JPH04201482A - 情報記録媒体および光情報記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、高エネルギー密度のレーザビームを用いて情
報の書き込みが可能な情報記録媒体と光情報記録方法に
関するものである。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体か開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画
像ファイルおよび大容量コンピュータ用テイスク・メモ
リなどとして使用されている。

Ｄ　ＲＡ　Ｗ　（Ｄｉｒｅｃｔ　Ｒｅａｄ　Ａｆｔｅｒ
　ＷｒｉｔｅＪ型の光ディスクは基本構造として、ガラ
ス、合成樹脂などからなる円盤状の基板と、この上に設
けられたＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属
；またはシアニン系、金属錯体系、キノン系等の色素か
らなる記録層とを有する。なお、記録層が設けられる側
の基板表面には通常、基板の平面性の改善、記録層との
接着力の向上あるいは光ディスクの感度の向上なとの点
から、高分子物質からなる中間層が設けられることが多
い。

そして、光ディスクへの情報の書き込みおよび読み取り
は通常下記の方法により行なわれる。

情報の書き込みはレーザービームをこの光ディスクに照
射することにより行なわれ、記録層の照射部分がその光
を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的
な変化（たとえば、ビットの生成）が生じてその光学的
特性を変えることにより情報が記録される。情報の読み
取りもまた、レーザービームを光ディスクに照射するこ
とにより行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応した
反射光または透過光を検出すること釘より情報が再生さ
れる。

このような情報記録媒体の記録層を形成する記録材料と
して上記のように金属類や色素等が知られている。色素
を用いた情報記録媒体は、金属等の記録材料に比べて高
感度であるなど記録媒体自体の特性において長所を有す
る他に、記録層を塗布法により簡単に形成することかて
きるという製造上の大きな利点を有している。しかしな
から、色素からなる記録層は、一般に反射率か低い、再
生信号のＣ／Ｎが低い等の特性上の問題、および色素記
録層が長期保存中に光の照射等により経時的に劣化し易
いなどの欠点を有している。

上記反射率およびＣ／Ｎか向上した色素からなる記録層
として、特開昭６４−４０３８２号公報にベンゾインド
レニン骨格を有するシアニン系色素からなる記録層を有
する光ディスクが開示されている。また、同様な記録層
として、特開昭６４−４０３８７号公報にベンゾインド
レニン骨格（インドレニン骨格にヘンセン環か縮合した
構造）を有するジカルボシアニン系色素（メチン鎖が５
個）とインドレニン骨格を有するトリカルボシアニン系
色素（メチン鎖が７個）とからなる記録層が設けられた
光ディスクが開示されている。

こわは、ベンゾインドレニン骨格を有するジカルボシア
ニン系色素の高反射率を維持しながら、インドレニン骨
格を有するトリ力ルホシアニン系色素を併用することに
よりＣ／Ｎの向上を図りたものである。

しかしながら、このような色素記録層を有する情報記録
媒体は、Ｃ／Ｎについては比較的良好なものであるが、
反射率、さらに耐久性については満足できるものではな
い。

反射率を高くするため、色素記録層の上にざら、　　に
反射層を設けることが一般的に行なわれている。このよ
うな例が、日経エレクトロニクス（１０７頁、１９８９
年１月２３日発行）に記載されており、これによると上
記記録媒体の記録層に用いられている色素は不明である
が、その記録方法が、色素記録層のレーザーの吸収によ
り色素が融解され、これに伴なってプラスチック基板が
加熱されて該基板が記録層側に盛り上ってビットが形成
されることによって行なわれるとの開示がなされている
。この反射層は金の蒸着膜である。そして本発明者等の
検討によれば、この色素記録層に、上記ベンゾインドレ
ニン骨格を有するシアニン色素を用いると、比較的Ｃ／
Ｎも高く、且つ反射率および記録感度についても高い光
ディスクを得ることができる。

Ｄ　ＲＡＷ型光ディスクでも、ＣＤフォーマットｆＺ号
の高密度記録では（ＣＤ−ＤＲＡＷ）　、定線速度１．
２〜１．４ｍ／秒という遅い速度で上記信号の記録を行
なう必要があり、その際記録した信号を市販のＣＤプレ
ーヤーで再生することが要求されている。ＣＤプレーヤ
ーで再生するには光ディスクの反射率が７０％程度であ
ることか望ましい。

さらに、前述したように、光ディスクにおいては、長期
保存後においても優れた特性を維持できる（優れた耐久
性を有する）ことが好ましいが、上記インドレニン系色
素では耐久性が、中でも耐溶剤性が充分とは言えなかっ
た。すなわち、耐光性については、−重項酸素クエンチ
ャーを色素と併用することにより改善が図れるが、例え
ば、耐溶剤性が充分でないこのような色素記録層では、
室内の床にワックスをかけたり、害虫駆除用のスプレー
の噴霧などを行った場合、それらに含まわる溶剤の蒸気
により色素記録層が侵されることかあり、その改善が望
まれている。

また、製造上の問題点として、反射率を向上させる為に
、金属反射層をＡｕなどをスパッタリングすることによ
り色素記録層上に設けるか、そのスパッタリンクの条件
により色素記録層の膜の状態が変化し、Ｃ／Ｎ等の記録
再生特性を低下し易いことが挙げられる。例えば、金属
でも金属酸化物にでも使用できるとされているＲＦ（交
流）スパッタの装置で、上記インドレニン系色素の記録
層上にＡｕ反射層を設けた場合、記録層の記録再生特性
が損なわれ易い。このため、色素記録層上に金属をスパ
ッタリングする際は、ＲＦ（交流）スパッタに代えて金
属のスパッタリンクしか行えないＤＣ（直流）スパッタ
の装置が一般に用いられている。従フて、とのようなタ
ーケラトに対しても使用可能なＲＦ（交流）スパッタで
スパッタリングができれば好都合であることは明らかで
ある。

従って、反射率の顕著に高く、耐久性に優れ且つ製造条
件の適用性の広いの光ディスクの出現か望まれる。

［発明の目的］ 本発明は、色素からなる記録層およびその上に反射層を
有する情報記録媒体であって、反射率の顕著に高く、耐
久性に優れた記録媒体を提供することを目的とする。

また本発明は一１記録層およびその一トに反射層を有す
る情報記録媒体であって、反射層の形成条件の違いによ
り記録再生特性がほとんど低下することのない記録媒体
を提供することを目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、基板上に、下記の一般式（Ｉａ　）　；Ｒ２
１（３Ｒ２Ｒ３ １／ｐ　（ＸＰ−）　　　　　　　（Ｉ　ａ　）および
下記の一般式（Ｉｂ　）　　； Ｒ２Ｒ３Ｒ２Ｒ１ １／ｐ　　（Ｘ”）　　　　　　　　　　（Ｉ　ｂ　　
）［但し、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に炭
４　素原子数が１〜８の範囲にある置換基を有していて
も良いアルキル基を表わし、Ｑは水素原子または炭素原
子数が１〜８の範囲にある置換基を有していても良いア
ルキル基、フェニル基もしくはベンジル基を表わし、ｘ
ｐ−は、陰イオンを表わし、そしてｐは１または２を表
わす］ で表わされるインドレニン骨格を有するシアニン系色素
の少なくとも一種からなるレーザーにより情報の記録が
可能な記録層が設けられ、さらに、該記録層上に、金属
からなる反射層が設けられてなる情報記録媒体にある。

