JPH0421855B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0421855B2
JPH0421855B2 JP57153283A JP15328382A JPH0421855B2 JP H0421855 B2 JPH0421855 B2 JP H0421855B2 JP 57153283 A JP57153283 A JP 57153283A JP 15328382 A JP15328382 A JP 15328382A JP H0421855 B2 JPH0421855 B2 JP H0421855B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
weight
plate
photosensitive
photosensitive layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP57153283A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5942539A (en
Inventor
Masao Nakatsuka
Takatoshi Oota
Teruo Ezaka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Okamoto Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Okamoto Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Okamoto Chemical Industry Co Ltd filed Critical Okamoto Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP15328382A priority Critical patent/JPS5942539A/en
Publication of JPS5942539A publication Critical patent/JPS5942539A/en
Publication of JPH0421855B2 publication Critical patent/JPH0421855B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/016—Diazonium salts or compounds
    • G03F7/0166—Diazonium salts or compounds characterised by the non-macromolecular additives

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は、感光性平版印刷版に関する。 従来、ジアゾ感光層を有する感光性平版印刷版
(以下、PS版と呼ぶ)の多くは、ジアゾ樹脂の有
機塩および/または無機塩と、これに混合が可能
の高分子重合体および、必要に応じて、染料、顔
料等を配合した感光液を、アルミニウム薄板上に
塗布して形成したものである。 これらPS版の印刷適性の良否は、上記高分子
重合体の特性によることが多い。例えば、アルカ
リ現像を行なうPS版の場合、該高分子重合体の
構造内の親水性官能基量(例えば、ヒドロキシ
(−OH)、カルボキシル(−COOH)基などの構
造内における数量)が、現像特性、または画線部
のインキ着肉性に影響を与える。該高分子重合体
の親水性官能基量が少い場合、画線部のインキ着
肉性は向上するが、非画線部のぬけ速度(以下、
現像速度と呼ぶ)は遅くなる傾向がある。逆に、
親水性官能基量が多い場合、現像速度は早くなる
が、画線部のインキ着肉性は悪くなる。さらに、
画線部が膨潤しやすくなるので、現像時に物理的
衝撃が加わつた場合、画線部に傷がつきやすくな
る。 このようなPS版の現像性を改善するためには、
以下の諸特性(現像促進性という)をPS版が持
つようにしなければならない。 ○イ 短時間に現像でき、さらに非画線部が印刷中
に地汚れを起さない。 ○ロ 長時間の現像においても、画線部の膨潤が比
較的少く、画線部に影響をあたえない。 ○ハ 現像時間の長短にかかわらず、同一な画線部
を提供する。 ○ニ 現像液濃度が変化しても、同一な画線部を提
供する。 しかし、前記のように、該感光層に混合する高
分子合体の特性に変化を与えるだけでは、問題の
解決に限界がある。 本発明は、上記問題を解決し、PS版および高
分子重合体の諸特性を変えることなく、前述のご
とき現像促進性をもつPS版を提供するものでそ
の要旨は、ジアゾ樹脂の有機塩および/または無
機塩と有機溶剤可溶性の高分子化合物を主成分と
する感光層に、一般式 〔Rは、水素または炭素数1〜2のアルキル基、
またはアリール基、X+ 1,X+ 2は、水素、アルカリ
金属、アルカリ土類金属(例えばナトリウム、カ
