JPH0420914B2 - - Google Patents
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- JPH0420914B2 JPH0420914B2 JP59182901A JP18290184A JPH0420914B2 JP H0420914 B2 JPH0420914 B2 JP H0420914B2 JP 59182901 A JP59182901 A JP 59182901A JP 18290184 A JP18290184 A JP 18290184A JP H0420914 B2 JPH0420914 B2 JP H0420914B2
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- Japan
- Prior art keywords
- ethylene oxide
- heat exchanger
- stream
- gas
- gas phase
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D301/00—Preparation of oxiranes
- C07D301/32—Separation; Purification
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Epoxy Compounds (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明はエチレンオキシドの製造に関する。特
に本発明はエチレンオキシド水溶液例えば、エチ
レンオキシドを合成した反応混合物からエチレン
オキシドを分離するためにエチレンオキシドを水
に吸収させて得られる水溶液を濃縮するための方
法と装置に関する。 工業的規模においてはエチレンオキシドは、通
常、エチレンを気相中で銀を主成分とする触媒の
存在下、酸素を用いて酸化することにより製造さ
れる。この酸化反応で生ずるガス状混合物中のエ
チレンオキシド濃度は非常に低いため、純粋なエ
チレンオキシドを得るためには上記ガス状混合物
に引続いて種々の処理（吸収、蒸留、フラツシユ
等）を行うことが必要である（フランス特許第
1343492号明細書、フランス特許第2305436号明細
書および米国特許第3904656号明細書参照）。 実際にはエチレンオキシドの合成で生ずるガス
状混合物からのエチレンオキシドの単離は種々の
工程を経て行われる： (a) 水による吸収：ガス状混合物を複数の理論段
またはガス−液体接触装置を含む塔内で水と接
触させる。この工程においては約2.5重量％の
エチレンオキシドと溶解ガス（CO2、CH4、
C2H4、窒素、アルゴン等）および他の不純物
（主としてホルムアルデヒドおよびアセトアル
デヒド）とを含有する水溶液が得られる； (b) 脱着：上記水溶液を場合により富化帯域
（enrichment section）を有する蒸留塔内で
“ストリツプ”する。塔の底部ではエチレンオ
キシドを含有していない水溶液流が得られ、塔
の頂部においてはエチレンオキシドと水蒸気と
溶解ガスとエチレンオキシド水溶液中に当初か
ら存在する他の不純物との混合物（ガス流）が
得られる。このガス流は約30〜60重量％のエチ
レンオキシド含有量を有する； (c) 再吸収：前記ガス流を冷却した後、水と接触
させてエチレンオキシドを再吸収させる。溶解
ガスの大部分は水に吸収されず、ガス流の形で
容易に分離される。この工程ではエチレンオキ
シド濃度が５〜15重量％のエチレンオキシド水
溶液が得られる；および (d) 蒸留：上記水溶液を蒸留して純粋なエチレン
オキシドを得る。 上記水溶液から２種の成分を分離するのに必要
なエネルギーはエチレンオキシド含有量が減少す
るにつれて増大する。例えば工程(b)で得られるガ
ス混合物は約30〜60重量％のエチレンオキシドを
含有しているが、エチレンオキシドを再吸収させ
るためには水を再び添加することが必要であり、
この水をエチレンオキシドから分離するために
は、その後に相当な量のエネルギーを必要とす
る。 本発明は従来の方法のこの問題を解決しかつ少
なくとも95重量％、通常97％以上のエチレンオキ