さらに、本発明□は、基板上に、上記の一般式（Ｉａ　
）および上記の一般式（Ｉｂ）で表わされるインドレニ
ン骨格を有するシアニン系色素の少なくとも一種からな
る記録層が設けられ、さらに該記録層上に金属からなる
反射層が設けられてなる情報記録媒体を回転させながら
、該記録層上に基板側からレーザーを照射して情報を記
録することからなる光情報記録方法にもある。

上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様は下記のとお
りである。

１）上記記録層が、記録層中に含まれるいずれの色素の
吸収極大波長よりも短波長側に吸収極大を有する色素を
含むことを特徴とする上記情報記録媒体。

２）上記記録層が、さらに下記の一般式％式％） は、それぞれ独立に炭素原子数か１〜８の範囲にある置
換基を有していても良いアルキル基を表ゎし、ｌ（＋７
は、水素原子または炭素原子数が１〜８の範囲にある置
換基を有していても良いアルキル基、フェニル基もしく
はペンシル基を表わし、Ｙａｑ−は、陰イオンを表わし
、ｑは１または２を表わし、そしてＡ１およびＡ２は、
それぞわ独立に置換基を有していてもよいベンゼン環を
形成するための原子団を表わす］ または下記の一般式（ｎ　ｂ）　； Ｎ＋ １７ｓ　　（Ｙｂ”−） ［但し、Ｒ２１，９２３および［２４は、それぞれ独立
に炭素原子数が１〜８の範囲にある置換基を有していて
も良いアルキル基を表わし、　Ｒ２６は水素原子または
炭素原子数１〜８を有するアシル基を表わし、Ｌは、置
換基を有していても良い２．４または６個のメチン基が
結合して生ずる連結基を表わし、Ａ３は、それぞれ独立
に置換基を有していてもよいベンゼン環またはナフタレ
ン環を形成するための原子団を表わし、八−は、ハロゲ
ン原子または炭素原子数が１〜８の範囲にある置換基を
有していても良いアルキル基もしくはアルコキシ基で置
換されていても良いフェニル基を表わし、Ｙｂ′−は、
陰イオンを表わし、そしてｌは１または２を表わす］ で表わされるインドレニン骨格を有するシアニン系色素
を含むことを特徴とする上記情報記録媒体。

３）上記記録層が、さらに下記−数式（Ｈａ）；Ｒ３宜
１（３２ １／ｎ（Ｙｃｎ′−） ［但し、Ｒ３１，Ｒ３２、１３３、Ｒ３４，Ｒ３５およ
びＲ３６は、それぞれ独立に炭素原子数が１〜８の範囲
にある置換基を有していても良いアルキル基を表わし、
Ｒ３？は、水素原子または炭素原子数か１〜８の範囲に
ある置換基を有していても良いアルキル基、フェニル基
も゛しくはベンジル基を表わし、Ｙａ″−は、陰イオン
を表わし、そしてｎは１または２を表わす］ で表わされるインドレニン骨格を有するシアニン系色素
を含むことを特徴とする上記情報記録媒体。

４）上記記録層に含まれるいずれの色素の吸収極大波長
よりも長波長側に吸収極大を有するクエンチャ−が該記
録層に含まれていることを特徴とする上記情報記録媒体
。

５）上記記録層が、上記一般式（Ｉａ　）または一般式
（Ｉｂ　）で表わされるいずれのシアニン色素の吸収極
大より２０ｎｍ以上低い別の色素をさらに含むことを特
徴とする上記情報記録媒体。

６）上記記録層が、吸収極大が６５０ｎｍより高い別の
色素をさらに含むことを特徴とする上言己情報記録媒体
。

７）上記一般式（Ｉａ）または一般式（Ｉｂ　）で表わ
されるシアニン系素とさらに加えられる短波長側に吸収
極大を有する別の色素との混合比が、重量比で９１：９
〜４０　：　６０の範囲にあることを特徴とする上記１
）の情報記録媒体。

８）上記基板の材料がプラスチックであることを特徴と
する上記情報記録媒体。

９）上記金属がＣｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、
ＡＪ！およびステンレス鋼からなる群より選ばれる少な
くとも一種であることを特徴とする上記情報記録媒体。

上記本発明の光情報記録方法の好ましい憇祿は下記のと
おりである。

ｌ）上記記録される情報がＣＤフォーマット仏号である
ことを特徴とする上記光情報記録方法。

２）−Ｆ記情報記録媒体を回転が、１．２〜２．８ｍ／
秒の定線速度にて行なわれることを特徴とする光情報記
録方法。

３）レーザーの発振波長が、７５０〜８５０ｎｍの範囲
にあることを特徴とする上記光情報記録方法。

尚、本発明の色素の吸収極大とは、基板に形成した色素
層の吸収極大を言う。

［発明の効果コ 本発明の情報記録媒体は、上記のように基板−Ｆに、上
＝己一般式（Ｉａ　）または（Ｉｂ　）で表わされる特
定の色素からなる記録層が設けられ、さらに該記録層上
に金属からなる反射層が積層されたものである。このよ
うな構成を採ることにより、反射率およびＣ／Ｎ等の記
録再生特性を高い水準で維持しなから、耐久性を向上さ
せることができる。すなわち、本発明の情報記録媒体は
、溶剤の蒸気に暴されるような過酷な条件下に保存して
も、初期の記録感度、Ｃ／Ｎ、変調度等の記録再生特性
および反射率がほとんど低下することがないことから、
耐久性に優れた記録媒体であるということができる。こ
れは、上記特定の構造を有する色素は、記録層となった
ときに硬く緻密な構造の膜を形成する為と考えられる。

さらに、本発明の情報記録媒体は、反射層の形成条件の
違いにより記録再生特性がほとんど低下することのない
記録媒体である。すなわち、色素記録層上に金属をスパ
ッタリングする際は、ＲＦ（交流）スパッタに代えて金
属のスパッタリングしか行えないＤＣ（直流）スパッタ
の装置が一般に用いられているが、本発明の色素記録層
を用いた場合は、金属でも金属酸化物にでも使用できる
とされているＲＦ（交流）スパッタの装置で記録層上に
Ａｕ反射層を設けても、記録層の記録再生特性が損なわ
れることがない。従って、本発明の記録層上には、ＲＦ
スパッタでもＤＣスパッタの装置でも優れた特性の情報
記録媒体を製造することかできる。

［発明の詳細な記述］ 本発明の情報記録媒体は、基板上に、上記一般式（Ｉａ
　）または（Ｉｂ　）で表わされるベンゾインドレニン
骨格を有する特定のシアニン色素からなる記録層が設け
られ、さらに該記録層上に反射層が設けられた基本構成
を有する。

２　　本発明者等は、基板上に簡便な製造方法である塗
布により層形成が可能である色素を用いて、記録層を設
けることができ、モして゛その上に反射層が形成された
光ディスクを改良して、反射率の顕著に高く、耐久性に
優れ、さらに反射層の形成条件の違いにより諸特性への
悪影響を受は難い光ティスフを得るため鋭意検討を重ね
てきた。

本発明者等の検討によると、光ディスクの記録層として
、上記−数式（Ｉａ）または（ｒｂ　）て表わされるベ
ンゾインドレニン骨格を有する特定のシアニン色素から
なる記録層を設けることにより、上記反射率および記録
再生特性を低下させることなく耐溶剤性等の耐久性を向
上させることかできることが明らかとなった。

