JPH0421683A - 7位チオエーテル基置換1H―ピラゾロ[3,2‐c]―1,2,4―トリアゾール系化合物の製造方法 - Google Patents
7位チオエーテル基置換1H―ピラゾロ[3,2‐c]―1,2,4―トリアゾール系化合物の製造方法Info
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Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ハロゲン化銀カラー写真カプラーとして有用
な7位チオエーテル置換−1H−ピラゾロ(3,2−c
) −L2,4− トリアゾール系化合物の製造方法に
関するものである。
な7位チオエーテル置換−1H−ピラゾロ(3,2−c
) −L2,4− トリアゾール系化合物の製造方法に
関するものである。
[発明の背景〕
7位チオエーテル置換−1H−ピラゾロ(3,2c)
−1,2,4−トリアゾール系化合物は、ハロゲン化銀
カラー写真用カプラーとして有用な化合物である。カプ
ラーの活性点(カンプリング位)にチオエーテル基を導
入する方法として、例えば、0LS−2,343,37
8号、リサーチディスクロージャー(Research
Disclosure )第10巻、Nα138(1
975)、特公昭59−37819号、特公昭59−3
7820号が知られている。しかしながら、これらに記
載されているカプラーは、イエロー色画像形成カプラー
としてピバロイルアセトアニリド型、ベンゾイルアセト
アニリド型、マロンジアミド型、ベンゾチアゾリルアセ
トアミド型、ベンゾチアゾリルアセテート型、ベンズオ
キサプリルアセトアミド型、ベンズオキサシリルアセテ
ート型、ベンズイミダゾリルアセテート型であり、マゼ
ンタ色画像形成カプラーとして5−オキソ−2−ピラゾ
リン核、ピラゾロ−(1,5−a)ベンズイミダゾール
核であり、またシアン色画像形成カプラーとしてフェノ
ール核、α−ナフトール核に関するものであり、本発明
の1H−ピラゾロ(3,2−c )1.2.4− )リ
アゾール核に関しては全く記載がない。
−1,2,4−トリアゾール系化合物は、ハロゲン化銀
カラー写真用カプラーとして有用な化合物である。カプ
ラーの活性点(カンプリング位)にチオエーテル基を導
入する方法として、例えば、0LS−2,343,37
8号、リサーチディスクロージャー(Research
Disclosure )第10巻、Nα138(1
975)、特公昭59−37819号、特公昭59−3
7820号が知られている。しかしながら、これらに記
載されているカプラーは、イエロー色画像形成カプラー
としてピバロイルアセトアニリド型、ベンゾイルアセト
アニリド型、マロンジアミド型、ベンゾチアゾリルアセ
トアミド型、ベンゾチアゾリルアセテート型、ベンズオ
キサプリルアセトアミド型、ベンズオキサシリルアセテ
ート型、ベンズイミダゾリルアセテート型であり、マゼ
ンタ色画像形成カプラーとして5−オキソ−2−ピラゾ
リン核、ピラゾロ−(1,5−a)ベンズイミダゾール
核であり、またシアン色画像形成カプラーとしてフェノ
ール核、α−ナフトール核に関するものであり、本発明
の1H−ピラゾロ(3,2−c )1.2.4− )リ
アゾール核に関しては全く記載がない。
又、7−チオエーテル置換−1H−ピラゾロ[3,2−
c ]−1,2,4−トリアゾール系化合物の合成法と
しては特開昭62−56963号に記載されている方法
が知られている。すなわち7−クロル−1Hピラゾロ(
3,2−c 〕−〕1.2.4−トリアゾール系化合を
アルキルメルカプタンのナトリウム塩と酢酸エチル等の
溶媒中で加熱還流してチオエーテル基を導入する方法で
ある。この方法の欠点として出発原料として7位ハロゲ
ン置換−1H−ピラゾロ(3,2−c ) −1,2,
4−トリアゾール系化合物を使用するため、合成経路が
長く、工業化の際に製造コストが高くなる欠点を有する
。又、更には、−層、高収率で7−チオエーテル置換−
1H−ピラゾロ(3,2−c :l −1,2,4−ト
リアゾール系化合物を合成することが望まれている。
c ]−1,2,4−トリアゾール系化合物の合成法と
しては特開昭62−56963号に記載されている方法
が知られている。すなわち7−クロル−1Hピラゾロ(
3,2−c 〕−〕1.2.4−トリアゾール系化合を
アルキルメルカプタンのナトリウム塩と酢酸エチル等の
溶媒中で加熱還流してチオエーテル基を導入する方法で
ある。この方法の欠点として出発原料として7位ハロゲ
ン置換−1H−ピラゾロ(3,2−c ) −1,2,
4−トリアゾール系化合物を使用するため、合成経路が
長く、工業化の際に製造コストが高くなる欠点を有する