シドを含有する濃縮水溶液を提供するものであ
る。 従つて、本発明によれば、不純なエチレンオキ
シド溶液と水蒸気とを蒸留塔に導入し、エチレン
オキシドを含有するガス流を回収し、ついでこの
ガス流（水蒸気処理された溶液）を、直列に配置
された少なくとも２個の熱交換器を用いる凝縮工
程によりエチレンオキシドを濃縮する方法におい
て、最後の熱交換器の圧力が1.5〜６バールの絶
対圧で、その温度が５℃と、使用された圧力下で
のエチレンオキシドの凝縮温度より５℃低い温度
との間にあり、かつ、最後の熱交換器から最終製
品として95重量％以上のエチレンオキシドを含む
液相を回収し、最後の熱交換器からの気相流を水
またはグリコール水溶液中に再吸収させる場合に
は、再吸収塔からの塔底留分を前記熱交換器を用
いる凝縮工程に再循環させないことを特徴とする
エチレンオキシドの濃縮方法が提供される。 本発明によれば、前記工程(b)から生ずるガス流
を直列に配置された２個の、好ましくは３個の熱
交換器中で連続的に凝縮させる方法と装置が提供
される。 図面は本発明の一つの好ましい方法を実施する
ための装置系を示す。この装置系は基本的には蒸
留塔２１、３個の熱交換器３１，４１および５１
および吸収塔６１からなる。 蒸留塔２１は複数の理論段またはガス−液体接
触装置を含むかつ富化帯域を有し得る慣用の蒸留
塔である。塔２１の上方部においては非常に稀薄
なエチレンオキシド水溶液が液流１０として導入
される；この水溶液は溶解ガス（通常、0.25重量
％以下）と他の不純物とを含有し得る。２４にお
いては溶解ガスと不純物を含有せずかつエチレン
オキシドを含有していない水溶液流が得られる。
２２においてはエチレンオキシド（約30〜60重量
％）と水蒸気と液流１０中に場合により存在する
溶解ガスの大部分および不純物との混合物が得ら
れる。分離に必要なエネルギーは塔２１の底部で
の水蒸気２３の吸込みによりあるいは任意の熱源
を用いる再加熱により提供される。塔２１は標準
的な慣用の方法で作動する。 ついでガス流２２を直列に配置された３個の熱
交換器中で凝縮させる。最初の２個の熱交換器３
１，４１によりエチレンオキシドの部分的凝縮を
行い、第３の熱交換器５１においてはエチレンオ
キシドの全体的凝縮を行う。95重量％以上のエチ
レンオキシド、少量の水、液流１０に溶解してい
たCO2の一部および若干の不純物（主としてホル
ムアルデヒドとアセトアルデヒド）を含有する液
相を５２で捕集する。液流１０中に含有されてい
た溶解ガスの大部分と少割合の不純物とから形成
されるガス相を５３で捕集し、オキシド蒸気およ
び水蒸気と混合する。このガス流５３を複数の理
論段またはガス−液体接触装置を有する吸収塔６
１内で水流６４により洗浄して、エチレンオキシ
ド水溶液を６２で、また、液流１０中に溶解して
いたガスの一部を６３で回収する。 蒸留塔２１ならびにそのガス−液体接触装置お
よび熱交換器３１，４１および５１は標準的寸法
のものである。蒸留塔２１内の圧力および熱交換
器３１，４１および５１内の圧力は、流体がこれ
らの装置２１，３１，４１および５１内ならびに
そのパイプ系内を循環することにより生ずる圧力
損失を除外すれば、同一である。装置系全体の圧
力は1.5〜６バールであるが、1.6〜４バールであ
ることが有利であり、1.9〜３バールであること
が特に好ましい。熱交換器５１の寒冷源（冷却媒
体）の温度は約５℃と、凝縮の際の圧力下での純
粋なエチレンオキシドの凝縮温度より５℃低い最
高温度との間で調節される（例えば、圧力が２バ
ールのとき純粋なエチレンオキシドの凝縮温度は
約30℃であり、2.5バールのときは約35℃であ
る）。寒冷源は熱交換操作を行う場所の気候条件
によつて空気であることができるが、多くの場
合、冷却水である。 通常90〜150℃の温度を有するガス流２２は、
熱交換器３１内で、液相３２がガス流２２に含有
されていたエチレンオキシドの12％以上を含有し
ていないような条件下で部分的に凝縮させる。こ
のような条件は熱交換器３１の寒冷源を作用させ
ることにより容易に得られる。寒冷源は例えば10
〜40℃の冷却水であり得る。 熱交換器４１はガス流３３により導入されるエ
チレンオキシドの大部分を出口４３のガス相中に
回収し、一方、このガス相４３中における水の量