本発明の情報記録媒体は、たとえば以下に述べるような
方法により製造することができる。

本発明の基板は、従来の情報記録媒体の基板として用い
られている各種の材料から任意に選択することができる
。本発明の基板材料として２例えばガラス；ポリメチル
メタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩
化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂：エポキシ樹脂
、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネートおよ
びポリエステルなどを挙げることができ、所望により併
用してもよい。なお、これらの材料はフィルム状として
または剛性のある基板として使うことができる。上記材
料の中で、耐湿性、寸法安定性および価格などの点から
ポリカーボネートが好ましい。

記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上および記録層の変質の防止の目的で、下塗
層か設けられてもよい。下塗層の材料としてはたとえば
、ポリメチルメタクリレート、アク’ｔル酸・メタクリ
ル酸共重合体、スチレン・無水マレイナト共重合体、ポ
リビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、
スチレン・スルホナト共重合体、スチレン・ビニルトル
エン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロ
セルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、
ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共
重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン
、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質：
およびシランカップリング剤などの有機物質を挙げるこ
とができる。

下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、デイツプコート、エクストルージョンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０
μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範
囲である。

また、基板（または下塗層）上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸か形成されて
いることが好ましい。上記ポリカーボネートなどの樹脂
材料を使用する場合は、樹脂材料を射出成形あるいは押
出成形などにより直接基板にグループか設けられること
か好ましい。

またクループ形成を、プレグルーブ層か設けることによ
り行なってもよい。プレグルーブ層の材料としては、ア
クリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルお
よびテトラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー
（またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用い
ることができる。

プレグルーブ層の形成は、まず鯖密に作られた母型（ス
タンパ−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。

次いで、基板を母型から剥離することによりプレグルー
ブ層の設けられた基板が得られる。

プレグルーブ層の層厚は一般に０．０５〜１００μｍの
範囲にあり、好ましくは０．１〜５０μｍの範囲である
。

基板上には本発明の記録層が設けられる。

記録層は、下記の一般式（Ｉａ　）および（Ｉｂ　）で
表わされる構造を有するベンゾインドレニン骨格を有す
るシアニン系色素の少なくとも一種からなる色素からな
る層またはさらにこれらの色素を分散させる結合剤を含
む層である。

一般式（Ｉａ）； １′／ｐ　　（Ｘ’−）　　　　　　　　（Ｉ　ａ　）
および一般式（Ｉｂ）； Ｒ２Ｒ３Ｒ２Ｒ３ ＲＩ　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｒ１１／ｐ　
　（Ｘ”）　　　　　　　　　　（Ｉ　ｂ　　）［但し
、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に炭素原子数
が１〜８の範囲にある置換基を有していても良いアルキ
ル基を表わし、Ｑは水素原子または炭素原子数が１〜８
の範囲にある置換基を有していても良いアルキル基、フ
ェニル基もしくはベンジル基を表わし、×ｐ〜は、陰イ
オンを表わし、モしてｐは！または２を表わす］ 一般式（Ｉａ　）および一般式（Ｉｂ　）において、Ｒ
１で表わされるアルキル基は、炭素原子数が１〜８の範
囲にある置換基を有していても良いアルキル基として、
メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチ
ルおよび２−エチルヘキシルなどの基を挙げることがで
き、好ましくは炭素原子数が１〜６のアルキル基（例え
ば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ
ブチル）であり、その置換されていてもよい置換基とし
ては、弗素原子、アルコキシ基を挙げることができる。

特に好ましくは無置換のアルキル基である。

Ｒ２およびＲ３で表わされるアルキル基としては、炭素
原子数１〜８の無置換のアルキル基（具体例、メチル、
エチル、プロピル）が好ましく、特に好ましくはメチル
基またはエチル基である。

い。

Ｑで表わされる基としては、水素原子、メチル基、エチ
ル基、フェニル基およびベンジル基は好ましく、特に好
ましくは水素原子、メチル基またはベンジル基である。

また、Ｘで表わされる陰イオンとして好ましいものとし
ては、 ハライドイオン（例えば、　Ｃ１１−、Ｂｒ−１Ｉ−）
、スルホネートイオンく例えば、ＣＨ３ジスルホネート
イオン）、５ｂＦ６−１ｃｎｏ４−１ＢＦ、−１金属錯
体イオン（例えば、 を挙げることができる。

これらのうちで特に好ましい陰イオンは、ｃｉｏ、−１
ＰＦ６−および い。

上記−数式（ｒａ）または−数式（Ｉｂ）で表わされる
ベンゾインドレニン骨格を有するシアニ４　ン色素は、
色素の中でも反射率が高く、且つ記録感度、Ｃ／Ｎ等の
記録再生特性においても優れたものである。上記−数式
（Ｉａ　）または−数式（Ｉｂ）で表わされるベンゾイ
ンドレニン骨格を有するシアニン色素は、一般に極大吸
収波長を７６０ｎｍ付近以下に有し、記録再生に用いら
れるレーザー光の発振波長である７８０ｎｍ前後の波長
帯域では光吸収が比較的小さく反射率が高いという特性
を有する。

上記−数式で表わされる具体的な化合物の例としては以
下のＩ−１〜ｌ−２２を挙げることができる。

ＣＩＯ。

ニー３ Ｉ−５′ エーロ Ｃ１０゜ ニー１０ ＰＦ’ ニー１１ ■・１２ Ｃ１０゜ ニー１３ ＣＩＯ。

■・１４ ＣＩＯ４ ニー１５ Ｆ６ エ・１６ ＣＩＯ。

ニー１７ ニー１８ ニー１９ ニー２０ ニー２１ ニー２２ 上記具体例に示すような上記−数式（Ｉａ　）または−
数式（Ｉｂ）で表わされるインドレニン骨格を有するシ
アニン色素は、前記特開昭６４−４０３８２号および６
４−４０３８７号の各公報の光ティスフの記録層に用い
られる色素の一般式に含まわるものである。

上記−数式（Ｉａ　）または−数式（Ｉｂ　）で表わさ
れるインドレニン骨格を有するシアニン色素は、常法に
より合成することかできるが、以下に具体例を挙げて合
成法を説明する。

合成例１　化合物１−１の合成 ・　　２，３．３−トリメチル−６，７−ベンゾインド
レニン４ｇにパラトルエンスルホン酸メチル３．８ｇと
メチルイソブチルケトン５ｍＡを加え１２０℃の油浴上
４時間加熱攪拌した。放冷後、酢酸エチル２０ｍＪ２を
加え攪拌した後、上澄を除きこの操作をさらに２回縁り
返した。残漬にマロンジアルデヒドシアニル塩酸塩２．
２ｇ、アセトン１５０ｍＪ２、無水酢酸２ｍｌ及びトリ
エチルアミン４．６ｍｆｆ１を加え２時間加熱速流した
。溶媒を留去し、残漬に１００ｍＪ２の水を加え、生じ
た結晶を濾取し、水洗し７．４ｇの１．３．３−トルメ
チル−２−［５−（１，３，３−１リメチル、６，７−
ベンゾインドリン−２−イリテン）−１，３−ペンタジ
ェニル］−６．７−ヘンゾー３Ｈ−インドワウムバラト
ルエンスルホネートを得た。この結晶のうち３ｇにメタ
ノール２５０ｍ１を加えて溶解した後、攪拌しつつ６０
％過塩素酸水溶液３ｍＪ２を加え、生じた結晶を濾取し
、メタノールで洗浄して化合物１−１を得た。