。又、更には、−層、高収率で7−チオエーテル置換−
1H−ピラゾロ(3,2−c :l −1,2,4−ト
リアゾール系化合物を合成することが望まれている。
本発明は上記の事情に鑑みてなされたもので、その目的
とするところは、7−メルカブトーピラヅロ[3.2−
c ]− ]1.2.4ートリアゾール系化合を原粗化
して写真用カプラーとして有用な7位チオエーテル置換
−1H−ピラゾロ(3.2−c )1、2.4− )リ
アゾール系化合物を製造方法が簡便で、しかも高収率で
得られる製造方法を提供することにある。
とするところは、7−メルカブトーピラヅロ[3.2−
c ]− ]1.2.4ートリアゾール系化合を原粗化
して写真用カプラーとして有用な7位チオエーテル置換
−1H−ピラゾロ(3.2−c )1、2.4− )リ
アゾール系化合物を製造方法が簡便で、しかも高収率で
得られる製造方法を提供することにある。
本発明の上記目的は、−数式(II)で表わされる7−
メルカブトー1Hーピラゾロ(3.2−c )1、2
4− ) IJアゾール系化合物と一般式〔■〕で表わ
されるハロゲン化合物とを反応させることによって一般
式〔I〕で表わされる7位チオエーテル置換−1H−ピ
ラゾロ(3.2−c ) − 1.2.4−トリアゾー
ル系化合物を製造する方法により達成される。
メルカブトー1Hーピラゾロ(3.2−c )1、2
4− ) IJアゾール系化合物と一般式〔■〕で表わ
されるハロゲン化合物とを反応させることによって一般
式〔I〕で表わされる7位チオエーテル置換−1H−ピ
ラゾロ(3.2−c ) − 1.2.4−トリアゾー
ル系化合物を製造する方法により達成される。
一般式(■)
一般式(III)
3X
一般式(1)
〔式中、
R1及びR2は水素原子または置換基を表す。
−SO□−Y基、−P−Bを表す。Bは−Y。
D−Yまたは−NOで表される残基を表し、ここでDは
酸素原子または−NR,−基を表す。
酸素原子または−NR,−基を表す。
R4は水素原子、アルキル基またはアリール基を、また
Yはアルキル基、アリール基またはへテロ環基を表し、
Qは5員または6員の含窒素複素環を形成するのに必要
な非金属原子群を表す。
Yはアルキル基、アリール基またはへテロ環基を表し、
Qは5員または6員の含窒素複素環を形成するのに必要
な非金属原子群を表す。
Zは酸素原子又はイオウ原子を表す。D、は水素原子、
アルキル基、アリール基、アシル基又はスルホニル基を
表し、D2はアルキル基、アリール基、アシル基または
スルホニル基を表す。またD+、Dzは互いに結合して
、窒素原子を含み5員または6員の含窒素複素環を形成
してもよい。
アルキル基、アリール基、アシル基又はスルホニル基を
表し、D2はアルキル基、アリール基、アシル基または
スルホニル基を表す。またD+、Dzは互いに結合して
、窒素原子を含み5員または6員の含窒素複素環を形成
してもよい。
Xはハロゲン原子を表す。〕
以下、より具体的に本発明を説明する。
−数式〔I〕及び−数式(II)において、R1及びR
2で表す置換基としては、特に制限はないが、代表的に
は、アルキル、アリール、アニリノ、アシルアミノ、ス
ルホンアミド、アルキルチオ、アリールチオ、アルケニ
ル、シクロアルキル、複素環等の多基が挙げられるが、
この他にハロゲン原子及ヒシクロアルケニル、アルキニ
ル、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、
カルバモイル、スルファモイル、シアノ、アルコキシ、
アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アシルオキ
シ、スルホニルオキシ、カルバモイルオキシ、アミノ、
アルキルアミノ、イミド、ウレイド、スルファモイルア
ミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカ
ルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、アリールオキ
シカルボニル、複素環チオ、チオウレイド、カルボキシ
、ヒドロキシ、メルカプト、ニトロ、スルホ等の多基が
挙げられる。
2で表す置換基としては、特に制限はないが、代表的に
は、アルキル、アリール、アニリノ、アシルアミノ、ス
ルホンアミド、アルキルチオ、アリールチオ、アルケニ
ル、シクロアルキル、複素環等の多基が挙げられるが、
この他にハロゲン原子及ヒシクロアルケニル、アルキニ
ル、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、
カルバモイル、スルファモイル、シアノ、アルコキシ、
アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アシルオキ