リウム、カルシウム)、またはアミン類を示す。〕 で示される化合物を、該感光層の総重量の0.1〜
20重量%の範囲で添加することを特徴とする感光
性平版印刷版にある。 一般式(1)で示される化合物として、4−ヒドロ
キシ−2−スルホベンゾイツクアシド、4−ヒド
ロキシ−3−スルホベンゾイツクアシド、5−ヒ
ドロキシ−3−スルホベンゾイツクアシド、6−
ヒドロキシ−3−スルホベンゾイツクアシド、2
−ヒドロキシ−4−スルホベンゾイツクアシド、
3−ヒドロキシ−4−スルホベンゾイツクアシ
ド、5−スルホ−o−クロソチツクアシド、5−
スルホ−p−クレソチツクアシド、5−スルホ−
m−クロソチツクアシド、1−ヒドロキシ−5−
スルホナフトイツクアシド、および/またはその
アルカリ金属塩(例えばナトリウム、カリウム
塩)、アルカリ土類金属塩(例えばカルシウム
塩)、アンモニウム塩などを挙げることができる。
特に、6−ヒドロキシ−3−スルホベンゾイツク
アシドと5−スルホクレソチツクアシドのo−、
m−、p−異性体が好ましい。 これら化合物の少くとも一種を、感光層の総重
量に対して、0.1〜20重量%、好ましくは1〜10
重量%使用する。0.1重量%以下では現像促進性
の効果がなく、20重量%以上になると、感光層が
変色しやすくなり、製版後の画線部が、膨潤し、
キズがつきやすく、インキの着肉性もわるくな
る。 本発明に使用されるジアゾ樹脂の有機塩およ
び/または無機塩は、水に対して不溶性もしくは
難溶性で、有機溶媒に可溶性であることが好まし
い。このような性質を有するジアゾ樹脂として、
特公昭40−8611、米国特許2922715、米国特許
2946683等に記載された、ジアゾジアリールアミ
ンとホルムアルデヒド、アセトアルデヒド等の活
性カルボニル化合物との縮合物がある。上記ジア
ゾアリールアミンとして、例えば、4−ジアゾジ
フエニルアミン、4−ジアゾ−3−メチルジフエ
ニルアミン、4−ジアゾ−3′−メチルジフエニル
アミン、4−ジアゾ−4′−メトキシジフエニルア
ミン、4−ジアゾ−3−メトキシジフエニルアミ
ン等を挙げることができる。 上記ジアゾ樹脂と化合して有機塩を形成する化
合物として、特公昭40−2203、特公昭41−6813、
特公昭47−1167等に記載の化合物がある。例え
ば、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン
酸、2,5−キシレンスルホン酸、直鎖型、側鎖
型ドデシルベンゼンスルホン酸(通称ドデシルベ
ンゼンスルホン酸)、2−ヒドロキシ−4−メト
キシ−ベンゾフエノン−5−スルホン酸、メタニ
ルエロー、2−クロルトルエン−4−スルホン
酸、および/またはそのアルカリ金属塩(例え
ば、ナトリウム、カリウム)、アルカリ土類金属
塩(カルシウム)、アンモニウム塩等を挙げるこ
とができる。 上記ジアゾ樹脂と化合して無機塩を形成する化
合物として、特公昭40−2203、特開昭54−98613、
米国特許4093465等に記載の化合物がある。例え
ば、ホウフツ化水素酸、ヘキサフルオルリン酸、
リンタングステン酸、チオシアン酸、および/ま
たはそのアルカリ金属塩(例えば、ナトリウム、
カリウム)、アルカリ土類金属塩(例えば、カル
シウム)、アンモニウム塩等を挙げることができ
る。 上記ジアゾ化合物は、それぞれ単独で、あるい
は混合して用いることができ、その含有量は、感
光層総重量に対して約5〜30重量%の範囲が好ま
しい。 本発明に使用される有機溶剤可溶性高分子化合
物として、特公昭35−16157、特公昭47−1167、
特公昭49−36961、特公昭50−34967、特公昭51−
6566、特開昭50−30604、特開昭50−36207、特開
昭50−118802、特開昭57−2035、米国特許
3652272号、米国特許3660097号特に記載の高分子
重合体がある。例えば、エポキシ樹脂、ノボラツ
ク樹脂、ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、スチレ
ン−無水マレイン酸共重合体樹脂、スチレンおよ
びビニルトルエンと不飽和二塩基酸との共重合体
樹脂、アクリル樹脂等を挙げることができる。特
に、米国特許4282301に記載の共重合体が好まし
い。 上記の有機溶剤可溶性高分子化合物の含有量
は、本発明の感光層総重量に対して、約70〜95重
量%の範囲が好ましい。 本発明において、必要に応じて、感光層に染料
あるいは顔料を配合することができる。 染料としては、クリスタルバイオレツト、マラ
カイトグリーン、ビクトリアブルー、メチレンブ
ルー、エチルバイオレツト、ローダミンB等、お
よびその誘導体である塩基性油性染料をあげるこ
とができ、市販品として、ビクトリアブルー
BOH(保土谷化学工業(株)製)、オイルブルー#603
(オリエント化学工業(株)製)、パーマネントブルー
#47(大同化学工業(株)製)等を挙げることができ
る。 顔料としては、フタロシアニンブルー、フタロ