収量１．７ｇ 融点２２４−２２５℃ 合成例２および３ 合成例１におけるマロンジアルデヒドシアニル塩酸塩の
かわりにそわぞわ、対応する２−メチル体、又は２−ベ
ンジル誘導体を用いることにより下記の化合物を得た。

化合物１−１７：融点２１９−２２１℃化合物１−２１
：融点２３４−２３６℃本発明では、上記−数式（Ｉａ
　）または−数式（Ｉｂ　）て表わされるシアニン色素
（以下色素Ａともいう）である色素と併用して、該シア
ニン色素の吸収極大より短波長に吸収極大を有する別の
色素を用いることが高い反射率を得る上で好ましい。ま
たこのような別の色素（以下色素Ｂともいう）の吸収極
大は、上記−数式（Ｉａ　）または−数式（Ｉｂ　）で
表わされるシアニン色素の吸収極大より２０ｎｍ以上低
いことが高い反射率を得る上で好ましい。さらに上記色
素Ｂの吸収極大波長は、特に記録感度を低下させないた
め６５０ｎｍより高いことが好ましい。このような色素
は、上記条件を満足するものであれば、どのような種類
の色素でも良いか、均一な色素の記録層を形成する上て
、前記−数式（Ｉａ）または−数式（Ｉｂ　）で表わさ
れる色素Ａと相溶性に優れた色素で溶解する際に同じ有
機溶剤が使用できるものか好ましい。均一な色素層を形
成することにより、Ｃ／Ｎ、変調度等の記録再生特性が
優わだものとなる。そのような色素としてはシアニン色
素、オキソノール色素、ピリリウム色素およびチオピリ
リウム色素等のポリメチン系色素か好ましく、特に下記
の一般式（ｌｌａ）または（ｒｌｂ）で表わされるイン
ドレニン骨格を有するジアニン色素であることが好まし
い。

Ｒ１３ＲＩ４　　　　　　　ＲＩＳ　Ｒ＋６ｊ ＲＩＩ　　　　　　　　　　Ｒ１２ ］／ｑ　（Ｙａ”） ［但し、Ｒ目、ｌ（＋２、　Ｒ１３、Ｒ１４，Ｒ１！、
およびＲ１６は、それぞれ独立に炭素原子数か１〜８の
範囲にある置換基を有していても良いアルキル基を表わ
し、Ｒ１７は、水素原子または炭素原子数が１〜８の範
囲にある置換基を有していても良いアルキル基、フェニ
ル基もしくはベンジル基を表わし、Ｙａｑ−は、陰イオ
ンを表わし、ｑは１または２を表わし、そしてＡ１およ
びＡ２は、そわぞわ独立に置換基を有していてもよいベ
ンセン環を形成するための原子団を表わす］ ・Ｒ２３Ｒ２４ Ｎや 了 １７ｍ　（ｙｂｍ−） ［但し、Ｒ２１，Ｒ２３およびＲ２４は、それぞれ独立
に炭素原子数が１〜８の範囲にある置換基を有していて
も良いアルキル基を表わし、Ｒ２８は水素原子または炭
素原子数ｌ〜８を有するアシル基を表わし、Ｌは置換基
を有していても良い２．４または６個のメチン基が結合
して生ずる連結基であり、Ａ２は置換基を有していても
よいベンゼン環またはナフタレン環を形成するための原
子団を表わし、Ａｒ’は、ハロゲン原子または炭素原子
数が１〜８の範囲にある置換基を有していても良いアル
キル基もしくはアルコキシ基で置換されていても良いフ
ェニル基を表わし、Ｙ−一は、陰イオンを表わし、そし
てｍは１または２を表わす］上記−数式で表わされるイ
ンドレニン骨格を有するシアニン系色素を単独でも二種
組合せて色素Ｂとして用いても良い。

上記（ｎｂ）で表わされるシアニン色素の内好ましい色
素としては、下記の一般式（Ｕ　ｃ）〜（ＩＩ　ｅ）で
表わされる色素を挙げることができる。

Ｒ４３Ｒ４４ ［ １／ｊ　（ＹｄＪ−） Ｒ４３Ｒ４４ １／ｊ　（Ｙｄ’−） Ｒ４３Ｒ４４ Ｎや １・・ １／ｊ　　（ＹｄＪ−） ［−数式（ｎｃ）〜（Ｉｌｅ）において、Ｒ４１、Ｒ４
３およびＲ４４は、それぞれ独立に炭素原子数が１〜８
の範囲にある置換基を有していても良いアルキル基を表
わし、Ｒ４７は、水素原子または炭素原子数が１〜８の
範囲にある置換基を有していても良いアルキル基、フェ
ニル基もしくはベンジル基を表わし、　Ｒ４８は、水素
原子または炭素原子数が１〜８を有するアシル基を表わ
し、Ａ３は置換基を有していてもよいベンゼン環または
ナフタレン環を形成するための原子団を表わし、Ａｒ２
は、ハロゲン原子または炭素原子数が１〜８の範囲にあ
る置換基を有していても良いアルキル基もしくはアルコ
キシ基で置換されていても良いフェニル基を表ねし、Ｙ
ｄＪ−陰イオンを表わし、モしてｊｌまたは２を表わす
コ 色素Ｂとして、上記（Ｉｌａ）〜（ＩＩ　ｅ）で表わさ
れる色素以外に下記の一般式（Ｈｆ）〜（ｎ　ｈ）で表
ねされる色素も使用することができる。

１（５３Ｒ５４ Ｒ５３Ｒ５４ Ｒ５３Ｒ５４ ［−数式（Ｉｆｆ）〜（ｎ　ｈ）において、Ｒ５１，Ｒ
５３およびＲ５４は、それぞれ独立に炭素原子数が１〜
８の範囲にある置換基を有していても良いアルキル基を
表わし、Ｒ５７は、水素原子または炭素原子数が１〜８
の範囲にある置換基を有していても良いアルキル基、フ
ェニル基もしくはベンジル基を表わし、Ａ３は置換基を
有していてもよいベンゼン環またはナフタレン環を形成
するための原子団を表わし、モしてＡｒ３は、ハロゲン
原子または炭素原子数が１〜８の範囲にある置換基を有
していても良いアルキル基もしくはアルコキシ基で置換
されていても良いフェニル基を表わす］ 上記−数式（Ｉｌａ）〜（Ｉｌｈ）において、［１１、
Ｒ１２、Ｒ２１、Ｒ２２、１（４１およびＲ６１で表わ
されるアルキル基は、炭素原子数が１〜８の範囲にある
置換基を有していても良いアルキル基として、メチル、
エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチルおよび
２−エチルヘキシル等の基を挙げることができ、好まし
くは炭素原子数が１〜６のアルキル基（例えば、メチル
、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル）で
あり、その置換されていてもよい置換基としては、弗素
原子、アルコキシ基を挙げることができる。特に好まし
くは無置換のアルキル基である。

一般式（Ｉｌａ）　〜（Ｉｌｈ）において、　Ｒ１３、
Ｒ１４、ＩＩ５、Ｒｌｇ　、　Ｒ２３、［２４、Ｒ２Ｓ
、Ｒ２６、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ５３および１（５４で表
わされるアルキル基としては、炭素原子数１〜６の無置
換のアルキル基（具体例、メチル、エチル）が好ましく
、特に好ましくはメチル基またはエチル基である。