シ、スルホニルオキシ、カルバモイルオキシ、アミノ、
アルキルアミノ、イミド、ウレイド、スルファモイルア
ミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカ
ルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、アリールオキ
シカルボニル、複素環チオ、チオウレイド、カルボキシ
、ヒドロキシ、メルカプト、ニトロ、スルホ等の多基が
挙げられる。
以下、R1及びR2で表される多基において、アルキル
基としては、炭素数1〜32のものが好ましく、直鎖で
も分岐でもよい。
基としては、炭素数1〜32のものが好ましく、直鎖で
も分岐でもよい。
アリール基としては、フェニル基、ナフチル基が挙げら
れる。
れる。
アシルアミノ基としては、アルキルカルボニルアミノ基
、アリールカルボニルアミノ基等が挙げられる。
、アリールカルボニルアミノ基等が挙げられる。
スルホンアミド基としては、アルキルスルホニルアミノ
基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げられる。
基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げられる。
アルキルチオ基、アリールチオ基におけるアルキル成分
、アリール成分は上記R,及びR2で表されるアルキル
基、了り−ル基が挙げられる。
、アリール成分は上記R,及びR2で表されるアルキル
基、了り−ル基が挙げられる。
アルケニル基としては、炭素数2〜32のモノ、シクロ
アルキル基としては炭素数3〜12、特に5〜7のもの
が好ましく、アルケニル基は直鎖でも分岐でもよい。
アルキル基としては炭素数3〜12、特に5〜7のもの
が好ましく、アルケニル基は直鎖でも分岐でもよい。
シクロアルケニル基としては、炭素数3〜12、特に5
〜7のものが好ましい。
〜7のものが好ましい。
スルホニル基としてはアルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基等; スルフィニル基としてはアルキルスルフィニル基、アリ
ールスルフィニル基等; ホスホニル基としてはアルキルホスホニル基、アルコキ
シホスホニル基、アリールオキシホスホニル基、アリー
ルホスホニル基等; アシル基としてはアルキルカルボニル基、アリールカル
ボニル基等; カルバモイル基としてはアルキルカルバモイル基、アリ
ールカルバモイル基等; スルファモイル基としてはアルキルスルファモイル基、
アリールスルファモイル基等;アシルオキシ基としては
アルキルカルボニルオキシ基、了り−ルカルボニルオキ
シ基等;スルホニルオキシ基としては、アルキルスルホ
ニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基等;カルバ
モイルオキン基としてはアルキルカルバモイルオキシ基
、アリールカルバモイルオキシ基等; ウレイド基としてはアルキルウレイド基、アリールウレ
イド基等; スルファモイルアミノ基としてはアルキルスルファモイ
ルアミノ基、アリールスルファモイルアミノ基等; 複素環基としては5〜7員のものが好ましく、具体的に
は2−フリル基、2−チエニル基、2−ピリミジニル基
、2−ベンゾチアゾリル基、1−ピロリル基、1−テト
ラゾリル基等; 複素環オキシ基としては5〜7員の複素環を有するもの
が好ましく、例えば3,4,5.6−テトラヒドロピラ
ニル−2−オキシ基、1−フェニルテトラゾール−5−
オキシ基等; 複素環チオ基としては、5〜7員の複素環チオ基が好ま
しく、例えば2−ピリジルチオ基、2−ベンゾチアゾリ
ルチオ基、2.4−ジフェノキシ−1,3,5−トリア
ゾール−6一チオ基等;シロキシ基としてはトリメチル
シロキシ基、トリエチルシロキシ基、ジメチルブチルシ
ロキシ基等; イミド基としてはコハク酸イミド基、3−ヘプタデシル
コハク酸イミド基、フタルイミド基、グルタルイミド基
等が挙げられる。
スルホニル基等; スルフィニル基としてはアルキルスルフィニル基、アリ
ールスルフィニル基等; ホスホニル基としてはアルキルホスホニル基、アルコキ
シホスホニル基、アリールオキシホスホニル基、アリー
ルホスホニル基等; アシル基としてはアルキルカルボニル基、アリールカル
ボニル基等; カルバモイル基としてはアルキルカルバモイル基、アリ
ールカルバモイル基等; スルファモイル基としてはアルキルスルファモイル基、
アリールスルファモイル基等;アシルオキシ基としては
アルキルカルボニルオキシ基、了り−ルカルボニルオキ
シ基等;スルホニルオキシ基としては、アルキルスルホ
ニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基等;カルバ
モイルオキン基としてはアルキルカルバモイルオキシ基
、アリールカルバモイルオキシ基等; ウレイド基としてはアルキルウレイド基、アリールウレ
イド基等; スルファモイルアミノ基としてはアルキルスルファモイ
ルアミノ基、アリールスルファモイルアミノ基等; 複素環基としては5〜7員のものが好ましく、具体的に
は2−フリル基、2−チエニル基、2−ピリミジニル基
、2−ベンゾチアゾリル基、1−ピロリル基、1−テト
ラゾリル基等; 複素環オキシ基としては5〜7員の複素環を有するもの
が好ましく、例えば3,4,5.6−テトラヒドロピラ
ニル−2−オキシ基、1−フェニルテトラゾール−5−
オキシ基等; 複素環チオ基としては、5〜7員の複素環チオ基が好ま
しく、例えば2−ピリジルチオ基、2−ベンゾチアゾリ
ルチオ基、2.4−ジフェノキシ−1,3,5−トリア
ゾール−6一チオ基等;シロキシ基としてはトリメチル
シロキシ基、トリエチルシロキシ基、ジメチルブチルシ
ロキシ基等; イミド基としてはコハク酸イミド基、3−ヘプタデシル
コハク酸イミド基、フタルイミド基、グルタルイミド基
等が挙げられる。
上記の基は、更に長鎖炭化水素基やポリマー残基などの
耐拡散性基等の置換基を有していてもよい。
耐拡散性基等の置換基を有していてもよい。
一般式(1)及び−最大(I[[)においてR1で表す
アルキル基は、炭素数1から24までの直鎖または分岐
のアルキル基、アルケニル基、環状アルキル基、環状ア
ルケニル基、アラルキル基を表す。
アルキル基は、炭素数1から24までの直鎖または分岐
のアルキル基、アルケニル基、環状アルキル基、環状ア
ルケニル基、アラルキル基を表す。
直鎖または分岐アルキル基の例としては、メチル、エチ
ル、イソプロピル、n−ブチル、t−ブチル、ヘキシル
等であり、アルケニル基の例としてはアリル、イソプロ
ペニル等であり、環状アルキル基の例としてはシクロプ
ロピル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル等であ
り、環状アルケニル基の例としてはシクロへキセニル等
であり、アラルキル基の例としてはベンジル等である。
ル、イソプロピル、n−ブチル、t−ブチル、ヘキシル
等であり、アルケニル基の例としてはアリル、イソプロ
ペニル等であり、環状アルキル基の例としてはシクロプ
ロピル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル等であ
り、環状アルケニル基の例としてはシクロへキセニル等
であり、アラルキル基の例としてはベンジル等である。
これらの基は置換基で置換されてもよく、置換基の例と
しては、R3及びR2の置換基として挙げたものと同義
である。
しては、R3及びR2の置換基として挙げたものと同義
である。
Yで表すアルキル基は、R3で表すアルキル基と同義で
あり、アリール基の例としては、フェニル、ナフチル等
であり、これらは前述の置換基で置換されてもよい。Y
で表す複素環は含窒素複素環、含酸素複素環、含イオウ
複素環または複素環に異種の2個以上のへテロ原子を含
む複素環であり、これらの複素環は前述の置換基で置換
されてもよい。含窒素複素環基の例としては、ピリジル
、キノリル、ピロリジル、イミダゾリル等であり、含酸
素複素環基の例としては、テトラヒドロフリル、フリル
、ベンゾフリル等であり、含イオウ複素環基の例として
は、チエニル、ベンゾチエニル等であり、異種のへテロ
原子を2個以上含む複素環基の例としては、ベンゾオキ
サシリル、ベンズチアゾリル等である。
あり、アリール基の例としては、フェニル、ナフチル等
であり、これらは前述の置換基で置換されてもよい。Y
で表す複素環は含窒素複素環、含酸素複素環、含イオウ
複素環または複素環に異種の2個以上のへテロ原子を含
む複素環であり、これらの複素環は前述の置換基で置換
されてもよい。含窒素複素環基の例としては、ピリジル
、キノリル、ピロリジル、イミダゾリル等であり、含酸
素複素環基の例としては、テトラヒドロフリル、フリル
、ベンゾフリル等であり、含イオウ複素環基の例として
は、チエニル、ベンゾチエニル等であり、異種のへテロ
原子を2個以上含む複素環基の例としては、ベンゾオキ
サシリル、ベンズチアゾリル等である。
一方、−N Q で表される複素環基としては、ピ
ロリジン、ピペリジン、モルホリン、イミダゾール、ベ
ンズイミダゾール、フタルイミド、サクシンイミド、グ
ルタルイミド、ヒダントイン、オキサゾリジンジオン、
ペンヅトリアゾール、α−ピリドン、T−ピリドン、オ
キサゾリドン、バレロラクタム、ブチロラクタム、チオ
