JPH04204902A - 耐薬反射防止膜 - Google Patents
耐薬反射防止膜Info
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- JPH04204902A JPH04204902A JP2339823A JP33982390A JPH04204902A JP H04204902 A JPH04204902 A JP H04204902A JP 2339823 A JP2339823 A JP 2339823A JP 33982390 A JP33982390 A JP 33982390A JP H04204902 A JPH04204902 A JP H04204902A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、洗浄、消毒液に対して耐久性を育する耐薬反
射防止膜に関する。
射防止膜に関する。
近年、光学部品は様々な分野において使用されるように
なってきている。その中でも医療機器に用いられるレン
ズ、プリズム等は、医療機器に必要とされる各種の洗浄
、消毒液にさらされても最低限の光学性能を維持するこ
とが要求される。特に、医療用内視鏡は、生体器官等か
らの分泌物などがレンズ表面に付着するために頻繁に洗
浄をする必要がある。
なってきている。その中でも医療機器に用いられるレン
ズ、プリズム等は、医療機器に必要とされる各種の洗浄
、消毒液にさらされても最低限の光学性能を維持するこ
とが要求される。特に、医療用内視鏡は、生体器官等か
らの分泌物などがレンズ表面に付着するために頻繁に洗
浄をする必要がある。
通常使用される洗浄、消毒液は、酸性からアルカリ性ま
での幅広い薬品で構成されている。このために、従来、
内視鏡の先端部等の直接洗浄液にさらされる部分のレン
ズには、化学的に安定したガラス硝材を用いるのが一般
的であった。そして、通常の蒸着で成膜した反射防止膜
等は、消毒液に侵されて膜が落ちるために、施されてい
なかった。
での幅広い薬品で構成されている。このために、従来、
内視鏡の先端部等の直接洗浄液にさらされる部分のレン
ズには、化学的に安定したガラス硝材を用いるのが一般
的であった。そして、通常の蒸着で成膜した反射防止膜
等は、消毒液に侵されて膜が落ちるために、施されてい
なかった。
ところが、少しでも光学系を細くして小型化を図りたい
内視鏡においては、反射防止膜をレンズに施すことがで
きれば透過光量を増やすことが可能になり、設計上大い
に有利に働く。
内視鏡においては、反射防止膜をレンズに施すことがで
きれば透過光量を増やすことが可能になり、設計上大い
に有利に働く。
しかし、従来は、上述のように内視鏡レンズの先端部分
には反射防止膜が施されておらず、光学性能上や機能上
から問題があった。
には反射防止膜が施されておらず、光学性能上や機能上
から問題があった。
本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたもので
、医療用機器、特に内視鏡に用いられる光学ガラスレン
ズに適用でき、洗浄、消毒液に対して耐久性を有する耐
薬反射防止膜を提供することを目的とする。
、医療用機器、特に内視鏡に用いられる光学ガラスレン
ズに適用でき、洗浄、消毒液に対して耐久性を有する耐
薬反射防止膜を提供することを目的とする。
通常の真空蒸着により成膜した膜か、洗浄液や消毒液に
侵されて膜が剥離する現象は、主にガラス基板表面と膜
との界面に起因していることが研究の結果判明した。そ
して、上記現象は、ポーラス（密度が低い）な膜の場合
に、洗浄液である酸。
侵されて膜が剥離する現象は、主にガラス基板表面と膜
との界面に起因していることが研究の結果判明した。そ
して、上記現象は、ポーラス（密度が低い）な膜の場合
に、洗浄液である酸。
アルカリ溶液か膜中を浸透してガラスの主成分である酸
化珪素と反応し、ガラス基板表面と膜との界面でガラス
が溶融するために生じていることかわかった。このこと
は、同じ条件で同じ膜を酸化珪素の含有率の異なるガラ
ス基板に成膜して比較したところ、明らかに酸化珪素の
含有率の少ないガラス硝材はど薬品に対する耐久性が高
いことが実験の結果確かめられた。
化珪素と反応し、ガラス基板表面と膜との界面でガラス
が溶融するために生じていることかわかった。このこと
は、同じ条件で同じ膜を酸化珪素の含有率の異なるガラ
ス基板に成膜して比較したところ、明らかに酸化珪素の
含有率の少ないガラス硝材はど薬品に対する耐久性が高
いことが実験の結果確かめられた。
そこで、ガラス基板と接する層に、化学的に安定でかつ
充填率（膜の密度）の高い膜材料を用い、また充填率を
高められる手法を用いることにした。
充填率（膜の密度）の高い膜材料を用い、また充填率を
高められる手法を用いることにした。
すなわち、上記目的を達成するために、本発明は、ガラ
ス基板の表面に設ける耐薬反射防止膜を４層構造の膜と
し、ガラス基板と接する第１層をイオンプレーティング