−数式（ＩＩ　ａ）、（ＩＩ　ｃ）、（ＩＩ　ｄ）、（
Ｉｌｇ）および（ＩＩ　ｆ）において、Ｒ１７、Ｒ２７
、Ｒ４７およびＲ６７は、水素原子、炭素原子数が１〜
６の範囲にある置換基を有していても良いアルキル基、
フェニル基またはヘンシル基が好ましく、特に好ましく
は水素原子、メチル基、エチル基、ベンジル基またはフ
ェニル基である。

一般式（ＩＩ　ａ）において、Ａ１およびＡ２は、好ま
しくはそれぞれ独立に無置換のベンゼン環を形成するた
めの原子団、またはメチル基、塩素原子、弗素原子、メ
トキシ基、またはエトキシ基から選ばれる１または２個
の基で置換されたベンゼン環を形成するための原子団を
表わす。

一般式（ｎｂ）〜（ｎｈ）において、Ａ３およびＡ４は
、好ましくはそれぞれ独立にフェニル基、シアノ基、メ
チル基、塩素原子、弗素原子またはメトキシ基で置換さ
れていても良いベンゼン環もしくはナフタレン環を形成
するための原子団を表わす。特に好ましくは無置換のベ
ンゼン環またはナフタレン環である。

一般式（ＩＩ　ｃ）〜（ａｈ）において、９２８および
Ｒ４Ｂは、水素原子、メトキシ基、エトキシ基およびベ
ンゾイル基であることが好ましい。特に好ましくは、水
素原子およびメトキシ基である。

−数式（ｎｂ）　〜（ｎ　ｈ）において、Ａｒ’　、　
Ａｒ２およびＡｒ３は、フェニル基、４−クロロフェニ
ル基、４−メチルフェニル基、３−メトキシフェニル基
および３．５−ジクロロフェニル基であることが好まし
く、特に好ましくは、フェニル基である。

また、ｙａｑ−１Ｙ−−およびＹｄ′−で表わされる陰
イオンとして好ましいものとしては、上記−数式（Ｉａ
　）または−数式（Ｉｂ　）のｘ’−で示された好まし
い陰イオンを挙げることができる。

上記−数式で表わされる具体的な化合物の例としては以
下のｎ−ｔ〜■−３６を挙げることができる。

以下余白 エニー２ ＣＩＯ，’ ＩＩ・３ Ｃ１０゜ 工＝−５ Ｃｏｏ。

Ｆ エニー７ エニー８ ｌ０４ ＩＩ・９ ＣＩＯ４’ ＩＩ・１１ エニー１２ ＣＩＯ。

ｌｌ−１：Ｉ Ｆ エニー１５ ＣＩＯ。

エニー１６ ＰＦ６ エニー１７ エニ・１８ＣＩＯ４’ Ｃ１０゜ ＣｌＯ４ エニー２１ 工ｌ−２２ しｒ１３　　　　　ＣｌＯ４′Ω〕 エニー２４ （ＣＨ２１４Ｓｏ４ エニー２５ ■■・２６ 〇Ｈ，■ Ｉニー２７ Ｈ３Ｂｒ 工ｌ−２８ 工■・２９ 喰　　　　　工 エニー３０ エニー３１ エニ・３２ エニー３３ ＣＨ。

エニー３４ しｎ３ エニー３５ しｆｉ３ エニー３６ 上記一般式（ＩＩ　ａ）〜（ｎ　ｈ）で表わされる特定
のシアニン色素は、例えば特開昭５９−５５７９５号公
報の光ディスクの記録層に用いられる色素の一般式に一
部含まれるものである。そして、該シアニン色素は、色
素としてはへテロサイクル化合物の化学（Ｔｈｅ　Ｃｈ
ｅＩＩＩｉｓｔｒｙ　ｏｆ　Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｊｃ
　Ｃｏｍｐ。

ａｎｄ）シリーズのシアニン色素とその関連化合物（［
：ｙａｎｉｎｅ　Ｄｙｅｓ　ａｎｄ　Ｒｅ１ａｔｅｄ　
Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ、　　ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ　＆　５
ｏｎｓ、　Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ、　Ｌｏｎｄｏｎ、　ｔ９
６４年発行）に記載されている。

また、上記一般式（Ｉａ）または一般式（Ｉｂ　）で表
わされるシアニン色素である色素Ａと併用する別の色素
Ｂとして下記一般式（ｍｂ）：Ｒ３１Ｒ３２ １／ｎ　（Ｙｃｎ−） ［但し、１（３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ］４、Ｒ３５お
よびＲ３６は、それぞれ独立に炭素原子数が１〜８の範
囲にある置換基を有していても良いアルキル基を表わし
、Ｒ３？は、水素原子または炭素原子数が１＋−８の範
囲にある置換基を有していても良いアルキル基、フェニ
ル基もしくはヘンシル基を表わし、Ｙａｎ−は、陰イオ
ンを表わし、そしてｎは１または２を表わすコ で表わされるインドレニン骨格を有するシアニン系色素
を用いてもよい。

さらに、上記一般式（Ｉａ）または一般式（Ｉｂ　）で
表わされるシアニン色素である色素Ａと該色素より短波
長側に吸収極大を有する色素Ｂとの混合比は、良好な記
録感度を得る上で、重量比で９１：９〜４０　：　６０
の範囲にあることが好ましく、さらに８２：１８〜５０
　：　５０の範囲にあることが好ましい。

耐光性を向上させるためにいわゆる一重項酸素クエンチ
ャーとして知られている種々の色素、例えば下記の一般
式（ｍ）、（ｍＶ）もしくは（Ｖ）で表わされる化合物
を併用することが好ましい。

（ただし、［Ｃａｔｌ”″はテトラアルキルアンモニウ
ムなどの非金属陽イオンを表わし、ＭはＮｉなど゛　の
遷移金属原子を表わし、２およびＺ゛は置換されていて
も良いベンゼン環、２−チオクツ−１゜３−ジチオール
環などの５ないし６員の芳香環もしくはペテロ環を完成
するための原子団を表わす） ２Ｑ−・・・・・（ＴＶ） ［式中Ｒは、置換基を有していてもよいアルキル基を表
わし、Ｑは一般式（１）のＸで示したものと同じ陰イオ
ンを表わす］ Ｑ−・　・　・　・　・　（Ｖ） ［式中Ｒは一般式（ＩＶ）と同義の基を表わし、Ｑは一
般式（ｍ）と同義の陰イオンを表わす］・上記一般式（
ＩＩＩ）、（ｒＶ）もしくは（Ｖ）で表わされるクエン
チャ−の具体例としては、ＰＡ−１００６（三井東圧フ
ァイン■）、ＩＲＧ−０２３、ＩＲＧ−０２２およびＩ
ＲＧ−００３（以上日本化薬■）などを挙げることがで
きる。

上記クエンチャ−の添加量は、上記一般式（１）の色素
１００重量部に対して５〜３０重量部が好ましい。

記録層の形成は、上記色素、さらに所望により上記クエ
ンチャ−１結合剤などを溶剤に溶解して塗布液を調製し
、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成し
たのち乾燥することにより行なうことができる。

