JPH04202173A - スルホンアミド誘導体及びそれを含有する5―リポキシゲナーゼ阻害剤 - Google Patents

スルホンアミド誘導体及びそれを含有する5―リポキシゲナーゼ阻害剤

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JPH04202173A
JPH04202173A JP32972190A JP32972190A JPH04202173A JP H04202173 A JPH04202173 A JP H04202173A JP 32972190 A JP32972190 A JP 32972190A JP 32972190 A JP32972190 A JP 32972190A JP H04202173 A JPH04202173 A JP H04202173A
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JP
Japan
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group
hydroxy
lower alkyl
dimethylphenyl
sulfonamide
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Pending
Application number
JP32972190A
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English (en)
Inventor
Kazuhiro Kumagai
熊谷 一紘
Seiichi Niwa
丹羽 誠一
Masaaki Nagasawa
正明 長澤
Toru Abe
亨 阿部
Takeshi Komata
小俣 武志
Yoshihide Segawa
美秀 瀬川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeria Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Zeria Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、下記−形成(1)及び(II)で表されるス
ルホンアミド誘導体及びそれを含有するりボキシゲナー
ゼ阻害剤に関する。
〈以下余白〉 (式中、Aは置換基を有していてもよい炭素数O〜4の
飽和又は不飽和の炭素鎖を示し、Bは置換基を有してい
てもよいフェニル基、ナフタレニル基、キノリニル基、
インキノリニル基、ピロリル基、アズレニル基、フラニ
ル基、ベンゾチオフェニル基、チアゾイル基、チオフェ
ニル基またはピリジニル基もしくは低級アルキル基を示
し R1は水素原子、低級アルキル基またはアシル基を
示し、R2、R3、RA及びR5は同−又は異なってそ
れぞれ水素原子、ヒドロキシ基、低級アルキル基、シク
ロアルキル基、アルコキシ基、アシル基またはハロゲン
原子を示し、R6は水素原子、ヒドロキシ基、アルコキ
シ基、アシル基または低級アルキル基を示す。) (II) (式中、Aは置換基を有していてもよい炭素数0〜4の
飽和又は不飽和の炭素鎖を示し、Bは置換基を有してい
てもよいフェニル基、ナフタレニル基、キノリニル基、
インキノリニル基、ピロリル基、アズレニル基、フラニ
ル基、ベンゾチオフェニル基、チアゾイル基、チオフェ
ニル基またはピリジニル基もしくは低級アルキル基を示
し、R2、R3、R4及びR5は同−又は異なってそれ
ぞれ水素原子、ヒドロキシ基、低級アルキル基、シクロ
アルキル基、アルコキン基、アシル基またはハロゲン原
子を示す。) [従来の技術] リボキノゲナーゼはアラキドン酸の代謝に関与すること
が知られており、5−リボキンゲナーゼはアラキドン酸
の5位を酸化する酵素で、化学伝達物質であるS RS
 ”−A (Slot Reacting 5ubst
ance of Anaphylaxis)の生成経路
に関与すると考えられている( Biochem、 B
iophys、 Res、 Commun、 、 91
.1266(1979)、 Prostaglandj
’ns、19.645(1980))。
一方、スルホンアミド誘導体は血圧降下作用や抗脂血症
作用が報告(特開平2−255652号公報)されてい
