JPH04204601A - 塗料組成物 - Google Patents
塗料組成物Info
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- JPH04204601A JPH04204601A JP2334079A JP33407990A JPH04204601A JP H04204601 A JPH04204601 A JP H04204601A JP 2334079 A JP2334079 A JP 2334079A JP 33407990 A JP33407990 A JP 33407990A JP H04204601 A JPH04204601 A JP H04204601A
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- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims description 24
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 66
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 21
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- -1 titanium alkoxide Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 11
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 12
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 10
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 87
- 238000000034 method Methods 0.000 description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 23
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 13
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 13
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 7
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000013058 crude material Substances 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
l産業上の利用分野)
本発明は、干渉を利用しに光線の反射膜まfコは反射防
止膜の形成や、光学基材の保護に用L)る/S−トコー
ト膜を形成する際に用いる塗料組成物に関する。
止膜の形成や、光学基材の保護に用L)る/S−トコー
ト膜を形成する際に用いる塗料組成物に関する。
1従来の技術I。
干渉によって光線を反射させたり、透過させたりするに
は、計算から要求される膜厚と屈折率を持つ膜を基盤上
に形成する必要かある。
は、計算から要求される膜厚と屈折率を持つ膜を基盤上
に形成する必要かある。
従来、光線の反射膜ま1こは反射防止膜の成膜は、S
I O3,A Q + 03 、2 r O2、T I
O2等の膜材を基盤上に真空蒸着やスパッタリンクす
ることにより(真空成膜法)、あるいは基板を上記膜材
の金属成分を含むアルコキッド溶液にデイツプ(含浸)
後、過熱処理を施すことにより(ディッピング法)行な
われている。
I O3,A Q + 03 、2 r O2、T I
O2等の膜材を基盤上に真空蒸着やスパッタリンクす
ることにより(真空成膜法)、あるいは基板を上記膜材
の金属成分を含むアルコキッド溶液にデイツプ(含浸)
後、過熱処理を施すことにより(ディッピング法)行な
われている。
まf二光学基材の保護のにめにハートコートを行うには
、光学基材の屈折率に近い屈折率を持つハートコート膜
を光学基材上に形成する必要かめる。
、光学基材の屈折率に近い屈折率を持つハートコート膜
を光学基材上に形成する必要かめる。
従来、このハートコート膜の成膜も、前記反射膜等の成
膜と同様に真空成膜法やディッピング法によζ2行ね゛
シー)i−、fニ。
膜と同様に真空成膜法やディッピング法によζ2行ね゛
