JPH04214018A - 多硫化四リンの連続的製造方法 - Google Patents
多硫化四リンの連続的製造方法Info
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- JPH04214018A JPH04214018A JP3023947A JP2394791A JPH04214018A JP H04214018 A JPH04214018 A JP H04214018A JP 3023947 A JP3023947 A JP 3023947A JP 2394791 A JP2394791 A JP 2394791A JP H04214018 A JPH04214018 A JP H04214018A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B25/00—Phosphorus; Compounds thereof
- C01B25/14—Sulfur, selenium, or tellurium compounds of phosphorus
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J14/00—Chemical processes in general for reacting liquids with liquids; Apparatus specially adapted therefor
-
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- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/24—Stationary reactors without moving elements inside
- B01J19/2455—Stationary reactors without moving elements inside provoking a loop type movement of the reactants
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液相で多硫化四リン(p
olysulfures de tetraphosp
hore)、特に P4S10を連続的に製造する方法
に関するものである。本発明はさらに、上記方法を実施
するための装置に関するものである。
olysulfures de tetraphosp
hore)、特に P4S10を連続的に製造する方法
に関するものである。本発明はさらに、上記方法を実施
するための装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】液体硫黄と液体燐から 250〜515
℃の温度で P4S10を製造する方法は強い発熱反
応であることは知られている。米国特許第 2,794
,705号には、溶融状態 (515 ℃) に維持さ
れた P4S10のシャフト中に液体燐と液体硫黄を導
入することによって、撹拌されていない反応装置中でこ
の反応を実施することができるということが記載されて
いる。この反応によって放出された熱量は生成した P
4S10を気化するのに使用される。しかし、この方法
にはいくつかの欠点がある。すなわち、反応媒体の粘度
が高く、しかも、その融点以上での P4S10の粘度
は高いため、放出された熱の分配が悪くなり、生成物の
気化が遅くなり、生成物が過熱される。生成物が過熱さ
れると反応装置と付属装置に損傷が生じ、生成物が劣化
する危険が大きくなる。
℃の温度で P4S10を製造する方法は強い発熱反
応であることは知られている。米国特許第 2,794
,705号には、溶融状態 (515 ℃) に維持さ
れた P4S10のシャフト中に液体燐と液体硫黄を導
入することによって、撹拌されていない反応装置中でこ
の反応を実施することができるということが記載されて
いる。この反応によって放出された熱量は生成した P
4S10を気化するのに使用される。しかし、この方法
にはいくつかの欠点がある。すなわち、反応媒体の粘度
