JPH04218027A - 液晶セルの製造法 - Google Patents
液晶セルの製造法Info
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- JPH04218027A JPH04218027A JP3075341A JP7534191A JPH04218027A JP H04218027 A JPH04218027 A JP H04218027A JP 3075341 A JP3075341 A JP 3075341A JP 7534191 A JP7534191 A JP 7534191A JP H04218027 A JPH04218027 A JP H04218027A
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- Japan
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- liquid crystal
- sealant
- composition
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1341—Filling or closing of cells
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】本発明は強誘電性液晶（ＦＬＣ）を用いた
液晶セルの製造法に関する。
液晶セルの製造法に関する。
【０００２】ＦＬＣを用いた液晶セルは時計や電卓の表
示部、各種ＯＡ（オフィスオートメーション）機器やテ
レビ等の表示部として使用されるものとして注目されて
いる。ＦＬＣを用いた液晶セルは一対の電極基板の電極
面を対向させて周縁部に設けたシール剤を介して接着さ
せることにより中央部に液晶充填部分を設けた後、上記
シール剤部に予め設けた注入口からＦＬＣを高温かつ高
真空下に毛細管現象を利用して注入することにより製造
されている。しかしながらＦＬＣ用の液晶セルはセルギ
ャップが２μ程度と通常のツイスト型ネマチック液晶を
用いたセルに比べて非常に薄いため圧力をかけてもＦＬ
Ｃを充填するのに長時間を要するという欠点があった。 また、ＦＬＣの場合、注入のため加熱した状態であって
もネマチック液晶に比べて非常に粘度が高いため脱泡（
液晶中に含まれる空気等の気体の除去）しにくく、また
さらに脱泡したとしても脱泡後の状態が均一化されにく
いという欠点があった。
示部、各種ＯＡ（オフィスオートメーション）機器やテ
レビ等の表示部として使用されるものとして注目されて
いる。ＦＬＣを用いた液晶セルは一対の電極基板の電極
面を対向させて周縁部に設けたシール剤を介して接着さ
せることにより中央部に液晶充填部分を設けた後、上記
シール剤部に予め設けた注入口からＦＬＣを高温かつ高
真空下に毛細管現象を利用して注入することにより製造
されている。しかしながらＦＬＣ用の液晶セルはセルギ
ャップが２μ程度と通常のツイスト型ネマチック液晶を
用いたセルに比べて非常に薄いため圧力をかけてもＦＬ
Ｃを充填するのに長時間を要するという欠点があった。 また、ＦＬＣの場合、注入のため加熱した状態であって
もネマチック液晶に比べて非常に粘度が高いため脱泡（
液晶中に含まれる空気等の気体の除去）しにくく、また
さらに脱泡したとしても脱泡後の状態が均一化されにく
いという欠点があった。
【０００３】本発明者らは上記の点に鑑みて見い出され
たものであって、ＦＬＣの注入を毛細管現象によらずに
予め電極基板にＦＬＣ塗布層を形成すること及び該層を
加熱により脱泡しかつ該層の均一化を図ることを組み合
わせることにより非常に優れた強誘電性液晶のための液
晶セルの製造法を見い出したのである。
たものであって、ＦＬＣの注入を毛細管現象によらずに
予め電極基板にＦＬＣ塗布層を形成すること及び該層を
加熱により脱泡しかつ該層の均一化を図ることを組み合
わせることにより非常に優れた強誘電性液晶のための液
晶セルの製造法を見い出したのである。
【０００４】従って、本発明は（ａ）電極基板の電極を
有する面の周縁部に硬化型シール剤部を設ける工程、（
ｂ）該シール剤部に囲まれる部分に（ｉ） 予めス
ペーサーを設けて強誘電性液晶組成物を塗布する；（ｉ
ｉ） スペーサーを含有する強誘電性液晶組成物を塗
布する；又は（ｉｉｉ） 強誘電性液晶組成物を塗布し
た後その上にスペーサーを設ける工程、（ｃ）液晶組成
物塗布層を減圧中または減圧にした後に加熱脱泡する工
程、（ｄ）加熱脱泡した液晶組成物塗布層を有する電極
基板の該層を含む面にもう一枚の電極基板の電極を有す
る面を対向させて両基板を圧着する工程及び（ｅ）上記
シール剤を硬化させる工程を含む液晶セルの製造法に関
する。
有する面の周縁部に硬化型シール剤部を設ける工程、（
ｂ）該シール剤部に囲まれる部分に（ｉ） 予めス
ペーサーを設けて強誘電性液晶組成物を塗布する；（ｉ
ｉ） スペーサーを含有する強誘電性液晶組成物を塗
布する；又は（ｉｉｉ） 強誘電性液晶組成物を塗布し
た後その上にスペーサーを設ける工程、（ｃ）液晶組成
物塗布層を減圧中または減圧にした後に加熱脱泡する工