シー)i−、fニ。
1発明か解決しようとする課題で
上述しにように、干渉によって光線を反射させたり、透
過させたりするには、計算から要求される膜厚と屈折率
を持つ膜を基板上に形成する必要かある。しかし光線の
反射膜または反射防止膜に用いていた上記膜材5iO7
,A(lto3.Zrot、T!O7の屈折率は、それ
ぞれ1.46,1.6,2.0゜25であり、各膜材ご
とに固有の値を持っている。
過させたりするには、計算から要求される膜厚と屈折率
を持つ膜を基板上に形成する必要かある。しかし光線の
反射膜または反射防止膜に用いていた上記膜材5iO7
,A(lto3.Zrot、T!O7の屈折率は、それ
ぞれ1.46,1.6,2.0゜25であり、各膜材ご
とに固有の値を持っている。
従って、真空蒸着やスパッタリング等の真空成膜法で所
望の屈折率を持つ膜を得る1こめには、まず上記膜材の
うちの幾つかの成分を用いて同一真空ジャー内にて所望
の屈折率を持つ複合膜材を同時に真空蒸着やスパッタリ
ングする技術がある。
望の屈折率を持つ膜を得る1こめには、まず上記膜材の
うちの幾つかの成分を用いて同一真空ジャー内にて所望
の屈折率を持つ複合膜材を同時に真空蒸着やスパッタリ
ングする技術がある。
しかしながら蒸着速度またはスバンタ速度を一定にして
も、成膜中の各成分は一定になり難く、それぞれ真空蒸
着やスパッタリングされる割合か異なるため、この方法
で形成される膜では目的とする複合膜材と組成か異なっ
1こものとなる、従ってこのような手段では、所望の屈
折率を持つ膜を得ることは困難であっf二。ま1−上記
膜材を層状に真空蒸着やスパッリンクして多層膜を形成
する方法があるか、計算上から要求される各層の屈折率
は利用可能なンリカ、チタニア、アルミナ、ジルコニア
の屈折率とはずれがあるので、膜数を多くして対処して
おり、工程数増加によるコスト増加の問題がある。また
膜の表面部分から膜と基板との境界部分にわたって膜の
屈折率を徐々に変えていく、いわゆる傾斜型の膜付けに
よる反射防止の方法か理論的には提案されているか、実
際にこのような傾斜型の膜を形成するのは技術的に非常
に困難であり、実際に行なわれていない。さらに真空蒸
着やスパッタリンク等の真空成膜法により膜を形成した
場合には、膜の酸素成分の過不足等に起因した屈折率の
経時変化か生じるという課題があった。
も、成膜中の各成分は一定になり難く、それぞれ真空蒸
着やスパッタリングされる割合か異なるため、この方法
で形成される膜では目的とする複合膜材と組成か異なっ
1こものとなる、従ってこのような手段では、所望の屈
折率を持つ膜を得ることは困難であっf二。ま1−上記
膜材を層状に真空蒸着やスパッリンクして多層膜を形成
する方法があるか、計算上から要求される各層の屈折率
は利用可能なンリカ、チタニア、アルミナ、ジルコニア
の屈折率とはずれがあるので、膜数を多くして対処して
おり、工程数増加によるコスト増加の問題がある。また
膜の表面部分から膜と基板との境界部分にわたって膜の
屈折率を徐々に変えていく、いわゆる傾斜型の膜付けに
よる反射防止の方法か理論的には提案されているか、実
際にこのような傾斜型の膜を形成するのは技術的に非常
に困難であり、実際に行なわれていない。さらに真空蒸
着やスパッタリンク等の真空成膜法により膜を形成した
場合には、膜の酸素成分の過不足等に起因した屈折率の
経時変化か生じるという課題があった。
またディッピング法により所望の屈折率を持つ膜を得る
ためには、ます上記膜材の金属成分を含むアルコキット
溶液を幾つか混合して、所定の屈折率を得られる溶液組
成となるようにコントロールしてから、この溶液に基板
をデイ・ツブ後、加熱処理を施すことも知られている。
ためには、ます上記膜材の金属成分を含むアルコキット
溶液を幾つか混合して、所定の屈折率を得られる溶液組
成となるようにコントロールしてから、この溶液に基板
をデイ・ツブ後、加熱処理を施すことも知られている。
しかしながらこの方法では、基板をデイツプするための
成膜溶液を加水分解する工程において、各金属成分を含
むアルコキシドの各々の加水分解に差かあり、加水分解
物の析出速度かそれぞれ異なるため、成分が不均一とな
り、デイツプ後の膜組成も不均一となる。従ってこの方
法においても所望の屈折率を持つ膜を得るには不適であ
る。
成膜溶液を加水分解する工程において、各金属成分を含
むアルコキシドの各々の加水分解に差かあり、加水分解
物の析出速度かそれぞれ異なるため、成分が不均一とな
り、デイツプ後の膜組成も不均一となる。従ってこの方
法においても所望の屈折率を持つ膜を得るには不適であ
る。