るが、5−リボ牛シゲナーゼ阻害作用については知られ
ていない。
[発明が解決しようとする問題点] 5−リポキシゲナーゼによって生成される5RS−Aは
、各種アレルギー性疾患の発現に関与する重要な因子と
考えられている。
従って、喘息、炎症、腎炎、肝炎、膵炎、乾癩、痴呆、
心疾患、血管障害、免疫障害、痛風等の各種アレルギー
性疾患の治療薬として有効で安全な5−リポキシゲナー
ゼ阻害剤の開発が望まれていた。
[問題点を解決するための手段] 本発明者らは、5R3−Aに起因する上記各種アレルギ
ー性疾患に有効な5−リボ牛シゲナーゼ阻害剤を創製す
べく鋭意研究を行い、本発明を完成するに至った。
本発明における低級アルキル基としては、炭素数1〜6
の直鎖又は分枝鎖のアルキル基が挙げられ、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル基及びそ
の異性体が好ましい。またシクロアルキル基としてはシ
クロペンチル、シクロヘキシル基をさす。アルコキン基
としては炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖のものが挙げら
れ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ基及び
その異性体が好ましい。アシル基としては、炭素数2〜
4のアルカノイル基が挙げられ、アセチル、プロピオニ
ル、ブタノイル基等が好ましい。ノ10ゲン原子として
は、塩素、臭素、フッ素またはヨウ素原子が挙げられる
。
本発明化合物(1)は例えば以下の通り製造することが
できる。
く以下余白〉 (m)              (TV)(式中、
 A、  B5R1、R2、R3、R4、R5及びR6
は前記と同意義であり、Xはハロゲン原子を示す。
すなわち、一般式(m)で表されるフェニル誘導体と一
般式(IV)で表される化合物を反応させることにより
、一般式(I)で表される本発明化合物が製造される。
上記の反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中で行うこ
とが好ましい。溶媒としては、例えば水;酢酸メチル、
酢酸エチル等のエステル類; ジメチルホルムアミド、
ジエチルホルムアミド等のアミド類; ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン等のエーテル類、アセトニトリル、ジメチルス
ルホキノド等、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素; ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素などを単独もしくは混合して使用するこ
とができる。反応温度は使用する原料化合物に応じて変
化させればよく、通常は常圧下、OoCないし還流温度
の範囲で選ぶのが有利である。
また本反応において無機塩基または有機塩基の存在は有
利であり、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基または
トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、DB
U(1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウン
デセン)、ピリジン、酢酸ナトリウム等の有機塩基を反
応に加えることが好ましい。
本発明化合物(n)は例えば以下の通り製造することが
できる。
く以下余白〉 酸化 (式中、A、  B、  R2、R3、R4及びRsは
前記と同意義である。) すなわち、一般式(Ia)で表されるスルホンアミド誘
導体を酸化することにより、一般式(■)′で表される
本発明化合物が製造される。
上記の反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中で行うこ
とが好ましい。溶媒としては、例えば水;メタノール、
エタノール等のアルコール類; ジメチルホルムアミド
、ジエチルホルムアミド等のアミド類; テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル類; アセトニトリル
、酢酸等、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン
化炭化水素;ベンゼン、 トルエン、キンレン等の芳香
族炭化水素などを単独もしくは混合して使用することが
できる。
酸化剤としては一般的に用いられるものでよく、例えば
硝酸ニアンモニウムセリウム、四酢酸鉛、二酸化鉛、二
酸化マンガン、二酸化セレン、クロム酸類、四酸化オス
ミウム、過ヨウ素酸、酸化銀、フレミー塩、炭酸銀等を
使用することができる。
反応温度は使用する原料化合物に応じて変化させればよ
く、通常は常圧下、0°Cないし還流温度の範囲で選ぶ
のが有利である。
かくして得られた本発明化合物(1)及び(II)の代
表的なものとして次の化合物が挙げられる。
・N−(4−ヒドロキン−3,5−ジメチルフェニル)
メタンスルホンアミド ・N−(4−ヒドロキン−3,5−ジメチルフェニル)
ペンタンスルホンアミド ・N−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)
ベンゼンスルホンアミド ・N−(4−ヒドロキン−3,5−ジメチルフェニル)
ピリノンスルホンアミド ・N−(4−ヒドロキ/−3,5−ジメチルフエニル)
インキノリン−5−スルホンアミド・N−(4−ヒドロ
キシ−3,5−ジメチルフェニル)−1−メチルビロー
ル−2−スルホンアミド ・N−(4−ヒドロ牛シー3,5−ジメチルフェニル)
フラン−2−スルホンアミド ・N−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)
ベンゾ[blチオフェン−4−スルホンアミド ・N−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)
グアイアズレン−3−スルホンアミド・N−(4−ヒド
ロ牛シー3,5−ジメチルフェニル)チアゾール−2−
スルホンアミド・4−メチル−N−(4−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)ベンゼンスルホンアミド・
4−クロロ−N−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル
フェニル)ベンゼンスルホンアミド・N−(4−ヒドロ
キシ−3,5−ジメチルフェニル)チオフェン−2−ス
ルホンアミド・N−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチ
ルフェニル)ナフタレン−1−スルホンアミド・N−(
4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ナフタレ
ン−2−スルホンアミド・N−(4−ヒドロキ/−3,
5−ジメチルフェニル)キノリン−8−スルホンアミド ・3−メチル−N−(4−ヒドロキン−3,5−ジメチ
ルフェニル)チオフェン−2−スルホンアミド ・4−メチル−N−(4−ヒドロ牛シー3,5−ジメチ
ルフェニル)ナフタレン−1−スルホンアミド ・5−エチル−N−(4−ヒドロキン−3,5−ジメチ
ルフェニル)ナフタレン−1−スルホンアミド ・8−メチル−N−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチ
ルフェニル)ナフタレン−1−スルホンアミド ・5−メチル−N−(4−ヒドロキ/−3,5−ジメチ
ルフェニル)ナフタレン−2−スルホンアミド ・6−メチル−N−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチ
ルフェニル)ナフタレン−2−スルポンアミド ・N−[4−ヒドロキシ−3,5−ビス(1−メチルエ
チル)フェニルコメタンスルホンアミド・N−[4−ヒ
ドロキン−3,5−ビス(1−メチルエチル)フェニル
]ベンゼンスルホンアミド・N−[4−ヒドロキシ−3
,5−ビス(1−メチルエチル)フェニル]ナフタレン
ー1−スルホンアミド ・N−[4−ヒドロキシ−3,5−ビス(1−メチルエ
チル)フェニルコナフタレンー2−スルホンアミド ・4−メチル−N−[4−ヒドロ牛シー3.5−ビス(
,1−メチルエチル)フェニル]ベンゼンスルホンアミ
ド ・4−クロロ−N−[4−ヒドロキン−315=ビス(
1−メチルエチル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド ・N−[4−ヒドロキン−3,5−ビス(1−メチルエ