をエチレンオキシドの重量に基づいて５％以下に
保持するための部分凝縮器として使用される。こ
れらの割合は熱交換器４１の冷却流体を作用させ
ることにより調節される。温度調節を行うため
に、凝縮はガス流３３の温度より僅かに低い温度
で開始する。ついで相４２および４３中の水とエ
チレンオキシドの量を測定しながら、この温度を
ガス相４３中のエチレンオキシドの濃度が所望の
値になるまで徐々に低下させる。熱交換器４１の
寒冷源は例えば10〜40℃の冷却水であり得る。ガ
ス流４３は熱交換器５１で凝縮させる。液流１０
中に溶解している可能性のあるガスの大部分と液
流１０中の少量の不純物とをオキシド蒸気と水蒸
気と混合した状態で５３で捕集する。ガス流４３
中のエチレンオキシドの殆んど全て（ガス流５３
中に移行した少量のエチレンオキシドを除く）と
水と若干の不純物と液流１０中に当初溶解してい
たCO2の少量とを５２で回収する。 95重量％以上、通常97重量％以上のエチレンオ
キシドを含有する液流５２はそのまま使用するこ
とができ、あるいは、その最終的用途に応じて更
に精製し得る。 ガス流５３は吸収塔６１内で５〜50℃の温度の
水（液流６４）により洗浄する。この水は合成工
程で入手されるグリコール水溶液により置換し得
る。塔６１は塔内の理論段またはガス−液体接触
装置の数に応じて選択された液流６４の流率を用
いて慣用の方法で作動させる。一般に、ガス流５
３は液流１０の５重量％以下、多くの場合、１重
量％以下に相当する；ガス流５３のエチレンオキ
シドの大部分を回収するのに、理論段の数は３〜
６で十分である。ガス流６３は液流１０中に溶解
していたガスの大部分と少量の水蒸気とを含有し
ている。圧縮後、かなりの量のエチレンを含有す
るこのガスを反応帯域に環送し得る。エチレンオ
キシド水溶液からなる液体６２を捕集し、この液
体は液流３２および４２と混合し得る。この混合
物を熱処理してグリコールを製造するかまたは蒸
留して純粋なエチレンオキシドを製造するかまた
は場合により液流１０と再混合して、濃縮エチレ
ンオキシド５２を製造し得る。冷却後、液流２４
はエチレンオキシドを吸収させるのに使用し（工
程ａ）そして液流１０として塔２１に再循環させ
得る。 熱交換器３１は省略し得る。その場合、熱交換
器４１の寒冷源の調節を行う以外は操作は同一で
ある。この寒冷源の調節はガス流２２のエチレン
オキシドの大部分をガス相４３中に捕集するが、
ガス相４３中の水の量をエチレンオキシドの重量
の５重量％以下に止るように行われる。ガス相４
３の温度を調節するためには、ガス流３３の温度
の代りにガス流２２の温度がそのベースとして利
用される。 以下に本発明の実施例を示す。 第表〜第表に６個の実施例の操作条件とそ
の結果とを示す。表中の流体の数字は図面に示す
数字に対応する。なお、微量の不純物（ホルムア
ルデヒドおよびアセトアルデヒド）は示さなかつ
た。 実施例 １〜３ 第、第および第表に対応する実施例１、
２および３は溶解ガスの含有量を変化（減少）さ
せたエチレンオキシド水溶液を用いて、同一の圧
力条件下（2.7〜2.5バール）で操作を行つて得ら
れた結果を示す。 実施例 ４ 実施例４（第表）は操作をより高く圧力
（3.45〜3.25バール）で行つたこと以外、実施例
１と同一のエチレンオキシド水溶液を用いて操作
を行つて得られた結果を示す。 実施例 ５ 実施例５はより低い圧力（２〜1.8バール）で
操作を行つたこと以外は実施例３と同一である。
試験結果は第表に示されている。第表には比
較のため、流体５２および５３の流率は実施例４
と同じであるが、操作を1/2の圧力で行つた場合
の結果も示す。 実施例 ６ 実施例６（第表）は２個の熱交換器（４１お
よび５１）を使用した場合に得られる結果を示
す。
に本発明はエチレンオキシド水溶液例えば、エチ
レンオキシドを合成した反応混合物からエチレン
オキシドを分離するためにエチレンオキシドを水
に吸収させて得られる水溶液を濃縮するための方
法と装置に関する。 工業的規模においてはエチレンオキシドは、通
常、エチレンを気相中で銀を主成分とする触媒の
存在下、酸素を用いて酸化することにより製造さ
れる。この酸化反応で生ずるガス状混合物中のエ
チレンオキシド濃度は非常に低いため、純粋なエ