シアニングリーン、ジオキサジンバイオレツト、
キナクリドンレツド、インダンスレンブルー等が
あり、その市販品として、ネオザボンブルー
FLE(バーデイツシユ・アニリン・ウント・リー
ダ・フアブリカチヨーン製)、オイルブルーBOS
(オリエント化学工業(株)製)、スピロンブルー
GNH(保土谷化学工業(株)製)等を挙げることが
できる。 上記染料の含有量は、本発明の感光性組成物の
総重量に対して、約0.5〜20重量%であり、約10
〜15重量%の範囲が好ましい。 また、上記顔料の含有量は、本発明の感光性組
成物の総重量に対して、約10〜40重量%の範囲で
あり、約20〜30重量%の範囲が好ましい。 本発明の感光性平版印刷版に使用する現像液
は、弱アルカリ性水溶液である。弱アルカリ性水
溶液としては、弱酸の金属塩;例えばケイ酸、メ
タケイ酸、オルトケイ酸、リン酸、ピロリン酸、
メタリン酸、ヘキサメタリン酸、炭酸、酒石酸、
ホウ酸等のナトリウム塩、リチウム塩、カリウム
塩等の金属塩、あるいはアンモニアおよびその誘
導体、例えば、アルキルアミン類(例えばモノメ
チル、ジメチル、トリメチル、モノエチル、ジエ
チル、トリエチル等のアミン化合物。)、またはア
ルカノールアミン類(例えばモノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、ジイソプロパノールア
ミン)等アルカリ性化合物の水溶液を挙げること
ができる。 これらの現像液の、感光層における未露光部の
溶解速度を向上させるためには、活性剤および/
または溶剤を添加することができる。活性剤とし
ては、隠イオン界面活性剤、例えば炭素数が8〜
22のアルコールの硫酸エステル塩類(例えばソジ
ウムラウリルサルフエート、アンモニウムラウリ
ルサルフエート、ソジウムオクチルサルフエー
ト、アンモニウムオクチルサルフエート、ポタシ
ウムオクチルサルフエート)、多価アルコールの
硫酸エステル塩類(例えばポリオキシエチレンア
ルキルサルフエートソーダ塩:花王アトラス(株)性
エマール20C)、アルキルアリールスルホン酸塩
類(例えばドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ、
ポリオキシエチレンドデシルフエニルサルフエー
トソーダ塩、アルキルナフタレンスルホン酸ソー
ダ、ナフタレンスルホン酸ソーダのホルマリン縮
合物)、ソジウムジアルキルスルホサクシネート、
脂肪酸アミドスルホネート、アルキルリン酸エス
テル、アルキルエーテルリン酸エステル等を挙げ
ることができる。 溶剤としては、アルコール酸、エーテル類が好
ましいが、水中(20℃)に10%以上溶解しない溶
剤が最も好ましく、この種の溶剤としては、例え
ば、アルコール類として、ベンジルアルコール、
DL−α−フエニルエチルアルコール、2−フエ
ニルエチルアルコール、フエニルセロソルブ、プ
ロピレングリコールモノブチルエーテル等を挙げ
ることができる。 現像液の組成は、前記アルカリ性化合物0.1〜
3重量%、界面活性剤0.5〜2重量%、溶剤0〜
2重量%、好ましくは0.1〜1重量%である。 本発明の印刷版用感光層を支持体上に形成させ
る場合、有機溶剤可溶性の高分子化合物、ジアゾ
化合物および油性染料等を有機溶剤、例えば、メ
タノールとメチレンクロライドと酢酸エチルの混
合溶剤、N,N−ジメチルホルムアミド、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル等に溶解させ、塗布機
(例えばホワイラー)を用いて支持体上に塗布後、
乾燥することにより、感光層が支持体上に形成さ
れる。 支持体としては、ブラシまたはボール研磨した
アルミニウム板、化学研磨したアルミニウム板、
ブラシ研磨したのち陽極酸化処理を施したアルミ
ニウム板、電解研磨したのち陽極酸化処理を施し
たアルミニウム板、または一般的な支持体を用い
ることができる。 この様な支持体に、ケイ酸アルカリ、フツ化ジ
ルコニウム、アルキルチタネート、トリヒドロキ
シ安息香酸等による化成処理、ベーマイト処理、
あるいは酢酸ストロンチウム、酢酸亜鉛、酢酸マ
グネシウム、安息香酸カルシウム等の水溶液によ
る被覆処理、ポリビニルピロリドン、ポリアミン
スルホン酸、ポリ−2−エチルヒドロキシアクリ
レート等による被覆処理を、前記処理の後処理と
して行うことができる。 本発明を、以下の実施例により説明する。 実施例 1 窒素気流下で、ジオキサン150gにアゾビスイ
ソブチロニトリル0.3gを加え、80〜85℃に加熱
して撹拌しながら、その中へ、下記組成の混合物
を滴下した。 2−ヒドロキシ−3−フエノキシプロピルアクリ
レート 50g メチルメタクリレート 25g アクリロニトリル 10g メタクリル酸 2g 滴下終了後、3時間撹拌を続け、ジオキサン
150gを加えたのち、水中に投入して共重合体を
沈澱させた。その沈澱を2−メトキシエタノール
に最溶解したのち、水中に滴下して精製し、真空