ヒダントイン、ナフトトリアゾール、テトラゾール、ピ
ラゾール、インドール、イミダプリン、ビラプリン、ピ
ペラジン、インドリン、イソインドリン等があげられる
。
ロリジン、ピペリジン、モルホリン、イミダゾール、ベ
ンズイミダゾール、フタルイミド、サクシンイミド、グ
ルタルイミド、ヒダントイン、オキサゾリジンジオン、
ペンヅトリアゾール、α−ピリドン、T−ピリドン、オ
キサゾリドン、バレロラクタム、ブチロラクタム、チオ
ヒダントイン、ナフトトリアゾール、テトラゾール、ピ
ラゾール、インドール、イミダプリン、ビラプリン、ピ
ペラジン、インドリン、イソインドリン等があげられる
。
Dlは水素原子、上記Yと同様の意味を表わすアルキル
、アリール基を表わし、アシル基としてアセチル、ヘン
ジイル、(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)アセチ
ル基等を表わし、スルホニル基としては、メタンスルホ
ニル、ベンゼンスルホニル、n−ブタンスルホニル、P
−)ルエンスルホニル基等を表わす。D2のアルキル、
アリール、アシル、スルホニル基は上記D1と同様の意
味を表わす、D、、D、が互いに結合してつくる窒素原
子を含み5員または6員環の含窒素複素環の好ましい例
としては、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、イミ
ダゾール、ベンズイミダゾール、フタルイミド、サクシ
ンイミド、グルタルイミド、ヒダントイン、オキサゾリ
ジンジオン、ベンゾトリアゾール、α−ピリドン、γ−
ピリドン、オキサゾリドン、バレロラクタム、ブチロラ
クタム、チオヒダントイン、ナフトトリアゾール、テト
ラゾール、ピラゾール、インドール、イミダシリン、ピ
ラゾリン、ピペラジン、インドリン、イソインドリン等
があげられる。
、アリール基を表わし、アシル基としてアセチル、ヘン
ジイル、(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)アセチ
ル基等を表わし、スルホニル基としては、メタンスルホ
ニル、ベンゼンスルホニル、n−ブタンスルホニル、P
−)ルエンスルホニル基等を表わす。D2のアルキル、
アリール、アシル、スルホニル基は上記D1と同様の意
味を表わす、D、、D、が互いに結合してつくる窒素原
子を含み5員または6員環の含窒素複素環の好ましい例
としては、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、イミ
ダゾール、ベンズイミダゾール、フタルイミド、サクシ
ンイミド、グルタルイミド、ヒダントイン、オキサゾリ
ジンジオン、ベンゾトリアゾール、α−ピリドン、γ−
ピリドン、オキサゾリドン、バレロラクタム、ブチロラ
クタム、チオヒダントイン、ナフトトリアゾール、テト
ラゾール、ピラゾール、インドール、イミダシリン、ピ
ラゾリン、ピペラジン、インドリン、イソインドリン等
があげられる。
R+のアルキル基、アリール基は前述Yと同義である。
以下に、本発明において出発原料として用いられる一般
式[I[)で表わされる7−メルカプ)−1H−ピラゾ
ロ(3,2−c) −1,2,4−トリアゾール系化合
物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
式[I[)で表わされる7−メルカプ)−1H−ピラゾ
ロ(3,2−c) −1,2,4−トリアゾール系化合
物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
■
■
■
\
C,H
7(t)
■
I−7
■
■
C日H盲7
■
■
■−13
Hi
0C1□Fhs
これらの7−メルカブトー1H−ピラゾロ(3,2−c
) 1,2.4− トリアゾール系化合物は、下
記の合成経路で合成されるのが好ましい。すなわち、
1,2.4− トリアゾロ(3,4−b) −1,3,
4−チアジアジン系化合物を酸無水物と反応させること
により7−アジルチオー1−アシル−ピラゾロ(3,2
−c ) −1,2,4−トリアゾール系化合物を得て
、これをさらに塩基で処理することにより7メルカプト
ー1H−ピラゾロ(3,2−c ) −1,2,4−ト
リアゾール系化合物を容易に合成することができる。
) 1,2.4− トリアゾール系化合物は、下
記の合成経路で合成されるのが好ましい。すなわち、
1,2.4− トリアゾロ(3,4−b) −1,3,
4−チアジアジン系化合物を酸無水物と反応させること
により7−アジルチオー1−アシル−ピラゾロ(3,2
−c ) −1,2,4−トリアゾール系化合物を得て
、これをさらに塩基で処理することにより7メルカプト
ー1H−ピラゾロ(3,2−c ) −1,2,4−ト