程、（ｄ）加熱脱泡した液晶組成物塗布層を有する電極
基板の該層を含む面にもう一枚の電極基板の電極を有す
る面を対向させて両基板を圧着する工程及び（ｅ）上記
シール剤を硬化させる工程を含む液晶セルの製造法に関
する。
【０００５】本発明の工程（ｂ）において、スペーサー
を設ける態様は以下のうちの少なくとも１つである。
を設ける態様は以下のうちの少なくとも１つである。
【０００６】１． 組成物塗布前にスペーサーを散布
する。
する。
【０００７】２． 組成物中にスペーサーを混入して
おき、その塗布時にスペーサーを含有する塗布層を設け
る。
おき、その塗布時にスペーサーを含有する塗布層を設け
る。
【０００８】３． 組成物塗布後に、その塗布層上に
スペーサーを散布する。
スペーサーを散布する。
【０００９】４． 基板上に感光性樹脂層を設けて、
この層を部分的に感光させて、感光部又は非感光部を現
像してスペーサーを（直接）作成し、その後、組成物を
塗布する（ポジ型とネガ型がある）。
この層を部分的に感光させて、感光部又は非感光部を現
像してスペーサーを（直接）作成し、その後、組成物を
塗布する（ポジ型とネガ型がある）。
【００１０】５． ガラス等の基板の表面を部分的に
エッチングしてスペーサーを（直接）作成し、その後、
組成物を塗布する。
エッチングしてスペーサーを（直接）作成し、その後、
組成物を塗布する。
【００１１】スペーサーを設ける目的はセル厚を均一に
するためである。
するためである。
【００１２】上記１，３の場合はたとえば湿式（担体と
してフロンガスを用いる）又は乾式（空気散布）が使用
される。
してフロンガスを用いる）又は乾式（空気散布）が使用
される。
【００１３】上記４の場合には感光性樹脂としては例え
ばポジ型又はネガ型のホトレジストが使用できる。ポジ
型の感光性樹脂としてたとえばヘキスト社製ＡＺ１３０
０ＳＦがある。ネガ型感光性樹脂としてたとえばヘキス
ト社製のＯＺＡＴＥＣ ＮＬ１４３がある。塗布厚は
現像後の状態で０．５〜１０μｍ、好ましくは１．５〜
３μｍである。
ばポジ型又はネガ型のホトレジストが使用できる。ポジ
型の感光性樹脂としてたとえばヘキスト社製ＡＺ１３０
０ＳＦがある。ネガ型感光性樹脂としてたとえばヘキス
ト社製のＯＺＡＴＥＣ ＮＬ１４３がある。塗布厚は
現像後の状態で０．５〜１０μｍ、好ましくは１．５〜
３μｍである。
【００１４】上記４以外のスペーサーは直径が０．５〜
１０μｍ、好しくは１．５〜３μｍであり、その材質は
無機物、例えば酸化シリコン、ポリマーとして例えばア
クリル樹脂、エポキシ樹脂等であり、また、形状は特に
問わないが、例えば真球、棒状、角柱等であり、好しく
は真球である。また、スペーサーは組成物全体に対して
０．１〜１０ｗｔ％、好しくは１〜５ｗｔ％になるよう
に用いられる。
１０μｍ、好しくは１．５〜３μｍであり、その材質は
無機物、例えば酸化シリコン、ポリマーとして例えばア
クリル樹脂、エポキシ樹脂等であり、また、形状は特に
問わないが、例えば真球、棒状、角柱等であり、好しく
は真球である。また、スペーサーは組成物全体に対して
０．１〜１０ｗｔ％、好しくは１〜５ｗｔ％になるよう
に用いられる。
【００１５】以下、本発明の好ましい態様について図面
を参照しつつさらに詳細に説明する。
を参照しつつさらに詳細に説明する。
【００１６】電極基板としては、ガラス板あるいはプラ
スチック板が用いられ、ＩＴＯのような透明電極がその
一方の面に設けられている。なおセルを構成する一対の
電極基板の一方の電極は不透明であってもよい。電極基
板の電極を設けた面の上にはポリイミド、ポリアミド等
のポリマー被膜あるいは酸化硅素のような無機被膜から
なる配向膜が設けられている。図１（ａ）に示す如く、
電極基板１の電極（図示せず）を含む面の周縁部にエポ
キシ樹脂のような紫外線硬化型シール剤、又は１００〜
１５０℃程度で硬化するエポキシ樹脂等の低温（熱）硬
化型シール剤等の硬化型シール剤を用いてスクリーン印
刷の手段によりシール剤部２を設ける。次に図１（ｂ）
に示す如く、上記シール剤部２に囲まれる部分にスペー
サーを含有するＦＬＣ組成物を凹版印刷、ロールコータ
−等の手段により塗布してＦＬＣ組成物塗布層３を形成
する。ここで上記組成物としては各種組み合わせのもの
が使用できる。たとえばまず次に示す８成分（モル％で
表わす）からなる基礎混合物が用意される：
スチック板が用いられ、ＩＴＯのような透明電極がその
一方の面に設けられている。なおセルを構成する一対の
電極基板の一方の電極は不透明であってもよい。電極基
板の電極を設けた面の上にはポリイミド、ポリアミド等
のポリマー被膜あるいは酸化硅素のような無機被膜から
なる配向膜が設けられている。図１（ａ）に示す如く、
電極基板１の電極（図示せず）を含む面の周縁部にエポ
キシ樹脂のような紫外線硬化型シール剤、又は１００〜
１５０℃程度で硬化するエポキシ樹脂等の低温（熱）硬
化型シール剤等の硬化型シール剤を用いてスクリーン印
刷の手段によりシール剤部２を設ける。次に図１（ｂ）
に示す如く、上記シール剤部２に囲まれる部分にスペー
サーを含有するＦＬＣ組成物を凹版印刷、ロールコータ