乾燥(70℃)して共重合体(1)を得た。この共重合
体の20重量%2−メトキシエタノール溶液を調製
し、粘度を測定したところ、350cps(25℃)であ
つた。 一方、アルミニウム板を、苛性ソーダ3%、ケ
イ酸ソーダ5%を溶解した80℃の水溶液で洗浄
し、ブラシ研磨したのち、硫酸電解液を用いて、
1分間陽極酸化した(電流密度2A/dm2、電圧
10V)。次いで水洗したのち、メタケイ酸ナトリ
ウム5%水溶液で10秒間皮膜処理し、陽極酸化ア
ルミニウム板1を作製した。 上記アルミニウム板1に、次の感光液を回転塗
布機(ホワイラー)を用いて塗布したのち、80℃
で3分間乾燥して、PS版()を得た。 ジアゾ化合物−4−ジアゾフエニルアミンとホル
ムアルデヒドの縮合物のドデシルベンゼンスルホ
ン酸塩 0.3g 共重合体(1) 3.0g オイルブルー#603(オリエント化学工業(株)製)
0.1g 5−スルホ−o−クレソチツクアシド 0.08g エチレングリコールモノメチルエーテル 90g N,N−ジメチルホルムアミド 10g 塗布、乾燥後の塗布量は1.7g/m2であつた。 このPS版()の感光層上に、ネガフイルム
を真空密着し、30Aの単相カーボンアーク燈を用
いて、距離60cmで、30秒間紫外線照射したのち、
次に示す組成の現像液を用いて、室温で5秒間浸
漬して現像した。 ケイ酸カリウム20%水溶液 50g フエニルグリコール(H)(日本乳化剤(株)) 40g イソプロピルナフタレンジスルホン酸カリウム
5g 亜硫酸カリウム 2g 水 903g 次いで、水洗し、未露光部が除去されるかを調
べたところ、未露光部はよく除去されていた。さ
らに、この印刷版を用いて、校正刷りしたとこ
ろ、非画線部にインキによる地汚れはなかつた。
従つて、短い現像時間でも現像できることがわか
つた。 一方、5−スル−o−クレソチツクアシドを含
まない点を徐いて、その他は上記組成と全く同じ
方法で作つたPS板()は、上記現像条件で現
像後も非画線部に残膜が残り、現像が不可能であ
つた。 また、PS版()からなる上記印刷版の耐刷
性を調べたところ、通常の印刷版(例えばPS版
()を通常の長い現状時間で現像して得られた
印刷版)と比べて、同数の印刷版を得ることがで
き、同時に、画線部のインキ着肉性についても、
良好であつた。 次に、PS版(),()を、上記と同じ方法
によつてネガフイルムを密着、露光して、その現
像性を比較した結果を表−1に示す。 比較例 1 実施例1で用いた「ジアゾ化合物−4−ジアゾ
シフエニルアミンとホルムアルデヒドの縮合物の
ドデシルベンゼンスルホン酸塩」の代わりに「ジ
アゾ化合物−4−ジアゾフエニルアミンとホルム
アルデヒドの縮合物のスルホサリチル酸塩」を用
い、「5−スルホ−o−クレソチツクアシド」の
代わりにP−トルエンスルホン酸を用いる以外は
実施例1のPS版()と同様のPS版を作製し、
実施例1と同様に表−1の試験方法で現像性を比
較した。 試験方法では、画線部が膨潤しやすく、傷つ
きやすい。 試験方法では、長時間の場合、画線の一部が
溶出した。 試験方法では、見た目には現像できたが、イ
ンキングにより地汚れが発生した。 試験方法では、汚れた。 試験方法では、汚れた。 実施例 2 厚さ0.25mm、幅1000mmのアルミニウム板(材質
1100)をアルカリ脱脂し、水洗したのち、カーボ
ランダム20%水溶液の研磨剤を使用してブラシ研
磨した。次に、10%の苛性ソーダ浴で研磨残渣を
よく除去し、水洗したのち、塩酸2.5%、塩化ナ
トリウム0.1%を含む電解液(20%)中で、電流
密度10A/dm2で10秒間、交流電解研磨した。次
いで、水洗し、10%硫酸浴(30℃)中、電流密度
2A/dm2で60秒間陽極酸化し、水洗したのち、5
%ケイ酸カリウム浴(40℃)中で、電流密度2A/
dm2として、15秒間、交流陽極酸化処理を施こ
し、水洗、乾燥して陽極酸化アルミニウム板2を
得た。 このアルミニウム板2に、次の組成の感光液を
回転塗布機を用いて塗布し、乾燥してPS板()
を得た。 実施例1で使用したものと同じジアゾ化合物
0.3g スチレン−無水マレイン酸共重合体樹脂 3g オイルブルー#603(オリエント化学工業(株)製)
0.1g 5−スルホ−m−クレソチツクアシド 0.08g エチレングリコールモノメチルエーテル 90g N,N−ジメチルホルムアミド 10g 乾燥後の塗布量は、2.0g/m2であつた。 上記PS版()について、実施例1と同様な
比較試験を行つたところ、現像促進性のあるPS
版であることが確認された。 実施例 3 実施例2で使用した陽極酸化アルミニウム板2
に、下記した示した感光性組成物−1および2
を、回転塗布機を用いて、塗布量1.7g/m2で該
板2上に塗布し、乾燥してPS版()および
()を得た。 感光性組成物−1;実施例1で使用したジアゾ化
合物 0.3g 実施例1の共重合体(1) 3g オイルブルー#603(オリエント化学工業(株)製)
0.1g 6−ヒドロキシ−3−スルホベンゾイツクアシド