チル)フェニルコチオフェン−2−スルホンアミド ・11−[3,5−ビス(l、1−ジメチルエチル)−
4−ヒドロキンフェニル]ナフタレン−2−スルホンア
ミド ・4−メチル−N−[3,5−ビス(1,1−ジメチル
エチル)−4−ヒドロ牛ジフェニル]ベンゼンスルホン
アミド ・4−クロロ−N−[3,5−ビス(1,1−ジメチル
エチル)−ll−ヒドロ+7フエニルJベンゼンスルホ
ンアミド ・N−(3,4,5−トリメトキシフェニル)チオフェ
ン−2−スルホンアミド ・4−メチル−N−(3,4,5−トリメトキシフェニ
ル)ベンゼンスルホンアミド ・N−(4−ヒドロ牛シー3.5−ジメトキンフェニル
)ナフタレン−1−スルホンアミド・N−(4−ヒドロ
キシ−3,5−ジメトキシフェニル)チオフェン−2−
スルホンアミド・4−メチル−N−(4−ヒドロキシ−
3+ 5−ジメトキシフェニル)ベンゼンスルホンアミ
ド・4−メチル−N−(4−ヒドロキシフェニル)ベン
ゼンスルホンアミド ・N−(3,5−ジメチル−4−オキソ−2,5−シク
ロへキサジエン−1−イリデン)ベンゼンスルホンアミ
ド ・N−(3,5−ジメチル−4−オキソ−2,5−シク
ロへキサジエン−1−イリデン)チオフェン−2−スル
ホンアミド ・N−(3,li−ジメチル−4−オキソ−2,5−シ
クロへキサジエン−1−イリデン)ナフタレン−2−ス
ルホンアミド ・4−メチル−N−(3,5−ジメチル−4−オキソ−
2,5−シクロへキサジエン−1−イIJ テン)ベン
ゼンスルホンアミド ・N−(3,5−ジメトキシ−4−オキソ−2゜5−シ
クロへキサジエン−1−イリデン)ベンゼンスルホンア
ミド ・N−(3,5−ジメトキシ−4−オキソ−2+5−シ
クロへキサジエン−1−イリデン)ナツタシン−l−ス
ルホンアミド ・4−メチル−N−(3,5−ジメトキシ−4−オキソ
−2,5−フクロヘキサジエン−1−イリデン)ベンゼ
ンスルホンアミド ・4−メチル−N−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェ
ニル)ベンゼンスルホンアミド ・4−メチル−N−(4−アセトキシ−3,5−ジメチ
ルフェニル)ベンゼンスルホンアミド・4−メチル−N
−メチル−N−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフ
ェニル)ベンゼンスルホンアミド ・4−クロロ−N−メトキシ−N−(4−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)ベンゼンスルホンアミド ・2−クロロ−N−ヒドロキン−N−(4−ヒドロキ/
−3,5−ジイソプロピルフェニル)ベンゼンスルホン
アミド ・N−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)
フェニルメタンスルホンアミド ・N−(4−ヒドロキ/−3,5−ジメチルフェニル)
−2−フェニル−(E)−エテンスルホンアミド ・N−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)
−2−(3−チエニル)−(E)−エテンスルホンアミ
ド ・4−メチル−N−(4−ヒドロキシ−2,3゜5−ト
リメチルフェニル)ベンゼンスルホンアミド 本発明化合物(1)及び(II)は、後記に示すごとく
優れた5−リポキシゲナーゼ阻害作用を有し、かつ安全
性も高いので、各種アレルギー性疾患の治療剤、例えば
抗炎症剤、腎炎、肝炎及び膵炎の治療剤、痛風治療剤、
抗痴呆剤、乾廁治療剤、免疫治療剤、心疾患治療剤、血
管障害予防および/または治療剤及び抗喘息薬として有
効である。
本発明化合物(1)及び(II)は、製薬上許容される
補助剤を配合して、経口投与あるいは非経口投与用製剤
として使用することができる。
経口投与用の製剤としては、上記化合物を適当な添加剤
、たとえば乳糖、マンニット、トウモロコシデンプン、
結晶セルロース等の賦形剤、セルロース誘導体、アラビ
アゴム、ゼラチン等の結合剤、カルボキンメチルセルロ
ースカルシウム等の崩壊剤、タルク、ステアリン酸マグ
ネシウム等の滑沢剤等々と適当に組み合わせることによ
り錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤とすることができる
。
