JPH0420166B2 - - Google Patents
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- JPH0420166B2 JPH0420166B2 JP8041783A JP8041783A JPH0420166B2 JP H0420166 B2 JPH0420166 B2 JP H0420166B2 JP 8041783 A JP8041783 A JP 8041783A JP 8041783 A JP8041783 A JP 8041783A JP H0420166 B2 JPH0420166 B2 JP H0420166B2
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- Japan
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- pattern
- light
- spatial filter
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- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 24
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 20
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 19
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 8
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 7
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95623—Inspecting patterns on the surface of objects using a spatial filtering method
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Analytical Chemistry (AREA)
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- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、メツシユのストライプ等の光透過性
単位パターンが規則的に繰り返し配列されたパタ
ーンのパターン欠陥検査方法に関する。
単位パターンが規則的に繰り返し配列されたパタ
ーンのパターン欠陥検査方法に関する。
上記のような規則的な繰り返しパターンの欠陥
を検査する方法として光学的フーリエ変換空間フ
イルター法が知られている。第１図はその原理を
示すものであり、レーザーヘツド１より出たレー
ザー光を集光レンズ２、ピンホール板３、コリメ
ーターレンズ４により、コヒーレントな平行光と
して被検パターン５に照射する。パターンの透明
部を通過した光はフーリエ変換レンズ６によりそ
の後焦点の位置に被検パターン５の光学的フーリ
エ変換スペクトルを生ずる。空間フイルター７は
前記フーリエ変換スペクトルを写真記録する等の
方法によつて作成した遮光パターンをもち正常な
被検パターン５のスペクトルを遮光する。被検パ
ターン５の光照射部にパターン欠陥があるとその
部分からの光は空間フイルター７を通過し、逆フ
ーリエ変換レンズ８により、スクリーン又は検出
器９の位置に欠陥像を形成する。この欠陥像を目
視又は光検出装置で検出する事により容易にパタ
ーンの欠陥部のみを検知する事ができる。
を検査する方法として光学的フーリエ変換空間フ
イルター法が知られている。第１図はその原理を
示すものであり、レーザーヘツド１より出たレー
ザー光を集光レンズ２、ピンホール板３、コリメ
ーターレンズ４により、コヒーレントな平行光と
して被検パターン５に照射する。パターンの透明
部を通過した光はフーリエ変換レンズ６によりそ
の後焦点の位置に被検パターン５の光学的フーリ
エ変換スペクトルを生ずる。空間フイルター７は
前記フーリエ変換スペクトルを写真記録する等の