が高く、しかも、その融点以上での P4S10の粘度
は高いため、放出された熱の分配が悪くなり、生成物の
気化が遅くなり、生成物が過熱される。生成物が過熱さ
れると反応装置と付属装置に損傷が生じ、生成物が劣化
する危険が大きくなる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は従来方
法の欠点のない液相での多硫化四リンの連続的製造方法
と、この方法を実施するための装置を提供することにあ
る。
法の欠点のない液相での多硫化四リンの連続的製造方法
と、この方法を実施するための装置を提供することにあ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の提供する方法は
、所望の多硫化物に対応した比率で液体の燐と液体の硫
黄とを循環式の反応媒体に連続的に供給し、反応媒体の
温度を制御し、反応媒体から多硫化四リンをガス状態で
分離することによって構成される燐と硫黄とを反応させ
て式:P4 Sx の多硫化四リン燐(ここで、xは少
なくとも3である)を連続的に製造する方法において、
上記反応をループ状反応装置内で行い、反応媒体の循環
を反応媒体内に生じる密度差によって主として行うこと
を特徴としている。
、所望の多硫化物に対応した比率で液体の燐と液体の硫
黄とを循環式の反応媒体に連続的に供給し、反応媒体の
温度を制御し、反応媒体から多硫化四リンをガス状態で
分離することによって構成される燐と硫黄とを反応させ
て式:P4 Sx の多硫化四リン燐(ここで、xは少
なくとも3である)を連続的に製造する方法において、
上記反応をループ状反応装置内で行い、反応媒体の循環
を反応媒体内に生じる密度差によって主として行うこと
を特徴としている。
【0005】上記の反応媒体内に生じる密度差は、反応
装置の一部での多硫化四リンを徐々に蒸発させることに
よって生じる。その結果、液体が運動する。この蒸発は
、反応物の供給部の近い反応装置内の帯域区域で起こる
発熱反応によって起こり、この帯域では、生成物が蒸発
し且つ温度が上昇する結果、反応媒体の密度が低下する
。その結果、熱サイホン効果によって反応媒体に循環運
動が与えられ、反応媒体全体が均質化される。
装置の一部での多硫化四リンを徐々に蒸発させることに
よって生じる。その結果、液体が運動する。この蒸発は
、反応物の供給部の近い反応装置内の帯域区域で起こる
発熱反応によって起こり、この帯域では、生成物が蒸発
し且つ温度が上昇する結果、反応媒体の密度が低下する
。その結果、熱サイホン効果によって反応媒体に循環運
動が与えられ、反応媒体全体が均質化される。
【0006】反応によって放出される熱で上記の熱サイ
ホン効果を十分に生じさせることができるが、反応装置
の一部、好ましくは、反応が起こる帯域すなわち反応物
の供給帯域を加熱するのが好ましい。
ホン効果を十分に生じさせることができるが、反応装置
の一部、好ましくは、反応が起こる帯域すなわち反応物
の供給帯域を加熱するのが好ましい。
【0007】本発明方法の1実施態様では、密度差によ
る反応媒体の循環の開始を、反応装置の任意の箇所、好
ましくは反応物の供給部に近い箇所に配置した循環ポン
プによって補助的に行うことができる。
る反応媒体の循環の開始を、反応装置の任意の箇所、好
ましくは反応物の供給部に近い箇所に配置した循環ポン
プによって補助的に行うことができる。
【0008】本発明方法は式:P4 Sx (ここで、
xは少なくとも3である)の多硫化四リンの製造に使用
され、特に、十硫化四燐P4 S10の製造に使用され
る。
xは少なくとも3である)の多硫化四リンの製造に使用
され、特に、十硫化四燐P4 S10の製造に使用され
る。
【0009】反応媒体の循環速度は、開始段階を除いて
、少なくとも0.01m/秒であり、好ましくは、0.
01m/秒〜1m/秒の範囲である。
、少なくとも0.01m/秒であり、好ましくは、0.
01m/秒〜1m/秒の範囲である。
【0010】反応媒体の平均温度は、圧力によって変化
するが、一般に300℃以上であり、好ましくは 30
0〜600 ℃の範囲である。
するが、一般に300℃以上であり、好ましくは 30