0.08g エチレングリコールモノメチルエーテル 90g N,N−ジメチルホルムアミド 10g 感光性組成物−2;実施例1で使用したジアゾ化
合物 0.3g 実施例1の共重合体(1) 3g オイルブルー#603(オリエント化学工業(株)製)
0.1g 5−スルホ−o−クレソチツクアシドのカリウム
塩 0.08g エチレングリコールモノメチルエーテル 90g N,N−ジメチルホルムアミド 10g このPS板()および()それぞれについ
て、実施例1と同様な比較試験を行つた結果、6
−ヒドロキシ−3−スルホゾンゾイツクアシドを
添加した感光性組成物−1を塗布したPS板()
は、5−スルホ−o−クレソチツクアシドのカリ
ウム塩を添加した感光性組成物−2を塗布した
PS板()とほぼ同等の印刷適正を示した。 以上の実施例1、2、3により、本発明の感光
性平版印刷版は、従来のものより優れた印刷適正
を示すことが明らかである。 さらに、本発明の感光性平版印刷版は、経時安
定性の面からも優れている。
The present invention relates to photosensitive lithographic printing plates. Conventionally, most photosensitive lithographic printing plates (hereinafter referred to as PS plates) having a diazo photosensitive layer are made of organic salts and/or inorganic salts of diazo resin, high molecular weight polymers that can be mixed with this, and, if necessary, It is formed by coating a photosensitive liquid containing dyes, pigments, etc. on a thin aluminum plate. The printability of these PS plates often depends on the characteristics of the high molecular weight polymer. For example, in the case of a PS plate that undergoes alkaline development, the amount of hydrophilic functional groups in the structure of the polymer (for example, the number of hydroxy (-OH), carboxyl (-COOH) groups, etc. in the structure) It affects the characteristics or the ink receptivity of the printed area. When the amount of hydrophilic functional groups in the high molecular weight polymer is small, the ink receptivity in the printed areas improves, but the penetration rate (hereinafter referred to as
(referred to as development speed) tends to be slow. vice versa,
When the amount of hydrophilic functional groups is large, the development speed becomes faster, but the ink receptivity in the image area becomes worse. moreover,
Since the image area tends to swell, the image area is more likely to be damaged if a physical impact is applied during development. In order to improve the developability of such PS plates,