また、これらの、固型製剤をヒドロキシプロピルメチル
セルロースフタレート、ヒドロキンプロピルメチルセル
ロースアセテートサクシネート、セルロースアセテート
フタレート、メタアクリレートコーポリマーなどの被覆
用基剤を用いて腸溶性製剤とすることができる。
経口投与用の液剤としては、乳濁剤、溶液剤、懸濁剤、
シロップ剤、エリキシル剤等を含み、−膜内に用いられ
る不活性な希釈剤、例えば精製水、エタノールを含むこ
とができる。この組成物は不活性な希釈剤以外に湿潤剤
、懸濁剤のような補助剤、甘味剤、風味剤、芳香剤、防
腐剤を含有していてもよい。その他、公知の方法により
処方されるスプレー剤とすることもできる。
非経口投与用の製剤としては、例えば水、エタノール、
グリセリン、慣用な界面活性剤等を組み合せることによ
り注射用液剤とすることができる。
さらに、公知の方法により処方される吸入剤、外用液剤
、点眼剤、点鼻剤、軟膏のような塗布剤とすることがで
きる。
本発明化合物(I)及び(II)の投与量は年齢、体重
、症状、治療効果、投与方法、投与期間により異なるが
、通常、0.1〜1ooomg/日、好ましくは0.5
〜500mg/日の投与範囲で1日1〜3回の範囲で経
口投与するか、又は0.1〜500mgの範囲で1日1
回〜数回非経口投与する。
[作用] く5−リポキシゲナーゼ阻害活性〉 TERASIIITA等の方法に準じて行った( Th
rombo−sis research、41,223
−237.1986)。
即ち、ラット好塩基球性白血病細胞(RBL−1)を培
養液RPM1 1640中で37℃、5%C02インキ
ユベーター中、4日間培養後、ディッンユに付着したR
BL−1細胞(adhesive RBL2O− −1)を採取した。得られたRBL−1細胞(2,5x
 10 ’cells/ ml)に被検化合物を加え、
さら1こアラキドン酸(0,2mM)を基質として加え
て一定時間インキニベーションした。一方、被検化合物
を加えずにアラキドン酸を加え同様に操作したものを対
照とした。インキュベーション後遠心分離して得られた
上清について、高速液体クロマトグラフィーを用い、上
記反応の生成物である5−ヒドロキシエイコサテトラエ
ン酸(5−HETE)を定量した。
被検化合物の5−リポキシゲナーゼ阻害活性(ICsI
l値)は、対照の酵素活性を50%阻害する濃度(μM
)として求めた。結果を以下の表に示した。
〈以下余白〉 4〜5遍齢のICR系マウス(チャールス・リバー社)
を1群10匹として用いた。実施例1〜15の化合物を
5%アラビアゴムに懸濁した後、それぞれaoomg/
kgの用量にて経口投与し、7日間にわたり観察を行っ
た。その結果、本発明化合物の毒性に起因した死亡例は
認められながった。
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが
、本発明はこれらにより限定されるものではない。
実施例I N−[4−ヒドロキン−3,5−ビス(1−メチルエチ
ル)フェニルコチオフェン−2−スルホンアミド アルゴン気流下、2.6−シメチルー4−アミノフェノ
ール塩酸塩1.73g (0,01mol)を酢酸エチ
ル50m1に懸濁し、水50m1及び炭酸水素ナトリウ
ム2.52 g (0,03mo I )を加え、室温
にて10分間攪拌した。攪拌後、2−チオフェンスルホ
ニルクロライド1.80g(0,01mo+)の酢酸エ
チル溶液を徐々に滴下し、さらに30分間攪拌した。1
0%塩酸を加え酢酸エチルで抽出した後、酢酸エチル層
を10%塩酸、飽和食塩水の順で充分に洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去した後、得られ
た残香を7リカゲルカラムクロマトグラフイー(りロロ
ホルム: イソプロピルエーテル=1:  1)にて精
製した。得られた結晶物をイソプロピルエーテルから再
結晶し、N−[4−ヒドロキシ−3゜5−ビス(i−メ
チルエチル)フェニルコチオフェン−2−スルホンアミ
ドを得た。収率55%。
融点= 137〜139℃ MS (m/z) :  339 IR(nujol)cm−’:  3510.3210
.1338.1308.1145 NMR(DMSO−d6)δ:1.’04(12H、d
)、3.06〜3.32 (2H,m)、6.66 (
2H,s) 、7.10 (I H,d d) 、7.
