JPH0534506A - 耐薬反射防止膜 - Google Patents
耐薬反射防止膜Info
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- JPH0534506A JPH0534506A JP3217901A JP21790191A JPH0534506A JP H0534506 A JPH0534506 A JP H0534506A JP 3217901 A JP3217901 A JP 3217901A JP 21790191 A JP21790191 A JP 21790191A JP H0534506 A JPH0534506 A JP H0534506A
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
［目的］ 内視鏡等の医療機器に用いる光学ガラスレン
ズに適用できるように、洗浄液，消毒液に対しての耐久
性を得る。 ［構成］ 基板側の第１層および第３層にＺｒＯ2 ，Ｔ
ａ2 Ｏ5 ，ＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 との混合物またはＺｒ
Ｏ2 とＴｉＯ2 との混合物を積層し、第２層にＭｇＦ2
を積層し、化学的に安定で、充填率の高い膜材料，充填
率を高められる手法を用いる。
ズに適用できるように、洗浄液，消毒液に対しての耐久
性を得る。 ［構成］ 基板側の第１層および第３層にＺｒＯ2 ，Ｔ
ａ2 Ｏ5 ，ＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 との混合物またはＺｒ
Ｏ2 とＴｉＯ2 との混合物を積層し、第２層にＭｇＦ2
を積層し、化学的に安定で、充填率の高い膜材料，充填
率を高められる手法を用いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄液，消毒液に対し
て耐久性を有する耐薬反射防止膜に関する。
て耐久性を有する耐薬反射防止膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、化学部品は様々な分野において使
用されるようになってきている。その中でも医療機器に
用いられるレンズ，プリズム等は、医療機器に必要とさ
れる各種の洗浄液，消毒液にさらされても最低限の化学
性能を維持することが要求される。特に、医療用内視鏡
は、生体器官等からの分泌物などがレンズ表面に付着す
るために頻繁に洗浄をする必要がある。
用されるようになってきている。その中でも医療機器に
用いられるレンズ，プリズム等は、医療機器に必要とさ
れる各種の洗浄液，消毒液にさらされても最低限の化学
性能を維持することが要求される。特に、医療用内視鏡
は、生体器官等からの分泌物などがレンズ表面に付着す
るために頻繁に洗浄をする必要がある。
【０００３】通常使用される洗浄液，消毒液は、酸性か
らアルカリ性までの幅広い薬品で構成されている。この
ために、従来、内視鏡の先端部等の直接洗浄液にさらさ
れる部分のレンズには、化学的に安定したガラス硝材を
用いるのが一般的であった。一方、通常の反射防止膜
は、空気と接する最表層を低屈折率材料であるＭｇＦ2
やＳｉＯ2 により形成している。ところが、医療機器に
用いられるレンズ等では、ＭｇＦ2 は膜の密度が低いこ
と、ＳｉＯ2 はアルカリ性に弱いことから、洗浄液，消
毒液に侵されて膜がはげ落ちるために、反射防止膜は施
されていなかった。
らアルカリ性までの幅広い薬品で構成されている。この
ために、従来、内視鏡の先端部等の直接洗浄液にさらさ
れる部分のレンズには、化学的に安定したガラス硝材を
用いるのが一般的であった。一方、通常の反射防止膜
は、空気と接する最表層を低屈折率材料であるＭｇＦ2
やＳｉＯ2 により形成している。ところが、医療機器に
用いられるレンズ等では、ＭｇＦ2 は膜の密度が低いこ
と、ＳｉＯ2 はアルカリ性に弱いことから、洗浄液，消
毒液に侵されて膜がはげ落ちるために、反射防止膜は施
されていなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、少しでも光
学系を細くして小型化を図りたい内視鏡においては、反
射防止膜をレンズに施すことができれば透過光量を増や
すことが可能になり、設計上大いに有利に働く。しか
し、従来は、上述のように内視鏡レンズの先端部分には
反射防止膜が施されておらず、光学性能上や機能上から
の問題があった。