The PS plate must have the following properties (referred to as development acceleration). ○B It can be developed in a short time, and non-image areas do not become smudged during printing. ○B Even during long-term development, the image area swells relatively little and does not affect the image area. ○C Provide the same image area regardless of the length of development time. ○D Even if the developer concentration changes, the same image area is provided. However, as mentioned above, there is a limit to how the problem can be solved simply by changing the properties of the polymer compound mixed into the photosensitive layer. The present invention solves the above problems and provides a PS plate having the above-mentioned development accelerating properties without changing the properties of the PS plate and the polymer. / Or in a photosensitive layer mainly composed of an inorganic salt and an organic solvent-soluble polymer compound, the general formula [R is hydrogen or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms,
Alternatively, the aryl group, X + 1 , X + 2 represents hydrogen, an alkali metal, an alkaline earth metal (eg, sodium, potassium, calcium), or amines. ] The compound represented by is added in an amount of 0.1 to 0.1 to
The photosensitive lithographic printing plate is characterized in that it is added in an amount of 20% by weight. Examples of the compound represented by the general formula (1) include 4-hydroxy-2-sulfobenzoitschacide, 4-hydroxy-3-sulfobenzoitschacide, 5-hydroxy-3-sulfobenzoitschacide, 6-hydroxy-3-sulfobenzoitschacide,
Hydroxy-3-sulfobenzoitukaside, 2
-Hydroxy-4-sulfobenzoitsuquaside,
3-Hydroxy-4-sulfobenzoic acid, 5-sulfo-o-crosotic acid, 5-
Sulfo-p-cresotic acid, 5-sulfo-
m-Closotic acid, 1-hydroxy-5-
Examples include sulfonaphtoic acid and/or its alkali metal salts (eg, sodium, potassium salts), alkaline earth metal salts (eg, calcium salts), ammonium salts, and the like.
In particular, the o-,
The m-, p-isomers are preferred. At least one of these compounds is contained in an amount of 0.1 to 20% by weight, preferably 1 to 10% by weight, based on the total weight of the photosensitive layer.
Use % by weight. If it is less than 0.1% by weight, there is no development accelerating effect, and if it is more than 20% by weight, the photosensitive layer tends to discolor, and the image area after plate making swells.