0〜600 ℃の範囲である。
【0011】反応は一般に不活性ガス下で 0.1絶対
バール以上の圧力下、一般には 0.1〜10絶対バー
ルの範囲の圧力下で実施する。この圧力は1〜2絶対バ
ールの範囲内にあるのが好ましい。
バール以上の圧力下、一般には 0.1〜10絶対バー
ルの範囲の圧力下で実施する。この圧力は1〜2絶対バ
ールの範囲内にあるのが好ましい。
【0012】一般に、燐および硫黄はそれらの融点以上
且つそれらの沸点以下の温度で反応媒体中に導入される
。好ましくは、燐は60〜120 ℃の温度範囲で、硫
黄は120 〜150 ℃の温度範囲で導入する。
且つそれらの沸点以下の温度で反応媒体中に導入される
。好ましくは、燐は60〜120 ℃の温度範囲で、硫
黄は120 〜150 ℃の温度範囲で導入する。
【0013】運転開始時には所定量の多硫化四リンを反
応装置中に装填し、この多硫化四リンを融点以上且つ沸
点以下の温度に加熱し、その中に燐と硫黄とを導入する
のが好ましい。P4 S10を製造する場合には、装填
した十硫化四燐の温度を 350〜550 ℃の範囲の
温度、好ましくは 400℃近傍の温度にするのが好ま
しい。
応装置中に装填し、この多硫化四リンを融点以上且つ沸
点以下の温度に加熱し、その中に燐と硫黄とを導入する
のが好ましい。P4 S10を製造する場合には、装填
した十硫化四燐の温度を 350〜550 ℃の範囲の
温度、好ましくは 400℃近傍の温度にするのが好ま
しい。
【0014】燐と硫黄は、所望の生成物が生成されるよ
うにほぼ化学量論量で導入するのが好ましい。P4 S
10を製造する場合には、燐と硫黄を4対10の比で用
いるのが好ましい。いずれか一方の反応物が過剰である
と、副成物ができ、収率が低下する。使用す燐は白燐で
あるのが好ましく、この白燐を予め精製しておくことも
できる。
うにほぼ化学量論量で導入するのが好ましい。P4 S
10を製造する場合には、燐と硫黄を4対10の比で用
いるのが好ましい。いずれか一方の反応物が過剰である
と、副成物ができ、収率が低下する。使用す燐は白燐で
あるのが好ましく、この白燐を予め精製しておくことも
できる。
【0015】本発明方法は図1に概念的に示した装置を
用いて実施することができる。図1に概念的に示した装
置は、反応脚 (jambe reactionnel
le)とよばれる一般にほぼ鉛直で円筒形状の部分1と
、この反応脚にほぼ平行な一般に円筒形状の部分2とを
有し、これらの2つの部分1と2は、断面が反応脚の断
面積にほぼ等しい断面積を有する管3、4を介して、一
般にそれらの下部と上部とで互いに連通されており、反
応脚の下側半分の部分には液体燐と液体硫黄とを導入す
るための少なくとも1つの液体燐供給部6と少なくとも
1つの液体硫黄供給部7が設けられており、上記部分1
と2のいずれか一方の上端部近傍には、ガス状の多硫化
四リンの排出口5が設けられている。
用いて実施することができる。図1に概念的に示した装
置は、反応脚 (jambe reactionnel
le)とよばれる一般にほぼ鉛直で円筒形状の部分1と
、この反応脚にほぼ平行な一般に円筒形状の部分2とを
有し、これらの2つの部分1と2は、断面が反応脚の断
面積にほぼ等しい断面積を有する管3、4を介して、一
般にそれらの下部と上部とで互いに連通されており、反
応脚の下側半分の部分には液体燐と液体硫黄とを導入す
るための少なくとも1つの液体燐供給部6と少なくとも
1つの液体硫黄供給部7が設けられており、上記部分1
と2のいずれか一方の上端部近傍には、ガス状の多硫化
四リンの排出口5が設けられている。
【0016】一般に、部分2の直径は反応脚1の直径以
上であり、反応脚1の直径に対する部分2の直径の比は
1〜5の範囲にすることができ、好ましくは2〜3の範
囲である。
上であり、反応脚1の直径に対する部分2の直径の比は
1〜5の範囲にすることができ、好ましくは2〜3の範
囲である。
【0017】本発明の方法を実施するの使用する装置で
は、部分2の頂部にガス状生成物の排出口5を設けるの
が好ましい。
は、部分2の頂部にガス状生成物の排出口5を設けるの
が好ましい。