方法によつて作成した遮光パターンをもち正常な
被検パターン５のスペクトルを遮光する。被検パ
ターン５の光照射部にパターン欠陥があるとその
部分からの光は空間フイルター７を通過し、逆フ
ーリエ変換レンズ８により、スクリーン又は検出
器９の位置に欠陥像を形成する。この欠陥像を目
視又は光検出装置で検出する事により容易にパタ
ーンの欠陥部のみを検知する事ができる。
この検査方法は繰り返しパターンの欠陥部のみ
を光学的に抽出するため精密な機構、電気的な欠
陥抽出回路等が不要となり装置化が容易であり、
また、パターン検査で使われるビデオ信号処理に
よる方法と比較し高速検査も容易である。反面被
検パターンと空間フイルターのパターンが対応し
ている為、検査するパターンの種類毎に空間フイ
ルターを用意しなければならずまた被検パターン
の検査領域内で光透過性単位パターンの繰り返し
ピツチ、配列角度、光透過性単位パターンの形、
大きさ等が変化する様なパターンは検査できない
等制約があり実用化の障害となつていた。
を光学的に抽出するため精密な機構、電気的な欠
陥抽出回路等が不要となり装置化が容易であり、
また、パターン検査で使われるビデオ信号処理に
よる方法と比較し高速検査も容易である。反面被
検パターンと空間フイルターのパターンが対応し
ている為、検査するパターンの種類毎に空間フイ
ルターを用意しなければならずまた被検パターン
の検査領域内で光透過性単位パターンの繰り返し
ピツチ、配列角度、光透過性単位パターンの形、
大きさ等が変化する様なパターンは検査できない
等制約があり実用化の障害となつていた。
本発明は空間フイルターの改良によりこれらの
欠点を除きフーリエ変換空間フイルター法による
欠陥検査法の検査可能パターンの種類を拡大し能
率を向上させるべく研究の結果、空間フイルター
として検査領域内で光透過性単位パターンの繰り
返しピツチ等の異なつた複数種のパターン部分の
透過光の光学的フーリエ変換スペクトルの像を複
合させて形成した、前記光学的フーリエ変換スペ
クトルの全てを遮光する遮光部を有する空間フイ
ルターを用いることにより所期の目的を達成し得
ることを見出だし、かかる知見にもとづいて本発
明を完成したものである。
欠点を除きフーリエ変換空間フイルター法による
欠陥検査法の検査可能パターンの種類を拡大し能
率を向上させるべく研究の結果、空間フイルター
として検査領域内で光透過性単位パターンの繰り
返しピツチ等の異なつた複数種のパターン部分の
透過光の光学的フーリエ変換スペクトルの像を複
合させて形成した、前記光学的フーリエ変換スペ
クトルの全てを遮光する遮光部を有する空間フイ
ルターを用いることにより所期の目的を達成し得
ることを見出だし、かかる知見にもとづいて本発
明を完成したものである。
即ち、本発明の要旨は、光透過性単位パターン
が規則的に繰り返し配列されたパターンに平行光
を照射し、欠陥のない繰り返しパターンによつて
生ずる回折光を遮光し、パターン欠陥部からの光
を通過させる空間フイルターを備え、通過した光
を目視又は光検出装置で検出するパターン欠陥検
出方法において、空間フイルターとして、検査領
域内で光透過性単位パターンの繰り返しピツチ等
が異なつた複数種のパターン部分の透過光の光学
的フーリエ変換スペクトルの像を複合させて形成
した、前記光学的フーリエ変換スペクトルの全て
を遮光する遮光部を有する空間フイルターを用い
ることを特徴とするパターン欠陥検出方法であ
る。
が規則的に繰り返し配列されたパターンに平行光
を照射し、欠陥のない繰り返しパターンによつて
生ずる回折光を遮光し、パターン欠陥部からの光
を通過させる空間フイルターを備え、通過した光
を目視又は光検出装置で検出するパターン欠陥検
出方法において、空間フイルターとして、検査領
域内で光透過性単位パターンの繰り返しピツチ等
が異なつた複数種のパターン部分の透過光の光学
的フーリエ変換スペクトルの像を複合させて形成
した、前記光学的フーリエ変換スペクトルの全て
を遮光する遮光部を有する空間フイルターを用い
ることを特徴とするパターン欠陥検出方法であ
る。
以下、本発明につき詳細に説明する。
本発明について説明する前に検査すべきパター
ンと従来の撮影型空間フイルターのパターンの関
係について説明する。
ンと従来の撮影型空間フイルターのパターンの関