一方、光学基材の保護のためにハートコートを行うには
、上述したように光学基材の屈折率と近い屈折率を持つ
ハードコート膜を光学基材上に形成する必要があるが、
従来ハートコートに用いられる膜材の屈折率は15以下
であつf二。ところが最近になって光学基材の屈折率が
高い物か造られるようになり、この基材とハードコート
膜の屈折率との差か大きくなって、基材とハートコート
膜との境界面からの反射による干渉が大きくなり、モア
レ模様が生しるという課題かアラた。
、上述したように光学基材の屈折率と近い屈折率を持つ
ハードコート膜を光学基材上に形成する必要があるが、
従来ハートコートに用いられる膜材の屈折率は15以下
であつf二。ところが最近になって光学基材の屈折率が
高い物か造られるようになり、この基材とハードコート
膜の屈折率との差か大きくなって、基材とハートコート
膜との境界面からの反射による干渉が大きくなり、モア
レ模様が生しるという課題かアラた。
本発明は面記事情に鑑みてなされにもので、所望の屈折
率を持つ光線の反射膜または反射防止膜や、モアレ模様
を生しないでかつ硬度にも優れ1こハードコート膜を簡
単な方法で基板あるいは基材上に形成することができる
塗料組成物を提供することを目的とする。
率を持つ光線の反射膜または反射防止膜や、モアレ模様
を生しないでかつ硬度にも優れ1こハードコート膜を簡
単な方法で基板あるいは基材上に形成することができる
塗料組成物を提供することを目的とする。
1課題を解決するにめの手段]
本発明は、チタンアルコキットと、粒径か01μm以下
のフッ化マク不ノウム微粉末9粒径か018m以下の酸
化ケイ素微粉末1粒径か01μm以下の酸化アルミニウ
ム微粉末のうちの少なくとも一種を含有してなる塗料組
成物であって、上記フッ化マグネノウム微粉末、酸化ケ
イ素微粉末1酸化アルミニウム微粉末の少なくとも一種
か」1記塗料組成物中の固形分の3〜90重量%を占め
、かっ、該微粉末が単分散されてなることにより前記課
題を解決するものである。
のフッ化マク不ノウム微粉末9粒径か018m以下の酸
化ケイ素微粉末1粒径か01μm以下の酸化アルミニウ
ム微粉末のうちの少なくとも一種を含有してなる塗料組
成物であって、上記フッ化マグネノウム微粉末、酸化ケ
イ素微粉末1酸化アルミニウム微粉末の少なくとも一種
か」1記塗料組成物中の固形分の3〜90重量%を占め
、かっ、該微粉末が単分散されてなることにより前記課
題を解決するものである。
上記チタンアルコキットを塗布し、加熱分解して得られ
る薄膜は、透明でかつ膜強度か優れているとともに屈折
率か23〜2.5と高い値を示す。このことより本発明
者は、このチタンアルコキシドに屈折率か25より小さ
く透明な微粉末を配合すれば屈折率を連続的に変えるこ
とのてきる塗料ができるとの考えに至り、種々実験を重
ね本発明の塗料組成物を発明した。
る薄膜は、透明でかつ膜強度か優れているとともに屈折
率か23〜2.5と高い値を示す。このことより本発明
者は、このチタンアルコキシドに屈折率か25より小さ
く透明な微粉末を配合すれば屈折率を連続的に変えるこ
とのてきる塗料ができるとの考えに至り、種々実験を重
ね本発明の塗料組成物を発明した。
本発明の塗料組成物では、上述のように透明で屈折率が
2.5より低い無機物の微粉末をフィラーとして使用す
る。なぜなら、このような塗料組成物中のフィラーが有
機物であると、チタンアルコキシドを加熱加水分解する
際に必要な加熱温度(150℃以上)に堪えられないか
らである。そこで、フィラーとしては、工業的に得るこ
とができる粒径が0.1μm以下のフッ化マグネシウム
微粉末、酸化ケイ素微粉末、酸化アルミニウム微粉末を
選定した。これら微粉末は粒径が0.1μmを越えると
レイリーの散乱によって乱反射が強く不透明となるので
反射防止膜用としては不適である。また、粒径かO,1
μm以下の場合には、二次凝集が非常に強く、単に通常
の塗料のように分散する程度では二次凝集が残り不透明
になり易い。
2.5より低い無機物の微粉末をフィラーとして使用す
る。なぜなら、このような塗料組成物中のフィラーが有
機物であると、チタンアルコキシドを加熱加水分解する
際に必要な加熱温度(150℃以上)に堪えられないか
らである。そこで、フィラーとしては、工業的に得るこ
とができる粒径が0.1μm以下のフッ化マグネシウム
微粉末、酸化ケイ素微粉末、酸化アルミニウム微粉末を
選定した。これら微粉末は粒径が0.1μmを越えると
レイリーの散乱によって乱反射が強く不透明となるので
反射防止膜用としては不適である。また、粒径かO,1
μm以下の場合には、二次凝集が非常に強く、単に通常