37 (I H,dd)、7.86 (IH,dd)、
7.98 (11(、s)、9.70  (IH,s)
       、実施例2 4−メチル−N−(3,5−ジメトキシ−4−オキソ−
2,5−シクロヘキサジエン−1−イリデン)ベンゼン
スルホンアミド く以下余白〉 4−メチル−N−(3,4,5−トリメトキシフェニル
)ベンゼンスルホンアミド3.3’7gをアセトニトリ
ル30 mlに溶解ル、攪拌下硝酸ニアンモニウムセリ
ウムl1gの水溶液30m1を滴下した。析出した結晶
を濾取しシリカゲルカラムクロマトクラフィー(クロロ
ホルム)にて精製し、4−メチル−N−(3,’)−ジ
メトキシ−4−オキソ−2,5−シクロへキサジエン−
1−イリデン)ベンゼンスルホンアミドを2.42g得
た。収率75%。
融点・ 172〜173℃ MS (rn/z) :  323 IR(KBr)cm−’:  1690.1585.1
310.1J50.111O NMR(CDCl2)δ:  2.46 (3H1,s
)。
3.81 (3H,s) 、3.94 (3H,s’)
 、6.01(I  H,d)  、7.2 8  (
I  H,d)  、7.3 6  (2H、d)、7
.90.(2H,d) 実施例3〜実施例28 実施例1または実施例2と同様の方法で実施例3〜実施
例28の化合物を得た。
各々の化合初冬、構造式及び物理定数は以下の通りであ
る。
実施例3 N−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ナ
フタレン−2−スルホンアミド融点: 冒9〜150℃ M S (m / z ) :  327IR(nuj
ol)cm−’:  3480.3260,1318.
1300.1160.1123 実施例4 4−クロロ−N−(4−ヒドロキ/−3,5=ジメチル
フェニル)ベンゼンスルホンアミド融点: 144〜1
46℃ MS (m/z) :  311 1R(nujol)cm−’:  3580,3275
.1325.1308 実施例5 N二(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)チ
オフェン−2−スルホンアミド融点= 130〜132
℃ MS (m/z):  283 IR(nujol)cm−’:  3540,3270
,1338.1310 実施例6 N−(4−ヒドロキン−3,5−ジメチルフェニル)−
2−フェニル−(E)−エテンスルホンアミド 融点: 110〜111℃ MS  (m/z):  aoa IR(KBr)cm−’:  3540.3280.1
390.1310.1140 実施例7 N−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ナ
フタレン−1−スルポンアミド   −融点= 178
〜179℃ M5  (m/z)  :  、3 2 7IR(KB
r)cm−’:  3500.3240,1310 .
1155 .1125 実施例8 4−メチル−N−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメトキ
シフェニル)ベンゼンスルホンアミド融点: 142〜
143℃ MS (m/z):  3.23 IR(KBr)cm−’:  3450,3260.1
320.1160.1115 実施例9 4−メチル−N−(4−ヒドロ牛シー3+ 5=ジメチ
ルフエニル)ベンゼンスルホンアミド〈以下余白〉 一29= 融点: 104〜106°C MS  (m/ z)  :  2 9 11R(nu
jol)  cm−’:  3540.3240.1 
375.1150 実施例10 4−メチル−N−[4−ヒドロキシ−3,5=ビス(1
−メチルエチル)フェニルコベンゼンスルホンアミド 融点: 161〜162℃ MS  (m/z):  347 IR(nujol)cm−’:  3530.3270
,1 590.1370.1315 実施例11 N−[4−ヒドロキン−3,5−ビス(1−メチルエチ
ル)フェニルコベンゼンスルホンアミド融点: 146
〜150℃ MS (m/z) :  333 IR(nujol)cm−’:  3520.3300
,1375.1305.1150 実施例12 4−クロロ−N−[4−ヒドロキシ−3,5−ビス(1
−メチルエチル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド 融点; 149〜151℃ M5  (m/z):  367 IR(nujol)   am−’:   3560.