−等の手段により塗布してＦＬＣ組成物塗布層３を形成
する。ここで上記組成物としては各種組み合わせのもの
が使用できる。たとえばまず次に示す８成分（モル％で
表わす）からなる基礎混合物が用意される：
【００１７
】
】
【化１】
【００１８】この混合物は次のような相転移を示す：Ｓ
ｃ ７１ＳＡ ７８Ｎ９３Ｉ．たとえば、次の化合物が
上記混合物に対してカイラルドーピング物質として用い
られる：ドーピング物質Ｄ１
ｃ ７１ＳＡ ７８Ｎ９３Ｉ．たとえば、次の化合物が
上記混合物に対してカイラルドーピング物質として用い
られる：ドーピング物質Ｄ１
【００１９】
【化２】
【００２０】このような物質を上記基礎混合物に添加す
ることによりたとえば次のような組成のＦＬＣ組成物（
Ｖ）が得られる（各成分はモル％で表わす）：基礎混合
物 ８７．６７ド
ーピング物質Ｄ１ ４．５３ド
ーピンク物質Ｄ２ ２．７０ド
ーピング物質Ｄ３ ５．１０上
記組成物は２５℃に於いて３０ｎＣ×ｃｍ−２の自発分
極をもち、ＳＣ ＊６１ＳＡ ＊６９Ｎ＊８５Ｉの相転
移系列を示す。
ることによりたとえば次のような組成のＦＬＣ組成物（
Ｖ）が得られる（各成分はモル％で表わす）：基礎混合
物 ８７．６７ド
ーピング物質Ｄ１ ４．５３ド
ーピンク物質Ｄ２ ２．７０ド
ーピング物質Ｄ３ ５．１０上
記組成物は２５℃に於いて３０ｎＣ×ｃｍ−２の自発分
極をもち、ＳＣ ＊６１ＳＡ ＊６９Ｎ＊８５Ｉの相転
移系列を示す。
【００２１】次に、ＦＬＣ組成物塗布層を、減圧中又は
減圧にした後にＦＬＣ組成物が等方性液体又はネマチッ
ク相を示す温度まで加熱して組成物塗布層から脱泡させ
かつ該層を均一化させる。減圧内又は大気中で、図１（
ｃ）に示す如く、上記の脱泡したＦＬＣ組成物塗布層を
有する電極基板１の該層を含む面にもう一枚のシール剤
部印刷や液晶塗布を施していない電極基板４の電極（図
示せず）を有する面とを対向させて圧着する。二枚の基
板間のギャップが所望の値になるまで圧力５をかけなが
らセルを構成する。次いでセルを圧着しながら又は圧着
後、紫外線を照射してあるいは熱によりシール剤を硬化
させて液晶セルを製造する。さらに、上記加熱脱泡工程
においてＦＬＣ組成物塗布層の均一が不充分な場合には
、再度液晶セルをＦＬＣ組成物が等方性液体又はネマチ
ック相を示す温度まで加熱する工程を加えることもでき
る。
減圧にした後にＦＬＣ組成物が等方性液体又はネマチッ
ク相を示す温度まで加熱して組成物塗布層から脱泡させ
かつ該層を均一化させる。減圧内又は大気中で、図１（
ｃ）に示す如く、上記の脱泡したＦＬＣ組成物塗布層を
有する電極基板１の該層を含む面にもう一枚のシール剤
部印刷や液晶塗布を施していない電極基板４の電極（図
示せず）を有する面とを対向させて圧着する。二枚の基
板間のギャップが所望の値になるまで圧力５をかけなが
らセルを構成する。次いでセルを圧着しながら又は圧着
後、紫外線を照射してあるいは熱によりシール剤を硬化
させて液晶セルを製造する。さらに、上記加熱脱泡工程
においてＦＬＣ組成物塗布層の均一が不充分な場合には
、再度液晶セルをＦＬＣ組成物が等方性液体又はネマチ
ック相を示す温度まで加熱する工程を加えることもでき
る。
【００２２】以下、本発明の実施例を示す。
【００２３】実施例
ＩＴＯ透明電極及びポリイミド配向膜を設けたガラス板
の配向膜上の周縁部にスクリーン印刷により紫外線硬化
型エポキシ樹脂（ヘキスト社製、エポキシ樹脂Ｂｅｃｋ
ｏｐｏｘ ）を液晶注入用の開口部を設けることなく１
０μ厚に印刷した。次いで、ＳｉＯ２ （真球、直径２
μ）からなるスペーサーを組成物全体に対して３ｗｔ％
混入したＦＬＣ組成物Ｖをロールコーター法により上記
周縁部に設けたシール剤部の内側に２μの厚さに印刷し
た。真空容器内に該電極基板と、シール剤印刷及び液晶
塗布を施さないもう一枚の電極基板を挿入し１０−２Ｔ
ｏｒｒ以下の減圧にした。減圧中９０〜１００℃まで加
熱しててＦＬＣ組成物中の空気を除去した。約１０分間
でＦＬＣ組成物中の空気は完全に除去された。真空容器
内に設置された圧着器具により一対の電極基板間のギャ
ップが２μになるまで圧力をかけてセルを構成し、次い
で圧着しながらシール剤部を紫外線照射により硬化させ
本発明の液晶セルを製造した。
の配向膜上の周縁部にスクリーン印刷により紫外線硬化
型エポキシ樹脂（ヘキスト社製、エポキシ樹脂Ｂｅｃｋ
ｏｐｏｘ ）を液晶注入用の開口部を設けることなく１
０μ厚に印刷した。次いで、ＳｉＯ２ （真球、直径２
μ）からなるスペーサーを組成物全体に対して３ｗｔ％
混入したＦＬＣ組成物Ｖをロールコーター法により上記
周縁部に設けたシール剤部の内側に２μの厚さに印刷し
た。真空容器内に該電極基板と、シール剤印刷及び液晶
塗布を施さないもう一枚の電極基板を挿入し１０−２Ｔ
ｏｒｒ以下の減圧にした。減圧中９０〜１００℃まで加
熱しててＦＬＣ組成物中の空気を除去した。約１０分間
でＦＬＣ組成物中の空気は完全に除去された。真空容器
内に設置された圧着器具により一対の電極基板間のギャ
ップが２μになるまで圧力をかけてセルを構成し、次い
で圧着しながらシール剤部を紫外線照射により硬化させ