【0018】得られた生成物は、反応物に由来する可能
性のある不純物と反応中に生じる可能性のある副生物と
を保持可能な充填塔8を通過させることができる。これ
らの不純物および副生物は、一般に部分1、2および管
4のいずれか1つの下側に配置された弁11を間欠的に
開けて(パージして)、タンク10中に回収することが
できる。
性のある不純物と反応中に生じる可能性のある副生物と
を保持可能な充填塔8を通過させることができる。これ
らの不純物および副生物は、一般に部分1、2および管
4のいずれか1つの下側に配置された弁11を間欠的に
開けて(パージして)、タンク10中に回収することが
できる。
【0019】充填塔8から出た生成物は管式熱交換器9
中で凝縮されて、液体状態で出てくる。この液体生成物
を冷却した後に、通常の処理(鱗片化、粉砕、湿度調整
)を行う。
中で凝縮されて、液体状態で出てくる。この液体生成物
を冷却した後に、通常の処理(鱗片化、粉砕、湿度調整
)を行う。
【0020】液体硫黄と液体燐は、反応脚の下側ほぼ3
分の1の所で、1つまたは複数の箇所から反応媒体中に
導入するのが好ましい。液体硫黄と液体燐とを同一箇所
から導入することもできるが、硫黄の供給箇所と燐の供
給箇所とを互いに違えるのが好ましい。硫黄および燐は
、図1に示したような長いパイプ(実線6、7)を介し
て反応脚の上部で導入することができる。また、硫黄お
よび燐を反応脚の他の箇所、例えば反応脚の下部に直接
導入することもできる(鎖線6、7)。また、これらの
管または別の長い管を介して窒素等の不活性ガスをわず
かな流量で導入することもできる。
分の1の所で、1つまたは複数の箇所から反応媒体中に
導入するのが好ましい。液体硫黄と液体燐とを同一箇所
から導入することもできるが、硫黄の供給箇所と燐の供
給箇所とを互いに違えるのが好ましい。硫黄および燐は
、図1に示したような長いパイプ(実線6、7)を介し
て反応脚の上部で導入することができる。また、硫黄お
よび燐を反応脚の他の箇所、例えば反応脚の下部に直接
導入することもできる(鎖線6、7)。また、これらの
管または別の長い管を介して窒素等の不活性ガスをわず
かな流量で導入することもできる。
【0021】上記反応脚の特徴は主として反応媒体の循
環速度に関係しており、従って、製造された多硫化四燐
の物理化学的特性に関係する。P4 S10の場合、そ
の融点以上ではこの生成物の粘度が高いので、反応によ
って放出された熱を分配するために良く撹拌する必要が
ある。換言すれば、上記の熱を均一に分配し、生成物の
蒸発を良くするために循環速度を速くする必要がある。 そのためには、滞留時間が比較的短くなるように反応脚
の長さを選択し、直径に対する高さの比が2〜20の範
囲、さらに好ましくは5〜10の範囲にある反応脚を選
択するのが好ましい。反応脚の高さは 0.5〜5mの
範囲で変えることができるが、 1.5〜3mの範囲の
高さを選択するのが好ましい。
環速度に関係しており、従って、製造された多硫化四燐
の物理化学的特性に関係する。P4 S10の場合、そ
の融点以上ではこの生成物の粘度が高いので、反応によ
って放出された熱を分配するために良く撹拌する必要が
ある。換言すれば、上記の熱を均一に分配し、生成物の
蒸発を良くするために循環速度を速くする必要がある。 そのためには、滞留時間が比較的短くなるように反応脚
の長さを選択し、直径に対する高さの比が2〜20の範
囲、さらに好ましくは5〜10の範囲にある反応脚を選
択するのが好ましい。反応脚の高さは 0.5〜5mの
範囲で変えることができるが、 1.5〜3mの範囲の
高さを選択するのが好ましい。
【0022】上記の部分1、2および管4に、単独また
は共働して作動可能な加熱系(図1には図示せず)を設
けることもできる。
は共働して作動可能な加熱系(図1には図示せず)を設
けることもできる。
【0023】本発明方法は、図2に概念的に示した装置
を使用して実施することもできる。この装置では前記の
部分8が部分2の上に直接配置され、排出口5はなく、
生成したガス状生成物は直接充填塔8を通る。
を使用して実施することもできる。この装置では前記の
部分8が部分2の上に直接配置され、排出口5はなく、