本発明の色素層塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル
：メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソ
ブチルケトンなどのケトン：ジクロルメタン、１，２−
ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素二
ジメチルホルムアミドなどのアミド−シクロヘキサンな
どの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、
ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパツ
ール、イソプロパツール、ｎ−ブタノールジアセトンア
ルコールなどのアルコール；２゜２．３．３−テトラフ
ロロプロパツールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
などのグリコールエーテル類などを挙げることができる
。上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独また
は二種以上併用して適宜用いることができる。

塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、
潤滑剤など各種の添加剤を目的に応して添加してもよい
。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、たとえばゼラ
チン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム
などの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹
脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等
のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエ
チレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、
フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の
初期側金物などの合成有機高分子物質を挙げることがで
きる。

記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）
の範囲にあり、好ましくは１゜０〜９５％（重量比）の
範囲にある。このようにして調製される塗布液の濃度は
一般に０．０１〜１０％（重量比）の範囲にあり、好ま
しくは０．１〜５％（重量比）の範囲にある。

記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般に２
００〜３０００又の範囲にあり、好ましくは５００〜２
５００又の範囲にある。また、記録層は基板の片面のみ
ならず両面に設けられていてもよい。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。

さらに、本発明の情報記録媒体は、上記記録層の上に、
情報の再生時におけるＣ／Ｈの向上および反射率の向上
の目的で、反射層を設けることが必要である。

反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ
％Ｙ、Ｔｉ、２ｒ、Ｈｆ、ＶｌＮｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ
％Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ。

Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ％　Ｉｒ。

Ｐｔ、　　Ｃｕ、　　Ａｇ、　Ａｕ、　　Ｚｎ、　　Ｃ
ｄ、　ＡＮ、Ｇａ、　Ｉｎ、　　Ｓｉ、　　Ｇｅ、　　
Ｔｅ、　　Ｐｂ、　　Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属およ
び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。

これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃ
ｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌｌおよびステンレス鋼である。

これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以
上の組合せでまたは合金として用いてもよい。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。

反射層の層厚は一般にはｉｏｏ〜３０００Ｘの範囲にあ
る。

また、反射層の上には、記録層などを物理的および化学
的に保護する目的で保護層が設けられてもよい。この保
護層は、基板の記録層が設けられていない側にも耐傷性
、耐湿性を高める目的で設けられてもよい。

保護層に用いられる材料の例としては、Ｓｉ０、５ｉｎ
２　、　ＭｇＦ２　、　　ＳｎＯ２、Ｓｉ　３　Ｎ４等
の無機物質；熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＬＩＶ硬化
性樹脂等の有機物質を挙げることができる。

保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られた
フィルムを接着層を介して記録層（または銀塩層あるい
は反射層）上および／または基板上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。

また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥することによフても形成することが
できる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは
適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液
を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても
形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯
電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目
的に応じて添加してもよい。

保護層の層厚は一般には０．１〜１００μｍの範囲にあ
る。

本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚の
円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する
基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側ス
ペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体を製造することもできる。

本発明の情報記録媒体は上記のような方法で製造するこ
とができる。前記一般式（Ｉａ）または一般式（Ｉｂ　
）で表わされるインドレニン骨格を有するシアニン色素
である色素Ａを含む情報記録媒体は、色素系光ディスク
の中でも反射率が高く、且つ記録感度、Ｃ／Ｎ等の記録
再生特性において量・、比較的優れたものであり、さら
に耐久性の向上したものである。

特に、上記一般式（Ｉａ）または一般式（Ｉｂ　）で表
わされるインドレニン骨格を有するシアニン色素（色素
Ａ）と共に該色素より極大吸収が短波長側にある色素Ｂ
を用いた場合、記録感度、Ｃ／Ｎ、変調度等の記録再生
特性を殆ど低下させることなく、反射率を向上させるこ
とができ゛　る。

すなわち、上記一般式（Ｉａ　）または一般式（Ｉｂ　
）で表わされるインドレニン骨格を有するシアニン色素
（色素Ａ）は、極大吸収波長を７６０ｎｍ以下に有し、
記録再生に用いられるレーザー光の発振波長である７８
０ｎｍ前後の波長帯域では光吸収か比較的小さく反射率
と透過率の総和が大きい（一般に反射率が高い）という
特性を有する。例えば、ＣＤフォーマット信号を再生す
るためＣＤプレーヤーに使用されているレーザー光の波
長は、一般に７８０ｎｍである。従って、さらに反射率
を高めるためには、色素層の層厚を薄くして光の透過率
を高め、それが反射層で反射する光の量を増加させるこ
とにより可能であるか、このような方法ではＣ／Ｎ、変
調度等の記録再生特性が低下し易い。上記シアニン色素
（色素Ａ）より短波長側に吸収極大をもつ色素Ｂを併用
することにより、記録再生特性を低下させることなく反
射率を高くすることができる。このような色素Ａより吸
収極大を短波長側に有する色素は、レーザーの発振波長
である７８０ｎｍ前後では光の吸収率が色素Ａより小さ
くなり、逆に反射率と透過率の総和が大きくなる。反射
率が大きい場合は当然、光ディスクの上記レーザー光に
対する反射率も高くなるが、反射率が低くて透過率が高
い場合でも、透過した光が記録層上に設けられた反射層
で反射するため光ディスクの反射率は向上する。

反射率が上昇することによりＣ／Ｎ、変調度なとの向上
することから、（好ましくは添加量を前記範囲内で使用
することにより）記録再生特性を殆と低下させることは
ない。一方、色素Ｂは色素Ａより吸収極大を短波長側に
有するので託録感度の低下が懸念されるが、混合して使
用することにより記録感度の低下は起こり難い。

このように反射率が極めて高く且つ記録再生特性にも優
れた光ディスクは、耐光性を向上させるため一重頂クエ
ンチャーを添加しても所望の反射率を維持することがで
きる。すなわち、上記クエンチャ−を添加した場合には
、一般に光ディスクの反射率は低下するが、本発明の情
報記録媒体は反射率か７０％前後と顕著に高いため、ク
エンチャ−を添加しても高反射率を維持することができ
、市販のＣＤプレーヤで再生することができる。従って
、高反射率を有し且つ耐光性に優れた光ディスクも得る
ことができる。

一ト記情報記録媒体を用いて情報を記録および再生する
方法は、例えば次のように行なわれる。

まず、情報記録媒体を定線速度（ＣＤフォーマットの場
合は１．２〜１．４ｍ／秒）または定角速度にて回転さ
せながら、基板側から半導体レーザー光などの記録用の
光を照射する。この光の照射により、本発明では記録層
と反射層との界面に空洞を形成（空洞の形成は、記録層
または反射層の変形、あるいは両層の変形を伴なって形
成される）されるか、基板が肉盛り変形する、あるいは
記録層に変色、会合状態の変化等により屈折率か変化す
ることにより情報が記録さすると考えられる。一般に、
記録光としては５００ｎｍ〜９００ｎｍ（好ましくは７
５０ｎｍ〜８５０ｎｍ）の範囲の発振波長を有する半導
体レーザーヒームが用いられる。

情報の再生は、情報記録媒体を上記と同一の定線速度で
回転させながら半導体レーサー光を基板側から照射して
、その反射光を検出することにより行なうことかできる
。

以下余白 以下に、本発明の実施例を記載する。ただし、これらの
各側は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ 色素Ａとして前記一般式（Ｉａ　）で表わされるシアニ
ン色素（前記色素１−１７）２．０ｇを、２．２，３．
３−テトラフロロ−１−プロパツール（構造式：　ＨＣ
ＦｚＣＦ２ＣＨ２０Ｈ）　１００　ｃ　ｃに溶解し゛　
て色素層塗布液を調製した。