により成膜した酸化ジルコニウム（Ｚｒ０２）層、酸化
タンタル（Ｔａ、０．）層またはこれらの混合物層とし
、第２層をフッ化マグネシウム（ＭｇＦｔ）層とし、第
３層をＺ「０２層、 Ｔａ２０５層またはこれらの混合
物層とし、第４ＭをＭｇＦ２層とした。
ス基板の表面に設ける耐薬反射防止膜を４層構造の膜と
し、ガラス基板と接する第１層をイオンプレーティング
により成膜した酸化ジルコニウム（Ｚｒ０２）層、酸化
タンタル（Ｔａ、０．）層またはこれらの混合物層とし
、第２層をフッ化マグネシウム（ＭｇＦｔ）層とし、第
３層をＺ「０２層、 Ｔａ２０５層またはこれらの混合
物層とし、第４ＭをＭｇＦ２層とした。
上記構成の本発明の耐薬反射防止膜では、ガラス基板と
接する第１層には化学的に安定しているＺｒ０ｔ、 Ｔ
ａ２０５又は両者の混合物を用い、充填率を高められる
蒸着手法であるイオンプレーティングを使って成膜する
こととしたので、洗浄液、消毒液が膜表面からガラス基
板に浸透するのを防ぐことができる。
接する第１層には化学的に安定しているＺｒ０ｔ、 Ｔ
ａ２０５又は両者の混合物を用い、充填率を高められる
蒸着手法であるイオンプレーティングを使って成膜する
こととしたので、洗浄液、消毒液が膜表面からガラス基
板に浸透するのを防ぐことができる。
（実施例１）
ＢＫ７ガラス基板をイオンプレーティング装置にセット
し、基板温度を２５０°Ｃに設定して排気を始めた。真
空度がＩ Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒに到達したところで
、０２ガスを装置内に導入してｌ Ｘ １０−’Ｔｏｒ
ｒに設定した。そして、高周波出力を３００Ｗに設定し
、０２プラズマを発生させ、第１層としてＺｒｏｔ層を
電子銃を使って表１に示す膜厚となるまで蒸着を行った
。次に、第２層の成膜は、０２ガスの導入を止め、電子
銃を使った通常の真空蒸着でＭｇＦｔ層を表１に示す膜
厚となるまで蒸着を行った。以下、第１層と同様の手段
により表１に示す膜厚となるまで第３層のＺｒｏｔ層を
、第２層と同様の手段により表１に示す膜厚となるまで
第４層のＩ＃ｇ Ｐ ２層をそれぞれ蒸着した。
し、基板温度を２５０°Ｃに設定して排気を始めた。真
空度がＩ Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒに到達したところで
、０２ガスを装置内に導入してｌ Ｘ １０−’Ｔｏｒ
ｒに設定した。そして、高周波出力を３００Ｗに設定し
、０２プラズマを発生させ、第１層としてＺｒｏｔ層を
電子銃を使って表１に示す膜厚となるまで蒸着を行った
。次に、第２層の成膜は、０２ガスの導入を止め、電子
銃を使った通常の真空蒸着でＭｇＦｔ層を表１に示す膜
厚となるまで蒸着を行った。以下、第１層と同様の手段
により表１に示す膜厚となるまで第３層のＺｒｏｔ層を
、第２層と同様の手段により表１に示す膜厚となるまで
第４層のＩ＃ｇ Ｐ ２層をそれぞれ蒸着した。
表１
λ＝５００ｎｍ
以上のように成膜した本実施例の耐薬反射防止膜を５種
類の洗浄液に浸漬した結果を表２に示した。
類の洗浄液に浸漬した結果を表２に示した。
本実施例の耐薬反射防止膜は、表２に示す５種類の洗浄
液に対して全く変化が見られなかった。
液に対して全く変化が見られなかった。
（以下余白）
表２
※ ５００時間浸漬後に評価
○ ： 膜剥離無し
△ ： 一部分膜剥離有り
× 、 膜剥離有り
また、本実施例の耐薬反射防止膜の反射率特性を図に示
した。図は縦軸に反射率を、横軸に波長をそれぞれとっ
たもので、本実施例の耐薬反射防止膜は良好な反射率特
性を有していた。
した。図は縦軸に反射率を、横軸に波長をそれぞれとっ
たもので、本実施例の耐薬反射防止膜は良好な反射率特
性を有していた。
（実施例２）
ＢＫガラス基板をイオンプレーティング装置にセットし
、基板温度を２５０°Ｃに設定して排気を始めた。真空
度がＩ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒに到達したところで、０
□ガスを装置内に導入してｌ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒに
設定した。そして、高周波出力を３００Ｗに設定し、０
、プラズマを発生させ、第１層としてＴａｔＯ６層を電
子銃を使って前記表１に示す膜厚となるまで蒸着を行っ
た。次に、第２層の成膜は、０２ガスの導入を止め、電
子銃を使った通常の真空蒸着でｋｔｇＦｚ層を表１に示
す膜厚となるまで蒸着を行った。以下、第１層と同様の
手段により表１に示す膜厚となるまで第３層ＴａａＯｓ
層を、第２層と同様の手段により表１に示す膜厚となる
まで第４層のＭｇＦ を層をそれぞれ蒸着した。
、基板温度を２５０°Ｃに設定して排気を始めた。真空
度がＩ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒに到達したところで、０
□ガスを装置内に導入してｌ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒに
設定した。そして、高周波出力を３００Ｗに設定し、０
、プラズマを発生させ、第１層としてＴａｔＯ６層を電
子銃を使って前記表１に示す膜厚となるまで蒸着を行っ
た。次に、第２層の成膜は、０２ガスの導入を止め、電
子銃を使った通常の真空蒸着でｋｔｇＦｚ層を表１に示
す膜厚となるまで蒸着を行った。以下、第１層と同様の
手段により表１に示す膜厚となるまで第３層ＴａａＯｓ
層を、第２層と同様の手段により表１に示す膜厚となる
まで第４層のＭｇＦ を層をそれぞれ蒸着した。
以上のようにして成膜した本実施例の耐薬反射防止膜を
５種類の洗浄液に浸漬した結果を前記表２に示した。
５種類の洗浄液に浸漬した結果を前記表２に示した。
本実施例の耐薬反射防止膜も、実施例１と同様に、表２
に示す５種類の洗浄液に対して全く変化が見られなかっ
た。
に示す５種類の洗浄液に対して全く変化が見られなかっ
た。
また、本実施例の耐薬反射防止膜は、実施例１と同様に
して図に示すような良好な反射率特性を有していた。
して図に示すような良好な反射率特性を有していた。
（実施例３）
ＢＫ７ガラス基板をイオンプレーティング装置にセット
し、基板温度を２５０ ’Ｃに設定して排気を始めた。
し、基板温度を２５０ ’Ｃに設定して排気を始めた。
真空度がＩ ＸＩＯ” Ｔｏｒｒに到達したところで、
０．ガスを装置内に導入してｌＸｌ０−’Ｔｏｒｒに設
定した。そして、高周波出力を３００Ｗに設定し、０２
プラズマを発生させ、第１層として、ＺｒＯ２とＴａｘ
ｅｓとの混合層を、ＺｒＯ＊とＴａ２０５の重量比を８
：２として混合した材料を電子銃を使って前記表１に示
す膜厚となるまで蒸着を行った。次に、第２層の成膜は
、０２ガスの導入を止め、電子銃を使った通常の真空蒸
着でＭｇＦ ２層を表１に示す膜厚となるまで蒸着を行
った。以下、第１層と同様の手段により表１に示す膜厚
となるまで第３層のＺｒＬとＴａ２０５との混合層を、
第２層と同様の手段により表１に示す膜厚となるまで第
４層のＭｇＦ２層をそれぞれ蒸着した。
０．ガスを装置内に導入してｌＸｌ０−’Ｔｏｒｒに設
定した。そして、高周波出力を３００Ｗに設定し、０２
プラズマを発生させ、第１層として、ＺｒＯ２とＴａｘ
ｅｓとの混合層を、ＺｒＯ＊とＴａ２０５の重量比を８
：２として混合した材料を電子銃を使って前記表１に示
す膜厚となるまで蒸着を行った。次に、第２層の成膜は
、０２ガスの導入を止め、電子銃を使った通常の真空蒸
着でＭｇＦ ２層を表１に示す膜厚となるまで蒸着を行
った。以下、第１層と同様の手段により表１に示す膜厚
となるまで第３層のＺｒＬとＴａ２０５との混合層を、
第２層と同様の手段により表１に示す膜厚となるまで第
４層のＭｇＦ２層をそれぞれ蒸着した。
以上のようにして成膜した本実施例の耐薬反射防止膜を
５種類の洗浄液に浸漬した結果を前記表２に示した。
５種類の洗浄液に浸漬した結果を前記表２に示した。
本実施例の耐薬反射防止膜も、実施例１と同様に、表２
に示す５種類の洗浄液に対して全く変化が見られなかっ
た。
に示す５種類の洗浄液に対して全く変化が見られなかっ
た。
また、本実施例の耐薬反射防止膜は、実施例１と同様に
図に示すような良好な反射率特性を有していた。
図に示すような良好な反射率特性を有していた。
（比較例）
第１層と第３層とを０□プラズマを発生させずに通常の
真空蒸着で成膜を行い、その他は実施例１と同一条件で
成膜を行って反射防止膜を得た。
真空蒸着で成膜を行い、その他は実施例１と同一条件で
成膜を行って反射防止膜を得た。
本比較例の反射防止膜についても、実施例１〜３と同様
に表２に示す洗浄液による耐薬試験を行ったところ、同
表に示すように膜剥離を生じてしまった。
に表２に示す洗浄液による耐薬試験を行ったところ、同
表に示すように膜剥離を生じてしまった。
以上のように、本発明の耐薬反射防止膜によれば、ガラ
ス基板と接する第１層をイオンプレーティングによりＺ
ｒＯ，、Ｔａ２０５またはこれらの混合物により形成し
たので、洗浄、消毒液に対して耐久性を有し、膜剥離を
生しることがない。したがって、内視鏡先端レンズに反
射防止膜を施すことがてき、内視鏡画面のコントラスト
向上、透過光量増加による光学系の精細化による内視鏡
本体の外径の縮小化に大きな効果をもたらす。
ス基板と接する第１層をイオンプレーティングによりＺ
ｒＯ，、Ｔａ２０５またはこれらの混合物により形成し
たので、洗浄、消毒液に対して耐久性を有し、膜剥離を
生しることがない。したがって、内視鏡先端レンズに反
射防止膜を施すことがてき、内視鏡画面のコントラスト
向上、透過光量増加による光学系の精細化による内視鏡
本体の外径の縮小化に大きな効果をもたらす。
図は本発明の実施例１〜３の耐薬反応防止膜の反射率特
性を示すグラフである。 特許出願人 オリンパス光学工業株式会社牙屹
１ （ｎｍ）
性を示すグラフである。 特許出願人 オリンパス光学工業株式会社牙屹
１ （ｎｍ）
Claims (1)
- （１）ガラス基板の表面に設けられる４層構造の膜であ