の塗料のように分散する程度では二次凝集が残り不透明
になり易い。
したがって、単分散すなわち、二次凝集かなくなるまで
十分に分散しな(+)1ばならない。なお、従来このよ
うな分散方法により、屈折率が連続的に変えられる塗料
を製造し得なかったのは、通常の顔料は、その粒径が1
μmを越えるため多結晶体であり、その各結晶子の境界
面からの反射か大きいため不透明となり、透明性を要求
される反射膜として利用できなかった。
十分に分散しな(+)1ばならない。なお、従来このよ
うな分散方法により、屈折率が連続的に変えられる塗料
を製造し得なかったのは、通常の顔料は、その粒径が1
μmを越えるため多結晶体であり、その各結晶子の境界
面からの反射か大きいため不透明となり、透明性を要求
される反射膜として利用できなかった。
そして、通常の微粉末の分散においては、二次凝集が残
っているかどうかを調べるための有効な測定手段かない
1こめ、経験的に十分と思われるだけの時間をかけて分
散を行い、透明になることを確認して二次凝集がないも
のとしていfこ。しかし、上記の粒径が0,1μm以下
のフッ化マグネシウム微粉末、酸化ケイ素微粉末、酸化
アルミニウム微粉末を分散した場合には、経験的7こ十
分と思われる程度の時間をかけて分散を行っても透明な
分散液か得られず、上記微粉末は透明なフィラーとして
考えらノーでいなかっに。
っているかどうかを調べるための有効な測定手段かない
1こめ、経験的に十分と思われるだけの時間をかけて分
散を行い、透明になることを確認して二次凝集がないも
のとしていfこ。しかし、上記の粒径が0,1μm以下
のフッ化マグネシウム微粉末、酸化ケイ素微粉末、酸化
アルミニウム微粉末を分散した場合には、経験的7こ十
分と思われる程度の時間をかけて分散を行っても透明な
分散液か得られず、上記微粉末は透明なフィラーとして
考えらノーでいなかっに。
しかしながら、本発明者は、分散処理の中でも強力なし
のを選び、かつ通常の処理時間より丁寧にかつ長く行う
ことにより、上記微粉末の分散液を透明化できることを
確認した。たとえば、サンドミルにより連続−週間とい
う経験的には考えが及ばない長期間の分散処理を行うこ
とにより、上記微粉末の分散液か透明化することを確認
し、かつ電W4観察によって単分散となっていることを
確認しfこ。
のを選び、かつ通常の処理時間より丁寧にかつ長く行う
ことにより、上記微粉末の分散液を透明化できることを
確認した。たとえば、サンドミルにより連続−週間とい
う経験的には考えが及ばない長期間の分散処理を行うこ
とにより、上記微粉末の分散液か透明化することを確認
し、かつ電W4観察によって単分散となっていることを
確認しfこ。
従って、粒径が01μm以下のフッ化マグネシウム微粉
末、酸化ケイ素微粉末、酸化アルミニウム微粉末を含有
する塗料組成物は、長時間の強力な単分散処理を行うこ
とにより透明化することができるので、十分反射膜、反
射防止膜、ハード−コート膜として用いることができる
ものである。
末、酸化ケイ素微粉末、酸化アルミニウム微粉末を含有
する塗料組成物は、長時間の強力な単分散処理を行うこ
とにより透明化することができるので、十分反射膜、反
射防止膜、ハード−コート膜として用いることができる
ものである。
次に本発明の塗料組成物を作成する場合について詳しく
説明する。
説明する。
塗料組成物はバインダーとしてチタンアルコキシドを用
い、生ずる酸化チタンの高屈折率を薄めるために、フィ
ラーとして酸化チタンより屈折率が低く、かつ透明で耐
熱性のある0、1μm以下の粒径のフッ化マグネシウム
微粉末、酸化ケイ素微粉末、酸化アルミニウム微粉末の
いずれか一つを配合するか、シシ<は、上記3つの微粉
末のうち2っを混合して配合するか、ししくは、3つの
微粉末全てを混合して配合し、これら微粉末を均一に分
散させることを特徴とするものである。
い、生ずる酸化チタンの高屈折率を薄めるために、フィ
ラーとして酸化チタンより屈折率が低く、かつ透明で耐
熱性のある0、1μm以下の粒径のフッ化マグネシウム
微粉末、酸化ケイ素微粉末、酸化アルミニウム微粉末の
いずれか一つを配合するか、シシ<は、上記3つの微粉
末のうち2っを混合して配合するか、ししくは、3つの
微粉末全てを混合して配合し、これら微粉末を均一に分
散させることを特徴とするものである。
チタンアルフキシトとしてはメトキン基、エトキシ基、
プロポキン基とそれらの異性体を使うことは本発明の範
囲であるが、安全面および工業的に扱い易い二と、およ
びコスト面から見てエトキン基が最も好ましく、次にメ
トキン基が好ましい。
プロポキン基とそれらの異性体を使うことは本発明の範