学系を細くして小型化を図りたい内視鏡においては、反
射防止膜をレンズに施すことができれば透過光量を増や
すことが可能になり、設計上大いに有利に働く。しか
し、従来は、上述のように内視鏡レンズの先端部分には
反射防止膜が施されておらず、光学性能上や機能上から
の問題があった。
【０００５】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので、医療用機器、特に内視鏡に用いられる光
学ガラスレンズに適用でき、洗浄液，消毒液に対して耐
久性を有する耐薬反射防止膜を提供することを目的とす
る。
されたもので、医療用機器、特に内視鏡に用いられる光
学ガラスレンズに適用でき、洗浄液，消毒液に対して耐
久性を有する耐薬反射防止膜を提供することを目的とす
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】空気と接する最表層をＭ
ｇＦ2 やＳｉＯ2 に形成した一般的な反射防止膜が、洗
浄液，消毒液に侵されて膜が剥離する現象は、膜と膜と
の界面またはガラス基板表面と膜との界面に起因してい
ることが研究の結果判明した。そして、この現象は、ポ
ーラス（密度が低い）な膜の場合に、洗浄液である酸，
アルカリ溶液が膜中を浸透して、膜界面の不純物を溶融
するため、またガラスの主成分である酸化珪素と反応し
てガラス基板表面と膜との界面でガラスが溶融するため
に生じていることがわかった。このことは、同じ条件で
同じ膜を酸化珪素の含有率の異なるガラス基板に成膜し
て比較したところ、明らかに酸化珪素の含有率の少ない
ガラス硝材ほど薬品に対する耐久性が高いこと、および
化学的に安定している蒸着材料でも膜密度が低い物ほど
耐久性が低いことを検討した実験の結果確かめられた。
ｇＦ2 やＳｉＯ2 に形成した一般的な反射防止膜が、洗
浄液，消毒液に侵されて膜が剥離する現象は、膜と膜と
の界面またはガラス基板表面と膜との界面に起因してい
ることが研究の結果判明した。そして、この現象は、ポ
ーラス（密度が低い）な膜の場合に、洗浄液である酸，
アルカリ溶液が膜中を浸透して、膜界面の不純物を溶融
するため、またガラスの主成分である酸化珪素と反応し
てガラス基板表面と膜との界面でガラスが溶融するため
に生じていることがわかった。このことは、同じ条件で
同じ膜を酸化珪素の含有率の異なるガラス基板に成膜し
て比較したところ、明らかに酸化珪素の含有率の少ない
ガラス硝材ほど薬品に対する耐久性が高いこと、および
化学的に安定している蒸着材料でも膜密度が低い物ほど
耐久性が低いことを検討した実験の結果確かめられた。
【０００７】そこで、上記目的を達成するために、本発
明は、基板側の第１層および第３層にＺｒＯ2 ，Ｔａ2
Ｏ5 ，ＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 との混合物またはＺｒＯ2
とＴｉＯ2 との混合物を積層し、第２層にＭｇＦ2 を積
層している。
明は、基板側の第１層および第３層にＺｒＯ2 ，Ｔａ2
Ｏ5 ，ＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 との混合物またはＺｒＯ2
とＴｉＯ2 との混合物を積層し、第２層にＭｇＦ2 を積
層している。
【０００８】
【作用】上記構成では、空気と接する最表層に化学的に
安定で、充填率（膜の密度）の高い膜材料、充填率を高
められる手法を用い、空気と接する最表層には、化学的
に安定しているＺｒＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＴｉＯ2 または
これらの混合物を用い、充填率を高められる蒸着手法で
あるイオンプレーティング法を使って成膜することで、
洗浄液，消毒液が膜表面からその下の膜やさらにはガラ
ス基板に浸透するのを防ぐことができる。
安定で、充填率（膜の密度）の高い膜材料、充填率を高
められる手法を用い、空気と接する最表層には、化学的
に安定しているＺｒＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＴｉＯ2 または
これらの混合物を用い、充填率を高められる蒸着手法で
あるイオンプレーティング法を使って成膜することで、
洗浄液，消毒液が膜表面からその下の膜やさらにはガラ
ス基板に浸透するのを防ぐことができる。
【０００９】また、高屈折率材料（ＺｒＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ
5 ，ＴｉＯ2 ）と低屈折率材料（ＭｇＦ2 ）からなる３
層構造の多層膜とすることにより可視光の広い波長領域
での反射防止が可能となっている。
5 ，ＴｉＯ2 ）と低屈折率材料（ＭｇＦ2 ）からなる３
層構造の多層膜とすることにより可視光の広い波長領域
での反射防止が可能となっている。
【００１０】
【実施例１】ＢＫ７ガラス基板を真空蒸着装置にセット
し、基板温度を２５０℃に設定して排気を始めた。真空
度が１×１０-5Ｔｏｒｒに達したとき、Ｏ2 ガスを装置
内に導入して１×１０-4Ｔｏｒｒに設定した。そして高
周波出力を３００Ｗに設定し、Ｏ2 プラズマを発生させ
第１層としてＺｒＯ2 を電子銃を使い表１で示される膜
厚まで蒸着を行った。第２層の成膜はＯ2 ガス導入を止
めＭｇＦ2 を電子銃を使い、通常の真空蒸着で表１に示
される膜厚まで蒸着を行った。以下第１層の成膜と同様
の手法で表１に示す膜厚となるまで第３層のＺｒＯ2の
蒸着を行った。
し、基板温度を２５０℃に設定して排気を始めた。真空
度が１×１０-5Ｔｏｒｒに達したとき、Ｏ2 ガスを装置
内に導入して１×１０-4Ｔｏｒｒに設定した。そして高
周波出力を３００Ｗに設定し、Ｏ2 プラズマを発生させ
第１層としてＺｒＯ2 を電子銃を使い表１で示される膜
厚まで蒸着を行った。第２層の成膜はＯ2 ガス導入を止
めＭｇＦ2 を電子銃を使い、通常の真空蒸着で表１に示
される膜厚まで蒸着を行った。以下第１層の成膜と同様
の手法で表１に示す膜厚となるまで第３層のＺｒＯ2の
蒸着を行った。
【００１１】
【表１】
【００１２】次に、このようにして成膜した試料をステ
リハイドＬ（丸石製薬（株）製）、ソナサイド（Ａｙｅ
ｓｔ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ ＩＮＣ製）、イソジ
ン（明治製薬（株）製）、ウエスコダイン（ＡＭＳＣＯ
ＭＥＤＩＣＡＬ ＰＲＯＤＵＣＴ製）、サイデックス
（ジョンソン・アンド・ジョンソン（株）製）の各洗浄
液に浸漬して耐薬試験を行った。結果を表２に示すが、
本実施例の耐薬反射防止膜はいずれの洗浄液に対しても
全く変化が見られなかった。
リハイドＬ（丸石製薬（株）製）、ソナサイド（Ａｙｅ
ｓｔ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ ＩＮＣ製）、イソジ
ン（明治製薬（株）製）、ウエスコダイン（ＡＭＳＣＯ
ＭＥＤＩＣＡＬ ＰＲＯＤＵＣＴ製）、サイデックス
（ジョンソン・アンド・ジョンソン（株）製）の各洗浄
液に浸漬して耐薬試験を行った。結果を表２に示すが、
本実施例の耐薬反射防止膜はいずれの洗浄液に対しても
全く変化が見られなかった。
【００１３】
【表２】
【００１４】また、本実施例の耐薬反射防止膜の反射率
特性を図１に示した。図１は縦軸に反射率を、横軸に波
長をそれぞれとったもので、本実施例の耐薬反射防止膜
は良好な反射率特性を有していた。
特性を図１に示した。図１は縦軸に反射率を、横軸に波
長をそれぞれとったもので、本実施例の耐薬反射防止膜
は良好な反射率特性を有していた。
【００１５】
【実施例２】ＢＫ７ガラス基板を真空蒸着装置にセット
し、基板温度を２５０℃に設定して排気を始めた。真空
度が１×１０-5Ｔｏｒｒに達したところで、Ｏ2 ガスを
装置内に導入して１×１０-4Ｔｏｒｒとした。そして、
高周波出力を３００Ｗに設定し、Ｏ2 プラズマを発生さ
せ、第１層としてＴａ2 Ｏ5 層を電子銃を使って表１に
示す膜厚となるまで蒸着を行った。次に、第２層の成膜
は、Ｏ2 ガスの導入を止め、電子銃を使った通常の真空
蒸着でＭｇＦ2 層を表１に示す膜厚となるまで蒸着を行
った。以下、同様の手段により、表１に示す膜厚となる
まで第３層のＴａ2 Ｏ5 を蒸着した。
し、基板温度を２５０℃に設定して排気を始めた。真空
度が１×１０-5Ｔｏｒｒに達したところで、Ｏ2 ガスを
装置内に導入して１×１０-4Ｔｏｒｒとした。そして、
高周波出力を３００Ｗに設定し、Ｏ2 プラズマを発生さ
せ、第１層としてＴａ2 Ｏ5 層を電子銃を使って表１に
示す膜厚となるまで蒸着を行った。次に、第２層の成膜
は、Ｏ2 ガスの導入を止め、電子銃を使った通常の真空
蒸着でＭｇＦ2 層を表１に示す膜厚となるまで蒸着を行
った。以下、同様の手段により、表１に示す膜厚となる
まで第３層のＴａ2 Ｏ5 を蒸着した。
【００１６】このようにして成膜した本実施例の耐薬反
射防止膜を５種類の洗浄液に浸漬した結果を表２に示し
た。表２から判るように、本実施例の耐薬反射防止膜