生成したガス状生成物は直接充填塔8を通る。
【0024】本発明方法は柔軟性が大きい。反応媒体の
循環速度は大きく変化させることができ、それによって
反応媒体内での熱の分配を良好にし、生成物の過熱また
は沸点への到達の遅れを無くすことができる。上記ルー
プ内での循環を大きくすることによって、系内の反応物
の蒸発率を減して反応の化学理論量を維持することもで
きる。本発明方法では撹拌器を使用する必要が全くない
ので、反応物と生成物が外部に漏れる危険性を無くすこ
とができる。これは安全性および環境保全の観点で大き
な利点である。以下、本発明の実施例を説明する。
循環速度は大きく変化させることができ、それによって
反応媒体内での熱の分配を良好にし、生成物の過熱また
は沸点への到達の遅れを無くすことができる。上記ルー
プ内での循環を大きくすることによって、系内の反応物
の蒸発率を減して反応の化学理論量を維持することもで
きる。本発明方法では撹拌器を使用する必要が全くない
ので、反応物と生成物が外部に漏れる危険性を無くすこ
とができる。これは安全性および環境保全の観点で大き
な利点である。以下、本発明の実施例を説明する。
【0025】
【実施例】a. 使用した装置は図1に示したような装
置であり、下記の特徴を有する: (1) 反応脚1の寸法 高さ 2 m内径
0.300 m(2)
部分2の内径 0.8 m(3
) 反応脚1の上部の供給部6、7から反応物を導入し
、反応脚1の下側3分の1の箇所で反応物を注入する。 (4) 排出口5の位置でのガス状P4 S10の排出
温度は520 ℃。 (5) 位置9で、加圧窒素(4バール、320 ℃)
を循環させてP4 S10を冷却して凝縮する。冷却
器から出たP4 S10の温度は 335℃。 (6) 部分1、2で加熱 b. 運転条件 上記装置内中に 600 kg のP4 S10を導入
し、 400℃まで徐々に加熱する。この温度で、硫黄
および燐を連続的に供給する。硫黄は、温度140 ℃
で、流量 720 kg /時で導入する。燐は、温度
60℃で、流量 280 kg /時で導入する。燐お
よび硫黄と同時に長い管を介して窒素を僅かな流量で導
入する。反応脚の温度は徐々に上昇し、 520℃で安
定する。この段階で流体は 0.3m/秒の循環速度で
運動する。この状態で反応装置を60時間運転すると、
P4 S10が流量1000kg/時で生産される。部
分2の頂部で測定される圧力は約1絶対バールである。 得られたP4 S10は下記の特性を有する:P
: 27.8〜28.5 重量%S
: 71.5〜72.2 重量%Fe
: ≦ 0.05 重量%融点
: 278 〜280 ℃
置であり、下記の特徴を有する: (1) 反応脚1の寸法 高さ 2 m内径
0.300 m(2)
部分2の内径 0.8 m(3
) 反応脚1の上部の供給部6、7から反応物を導入し
、反応脚1の下側3分の1の箇所で反応物を注入する。 (4) 排出口5の位置でのガス状P4 S10の排出
温度は520 ℃。 (5) 位置9で、加圧窒素(4バール、320 ℃)
を循環させてP4 S10を冷却して凝縮する。冷却
器から出たP4 S10の温度は 335℃。 (6) 部分1、2で加熱 b. 運転条件 上記装置内中に 600 kg のP4 S10を導入
し、 400℃まで徐々に加熱する。この温度で、硫黄
および燐を連続的に供給する。硫黄は、温度140 ℃
で、流量 720 kg /時で導入する。燐は、温度
60℃で、流量 280 kg /時で導入する。燐お
よび硫黄と同時に長い管を介して窒素を僅かな流量で導
入する。反応脚の温度は徐々に上昇し、 520℃で安
定する。この段階で流体は 0.3m/秒の循環速度で
運動する。この状態で反応装置を60時間運転すると、
P4 S10が流量1000kg/時で生産される。部
分2の頂部で測定される圧力は約1絶対バールである。 得られたP4 S10は下記の特性を有する:P
: 27.8〜28.5 重量%S
: 71.5〜72.2 重量%Fe
: ≦ 0.05 重量%融点
: 278 〜280 ℃
【図1】本発明の方法を実施するための装置の1実施態
様の概念図。
様の概念図。
【図2】本発明の方法を実施するための装置の別の実施