囲であるが、安全面および工業的に扱い易い二と、およ
びコスト面から見てエトキン基が最も好ましく、次にメ
トキン基が好ましい。
そして、このようなアルフキシトを塗料に用いて膜強度
を良くするfコめには、通常、塩酸を加え安定化させ、
アルフキシトを一部加水分解させるか、それは公知の通
常の技術であり、本発明の技術思想に特定の意味を与え
るしのでなく、本発明の範囲である。さらにこの部分加
水5)1液に粒径かO1μm以下の上記微粉末を加える
か、0゜1μm以上であると可視光を乱反射し易くなる
ので、ヘイズの増大となり光学用干渉膜として使えない
。
を良くするfコめには、通常、塩酸を加え安定化させ、
アルフキシトを一部加水分解させるか、それは公知の通
常の技術であり、本発明の技術思想に特定の意味を与え
るしのでなく、本発明の範囲である。さらにこの部分加
水5)1液に粒径かO1μm以下の上記微粉末を加える
か、0゜1μm以上であると可視光を乱反射し易くなる
ので、ヘイズの増大となり光学用干渉膜として使えない
。
そして、上記微粉末においては、フッ化マグネシウムの
屈折率が1.37、酸化ケイ素の屈折率が1,52、酸
化アルミニウムの屈折率が1.60であり、いづれもチ
タンアルコキシドから得られる酸化チタンの屈折率23
〜25より低いので、これらフッ化マグネシウム、酸化
ケイ素、酸化アルミニウムの微粉末を単独または混合し
てチタノアルコキットに、添加量を調節して配合してや
れば1.4〜25の屈折率のうちの希望する屈折率の膜
が得られる。
屈折率が1.37、酸化ケイ素の屈折率が1,52、酸
化アルミニウムの屈折率が1.60であり、いづれもチ
タンアルコキシドから得られる酸化チタンの屈折率23
〜25より低いので、これらフッ化マグネシウム、酸化
ケイ素、酸化アルミニウムの微粉末を単独または混合し
てチタノアルコキットに、添加量を調節して配合してや
れば1.4〜25の屈折率のうちの希望する屈折率の膜
が得られる。
また、上記フィラーとしての微粉末の添加量は、チタン
アルコキシドに対して3〜90重量%とする。なぜなら
ば、添加量か90重量%を越えると、フィラーの間をバ
イングーで十分に埋めることができr′膜強度の低下に
なる。まfコ3重量%以下であると、フィラーの屈折率
の効果が成膜条件から生ずる屈、折率の変化より小さく
なるので意味かなくなるからである。
アルコキシドに対して3〜90重量%とする。なぜなら
ば、添加量か90重量%を越えると、フィラーの間をバ
イングーで十分に埋めることができr′膜強度の低下に
なる。まfコ3重量%以下であると、フィラーの屈折率
の効果が成膜条件から生ずる屈、折率の変化より小さく
なるので意味かなくなるからである。
本発明の塗料組成物には、チタノアルコキットと上記フ
ィラーを加え、さらに溶媒を加える。この溶媒は、塗布
さ君る基材との付着性、フィラーやパイグーとの相溶性
を考慮するとともに、塗料として要求さ君る粘性等から
適当な種類と塗料組成物への添加量か決められる。しか
し、この判断基準は、当業者の公知の技術によるもので
あり特殊である必要はなL)。
ィラーを加え、さらに溶媒を加える。この溶媒は、塗布
さ君る基材との付着性、フィラーやパイグーとの相溶性
を考慮するとともに、塗料として要求さ君る粘性等から
適当な種類と塗料組成物への添加量か決められる。しか
し、この判断基準は、当業者の公知の技術によるもので
あり特殊である必要はなL)。
なお、アルコール類の溶媒としてはアルコール類から選
ばれる二とが一般的で、安全性、工業的取り扱いから見
てエタノールが普通である。
ばれる二とが一般的で、安全性、工業的取り扱いから見
てエタノールが普通である。
アルコキッド塗料では、加熱加水分解によって成膜する
ので、安定剤として酸類、例えは塩酸と水を少量加える
か、この方法については1 t 0) フルコキノト塗
料で用いられている当業者の通常技術によって十分であ
る。
ので、安定剤として酸類、例えは塩酸と水を少量加える
か、この方法については1 t 0) フルコキノト塗
料で用いられている当業者の通常技術によって十分であ
る。
上記の配合物を均一に分散して本発明に関する塗料かで
きるが、本発明による光学用干渉膜ては、IF5犀を0
.+71m以下にすることか゛多く故に、濁り、汚れ、
l\イズがあ−・ではならないので、完全に一次粒子ま
で、オな)3ら単分散することが必要である。単分散し
てし)るかと;〕かの直接的、かつ完全に信頼できる測
定方法か知らとていないので、・\イズか無くなるまで
十分7こ分散さける。分散方法については特に限定する
ものではなく、どのような公知技術でも良いが、前述の