係について説明する。
第２図は等ピツチ、等開口巾のストライプ状の
光透過性単位パターンを有する繰り返しパターン
の例を示す。図においてｐはパターンの繰り返し
ピツチ、ａは開口巾、１０は光透過性単位パター
ンを示す。次に第３図は第１図示の繰り返しパタ
ーンのパターン欠陥部検出用の撮影型空間フイル
ターの遮光部パターンを示す。
光透過性単位パターンを有する繰り返しパターン
の例を示す。図においてｐはパターンの繰り返し
ピツチ、ａは開口巾、１０は光透過性単位パター
ンを示す。次に第３図は第１図示の繰り返しパタ
ーンのパターン欠陥部検出用の撮影型空間フイル
ターの遮光部パターンを示す。
第３図示の撮影型空間フイルターのパターンに
おいて、被検パターンの透過光のフーリエ変換ス
ペクトルに対応するドツト列のピツチPfは被検
パターンの繰り返しピツチｐで決定されるもので
あり、又ドツト径ｄの変化は単位パターン（スリ
ツト状）の開口巾ａにより決定される。したがつ
て被検パターンの繰り返しピツチ又は開口巾が異
なれば正常パターンのフーリエ変換スペクトルと
空間フイルターパターンが一致せず正常パターン
からの光が空間フイルターを通過し検出部に達す
る為、欠陥識別のＳ／Ｎ比が低下し高精度な検出
ができない事となる。
おいて、被検パターンの透過光のフーリエ変換ス
ペクトルに対応するドツト列のピツチPfは被検
パターンの繰り返しピツチｐで決定されるもので
あり、又ドツト径ｄの変化は単位パターン（スリ
ツト状）の開口巾ａにより決定される。したがつ
て被検パターンの繰り返しピツチ又は開口巾が異
なれば正常パターンのフーリエ変換スペクトルと
空間フイルターパターンが一致せず正常パターン
からの光が空間フイルターを通過し検出部に達す
る為、欠陥識別のＳ／Ｎ比が低下し高精度な検出
ができない事となる。
本発明においては第３図示のような空間フイル
ターを改良した第４図示のような改良型空間フイ
ルターを用いるものである。
ターを改良した第４図示のような改良型空間フイ
ルターを用いるものである。
この改良型空間フイルターにおいては繰り返し
ピツチp1のストライプ状の光透過性単位パターン
（図示せず）に対応するドツトがピツチpf1のとこ
ろに表示されており、且つ繰り返しピツチp2のス
トライプ状の光透過性単位パターン（図示せず）
に対応するドツトがピツチpf2のところに表示さ
れており、両ドツト間が連続している。更に前記
のドツトより高次のドツトは相互に連続して棒状
に表示されている。即ち、この改良型空間フイル
ターにおいてはp1≦ｐ≦p2の範囲で徐々に変化す
る配列ピツチで配列された光透過性単位パターン
からなる複数種のパターン部分の透過光の光学的
フーリエ変換スペクトルの像に対応するドツトの
列が複合せしめられて表示されているものであ
る。従つて、この改良型空間フイルターにより、
被検パターンの繰り返しピツチｐがp1〜p2の間に
あり、口巾がｏ＜ａ＜ｐであるストライプ状の正
常パターンからの光で遮光し同時に欠陥部からの
光を通過させ得るものである。この改良型空間フ
イルターによれば等ピツチ等開口巾のストライプ
状パターンで繰り返しピツチｐがp1≦ｐ≦p2、開
口巾ａがｏ＜ａ＜ｐの種々のパターンが検査可能
であり、さらに繰り返しピツチｐの変化する範囲
がp1≦ｐ≦p2の範囲であれば検査領域内で徐々に
ピツチｐ及び開口巾ａが変化するパターンの検査
が可能である。
ピツチp1のストライプ状の光透過性単位パターン
（図示せず）に対応するドツトがピツチpf1のとこ
ろに表示されており、且つ繰り返しピツチp2のス
トライプ状の光透過性単位パターン（図示せず）
に対応するドツトがピツチpf2のところに表示さ
れており、両ドツト間が連続している。更に前記
のドツトより高次のドツトは相互に連続して棒状
に表示されている。即ち、この改良型空間フイル
ターにおいてはp1≦ｐ≦p2の範囲で徐々に変化す
る配列ピツチで配列された光透過性単位パターン
からなる複数種のパターン部分の透過光の光学的
フーリエ変換スペクトルの像に対応するドツトの
列が複合せしめられて表示されているものであ
る。従つて、この改良型空間フイルターにより、
被検パターンの繰り返しピツチｐがp1〜p2の間に
あり、口巾がｏ＜ａ＜ｐであるストライプ状の正
常パターンからの光で遮光し同時に欠陥部からの