本発明の液晶セルを製造した。
【図１】（ａ）〜（ｃ）は本発明の製造法の各工程を模
式的に示し、（ａ）及び（ｂ）は平面図であり、（ｃ）
は斜視図である。
式的に示し、（ａ）及び（ｂ）は平面図であり、（ｃ）
は斜視図である。
１，４…電極基板
２…シール剤部
３…ＦＬＣ組成物塗布層
５…圧力
Claims (2)
- 【請求項１】 （ａ）電極基板の電極を有する面の周
縁部に硬化型シール剤部を設ける工程、（ｂ）該シール
剤部に囲まれる部分に（ｉ） 予めスペーサーを設
けて強誘電性液晶組成物を塗布する；（ｉｉ） スペ
ーサーを含有する強誘電性液晶組成物を塗布する；又は
（ｉｉｉ） 強誘電性液晶組成物を塗布した後その上に
スペーサーを設ける工程（ｃ）液晶組成物塗布層を減圧
中または減圧にした後に加熱脱泡する工程、（ｄ）加熱
脱泡した液晶組成物塗布層を有する電極基板の該層を含
む面にもう一枚の電極基板の電極を有する面を対向させ
て両基板を圧着する工程及び（ｅ）上記シール剤を硬化
させる工程を含む液晶セルの製造法。 - 【請求項２】 シール剤を硬化させる工程の後に、液
晶セルを加熱する工程をさらに含む請求項第１項記載の
液晶セルの製造法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3075341A JPH04218027A (ja) | 1990-06-14 | 1991-04-08 | 液晶セルの製造法 |
| EP91911196A EP0533928A1 (en) | 1990-06-14 | 1991-06-14 | Process for producing liquid-crystal cells |
| PCT/JP1991/000805 WO1991020011A1 (en) | 1990-06-14 | 1991-06-14 | Process for producing liquid-crystal cells |
| US07/949,839 US5361152A (en) | 1990-06-14 | 1991-06-14 | Process for producing ferroelectric liquid-crystal cells |
| NO92924720A NO924720L (no) | 1990-06-14 | 1992-12-07 | Fremgangsmaate for fremstilling av flytende krystall-celler |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15638790 | 1990-06-14 | ||
| JP2-156387 | 1990-06-14 | ||
| JP3075341A JPH04218027A (ja) | 1990-06-14 | 1991-04-08 | 液晶セルの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04218027A true JPH04218027A (ja) | 1992-08-07 |
Family
ID=26416479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3075341A Pending JPH04218027A (ja) | 1990-06-14 | 1991-04-08 | 液晶セルの製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5361152A (ja) |
| EP (1) | EP0533928A1 (ja) |
| JP (1) | JPH04218027A (ja) |
| WO (1) | WO1991020011A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004295109A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-10-21 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置およびその作製方法 |
| US8634050B2 (en) | 2003-03-07 | 2014-01-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device and method for manufacturing the same |
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|---|---|---|---|---|
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| US5739882A (en) * | 1991-11-18 | 1998-04-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | LCD polymerized column spacer formed on a modified substrate, from an acrylic resin, on a surface having hydrophilic and hydrophobic portions, or at regular spacings |