ように、通常の短期間の分散では、透明化することが不
可能であり、効率からLlって当然強力な分散方法が好
ましく、通常より長時間分散する必要がある。
きるが、本発明による光学用干渉膜ては、IF5犀を0
.+71m以下にすることか゛多く故に、濁り、汚れ、
l\イズがあ−・ではならないので、完全に一次粒子ま
で、オな)3ら単分散することが必要である。単分散し
てし)るかと;〕かの直接的、かつ完全に信頼できる測
定方法か知らとていないので、・\イズか無くなるまで
十分7こ分散さける。分散方法については特に限定する
ものではなく、どのような公知技術でも良いが、前述の
ように、通常の短期間の分散では、透明化することが不
可能であり、効率からLlって当然強力な分散方法が好
ましく、通常より長時間分散する必要がある。
塗装方法としては、公知の塗装方法を使うことができ、
との方法を用いても本発明の範囲である。
との方法を用いても本発明の範囲である。
しかし、塗膜厚が0.1μmと薄いことが要求されるの
で、ディッピング、スピンコード、グラビアコート、バ
ーコード等を使うのが一般的である。
で、ディッピング、スピンコード、グラビアコート、バ
ーコード等を使うのが一般的である。
また、塗膜の乾燥温度は、チタンアルコキシドの乾燥に
必要な120℃以上あれば公知のアルコキッド塗料の成
膜方法が適用できろ。
必要な120℃以上あれば公知のアルコキッド塗料の成
膜方法が適用できろ。
本発明の塗膜は、チタンアルコキシドによるものなので
、上記フィラーを添加しても非常に膜強度が強いものか
得られる。
、上記フィラーを添加しても非常に膜強度が強いものか
得られる。
「作用3
本発明の塗料組成物は、チタノアルコキットに粒1条か
01μm以下のワシノ化マク不ソウム微粉末、酸化ケイ
素微粉末、酸化アルミニウム微粉末、の少なくとも一つ
の微粉末を配合分散した塗料であるので、ディソピノク
、スピンコー)・、クラビア印刷等により基材に塗布す
ることができ、透明かつ高強度の膜が得られる。また酸
化チタンより、屈折率の低い微粉末が入っていることに
より、二刈ら微粉末の種類、およびこれら微粉末の混合
物のそノーぞねの微粉末の混合割合、これら微粉末もし
くは微粉末の混合物の添加量を変更することにより、光
学用干渉膜の屈折率を14〜25の間で製造することか
できる。
01μm以下のワシノ化マク不ソウム微粉末、酸化ケイ
素微粉末、酸化アルミニウム微粉末、の少なくとも一つ
の微粉末を配合分散した塗料であるので、ディソピノク
、スピンコー)・、クラビア印刷等により基材に塗布す
ることができ、透明かつ高強度の膜が得られる。また酸
化チタンより、屈折率の低い微粉末が入っていることに
より、二刈ら微粉末の種類、およびこれら微粉末の混合
物のそノーぞねの微粉末の混合割合、これら微粉末もし
くは微粉末の混合物の添加量を変更することにより、光
学用干渉膜の屈折率を14〜25の間で製造することか
できる。
π実施例]
「実験例1″。
チタンアルコキシドとしてテトラエトキノチタン23重
量部と水8重量部と塩酸0.1重量部を混合しj=後、
55°Cにて60分加熱し部分加水分解しf二ものに粒
径が0007μmのフン化マク不ノウム微粉末(住友セ
メント株式会社製、商品名、超i2!!粒子フン化マク
ネノウム)9粒径がo。
量部と水8重量部と塩酸0.1重量部を混合しj=後、
55°Cにて60分加熱し部分加水分解しf二ものに粒
径が0007μmのフン化マク不ノウム微粉末(住友セ
メント株式会社製、商品名、超i2!!粒子フン化マク
ネノウム)9粒径がo。
2μmの酸化ケイ素(住友セメント株式会社製、商品名
、超微粒子ノリ力)、粒径が0.07μmの酸化アルミ
ニウム(住友セメント株式会社製、商品名、超微粒子ア
ルミナ)もしくは、これら微粉末の等景況合物をそれぞ
れ該塗料の固形分の50重量%加えて塗料組成物とする
。次に、該塗料組成物をサンドミルにて一週間分散し透
明な塗料になったことを確認する。そして、ガラス板に
バーコードで塗り、150℃30分間加熱し、0.1μ
m厚さの膜を得た。
、超微粒子ノリ力)、粒径が0.07μmの酸化アルミ
ニウム(住友セメント株式会社製、商品名、超微粒子ア
ルミナ)もしくは、これら微粉末の等景況合物をそれぞ
れ該塗料の固形分の50重量%加えて塗料組成物とする
。次に、該塗料組成物をサンドミルにて一週間分散し透
明な塗料になったことを確認する。そして、ガラス板に
バーコードで塗り、150℃30分間加熱し、0.1μ
m厚さの膜を得た。
なお、膜の屈折率は反射率を測定し計算によって出した
。この結果を第1表に示す。