光を通過させ得るものである。この改良型空間フ
イルターによれば等ピツチ等開口巾のストライプ
状パターンで繰り返しピツチｐがp1≦ｐ≦p2、開
口巾ａがｏ＜ａ＜ｐの種々のパターンが検査可能
であり、さらに繰り返しピツチｐの変化する範囲
がp1≦ｐ≦p2の範囲であれば検査領域内で徐々に
ピツチｐ及び開口巾ａが変化するパターンの検査
が可能である。
以上のように第４図示のような検査領域内で光
透過性単位パターンの繰り返しピツチ、配列角
度、及び各単位パターンの形、大きさ等が徐々に
変化した複数種のパターン部分の透過光の光学的
フーリエ変換スペクトルの像を複合させて形成し
た、前記光学的フーリエ変換スペクトルの全てを
遮光する遮光部を有する空間フイルターを用い、
場所により光透過性単位パターンの繰り返しピツ
チ、配列角度、及び各単位パターンの形、大きさ
等が徐々に変化したパターンの欠陥部を検出する
ことができる。
透過性単位パターンの繰り返しピツチ、配列角
度、及び各単位パターンの形、大きさ等が徐々に
変化した複数種のパターン部分の透過光の光学的
フーリエ変換スペクトルの像を複合させて形成し
た、前記光学的フーリエ変換スペクトルの全てを
遮光する遮光部を有する空間フイルターを用い、
場所により光透過性単位パターンの繰り返しピツ
チ、配列角度、及び各単位パターンの形、大きさ
等が徐々に変化したパターンの欠陥部を検出する
ことができる。
次に第５図は本発明において用いる別の改良型
空間フイルターを示す。
空間フイルターを示す。
第５図示の改良型空間フイルターにおいては繰
り返しピツチｐ＝p11の繰り返しパターンの透過
光の光学的フーリエ変換スペクトルの像と繰り返
しピツチｐ＝p12の繰り返しパターンの透過光の
光学的フーリエ変換スペクトルの像とを複合させ
てなる遮光部を有するものである。それであるか
らこの空間フイルター１つでｐ＝p11の繰り返し
パターンとｐ＝p12の繰り返しパターンの両者の
欠陥部の検出を行なうことができるものである。
り返しピツチｐ＝p11の繰り返しパターンの透過
光の光学的フーリエ変換スペクトルの像と繰り返
しピツチｐ＝p12の繰り返しパターンの透過光の
光学的フーリエ変換スペクトルの像とを複合させ
てなる遮光部を有するものである。それであるか
らこの空間フイルター１つでｐ＝p11の繰り返し
パターンとｐ＝p12の繰り返しパターンの両者の
欠陥部の検出を行なうことができるものである。
以上のように第５図示のような検査すべき複数
種類の規則的繰り返しパターンの透過光の光学的
フーリエ変換スペクトルの像を複合させて形成し
た、前記光学的フーリエ変換スペクトルの全てを
遮光する遮光部を有する空間フイルターを用い、
複数種類の規則的繰り返しパターンの欠陥部の検
出を行なうことができる。
種類の規則的繰り返しパターンの透過光の光学的
フーリエ変換スペクトルの像を複合させて形成し
た、前記光学的フーリエ変換スペクトルの全てを
遮光する遮光部を有する空間フイルターを用い、
複数種類の規則的繰り返しパターンの欠陥部の検
出を行なうことができる。
尚、以上のべた例は一次元的な繰り返しパター
ンの例であるが２次元の繰り返しパターン例えば
網目状パターンに対しても同様な効果が奏せられ
るものである。
ンの例であるが２次元の繰り返しパターン例えば
網目状パターンに対しても同様な効果が奏せられ
るものである。
第１図は光学的フーリエ変換空間フイルター法
の原理の説明図、第２図は繰り返しパターンの平
面図、第３図は第２図示のパターンの欠陥検出用
の撮影型空間フイルターパターンの平面図、第４
図は本発明において用いる改良型空間フイルター
の例の平面図、第５図は本発明において用いる改
良型空間フイルターの他の例の平面図である。 ｐ……被検パターンの繰り返しピツチ、ａ……
開口巾、pf……繰り返しピツチｐに対応する空間
フイルターのパターンのピツチ、ｄ……ドツト
径、pf1……ｐ＝p1のときのフーリエ変換スペク
トルのピツチ、pfd……ｐ＝p2のときのフーリエ
変換スペクトルのピツチ。
の原理の説明図、第２図は繰り返しパターンの平
面図、第３図は第２図示のパターンの欠陥検出用
の撮影型空間フイルターパターンの平面図、第４
図は本発明において用いる改良型空間フイルター
の例の平面図、第５図は本発明において用いる改