態様の概念図。
態様の概念図。
Claims (22)
- 【請求項1】所望の多硫化物に対応した比率で液体の燐
と液体の硫黄とを循環式の反応媒体に連続的に供給し、
反応媒体の温度を制御し、反応媒体から多硫化四リンを
ガス状態で分離することによって構成される燐と硫黄と
を反応させて式:P4 Sx の多硫化四リン燐(ここ
で、xは少なくとも3である)を連続的に製造する方法
において、上記反応をループ状反応装置内で行い、反応
媒体の循環を反応媒体内に生じる密度差によって主とし
て行うことを特徴とする方法。 - 【請求項2】反応媒体の平均温度が 300℃以上であ
る請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】反応媒体の平均温度が 300〜600
℃の範囲中にある請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】反応媒体の循環速度が0.01m/秒以上
である請求項1に記載の方法。 - 【請求項5】反応媒体の循環速度が0.01〜1m/秒
である請求項1に記載の方法。 - 【請求項6】上記反応を 0.1絶対バール以上の圧力
下で行う請求項1に記載の方法。 - 【請求項7】上記反応を 0.1〜10絶対バールの圧
力下で行う請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項8】上記反応を1〜2絶対バールの圧力下で行
う請求項1、6および7のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項9】液体の燐と液体の硫黄を、液体の多硫化四
リンのシャフトの脚部に導入する請求項1〜8のいずれ
か一項に記載の方法。 - 【請求項10】多硫化四リンが十硫化四リンP4 S1
0である請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項11】反応脚と呼ばれるほぼ鉛直な部分 (1
)と、この部分 (1)にほぼ平行な部分 (2)とを
有し、これらの2つの部分 (1)と (2)は、断面
が反応脚の断面積にほぼ等しい断面積を有する上部と下
部の管(3, 4)を介して互いに連通されており、反
応脚の下側半分の部分には液体燐と液体硫黄とを導入す
るための少なくとも1つの液体燐供給部 (6)と少な
くとも1つの液体硫黄供給部 (7)とが設けられてお
り、上記部分 (1)および (2)のいずれか一方の
上端部近傍にはガス状の多硫化四リンの排出口 (5)
が設けられていることを特徴とする請求項1〜10のい
ずれか一項に記載の方法を実施する装置。 - 【請求項12】上記部分 (2)の直径が少なくとも反
応脚 (1)の直径以上である請求項11に記載の装置
。 - 【請求項13】上記部分 (2)に対する上記部分 (
1)の直径の比が1〜5の範囲である請求項11に記載
の装置。 - 【請求項14】液体燐と液体硫黄が主として反応脚の下
側3分の1の位置の1つまたは複数の箇所で反応媒対中
に導入される請求項11に記載の装置。 - 【請求項15】液体燐と液体硫黄の導入が互いに異なっ
た位置で行われる請求項14に記載の装置。 - 【請求項16】反応脚 (1)の直径に対する高さの比
が2以上である請求項11に記載の装置。 - 【請求項17】反応脚 (1)の直径に対する高さの比
が2〜20の範囲にある請求項16に記載の装置。 - 【請求項18】反応脚 (1)の高さが 0.5m以上
である請求項11に記載の装置。 - 【請求項19】反応脚の高さが 0.5〜5mの範囲内
にある請求項18に記載の装置。 - 【請求項20】上記の部分 (1,2)および管(3,
4)に単独または共働して作動可能な加熱装置を備え
ている請求項11に記載の装置。 - 【請求項21】上記排出口 (5)が分離系 (8)お
よび冷却系 (9)に接続されている請求項11に記載
の装置。 - 【請求項22】上記部分 (2)と分離系 (8)が上
下に配置されている請求項21に記載の装置。
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