トラッキングカイトが設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板（外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、厚さ：
１．２ｍｍ、トラックピッチ＝１．６μｍ、グループの
幅：０．５μｍ、グループの深さ：９００λ）上に、塗
布液をスピンコード法により回転数１１００Ｏｒｐの速
度で塗布した後３０秒間乾燥して層厚が１３００λの記
録層を形成した。

上記記録層上にさらにＡｕをＤＣ（直流）スパッタ装置
を用いてスパッタリングして層厚１３００λの反射層を
形成した。

上記反射層上に、保護層としてＵＶ硬化性樹脂（商品名
・３０７０、スリーポンド社製）をスピンコード法によ
り回転数１５００ｒｐｍの速度て塗布した後、高圧水銀
灯にて紫外線を照射して硬化させ層厚３μｍの保護層を
形成した。

このようにして、基板、記録層、反射層および保護層か
らなる情報記録媒体を製造した。

［実施例２］ 実施例１において、色素塗布液にさらにクエンチャ−と
して下記の構造式を有するジインモニウム化合物（ＩＲ
Ｑ−０２３、日本化薬■製）０゜２ｇを加えて色素層塗
布液を調製した以外は実施例１と同様にして情報記録媒
体を製造した。

［実施例３］ 実施例１において、色素Ａとして前記一般式（Ｉａ　）
で表わされる前記色素（１−１７）２゜０ｇを１．６ｇ
に変え、さらに色素Ｂとして前記色素（ｆｆ−，１）０
．４ｇを用いた以外は実施例１と同様にして情報記録媒
体を製造した。

［実施例４］ 実施例３において、色素塗布液にさらにクエンチャ−と
して上記の構造式を有するジインモニウム化合物（ＩＲ
Ｇ−０２３、日本化薬■製）０゜２ｇを加えて色素層塗
布液を調製した以外は実施例３と同様にして情報記録媒
体を製造した。

［実施例５］ 実施例３において、色素Ａとして前記一般式（Ｉａ　）
で表わされる前記色素（１−１７）に代えて前記色素（
１−２１）を用いた以外は実施例３と同様にして情報記
録媒体を製造した。

［実施例６］ 実施例５において、色素塗布液にさらにクエンチャ−と
して上記の構造式を有するジインモニウム化合物（ＩＲ
Ｇ−０２３、日本化薬■製）０゜４ｇを加えて色素層塗
布液を調製した以外は実施例５と同様にして情報記録媒
体を製造した。

［実施例７コ 実施例４において、色素Ｂとして前記色素（ＩＩ−１）
に代えて前記色素（ＩＩ−２７）を用いた以外は実施例
４と同様にして情報記録媒体を製造した。

［比較例１〕 実施例１において、色素Ａである前記一般式（Ｉａ　）
で表わされるシアニン色素（前記色素■−１７）に代え
て下記の色素りを用いた以外は実施例１と同様にして情
報記録媒体を製造した。

ＣＩＯ，’ ［比較例２］ 比較例１において、色素塗布液にさらにクエンチャ−と
して上記ジインモニウム化合物（ＩＲＧ−０２３、日本
化薬■製）０．４ｇを加えて色素層塗布液を調製した以
外は比較例１と同様にして情報記録媒体を製造した。

上記実施例１〜７および比較例１〜２で得られ゛　た色
素塗布液の組成を第１表に示す。

以下余白 第１表 材料名　［重量比］ 色素Ａ　　／　　色素Ｂ　　／　　クエンチャ−実施例
１　１−１７［１００］／−−／−一実施例２　　Ｉ　
−１７［１００］　／−−／ＩＲＧＯ２３［１０］実施
例３　１−１７［８０］／　ＩＩ　−１［２０］／　−
一実施例４　１−１７［８０］／ｌｌ−１［２０］／Ｉ
ＲＧＯ２３［１０］実施例５　１−２１［８０］／　ｎ
　−１［２０］／　−一実施例６　１−２１［８０］／
ｌｌ−１［２０］／ＩＲＧＯ２３［２０］実施例７　１
−１７［８０］／　ＩＩ　−２７［２０］／ＩＲＧＯ２
３［１０］比較例Ｉ　　Ｄ　　［１００Ｆ／　　−−／
−−比較例２　　Ｄ　　［１００Ｆ　／　　−−／ＩＲ
ＧＯ２３［２０］以下余白 下記の実施例８〜１４および比較例３〜４は、上記実施
例１〜７および比較例１〜２において反射層の形成条件
のみ変えて行った。

［実施例８コ 実施例１において、反射層を形成するためのスパッタリ
ングをＤＣ（直流）スパッタ装置に代えてＲＦ（交流）
スパッタ装置を用いて行った以外は実施例１と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

［実施例９］ 実施例２において、反射層を形成するためのスパッタリ
ングをＤＣ（直流）スパッタ装置に代えてＲＦ（交流）
スパッタ装置を用いて行った以外は実施例２と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

［実施例１０］ 実施例３において、反射層を形成するためのスパッタリ
ングをＤＣ（直流）スパッタ装置に代えてＲＦ（交流）
スパッタ装置を用いて行った以外は実施例３と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

［実施例１１］ 実施例４において、反射層を形成するためのスパッタリ
ングをＤＣ（直流）スパッタ装置に代えてＲＦ（交流）
スパッタ装置を用いて行った以外は実施例４と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

［実施例１２］ 実施例５において、反射層を形成するためのスパッタリ
ングをＤＣ（直流）スパッタ装置に代えてＲＦ（交流）
スパッタ装置を用いて行った以外は実施例５と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

［実施例１３］ 実施例６において、反射層を形成するためのスパッタリ
ングをＤＣ（直流）スパッタ装置に代えてＲＦ（交流）
スパッタ装置を用いて行った以外は実施例６と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

［実施例１４］ 実施例７において、反射層を形成するためのスパッタリ
ングをＤＣ（直流）スパッタ装置に代えてＲＦ（交流）
スパッタ装置を用いて行った以外は実施例７と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

［比較例３］ 比較例１において、反射層を形成するためのス゛　バッ
タリングをＤＣ（直流）スパッタ装置に代えてＲＦ（交
流）スパッタ装置を用いて行った以外は比較例１と同様
にして情報記録媒体を製造した。

［比較例４］ 比較例２において、反射層を形成するためのスパッタリ
ングをＤＣ（直流）スパッタ装置に代えてＲＦ（交流）
スパッタ装置を用いて行った以外は比較例２と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