チレンオキシドを得るためには上記ガス状混合物
に引続いて種々の処理（吸収、蒸留、フラツシユ
等）を行うことが必要である（フランス特許第
1343492号明細書、フランス特許第2305436号明細
書および米国特許第3904656号明細書参照）。 実際にはエチレンオキシドの合成で生ずるガス
状混合物からのエチレンオキシドの単離は種々の
工程を経て行われる： (a) 水による吸収：ガス状混合物を複数の理論段
またはガス−液体接触装置を含む塔内で水と接
触させる。この工程においては約2.5重量％の
エチレンオキシドと溶解ガス（CO2、CH4、
C2H4、窒素、アルゴン等）および他の不純物
（主としてホルムアルデヒドおよびアセトアル
デヒド）とを含有する水溶液が得られる； (b) 脱着：上記水溶液を場合により富化帯域
（enrichment section）を有する蒸留塔内で
“ストリツプ”する。塔の底部ではエチレンオ
キシドを含有していない水溶液流が得られ、塔
の頂部においてはエチレンオキシドと水蒸気と
溶解ガスとエチレンオキシド水溶液中に当初か
ら存在する他の不純物との混合物（ガス流）が
得られる。このガス流は約30〜60重量％のエチ
レンオキシド含有量を有する； (c) 再吸収：前記ガス流を冷却した後、水と接触
させてエチレンオキシドを再吸収させる。溶解
ガスの大部分は水に吸収されず、ガス流の形で
容易に分離される。この工程ではエチレンオキ
シド濃度が５〜15重量％のエチレンオキシド水
溶液が得られる；および (d) 蒸留：上記水溶液を蒸留して純粋なエチレン
オキシドを得る。 上記水溶液から２種の成分を分離するのに必要
なエネルギーはエチレンオキシド含有量が減少す
るにつれて増大する。例えば工程(b)で得られるガ
ス混合物は約30〜60重量％のエチレンオキシドを
含有しているが、エチレンオキシドを再吸収させ
るためには水を再び添加することが必要であり、
この水をエチレンオキシドから分離するために
は、その後に相当な量のエネルギーを必要とす
る。 本発明は従来の方法のこの問題を解決しかつ少
なくとも95重量％、通常97％以上のエチレンオキ
シドを含有する濃縮水溶液を提供するものであ
る。 従つて、本発明によれば、不純なエチレンオキ
シド溶液と水蒸気とを蒸留塔に導入し、エチレン
オキシドを含有するガス流を回収し、ついでこの
ガス流（水蒸気処理された溶液）を、直列に配置
された少なくとも２個の熱交換器を用いる凝縮工
程によりエチレンオキシドを濃縮する方法におい
て、最後の熱交換器の圧力が1.5〜６バールの絶
対圧で、その温度が５℃と、使用された圧力下で
のエチレンオキシドの凝縮温度より５℃低い温度
との間にあり、かつ、最後の熱交換器から最終製
品として95重量％以上のエチレンオキシドを含む
液相を回収し、最後の熱交換器からの気相流を水
またはグリコール水溶液中に再吸収させる場合に
は、再吸収塔からの塔底留分を前記熱交換器を用
いる凝縮工程に再循環させないことを特徴とする
エチレンオキシドの濃縮方法が提供される。 本発明によれば、前記工程(b)から生ずるガス流
を直列に配置された２個の、好ましくは３個の熱
交換器中で連続的に凝縮させる方法と装置が提供
される。 図面は本発明の一つの好ましい方法を実施する
ための装置系を示す。この装置系は基本的には蒸
留塔２１、３個の熱交換器３１，４１および５１
および吸収塔６１からなる。 蒸留塔２１は複数の理論段またはガス−液体接
触装置を含むかつ富化帯域を有し得る慣用の蒸留
塔である。塔２１の上方部においては非常に稀薄
なエチレンオキシド水溶液が液流１０として導入
される；この水溶液は溶解ガス（通常、0.25重量
％以下）と他の不純物とを含有し得る。２４にお
いては溶解ガスと不純物を含有せずかつエチレン
オキシドを含有していない水溶液流が得られる。
２２においてはエチレンオキシド（約30〜60重量
％）と水蒸気と液流１０中に場合により存在する
溶解ガスの大部分および不純物との混合物が得ら
れる。分離に必要なエネルギーは塔２１の底部で
の水蒸気２３の吸込みによりあるいは任意の熱源
を用いる再加熱により提供される。塔２１は標準
的な慣用の方法で作動する。 ついでガス流２２を直列に配置された３個の熱
交換器中で凝縮させる。最初の２個の熱交換器３
１，４１によりエチレンオキシドの部分的凝縮を