3260,1375 .1310.1240 実施例13 N−[4−ヒドロキシ−3,5−ビス(1−メチルエチ
ル)フェニルコメタンスルホンアミド融点: 165〜
167℃ MS (m/z):  271 1 R(nujol) cm−’:  3510,32
40,1375.13’00,1245 実施例14 4−メチル−N−[3,5−ビス(1,l−ジメチルエ
チル)−4−ヒドロ牛/フェニル]ベンゼンスルホンア
ミド 〈以下余白〉 融点: 179〜181℃ MS  (m/ z)  :  3 7 5IR(nu
jol)  cm−’:  3620,3250.13
75 .1320.1215 実施例15 N−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ベ
ンゼンスルホンアミド 融点= 157〜159℃ MS (m/z):  277 I R(nujol) Cm−1:  3480,32
40.1375.1305.1210 実施例16 =33− N−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)メ
タンスルホンアミド 融点: 135〜136℃ MS (m/z) :  215 IR(nujol)cm−’:  3530,3280
,1370.1300.1240 実施例17 4−メチル−N−(3,4,5−)リメトキシフェニル
)ベンゼンスルホンアミド 融点= 142〜143°C MS (m/z) :  a 37 I  R(nujol)  cm”:  3 280,
1 375.1 325.1235 実施例18 4−メチル−N−(4−ヒドロ手ジフェニル)ベンゼン
スルホンアミド 融点: 145〜147℃ MS (m/z) :  263 IR(nujol)  cm−’:  3240,15
95.1375.1330.1235 実施例19 4−クロロ−N−[3,,5−ビス(1,l−ジメチル
エチル)−4−ヒドロキ/フェニルコベンゼンスルホン
アミド 融点= 203〜205℃ MS  (m/z):  395 IR(nujol)  cm−’:  3620.32
3Q、159 0.1 3 7 5.1 3 2 0実
施例2O N−(4−ヒドロ牛シー3,5−ジメチルフェニル)キ
ノリン−8−スルホンアミド 融点= 235〜238℃ MS (m/z):  328 I R(nujol) cm−’:  1628.15
99.1338.1289,1205.1147 実施例21 N−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ピ
リジン−3−スルホンアミド 〈以下余白〉 融点= 190〜192℃ MS  (m/z):  278 IR(KBr)  cm−’:  3220,1580
,1480.1325.1210,1160.1025
実施例22 4−メチル−N−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニ
ル)ベンゼンスルホンアミド 融点= 180〜182℃ MS (m/z):  277 IR(KBr)cm−’:  3440,3250,1
515.1385.1305..1155実施例23 4−メチル−N=(4−アセトキシ−3,5−ジメチル
フェニル)ベンゼンスルホンアミド融点= 160〜l
 61 ”C MS (m/z):  33s IR(KBr)cm−’:  3210.1755,1
385.1320,1185.1155実施例24 4−メチル−N−メチル−N−(4−ヒドロキシ−3,
5−ジメチルフェニル)ベンゼンスルホンアミド 融点: 156〜157℃ MS  (m/z)  :  1 5 6−1 5 7
 ℃IR(KBr)  am−1:  3450.1 
485,1325,1210,1150.1080実施
例25 N−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フ
ェニルメタンスルホンアミド 融点・ 160〜162℃ MS (m/z) :  291 1R(nujol)   cm−’  二  3505
.3300,1600.1375,1300.1240 実施例26 N−(4−ヒドロキノ−3,5−’;メチルフェニル)
ペンタンスルホンアミド 油状物 MS (m/Z) :  271 1R(neat)cm−’:  3480,3250,
1720.1610,1485.1375 実施例27 4−メチル−N−(4−ヒドロキシ−2,3゜5−トリ
メチルフェニル)ベンゼンスルホンアミド 融点: 160〜161℃ MS  (m/z):  305 I  R(nujol)  cm−’:  3 49 
0,3 1 7 0,1 605.1380,1310
.1250 実施例28 4−メチル−N−(3,5−ジメチル−4−オキ7−2
.5−シクロへキサジエン−1−イリデン)ベンゼンス
ルホンアミド 融点= 102〜103℃ MS  (m/z):  289 IR’(KBr)  cm−’:  3290,164
5,16 1 0.1 5 5 5,1 3 7 0.