上記実施例８〜１４および比較例３〜４で得られた色素
塗布液の組成を第２表に示す。

第２表 材料名　［重量比］ 色素Ａ　　／　　色素Ｂ　　／　　クエンチャ−実施例
８　１−１７［１００］　／−−／−一実施例９　１−
１７［１００］／−−／ＩＲＧＯ２３［１０］実施例１
０　　ｒ　−１７［８０］／■−１［２（Ｉ］／−一実
施例１１　１−１７［８０］／ｌｌ−１［２０］／ＩＲ
ＧＯ２３［ＪＯ］実施例１２　１−２１［８０］／ｌ１
−１［２０］／−一実施例１３　１−２１［８０］／ｌ
ｌ−１［２０］／ＩＲＧＯ２３［２０］実施例１４　１
−１７［８０］／ｌｌ−２７［２０］／ＩＲＧＯ２３［
１０］比較例３　　Ｄ　　（ｔｏｏ］／　　−−／−−
比較例４　　Ｄ　　［＋ｏｏ］　／　　−−／ＩＲＧＯ
２３［２０］以下余白 上記実施例および比較例で用いられた色素およびクエン
チャ−について、２，２，３．３−テトラフロロ−１−
プロパツールに溶解して塗布液を調製し、これをガラス
板に塗布して約１３００λの層厚の色素層を形成し、吸
収極大波長を求めた。その結果は下記の通りである。

１−１７：７２０ｎｍ Ｉ　−２１：　７２５ｎｍ １１−１：６フ５ｎｍ ＩＩ−２７：３８０ｎｍ ＩＲＧ−０２３：９４０ｎｍ 色素Ｄ　：　７２０ｎｍ ［情報記録媒体の評価］ ｌ）反射率 上記で得られた情報記録媒体について、波長７８０ｎｍ
の半導体レーザー光をＮＡが０．５の対物レンズを通し
て照射して媒体の記録層に焦点を結び、定線速度１．３
ｍ／秒、再生パワー０．５ｍＷにて未記録の溝内をトラ
ッキングした時に、媒体から戻ってくる反射光量（Ｘ）
をフォトディテクターで測定した。次釘媒体を取り除い
て媒体のあった位置に同じフォトディテクターを置いて
入射光量（Ｙ）を測定した。

そして、（Ｘ／Ｙ）　Ｘ　１００　（％）を反射率とし
た。

２）Ｃ／Ｎ　　　　　　　　　　　　　　　ｊ上記で得
られた情報記録媒体を、１）と同し光学系（装置）を用
いて、半導体レーザーで溝内を定線速度１．３ｍ／秒ト
ラッキングしながら、記録パワー７．０ｍＷにて、変調
周波数７２０ｋＨｚ　（デユーティ−３３％）の信号を
記録した。そして記録された信号を０．５ｍＷの再生パ
ワーにて再生し、再生時のＣ／Ｎを、スペクトルアナラ
イザー（ＴＲ４１３５：アトパンテスト社製）を用いて
測定した。

３）感度 上記で得られた情報記録媒体を、１）と同じ光学系（装
置）を用いて、半導体レーザーで溝内を定線速度１．３
ｍ／秒トラッキングしながら記録パワーを変えながら、
変調周波数７２０ｋＨｚ（デユーティ−３３％）の信号
を記録したＪそして、上記２）で得られたＣ／Ｎを示す
最低の記録パワーを求めた。

４）耐溶剤性 上記実施例１〜７および比較例１〜２で得らゎた情報記
録媒体（第１表の媒体）を、シクロヘキサンの蒸気で飽
和された容器の中に室温で６時間゛　放置した後、上記
２）のＣ／Ｎを測定した。

上記測定結果を第３表（第１表の測定結果）および第４
表（第２表の測定結果）に示す。

以下余白 第３表 反射率　　Ｃ／Ｎ　　感度　溶剤性 （％）　　　（ｄ　Ｂ　）　　（ｍｌｆ）　　Ｃ／Ｎ（
ｄＢ）実施例１　　６８　　　５０　　５．５５０実施
例２　　６７　　　５０　　５．５５０実施例３　　７
４　　　５０　　６．０　５０実施例４　　７２　　　
５０　　６．０５０実施例５　　７３　　　５１　　６
．０５１実施例６　　７１　　　５１　　６．０５１実
施例７　　７６　　　５０　　６．０５０比較例１　　
７３　　　５０　　６．０４９比較例２　　６９　　　
５０　　６．０４８第３表より明らかなように、本発明
の特定のシアニン色素からなる記録層を有する光ディス
ク（実施例１〜７＼）は、高い反射率を有し且つＣ／Ｎ
についても高い水準を維持しながら、耐溶剤性試験後の
Ｃ／Ｎも試験前の値と変化せず、耐久性にも優わている
ことか分かる。

一方、反射率か高いことで一般的に知られているヘンゾ
イントレニン骨格を有する色素を用いた光ティスフ（比
較例１および２）は、実施例に比較すると耐溶剤性試験
後のＣ／Ｎか試験前の値より低下することから、耐久性
が劣っている。

以下余白 第４表 反射率　　Ｃ／Ｎ　　　感度 （％）　　　（ｄＢ）　　　（ｍＷ） 実施例１　　６８　　　５０　　　５．５実施例２　　
６７　　　５０　　　５．５実施例３　　７４　　　５
０　　　６．０実施例４　　７２　　　５０　　　６．
０実施例５　　７３　　　５１　　　６．０実施例６　
　７１　　　５１　　　６．０実施例７　　７６　　　
５０　　　６．０比較例１　　７３　　　４７　　　８
．０比較例２　　６９　　　４８　　　７．５第４表よ
り明らかなように、本発明の特定のシアニン色素からな
る記録層を有し、反射層の形成をＲＦスパッタで行った
光ディスク（実施例８〜１４）は、感度も良好で且つＣ
／ＮＬ”ついても高い水準を維持している。前記の反射
層の形成をＤＣスパッタで行った光ディスク（実施例１
〜７）と、感度およびＣ／Ｎにおいて低下が見られない
。従って、製造条件の適用性の広い色素記録層であると
いうことができる。

一方、同様に反射層の形成を行った前記従来のベンゾイ
ンドレニン骨格を有する色素を用いた光ディスク（比較
例３および４）は、反射層の形成をＤＣスパッタで行っ
た場合、あるいは上記実施例に比較して、感度、Ｃ／Ｎ
において劣っていることが分かる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １。基板上に、 下記の一般式（ I ａ）； ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ） および下記の一般式（ I ｂ）； ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｂ） ［但し、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３は、それぞれ独立
   に炭素原子数が１〜８の範囲にある置換基を有していて
   も良いアルキル基を表わし、Ｑは水素原子または炭素原
   子数が１〜８の範囲にある置換基を有していても良いア
   ルキル基、フェニル基もしくはベンジル基を表わし、Ｘ
   ＾ｐ＾−は、陰イオンを表わし、そしてｐは１または２
   を表わす］ で表わされるインドレニン骨格を有するシアニン系色素
   の少なくとも一種からなるレーザーにより情報の記録が
   可能な記録層が設けられ、さらに、該記録層上に、金属
   からなる反射層が設けられてなる情報記録媒体。 ２。基板上に、下記の一般式（ I ａ）； ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ） および下記の一般式（ I ｂ）； ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｂ） ［但し、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３は、それぞれ独立
   に炭素原子数が１〜８の範囲にある置換基を有していて
   も良いアルキル基を表わし、Ｑは水素原子または炭素原
   子数が１〜８の範囲にある置換基を有していても良いア
   ルキル基、フェニル基もしくはベンジル基を表わし、Ｘ
   ＾ｐ＾−は、陰イオンを表わし、そしてｐは１または２
   を表わす］ で表わされるインドレニン骨格を有するシアニン系色素
   の少なくとも一種からなる記録層が設けられ、さらに該
   記録層上に金属からなる反射層が設けられてなる情報記
   録媒体を回転させながら、該記録層上に基板側からレー
   ザーを照射して情報を記録することからなる光情報記録
   方法。