行い、第３の熱交換器５１においてはエチレンオ
キシドの全体的凝縮を行う。95重量％以上のエチ
レンオキシド、少量の水、液流１０に溶解してい
たCO2の一部および若干の不純物（主としてホル
ムアルデヒドとアセトアルデヒド）を含有する液
相を５２で捕集する。液流１０中に含有されてい
た溶解ガスの大部分と少割合の不純物とから形成
されるガス相を５３で捕集し、オキシド蒸気およ
び水蒸気と混合する。このガス流５３を複数の理
論段またはガス−液体接触装置を有する吸収塔６
１内で水流６４により洗浄して、エチレンオキシ
ド水溶液を６２で、また、液流１０中に溶解して
いたガスの一部を６３で回収する。 蒸留塔２１ならびにそのガス−液体接触装置お
よび熱交換器３１，４１および５１は標準的寸法
のものである。蒸留塔２１内の圧力および熱交換
器３１，４１および５１内の圧力は、流体がこれ
らの装置２１，３１，４１および５１内ならびに
そのパイプ系内を循環することにより生ずる圧力
損失を除外すれば、同一である。装置系全体の圧
力は1.5〜６バールであるが、1.6〜４バールであ
ることが有利であり、1.9〜３バールであること
が特に好ましい。熱交換器５１の寒冷源（冷却媒
体）の温度は約５℃と、凝縮の際の圧力下での純
粋なエチレンオキシドの凝縮温度より５℃低い最
高温度との間で調節される（例えば、圧力が２バ
ールのとき純粋なエチレンオキシドの凝縮温度は
約30℃であり、2.5バールのときは約35℃であ
る）。寒冷源は熱交換操作を行う場所の気候条件
によつて空気であることができるが、多くの場
合、冷却水である。 通常90〜150℃の温度を有するガス流２２は、
熱交換器３１内で、液相３２がガス流２２に含有
されていたエチレンオキシドの12％以上を含有し
ていないような条件下で部分的に凝縮させる。こ
のような条件は熱交換器３１の寒冷源を作用させ
ることにより容易に得られる。寒冷源は例えば10
〜40℃の冷却水であり得る。 熱交換器４１はガス流３３により導入されるエ
チレンオキシドの大部分を出口４３のガス相中に
回収し、一方、このガス相４３中における水の量
をエチレンオキシドの重量に基づいて５％以下に
保持するための部分凝縮器として使用される。こ
れらの割合は熱交換器４１の冷却流体を作用させ
ることにより調節される。温度調節を行うため
に、凝縮はガス流３３の温度より僅かに低い温度
で開始する。ついで相４２および４３中の水とエ
チレンオキシドの量を測定しながら、この温度を
ガス相４３中のエチレンオキシドの濃度が所望の
値になるまで徐々に低下させる。熱交換器４１の
寒冷源は例えば10〜40℃の冷却水であり得る。ガ
ス流４３は熱交換器５１で凝縮させる。液流１０
中に溶解している可能性のあるガスの大部分と液
流１０中の少量の不純物とをオキシド蒸気と水蒸
気と混合した状態で５３で捕集する。ガス流４３
中のエチレンオキシドの殆んど全て（ガス流５３
中に移行した少量のエチレンオキシドを除く）と
水と若干の不純物と液流１０中に当初溶解してい
たCO2の少量とを５２で回収する。 95重量％以上、通常97重量％以上のエチレンオ
キシドを含有する液流５２はそのまま使用するこ
とができ、あるいは、その最終的用途に応じて更
に精製し得る。 ガス流５３は吸収塔６１内で５〜50℃の温度の
水（液流６４）により洗浄する。この水は合成工
程で入手されるグリコール水溶液により置換し得
る。塔６１は塔内の理論段またはガス−液体接触
装置の数に応じて選択された液流６４の流率を用
いて慣用の方法で作動させる。一般に、ガス流５
３は液流１０の５重量％以下、多くの場合、１重
量％以下に相当する；ガス流５３のエチレンオキ
シドの大部分を回収するのに、理論段の数は３〜
６で十分である。ガス流６３は液流１０中に溶解
していたガスの大部分と少量の水蒸気とを含有し
ている。圧縮後、かなりの量のエチレンを含有す
るこのガスを反応帯域に環送し得る。エチレンオ
キシド水溶液からなる液体６２を捕集し、この液
体は液流３２および４２と混合し得る。この混合
物を熱処理してグリコールを製造するかまたは蒸
留して純粋なエチレンオキシドを製造するかまた
は場合により液流１０と再混合して、濃縮エチレ
ンオキシド５２を製造し得る。冷却後、液流２４
はエチレンオキシドを吸収させるのに使用し（工