リアゾール系化合物を容易に合成することができる。
合成経路
1.2.4− )リアゾロ(3,4−b)−1,3,4
−チアジアジン系化合物は、例えばRD−12443特
開昭61−260085号公報等に記載の方法により容
易に合成することができる。
−チアジアジン系化合物は、例えばRD−12443特
開昭61−260085号公報等に記載の方法により容
易に合成することができる。
ここに示したものは、本発明の出発原料の7−メルカブ
トー1H−ピラゾロ(3,2−c ) −L2.4トリ
アゾ一ル系化合物の合成法の一例であり、もちろんその
他の方法により得られた7−メルカブトー1H−ピラゾ
ロ(3,2−c )−1,2,4−トリアゾール系化合
物を使用してもよい。
トー1H−ピラゾロ(3,2−c ) −L2.4トリ
アゾ一ル系化合物の合成法の一例であり、もちろんその
他の方法により得られた7−メルカブトー1H−ピラゾ
ロ(3,2−c )−1,2,4−トリアゾール系化合
物を使用してもよい。
次に一般式[1)で表される7位チオエーテル基置換1
H−ピラゾロ(3,2−c :l −1,2,4−トリ
アゾール系化合物の代表的具体例を以下に示すが、本発
明はこれらによって限定されるものではない。
H−ピラゾロ(3,2−c :l −1,2,4−トリ
アゾール系化合物の代表的具体例を以下に示すが、本発
明はこれらによって限定されるものではない。
例示化合物
■
!−4
■
■
■
■
■
■−11
■
■
■−13
■−15
■
■
■
CH。
CO,にHにυzc+zHzs
一般式(n[)で表わされるハロゲン化合物は一般式(
n)で表わされるメルカプト化合物に対し1〜lO倍モ
ルの範囲で使用できるが、1〜2倍モル量が好ましい。
n)で表わされるメルカプト化合物に対し1〜lO倍モ
ルの範囲で使用できるが、1〜2倍モル量が好ましい。
反応溶媒としては水、アルコール性溶媒(例えば、メタ
ノール、エタノール等)芳香族溶媒(例えばトルエン等
)、有機カルボン酸溶媒(例えば酢酸等)、ハロゲン化
炭化水素系溶媒(例えばクロロホルム等)、非プロトン
性塩基性溶媒(例えばジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド等)、エステル系溶媒(酢酸エチル等)、
その他アセトン、アセトニトリル等があげられる。反応
溶媒は混合使用してもよい。反応温度は一10°〜20
0°Cの範囲で行なうことができるが一5°〜100°
Cの範囲が特に好ましい。
ノール、エタノール等)芳香族溶媒(例えばトルエン等
)、有機カルボン酸溶媒(例えば酢酸等)、ハロゲン化
炭化水素系溶媒(例えばクロロホルム等)、非プロトン
性塩基性溶媒(例えばジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド等)、エステル系溶媒(酢酸エチル等)、
その他アセトン、アセトニトリル等があげられる。反応
溶媒は混合使用してもよい。反応温度は一10°〜20
0°Cの範囲で行なうことができるが一5°〜100°
Cの範囲が特に好ましい。
塩基触媒としては、水酸化アルカリ(例えば、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等)、アルカリ金属アルコキ
シド(例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド等)、有機塩基(例えばトリエチルアミン、1.8
−ジアザビシクロ[5,4,01−7−ウンデセン、ピ
リジン、酢酸ソーダ等)が好ましく、添加量としては1
〜lO倍モル量使用できるが、好ましくは1〜2倍モル
量である。またこの反応は反応容器を不活性気体(例え
ば窒素等)で満たしてお(ことが好ましい。
トリウム、水酸化カリウム等)、アルカリ金属アルコキ
シド(例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド等)、有機塩基(例えばトリエチルアミン、1.8
−ジアザビシクロ[5,4,01−7−ウンデセン、ピ
リジン、酢酸ソーダ等)が好ましく、添加量としては1
〜lO倍モル量使用できるが、好ましくは1〜2倍モル
量である。またこの反応は反応容器を不活性気体(例え
ば窒素等)で満たしてお(ことが好ましい。
[実施例]
以下に、本発明の具体的実施例の一部を示すが、本発明
はこれらによって限定されるものではない。
はこれらによって限定されるものではない。
実施例1(例示化合物l−3)
メタン
ル
メタノール。
UH
〜2
例示化合物I[−3の合成例
化合物(1) 10.0 gを無水酢酸20. Og中
で4時間加熱還流後、溶媒を回収し乾固して粗製の化合
物(2) 11.8 gを得た。化合物(2) 5.0
