
手段と、この加熱室の内部及び外部の酸素濃度又はチッ
ソ濃度を計測する酸素濃度計又はチッソ濃度計と、加熱
室内の酸素濃度又はチッソ濃度に応じて上記チッソガス
発生手段から加熱室に供給するチッソガス量を制御する
制御装置と、加熱室外の酸素濃度が低下したことを報知
する警報素子とを備えて成ることを特徴とするリフロー
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2333936A JPH04200893A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | リフロー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2333936A JPH04200893A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | リフロー装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04200893A true JPH04200893A (ja) | 1992-07-21 |
Family
ID=18271632
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2333936A Pending JPH04200893A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | リフロー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04200893A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06120655A (ja) * | 1992-09-30 | 1994-04-28 | A Tec Tekutoron Kk | 自動半田付け装置 |
| JPH06277826A (ja) * | 1993-03-31 | 1994-10-04 | Honda Motor Co Ltd | 高周波加熱方法および装置 |
| JP2001501008A (ja) * | 1996-12-20 | 2001-01-23 | レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | チャンバーに気体を供給するためのプロセスおよびそのようなチャンバーにおける雰囲気の所定の成分の含有量を調節する方法 |
| TWI700144B (zh) * | 2019-04-11 | 2020-08-01 | 鴻齡科技股份有限公司 | 回焊爐中央監控方法及回焊爐中央監控系統 |
-
1990
- 1990-11-29 JP JP2333936A patent/JPH04200893A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06120655A (ja) * | 1992-09-30 | 1994-04-28 | A Tec Tekutoron Kk | 自動半田付け装置 |
| JPH06277826A (ja) * | 1993-03-31 | 1994-10-04 | Honda Motor Co Ltd | 高周波加熱方法および装置 |
| JP2001501008A (ja) * | 1996-12-20 | 2001-01-23 | レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | チャンバーに気体を供給するためのプロセスおよびそのようなチャンバーにおける雰囲気の所定の成分の含有量を調節する方法 |
| TWI700144B (zh) * | 2019-04-11 | 2020-08-01 | 鴻齡科技股份有限公司 | 回焊爐中央監控方法及回焊爐中央監控系統 |
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