1 3 1 5製剤例1 実施例1の化合物         50g乳糖   
           315gトウモロコシデンプン
      125g結晶セルロース        
  25g上記成分を均一に混合し、7.5%ヒドロキ
シプロピルセルロース水溶液200m1を加え、押出し
造粒機により、直径0.5mmスクリーンを用いて顆粒
とし、直ちにマルメライザーにより丸めた後、乾燥し顆
粒剤とした。
この乾燥顆粒剤に下記組成のフィルムコーティング液1
.9kgを流動層造粒機を用いてコーティングし、腸溶
性顆粒剤とした。
コーティング液組成: ヒドロキシプロビルメチルセルロース フタレート      5.0    (w/w)%ス
テアリン酸     0.2 s  (w/w)%塩化
メチレン    50.0    (w/w)%エタノ
ール     44.75  、(w/w)%製剤例2 実施例3の化合物         20g乳糖   
           100gトウモロコシデンプン
       36g結晶セルロース        
   30gカルボキシメチルセルロースカルシウム0
g ステアリン酸マグネシウム      4g上記組成の
成分を均一に混合し、単発打錠機にて直径7.5mmの
杵で1錠200mgの錠剤とした。
次いで、この錠剤に下記組成のコーテイング液をスプレ
ーコーティングし、1錠当り10mgの被覆を施し、腸
溶性フィルムコーティング錠剤とした。
コーティング液組成: ヒドロキンプロピルメチルセルロース フタレート         8.0(w/w)%グリ
セリン脂肪酸エステル 0.4(w/w)%塩化メチレ
ン      50.0(w/W)%サラシミッロウ 
     0.1(w/w)%イソプロパツール   
 4 t、s (w/w)%製剤例3 実施例10の化合物       100mg酢酸ナト
リウム           2mg酢酸(pH5,8
に調整用)      適量注射用蒸留水      
       適量針10ml/バイアル 上記処方で常法により注射剤とした。
[発明の効果] 。
上記のごとく、本発明の化合物は強い5−リポキシゲナ
ーゼ阻害作用を示し、安全性も高いことから、優れた各
種アレルギー性疾患の治療剤、例えば抗炎症剤、腎炎、
肝炎及び膵炎の治療剤、痛風治療剤、抗痴呆剤、乾癲治
療剤、免疫治療剤、心疾患治療剤、血管障害予防および
/または治療剤及び抗喘息薬として有用である。
出願人 ゼリア新薬工業株式会社

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ ( I ) (式中、Aは置換基を有していてもよい炭素数0〜4の
    飽和又は不飽和の炭素鎖を示し、Bは置換基を有してい
    てもよいフェニル基、ナフタレニル基、キノリニル基、
    イソキノリニル基、ピロリル基、アズレニル基、フラニ
    ル基、ベンゾチオフエニル基、チアゾイル基、チオフェ
    ニル基またはピリジニル基もしくは低級アルキル基を示
    し、R^1は水素原子、低級アルキル基またはアシル基
    を示し、R^2、R^3、R^4及びR^5は同一又は
    異なってそれぞれ水素原子、ヒドロキシ基、低級アルキ
    ル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アシル基また
    はハロゲン原子を示し、R^6は水素原子、ヒドロキシ
    基、アルコキシ基、アシル基または低級アルキル基を示
    す。)で表されるスルホンアミド誘導体。
  2. (2)一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ (II) (式中、Aは置換基を有していてもよい炭素数0〜4の
    飽和又は不飽和の炭素鎖を示し、Bは置換基を有してい
    てもよいフェニル基、ナフタレニル基、キノリニル基、
    イソキノリニル基、ピロリル基、アズレニル基、フラニ
    ル基、ベンゾチオフエニル基、チアゾイル基、チオフェ
    ニル基またはピリジニル基もしくは低級アルキル基を示
    し、R^2、R^3、R^4及びR^5は同一又は異な
    ってそれぞれ水素原子、ヒドロキシ基、低級アルキル基
    、シクロアルキル基、アルコキシ基、アシル基またはハ
    ロゲン原子を示す。)で表されるスルホンアミド誘導体
    。
  3. (3)請求項(1)または(2)のいづれかに記載のス
    ルホンアミド誘導体を有効成分とする5−リポキシゲナ
    ーゼ阻害剤。
  4. (4)抗喘息薬である請求項(3)記載の5−リポキシ
    ゲナーゼ阻害剤。
  5. (5)アレルギー性疾患治療剤である請求項(3)記載
    の5−リポキシゲナーゼ阻害剤。
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