gをメタノール15mfに溶解後、水酸化カリウム3
.0gを加え3時間加熱還流した。反応終了後、室温ま
で冷却し、溶媒を減圧留去した。残留物に酢酸エチル及
び水を加え抽出し、酢酸エチル層を希塩酸で酸性とした
。水で繰り返し洗浄し、中性として減圧留去した。残留
物をシリカゲル(ワコウゲルC−200)でカラムクロ
マトグラフィー処理して例示化合物n−3を1.5g得
た。
で4時間加熱還流後、溶媒を回収し乾固して粗製の化合
物(2) 11.8 gを得た。化合物(2) 5.0
gをメタノール15mfに溶解後、水酸化カリウム3
.0gを加え3時間加熱還流した。反応終了後、室温ま
で冷却し、溶媒を減圧留去した。残留物に酢酸エチル及
び水を加え抽出し、酢酸エチル層を希塩酸で酸性とした
。水で繰り返し洗浄し、中性として減圧留去した。残留
物をシリカゲル(ワコウゲルC−200)でカラムクロ
マトグラフィー処理して例示化合物n−3を1.5g得
た。
例示化合物1−3の合成
水酸化カリウム0.5gをメタノール30mj2に溶解
し、窒素気流雰囲気下、例示化合物■−31,5gを溶
解後、3−ブロムプロピオン酸0.5g加えた。室温で
1時間後、減圧留去した。残留物に酢酸エチルを加え、
水洗中和し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧で酢
酸エチルを留去した。
し、窒素気流雰囲気下、例示化合物■−31,5gを溶
解後、3−ブロムプロピオン酸0.5g加えた。室温で
1時間後、減圧留去した。残留物に酢酸エチルを加え、
水洗中和し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧で酢
酸エチルを留去した。
残留物をカラムクロマトグラフィーにて精製した後、酢
酸エチルとn−へキサンの8対2の混合溶媒から再結晶
し、例示化合物1−3を1.2g(収率69%)得た。
酸エチルとn−へキサンの8対2の混合溶媒から再結晶
し、例示化合物1−3を1.2g(収率69%)得た。
融点89〜91 ’CFAB−Mass m/e=54
2、IR,NMRはI−3の構造を支持した。
2、IR,NMRはI−3の構造を支持した。
実施例2(例示化合物1−12)
メタノール、 KOH,Nz
例示化合物ll−131,7g、2−ブロムエタノール
0.5gを使用した以外は実施例1と同様の方法により
行なった。カラムクロマトグラフィーにて精製後アセト
ニトリルから再結晶し、例示化合物l−12を1.1g
(収率60%)得た。融点86〜87°C,FAB−M
ass m/e=585. I R。
0.5gを使用した以外は実施例1と同様の方法により
行なった。カラムクロマトグラフィーにて精製後アセト
ニトリルから再結晶し、例示化合物l−12を1.1g
(収率60%)得た。融点86〜87°C,FAB−M
ass m/e=585. I R。
NMRはl−12の構造を支持した。
(比較例)
特開昭62−56963号公報に記載の方法に従い例示
化合物l−12を合成した。
化合物l−12を合成した。
化合物(1)4.0gを100mfのアセトニトリルに
溶解し、2−メルカプトエタノールのNa塩を加え、6
時間加熱還流後、放冷した。減圧濃縮、乾固して酢酸エ
チルで抽出し、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。酢酸エチルを減圧:a縮し、残留物をアセトニトリ
ルから再結晶して例示化合物■−12を1.1g(収率
25%)得た。
溶解し、2−メルカプトエタノールのNa塩を加え、6
時間加熱還流後、放冷した。減圧濃縮、乾固して酢酸エ
チルで抽出し、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。酢酸エチルを減圧:a縮し、残留物をアセトニトリ
ルから再結晶して例示化合物■−12を1.1g(収率
25%)得た。
実施例及び比較例に示したように本発明による製造方法
の方が従来公知の製造方法より高い収率で7位チオエー
テル置換−1H−ピラゾロ[3,2−cll、2.4−
)リアゾール系化合物を得ることができる。
の方が従来公知の製造方法より高い収率で7位チオエー
テル置換−1H−ピラゾロ[3,2−cll、2.4−
)リアゾール系化合物を得ることができる。
又、本発明の製造方法が開発されたことにより、同じ出
発原料(1,2,4−)リアゾロ(3,4−b )L3
,4−チアジアジン系化合物)を用いた場合、目的物の
7位チオエーテル置換−1H−ピラゾロ[3,2−c]
−1,2,4−トリアゾール系化合物を得るための
総工程を短くすることもできた。
発原料(1,2,4−)リアゾロ(3,4−b )L3
,4−チアジアジン系化合物)を用いた場合、目的物の