。この結果を第1表に示す。
(以下余白)
第1表
塗膜 ) 膜強度 □
□
・フィラー 1 屈折率 (鉛筆強度)・フッ化
、 1.82; 8Hl)マグネシウム1 :酸化ケイ素 1 1.831 91−+ 。
、 1.82; 8Hl)マグネシウム1 :酸化ケイ素 1 1.831 91−+ 。
::酸化 1・ 201.1 711 ・;アル
ミニウム□ 等景況合物 ′ +、s3 8)1 。
ミニウム□ 等景況合物 ′ +、s3 8)1 。
:無添加 2.3]1 9H第1表に示オよ
うに、フッ化マクネノウム、酸化ケイ素、酸化アルミニ
ウム、およびこれらの混合物を千タノエキットよりなる
塗料組成物に添加することにより、無添加のものに比軸
して膜強度をはとんと下げることなく、屈折率を変更才
ることがてきる。
うに、フッ化マクネノウム、酸化ケイ素、酸化アルミニ
ウム、およびこれらの混合物を千タノエキットよりなる
塗料組成物に添加することにより、無添加のものに比軸
して膜強度をはとんと下げることなく、屈折率を変更才
ることがてきる。
[実験例2〕
チタンアルコキットとしてテトラエトキンチタン23重
量部と水8重量部と塩酸0.1重量部を混合した後55
°Cにて60分間加熱し、部分加水分解したものにおい
て、テトラエトキノチタンのT107分を含む塗料粗製
物の固形分の10.30.50.70重量%になるまで
、実験例1と同様のフッ化マグネノウム微粉末、酸化ケ
イ素粉末、酸化アルミニウム微粉末を加え、それぞれサ
ンドミルにて一週間分散し1こ塗料をそれぞれカラス板
にバーコードにより塗り、150℃30分間加熱し透明
な塗膜を得た。実験例1と同様にして屈折率を測定した
。結果を表2、表3、表47こ示ず。
量部と水8重量部と塩酸0.1重量部を混合した後55
°Cにて60分間加熱し、部分加水分解したものにおい
て、テトラエトキノチタンのT107分を含む塗料粗製
物の固形分の10.30.50.70重量%になるまで
、実験例1と同様のフッ化マグネノウム微粉末、酸化ケ
イ素粉末、酸化アルミニウム微粉末を加え、それぞれサ
ンドミルにて一週間分散し1こ塗料をそれぞれカラス板
にバーコードにより塗り、150℃30分間加熱し透明
な塗膜を得た。実験例1と同様にして屈折率を測定した
。結果を表2、表3、表47こ示ず。
(以下余白)
第2表
第3表
(重量%)□l 101 301 501 70 1
第4表 :配合割合1 酸化ケイ素配合塗膜・買電量%)l
](130:′50.’ 70:屈折率 12
.0941]、8951.7511+、499 ′上記
第2表、第3表、第4表に示すよ′)に、テトラエトキ
シチタンよりなる塗料組成物t\のフッ化マグネノウム
微粉末、酸化ケイ素微粉末、酸化アルミニウム微粉末の
配合割合を変更することにより、膜の屈折率を連続的に
変えることができる。
第4表 :配合割合1 酸化ケイ素配合塗膜・買電量%)l
](130:′50.’ 70:屈折率 12
.0941]、8951.7511+、499 ′上記
第2表、第3表、第4表に示すよ′)に、テトラエトキ
シチタンよりなる塗料組成物t\のフッ化マグネノウム
微粉末、酸化ケイ素微粉末、酸化アルミニウム微粉末の
配合割合を変更することにより、膜の屈折率を連続的に
変えることができる。
[発明の効果〕
以上説明したように本発明の塗料組成物は、チタンアル
コキットと、粒径か01μm以下のフッ化マグネシウム
微粉末、粒径が0.1μm以下の酸化ケイ素微粉末、粒
径が01μm以下の酸化アルミニウム微粉末とを含有し
てなるものであるため、この塗料組成物を塗布法により
基板上に形成した膜は、光の乱反射が生ぜず透明である
。jた、屈折率の高い酸化チタン単独より低い屈折率を
持つ上記微粉末を単独まf二は混合して加えたものであ
るため、上記微粉末の添加量を変えることによって、形
成される膜の屈折率を1,4〜25まで連続的に変化さ
せることができる。
コキットと、粒径か01μm以下のフッ化マグネシウム
微粉末、粒径が0.1μm以下の酸化ケイ素微粉末、粒
径が01μm以下の酸化アルミニウム微粉末とを含有し
てなるものであるため、この塗料組成物を塗布法により
基板上に形成した膜は、光の乱反射が生ぜず透明である
。jた、屈折率の高い酸化チタン単独より低い屈折率を
持つ上記微粉末を単独まf二は混合して加えたものであ
るため、上記微粉末の添加量を変えることによって、形
成される膜の屈折率を1,4〜25まで連続的に変化さ
せることができる。
ま1こ、上記微粉末の種類の変更、ししくは、各微粉末
を混合して用いる場合には、混合割合を変更することに
よっても形成される膜の屈折率を変更することかできる
。