は、５種類の洗浄液に対して全く変化が見られなかっ
た。また、本実施例の耐薬反射防止膜は、実施例１と同
様に図１に示すような良好な反射率特性を有していた。
射防止膜を５種類の洗浄液に浸漬した結果を表２に示し
た。表２から判るように、本実施例の耐薬反射防止膜
は、５種類の洗浄液に対して全く変化が見られなかっ
た。また、本実施例の耐薬反射防止膜は、実施例１と同
様に図１に示すような良好な反射率特性を有していた。
【００１７】
【実施例３】ＢＫ７ガラス基板を真空蒸着装置にセット
し、基板温度を２５０℃に設定して排気を始めた。真空
度が１×１０-5Ｔｏｒｒに到達したところで、Ｏ2 ガス
を装置内に導入して１×１０-4Ｔｏｒｒに設定した。そ
して、高周波出力を３００Ｗに設定し、Ｏ2 プラズマを
発生させ、第１層として、ＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 との混
合層を、ＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 の重量比を８：２として
混合した材料を電子銃を使って前記表１に示す膜厚とな
るまで蒸着を行った。次に、第２層の成膜は、Ｏ2 ガス
の導入を止め、電子銃を使った通常の真空蒸着でＭｇＦ
2 層を表１に示す膜厚となるまで蒸着を行った。以下、
第１層の成膜と同様の手段により、表１に示す膜厚とな
るまで第３層のＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 の混合層を蒸着し
た。
し、基板温度を２５０℃に設定して排気を始めた。真空
度が１×１０-5Ｔｏｒｒに到達したところで、Ｏ2 ガス
を装置内に導入して１×１０-4Ｔｏｒｒに設定した。そ
して、高周波出力を３００Ｗに設定し、Ｏ2 プラズマを
発生させ、第１層として、ＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 との混
合層を、ＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 の重量比を８：２として
混合した材料を電子銃を使って前記表１に示す膜厚とな
るまで蒸着を行った。次に、第２層の成膜は、Ｏ2 ガス
の導入を止め、電子銃を使った通常の真空蒸着でＭｇＦ
2 層を表１に示す膜厚となるまで蒸着を行った。以下、
第１層の成膜と同様の手段により、表１に示す膜厚とな
るまで第３層のＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 の混合層を蒸着し
た。
【００１８】このようにして成膜した本実施例の耐薬反
射防止膜を５種類の洗浄液に浸漬した結果を表２に示し
た。表２から判るように、本実施例の耐薬反射防止膜
は、５種類の洗浄液に対して全く変化が見られなかっ
た。また、本実施例の耐薬反射防止膜は、実施例１と同
様に図１に示すような良好な反射率特性を有していた。
射防止膜を５種類の洗浄液に浸漬した結果を表２に示し
た。表２から判るように、本実施例の耐薬反射防止膜
は、５種類の洗浄液に対して全く変化が見られなかっ
た。また、本実施例の耐薬反射防止膜は、実施例１と同
様に図１に示すような良好な反射率特性を有していた。
【００１９】
【実施例４】ＢＫ７ガラス基板を真空蒸着装置にセット
し、基板温度を２５０℃に設定して排気を始めた。真空
度が１×１０-5Ｔｏｒｒに達したところで、Ｏ2 ガスを
装置内に導入して１×１０-4Ｔｏｒｒに設定した。そし
て、高周波出力を３００Ｗに設定し、Ｏ2 プラズマを発
生させ、第１層として、ＺｒＯ2 とＴｉＯ2 との混合層
を、ＺｒＯ2 とＴｉＯ2 の重量比を９：１として混合し
た材料を電子銃を使って前記表１に示す膜厚となるまで
蒸着を行った。次に、第２層の成膜は、Ｏ2 ガスの導入
を止め、電子銃を使った通常の真空蒸着でＭｇＦ2 層を
表１に示す膜厚となるまで蒸着を行った。以下、第１層
の成膜と同様の手段により、表１に示す膜厚となるまで
第３層のＺｒＯ2 とＴｉＯ2 との混合層を蒸着した。
し、基板温度を２５０℃に設定して排気を始めた。真空
度が１×１０-5Ｔｏｒｒに達したところで、Ｏ2 ガスを
装置内に導入して１×１０-4Ｔｏｒｒに設定した。そし
て、高周波出力を３００Ｗに設定し、Ｏ2 プラズマを発
生させ、第１層として、ＺｒＯ2 とＴｉＯ2 との混合層
を、ＺｒＯ2 とＴｉＯ2 の重量比を９：１として混合し
た材料を電子銃を使って前記表１に示す膜厚となるまで