7位チオエーテル置換−1H−ピラゾロ[3,2−c]
−1,2,4−トリアゾール系化合物を得るための
総工程を短くすることもできた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式〔II〕で表される7−メルカプト−1H−ピラゾ
ロ〔3,2−c〕−1,2,4−トリアゾール系化合物
と一般式〔III〕で表されるハロゲン化合物とを反応さ
せて一般式〔 I 〕で表される化合物を形成することを
特徴とする7位チオエーテル置換−1H−ピラゾロ〔3
,2−c〕−1,2,4−トリアゾールの製造方法。 一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式〔III〕 R_3X 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1及びR_2は水素原子または置換基を表
す。 R_3はアルキル基、▲数式、化学式、表等があります
▼基、▲数式、化学式、表等があります▼基、−SO_
2−Y基、▲数式、化学式、表等があります▼を表す。 Bは−Y、−D−Yまたは▲数式、化学式、表等があり
ます▼で表される残基を表し、ここでDは酸素原子また
は−NR_4−基を表す。 R_4は水素原子、アルキル基またはアリール基を表し
、またYはアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を
表し、Qは5員または6員の含窒素複素環を形成するの
に必要な非金属原子群を表す。 Zは酸素原子又はイオウ原子を表す。D_1は水素原子
、アルキル基、アリール基、アシル基又はスルホニル基
を表し、D_2はアルキル基、アリール基、アシル基ま
たはスルホニル基を表す。またD_1、D_2は互いに
結合して、窒素原子を含み5員または6員の含窒素複素
環を形成してもよい。 Xはハロゲン原子を表す。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12541790A JPH0421683A (ja) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | 7位チオエーテル基置換1H―ピラゾロ[3,2‐c]―1,2,4―トリアゾール系化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12541790A JPH0421683A (ja) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | 7位チオエーテル基置換1H―ピラゾロ[3,2‐c]―1,2,4―トリアゾール系化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0421683A true JPH0421683A (ja) | 1992-01-24 |
Family
ID=14909590
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12541790A Pending JPH0421683A (ja) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | 7位チオエーテル基置換1H―ピラゾロ[3,2‐c]―1,2,4―トリアゾール系化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0421683A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5461164A (en) * | 1994-03-14 | 1995-10-24 | Eastman Kodak Company | Oxidative desulfurization and halogenation of thioacylated pyrazolotriazole compounds |
-
1990
- 1990-05-17 JP JP12541790A patent/JPH0421683A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5461164A (en) * | 1994-03-14 | 1995-10-24 | Eastman Kodak Company | Oxidative desulfurization and halogenation of thioacylated pyrazolotriazole compounds |
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