良型空間フイルターの他の例の平面図である。 ｐ……被検パターンの繰り返しピツチ、ａ……
開口巾、pf……繰り返しピツチｐに対応する空間
フイルターのパターンのピツチ、ｄ……ドツト
径、pf1……ｐ＝p1のときのフーリエ変換スペク
トルのピツチ、pfd……ｐ＝p2のときのフーリエ
変換スペクトルのピツチ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 光透過性単位パターンが規則的に繰り返し配
列されたパターンに平行光を照射し、欠陥のない
繰り返しパターンによつて生ずる回折光を遮光し
パターン欠陥部からの光を通過させる空間フイル
ターを備え、通過した光を目視又は光検出装置で
検出するパターン欠陥検出方法において、空間フ
イルターとして、検査領域内で光透過性単位パタ
ーンの繰り返しピツチ等が異なつた複数種のパタ
ーン部分の透過光の光学的フーリエ変換スペクト
ルの像を複合させて形成した、前記光学的フーリ
エ変換スペクトルの全てを遮光する遮光部を有す
る空間フイルターを用いることを特徴とするパタ
ーン欠陥検出方法。 ２ 前記空間フイルターとして検査領域内で光透
過性単位パターンの繰り返しピツチ、配列角度、
及び各単位パターンの形、大きさ等が徐々に変化
した複数種のパターン部分の透過光の光学的フー
リエ変換スペクトルの像を複合させて形成した、
前記光学的フーリエ変換スペクトルの全てを遮光
する遮光部を有する空間フイルターを用い、光透
過性単位パターンの繰り返しピツチ、配列角度、
及び各単位パターンの形、大きさ等が徐々に変化
したパターンの欠陥部の検出を行なうことを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載のパターン欠陥
検出方法。 ３ 前記空間フイルターとして検査すべき複数種
類の規則的な繰り返しパターンの透過光の光学的
フーリエ変換スペクトルの像を複合させて形成し
た、前記光学的フーリエ変換スペクトルの全てを
遮光する遮光部を有する空間フイルターを用い、
複数種類の規則的繰り返しパターンの欠陥部の検
出を共通の空間フイルターで行なうことを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載のパターン欠陥検
出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8041783A JPS59204820A (ja) | 1983-05-09 | 1983-05-09 | パタ−ン欠陥検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8041783A JPS59204820A (ja) | 1983-05-09 | 1983-05-09 | パタ−ン欠陥検出方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59204820A JPS59204820A (ja) | 1984-11-20 |
| JPH0420166B2 true JPH0420166B2 (ja) | 1992-03-31 |
Family
ID=13717713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8041783A Granted JPS59204820A (ja) | 1983-05-09 | 1983-05-09 | パタ−ン欠陥検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59204820A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004177377A (ja) | 2002-11-29 | 2004-06-24 | Hitachi Ltd | 検査方法および検査装置 |
-
1983
- 1983-05-09 JP JP8041783A patent/JPS59204820A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59204820A (ja) | 1984-11-20 |
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