り、ガラス基板と接する第１層がイオンプレーティング
により成膜した酸化ジルコニウム層、酸化タンタル層ま
たはこれらの混合物層からなり、第２層がフッ化マグネ
シウム層からなり、第３層が酸化ジルコニウム層，酸化
タンタル層またはこれらの混合物層からなり、第４層が
フッ化マグネシウム層からなることを特徴とする耐薬反
射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2339823A JPH04204902A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 耐薬反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2339823A JPH04204902A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 耐薬反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04204902A true JPH04204902A (ja) | 1992-07-27 |
Family
ID=18331157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2339823A Pending JPH04204902A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 耐薬反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04204902A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19736617A1 (de) * | 1997-08-22 | 1999-03-11 | Storz Karl Gmbh & Co | Endoskopobjektiv |
| WO2004067463A1 (en) * | 2003-01-28 | 2004-08-12 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | Transparent zirconium oxide - tantalum and/or tantalum oxide coating |
| US8007105B2 (en) * | 2004-10-01 | 2011-08-30 | Hoya Corporation | Lens for intraocular observation and contact lens for vitreous surgery |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP2339823A patent/JPH04204902A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19736617A1 (de) * | 1997-08-22 | 1999-03-11 | Storz Karl Gmbh & Co | Endoskopobjektiv |
| WO2004067463A1 (en) * | 2003-01-28 | 2004-08-12 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | Transparent zirconium oxide - tantalum and/or tantalum oxide coating |
| JP2006515827A (ja) * | 2003-01-28 | 2006-06-08 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 透過性ジルコニウム酸化物−タンタル及び／又はタンタル酸化物被膜 |
| CN100418913C (zh) * | 2003-01-28 | 2008-09-17 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 透明氧化锆-钽和/或氧化钽涂层 |
| US7521871B2 (en) | 2003-01-28 | 2009-04-21 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | Transparent zirconium oxide-tantalum and/or tantalum oxide coating |
| US8007105B2 (en) * | 2004-10-01 | 2011-08-30 | Hoya Corporation | Lens for intraocular observation and contact lens for vitreous surgery |
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