を混合して用いる場合には、混合割合を変更することに
よっても形成される膜の屈折率を変更することかできる
。
従って、本発明の塗料組成物によメ′2は、膜の屈折率
を連続的に変えるコートかできるにめ、反射防止用多層
膜の設定が特定の屈折率のものに限定されず自由に設計
できるとともに、設計に無理が無くなるfこめに膜数が
少なくなり、製造工程の減少、コストの低下をもたらす
ことができる。
を連続的に変えるコートかできるにめ、反射防止用多層
膜の設定が特定の屈折率のものに限定されず自由に設計
できるとともに、設計に無理が無くなるfこめに膜数が
少なくなり、製造工程の減少、コストの低下をもたらす
ことができる。
また、屈折率の異なる基材上に膜を形成しても、上記微
粉末の配合量等を変えることにより膜と基材の屈折率を
近づけることができ、よってモアレ模様の発生を抑える
ことか可能である。
粉末の配合量等を変えることにより膜と基材の屈折率を
近づけることができ、よってモアレ模様の発生を抑える
ことか可能である。
従って本発明の塗料組成物によれば、膜の屈折率を所望
の値にしたコートかでき、それによりモアレ模様の発生
を防止てき、かつ膜強度も酸化チタンの高い強度をほぼ
維持した優れたハードコート膜を、従来の真空成膜に比
へてはるかに簡単な方法で光学基村上に形成することが
できる。
の値にしたコートかでき、それによりモアレ模様の発生
を防止てき、かつ膜強度も酸化チタンの高い強度をほぼ
維持した優れたハードコート膜を、従来の真空成膜に比
へてはるかに簡単な方法で光学基村上に形成することが
できる。
Claims (1)
- チタンアルコキシドと、粒径が0.1μm以下のフッ化
マグネシウム微粉末,粒径が0.1μm以下の酸化ケイ
素微粉末,粒径が0.1μm以下の酸化アルミニウム微
粉末のうちの少なくとも一種を含有してなる塗料組成物
であって、上記フッ化マグネシウム微粉末,酸化ケイ素
微粉末,酸化アルミニウム微粉末の少なくとも一種が上
記塗料組成物中の固形分の3〜90重量%を占め、かつ
、該微粉末が単分散されてなることを特徴とする塗料組
成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2334079A JPH04204601A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 塗料組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2334079A JPH04204601A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 塗料組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04204601A true JPH04204601A (ja) | 1992-07-27 |
Family
ID=18273283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2334079A Pending JPH04204601A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 塗料組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04204601A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100385257C (zh) * | 2004-07-22 | 2008-04-30 | 哈尔滨工业大学 | 抗辐射自清洁纳米光学防护膜 |
| CN100385258C (zh) * | 2004-07-22 | 2008-04-30 | 哈尔滨工业大学 | 抗辐射导电光学防护膜 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP2334079A patent/JPH04204601A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100385257C (zh) * | 2004-07-22 | 2008-04-30 | 哈尔滨工业大学 | 抗辐射自清洁纳米光学防护膜 |
| CN100385258C (zh) * | 2004-07-22 | 2008-04-30 | 哈尔滨工业大学 | 抗辐射导电光学防护膜 |
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