| JP3210126B2 (ja) * | 1993-03-15 | 2001-09-17 | 株式会社東芝 | 液晶表示装置の製造方法 |
| EP0881525A3 (en) * | 1994-09-26 | 1999-03-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Liquid crystal display panel and method for manufacturing the same |
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| DE19604632A1 (de) * | 1996-02-08 | 1997-08-14 | Consortium Elektrochem Ind | Verfahren zur Herstellung eines orientierten Films aus hochviskosem flüssigkristallinen Material |
| US5978065A (en) * | 1996-11-08 | 1999-11-02 | Sony Corporation | Liquid crystal device and manufacturing method and apparatus therefor |
| US5919606A (en) * | 1997-05-09 | 1999-07-06 | University Technology Corporation | Liquid crystal cell and method for assembly thereof |
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| KR100493868B1 (ko) * | 1999-11-26 | 2005-06-10 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정주입방법 |
| KR100672633B1 (ko) * | 2001-12-18 | 2007-01-23 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자의 제조방법 |
| KR100490553B1 (ko) * | 2003-03-18 | 2005-05-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판형 표시장치의 제조방법 및 이 방법을 이용한 박형평판 표시장치. |
| JP4744090B2 (ja) * | 2004-03-11 | 2011-08-10 | 富士通株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
| KR100949504B1 (ko) * | 2006-05-15 | 2010-03-24 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시소자 및 그 제조방법 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0113064A1 (en) * | 1982-12-06 | 1984-07-11 | Tektronix, Inc. | Liquid crystal cell employing surface tension forces to achieve uniform interplate spacing, and method of construction thereof |
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-
1991
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Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| JP2004295109A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-10-21 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置およびその作製方法 |
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|---|---|
| EP0533928A1 (en) | 1993-03-31 |
| WO1991020011A1 (en) | 1991-12-26 |
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