It is easily scratched and the ink receptivity is also poor. The organic salt and/or inorganic salt of the diazo resin used in the present invention is preferably insoluble or sparingly soluble in water and soluble in an organic solvent. As a diazo resin with such properties,
Special Publication No. 40-8611, U.S. Patent No. 2922715, U.S. Patent
There are condensates of diazodiarylamines and active carbonyl compounds such as formaldehyde and acetaldehyde, which are described in 2946683 and the like. Examples of the diazoarylamine include 4-diazodiphenylamine, 4-diazo-3-methyldiphenylamine, 4-diazo-3'-methyldiphenylamine, 4-diazo-4'-methoxydiphenylamine, Examples include 4-diazo-3-methoxydiphenylamine. As a compound that forms an organic salt by combining with the above diazo resin, Japanese Patent Publication No. 40-2203, Japanese Patent Publication No. 41-6813,
There are compounds described in Japanese Patent Publication No. 47-1167, etc. For example, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, 2,5-xylenesulfonic acid, linear type, side chain type dodecylbenzenesulfonic acid (commonly known as dodecylbenzenesulfonic acid), 2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone-5 -sulfonic acid, methanyl yellow, 2-chlorotoluene-4-sulfonic acid, and/or its alkali metal salts (eg, sodium, potassium), alkaline earth metal salts (calcium), ammonium salts, and the like. As a compound that forms an inorganic salt by combining with the above diazo resin, Japanese Patent Publication No. 40-2203, Japanese Patent Application Publication No. 54-98613,
There are compounds described in US Pat. No. 4,093,465 and the like. For example, hydroborofluoric acid, hexafluorophosphoric acid,
Phosphotungstic acid, thiocyanic acid, and/or its alkali metal salts (e.g., sodium,
(potassium), alkaline earth metal salts (eg, calcium), ammonium salts, and the like. The above-mentioned diazo compounds can be used alone or in combination, and the content thereof is preferably in the range of about 5 to 30% by weight based on the total weight of the photosensitive layer. As the organic solvent-soluble polymer compound used in the present invention, Japanese Patent Publication No. 35-16157, Japanese Patent Publication No. 47-1167,
Tokuko Sho 49-36961, Tokuko Sho 50-34967, Tokko Shou 51-
6566, JP 50-30604, JP 50-36207, JP 50-118802, JP 57-2035, US Patent
No. 3,652,272 and US Pat. No. 3,660,097. Examples include epoxy resins, novolak resins, urethane resins, polyamide resins, styrene-maleic anhydride copolymer resins, copolymer resins of styrene and vinyltoluene with unsaturated dibasic acids, and acrylic resins. Particularly preferred are the copolymers described in US Pat. No. 4,282,301. The content of the above-mentioned organic solvent-soluble polymer compound is preferably in the range of about 70 to 95% by weight based on the total weight of the photosensitive layer of the present invention. In the present invention, dyes or pigments may be added to the photosensitive layer, if necessary. Examples of dyes include crystal violet, malachite green, Victoria blue, methylene blue, ethyl violet, rhodamine B, and basic oil dyes that are derivatives thereof.
BOH (manufactured by Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.), oil blue #603
(manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Permanent Blue #47 (manufactured by Daido Chemical Industry Co., Ltd.), and the like. Pigments include phthalocyanine blue, phthalocyanine green, dioxazine violet,
There are quinacridone red, indanthrene blue, etc., and neopomelo blue is a commercially available product.
FLE (manufactured by Bardate Aniline und Rieda Fabrication), oil blue BOS
(manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Spiron Blue
Examples include GNH (manufactured by Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.). The content of the above dye is about 0.5 to 20% by weight, and about 10% by weight based on the total weight of the photosensitive composition of the present invention.