蒸着を行った。次に、第２層の成膜は、Ｏ2 ガスの導入
を止め、電子銃を使った通常の真空蒸着でＭｇＦ2 層を
表１に示す膜厚となるまで蒸着を行った。以下、第１層
の成膜と同様の手段により、表１に示す膜厚となるまで
第３層のＺｒＯ2 とＴｉＯ2 との混合層を蒸着した。
【００２０】このようにして成膜した本実施例の耐薬反
射防止膜を５種類の洗浄液に浸漬した結果を表２に示し
た。表２から判るように、本実施例の耐薬反射防止膜
は、５種類の洗浄液に対して全く変化が見られなかっ
た。また、本実施例の耐薬反射防止膜は、実施例１と同
様に図１に示すような良好な反射率特性を有していた。
射防止膜を５種類の洗浄液に浸漬した結果を表２に示し
た。表２から判るように、本実施例の耐薬反射防止膜
は、５種類の洗浄液に対して全く変化が見られなかっ
た。また、本実施例の耐薬反射防止膜は、実施例１と同
様に図１に示すような良好な反射率特性を有していた。
【００２１】
【発明の効果】以上のように、本発明の耐薬反射防止膜
によれば、洗浄液，消毒液に対して耐久性を有し、膜剥
離を生じることがない。したがって、内視鏡先端レンズ
に反射防止膜を施すことができ、内視鏡画面のコントラ
スト向上、透過光量増加による光学系の精細化による内
視鏡本体の外径の縮小化に大きな効果をもたらす。
によれば、洗浄液，消毒液に対して耐久性を有し、膜剥
離を生じることがない。したがって、内視鏡先端レンズ
に反射防止膜を施すことができ、内視鏡画面のコントラ
スト向上、透過光量増加による光学系の精細化による内
視鏡本体の外径の縮小化に大きな効果をもたらす。
【図１】本発明の実施例１〜４の多層反射防止膜の反射
率特性を示すグラフである。
率特性を示すグラフである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 基板側の第１層および第３層にＺｒ
Ｏ2 ，Ｔａ2Ｏ5 ，ＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 との混合物ま
たはＺｒＯ2 とＴｉＯ2 との混合物を積層し、第２層に
ＭｇＦ2 を積層したことを特徴とする耐薬反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3217901A JPH0534506A (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | 耐薬反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3217901A JPH0534506A (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | 耐薬反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0534506A true JPH0534506A (ja) | 1993-02-12 |
Family
ID=16711534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3217901A Withdrawn JPH0534506A (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | 耐薬反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0534506A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6514649B1 (en) | 1998-10-05 | 2003-02-04 | Nec Corporation | Organic EL panel and method for forming the same |
| US7679361B2 (en) | 2005-05-12 | 2010-03-16 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | Position sensor having tubular detection coil |
-
1991
- 1991-08-02 JP JP3217901A patent/JPH0534506A/ja not_active Withdrawn
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