程ａ）そして液流１０として塔２１に再循環させ
得る。 熱交換器３１は省略し得る。その場合、熱交換
器４１の寒冷源の調節を行う以外は操作は同一で
ある。この寒冷源の調節はガス流２２のエチレン
オキシドの大部分をガス相４３中に捕集するが、
ガス相４３中の水の量をエチレンオキシドの重量
の５重量％以下に止るように行われる。ガス相４
３の温度を調節するためには、ガス流３３の温度
の代りにガス流２２の温度がそのベースとして利
用される。 以下に本発明の実施例を示す。 第表〜第表に６個の実施例の操作条件とそ
の結果とを示す。表中の流体の数字は図面に示す
数字に対応する。なお、微量の不純物（ホルムア
ルデヒドおよびアセトアルデヒド）は示さなかつ
た。 実施例 １〜３ 第、第および第表に対応する実施例１、
２および３は溶解ガスの含有量を変化（減少）さ
せたエチレンオキシド水溶液を用いて、同一の圧
力条件下（2.7〜2.5バール）で操作を行つて得ら
れた結果を示す。 実施例 ４ 実施例４（第表）は操作をより高く圧力
（3.45〜3.25バール）で行つたこと以外、実施例
１と同一のエチレンオキシド水溶液を用いて操作
を行つて得られた結果を示す。 実施例 ５ 実施例５はより低い圧力（２〜1.8バール）で
操作を行つたこと以外は実施例３と同一である。
試験結果は第表に示されている。第表には比
較のため、流体５２および５３の流率は実施例４
と同じであるが、操作を1/2の圧力で行つた場合
の結果も示す。 実施例 ６ 実施例６（第表）は２個の熱交換器（４１お
よび５１）を使用した場合に得られる結果を示
す。
【表】
＊ 微量
【表】
【表】
＊ 微量
【表】
＊ 微量
【表】
＊ 瓶量
【表】
＊ 微量
【表】
＊ 微量
図面は本発明の方法を実施するための装置系を
示す。 ２１……蒸留塔、３１，４１，５１……熱交換
器、６１……吸収塔。
示す。 ２１……蒸留塔、３１，４１，５１……熱交換
器、６１……吸収塔。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 不純なエチレンオキシド溶液と水蒸気とを蒸
留塔に導入し、エチレンオキシドを含有するガス
流を回収し、ついでこのガス流（水蒸気処理され
た溶液）を、直列に配置された少なくとも２個の
熱交換器を用いる凝縮工程によりエチレンオキシ
ドを濃縮する方法において、最後の熱交換器の圧
力が1.5〜６バールの絶対圧で、その温度が５℃
と、使用された圧力下でのエチレンオキシドの凝
縮温度より５℃低い温度との間にあり、かつ、最
後の熱交換器から最終製品として95重量％以上の
エチレンオキシドを含む液相を回収し、最後の熱
交換器からの気相流を水またはグリコール水溶液
中に再吸収させる場合には、再吸収塔からの塔底
留分を前記熱交換器を用いる凝縮工程に再循環さ
せないことを特徴とするエチレンオキシドの濃縮
方法。 ２ ３個の熱交換器を使用しそして第１と第２の
熱交換器の冷却液体の温度をつぎのように調節す
る、すなわち、第１の熱交換器から流出する液相
が上記熱交換器に流入する気相流に含有されてい
るエチレンオキシドの12％以上を含有しないよう
に、また、第２の熱交換器から流出する気相流中
に含有されている水の割合が、エチレンオキシド
の重量に基づいて５％以下であるように調節する
特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 最後の熱交換器からの気相流を水またはグリ
コール水溶液中に再吸収させる特許請求の範囲第
１項または第２項記載の方法。 ４ １個またはそれ以上の中間の熱交換器からの
液相または最後の熱交換器から流出した気相流の
吸収工程からの液相を、蒸留塔に流入するエチレ
ンオキシド溶液に再循環させる特許請求の範囲第
１項〜第３項のいずれかに記載の方法。 ５ 最後の熱交換器から流出する気相流の再吸収
工程から得られる気相流を、エチレンオキシド合
成反応器に再循環させる特許請求の範囲第３項ま
たは第４項に記載の方法。 ６ 蒸留塔および一連の熱交換器内の絶対圧が
1.6〜４バール、好ましくは1.9〜３バールである
特許請求の範囲第１項〜第５項のいずれかに記載
の方法。
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