A range of 15% by weight is preferred. Further, the content of the pigment is in the range of about 10 to 40% by weight, preferably in the range of about 20 to 30% by weight, based on the total weight of the photosensitive composition of the present invention. The developer used in the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is a weakly alkaline aqueous solution. Examples of weakly alkaline aqueous solutions include metal salts of weak acids; for example, silicic acid, metasilicic acid, orthosilicic acid, phosphoric acid, pyrophosphoric acid,
Metaphosphoric acid, hexametaphosphoric acid, carbonic acid, tartaric acid,
Metal salts such as sodium salts, lithium salts, and potassium salts such as boric acid, or ammonia and its derivatives, such as alkylamines (e.g., amine compounds such as monomethyl, dimethyl, trimethyl, monoethyl, diethyl, and triethyl), or alkanols. Examples include aqueous solutions of alkaline compounds such as amines (eg, monoethanolamine, diethanolamine, diisopropanolamine). In order to improve the dissolution rate of unexposed areas in the photosensitive layer of these developers, activators and/or
Or a solvent can be added. As the activator, a hidden ionic surfactant, for example, a carbon number of 8 to
22 sulfate ester salts of alcohols (e.g. sodium lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, sodium octyl sulfate, ammonium octyl sulfate, potassium octyl sulfate), sulfate ester salts of polyhydric alcohols (e.g. polyoxyethylene alkyl Sulfate soda salt: Kao Atlas Co., Ltd. Emar 20C), alkylaryl sulfonates (e.g. sodium dodecylbenzenesulfonate,
polyoxyethylene dodecyl phenyl sulfate soda salt, sodium alkylnaphthalene sulfonate, formalin condensate of sodium naphthalene sulfonate), sodium dialkyl sulfosuccinate,
Examples include fatty acid amide sulfonates, alkyl phosphates, and alkyl ether phosphates. As the solvent, alcoholic acids and ethers are preferred, but solvents that do not dissolve at least 10% in water (20°C) are most preferred. Examples of this type of solvent include alcohols such as benzyl alcohol,
Examples include DL-α-phenylethyl alcohol, 2-phenylethyl alcohol, phenyl cellosolve, propylene glycol monobutyl ether, and the like. The composition of the developer is 0.1 to 0.1% of the above alkaline compound.
3% by weight, surfactant 0.5~2% by weight, solvent 0~
2% by weight, preferably 0.1-1% by weight. When the photosensitive layer for a printing plate of the present invention is formed on a support, organic solvent-soluble polymer compounds, diazo compounds, oil dyes, etc. are mixed with an organic solvent such as a mixed solvent of methanol, methylene chloride, and ethyl acetate, N, After dissolving it in N-dimethylformamide, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, etc. and coating it on a support using a coating machine (e.g., Whiler),
By drying, a photosensitive layer is formed on the support. Supports include brushed or ball polished aluminum plates, chemically polished aluminum plates,
An aluminum plate that has been brush polished and then anodized, an aluminum plate that has been electrolytically polished and then anodized, or a general support can be used. Such a support is subjected to chemical conversion treatment with alkali silicate, zirconium fluoride, alkyl titanate, trihydroxybenzoic acid, etc., boehmite treatment,
Alternatively, coating treatment with an aqueous solution of strontium acetate, zinc acetate, magnesium acetate, calcium benzoate, etc., coating treatment with polyvinylpyrrolidone, polyaminesulfonic acid, poly-2-ethylhydroxyacrylate, etc. can be performed as a post-treatment of the above treatment. . The invention is illustrated by the following examples. Example 1 Under a nitrogen stream, 0.3 g of azobisisobutyronitrile was added to 150 g of dioxane, and a mixture having the following composition was added dropwise thereinto while heating and stirring at 80 to 85°C. 2-Hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate 50g Methyl methacrylate 25g Acrylonitrile 10g Methacrylic acid 2g After the dropwise addition, stirring was continued for 3 hours, and dioxane
After adding 150 g, the copolymer was poured into water to precipitate the copolymer. The precipitate was redissolved in 2-methoxyethanol, purified by dropping it into water, and dried under vacuum (70°C) to obtain copolymer (1). A 20% by weight 2-methoxyethanol solution of this copolymer was prepared, and the viscosity was measured to be 350 cps (25°C). On the other hand, the aluminum plate was cleaned with an aqueous solution of 3% caustic soda and 5% sodium silicate at 80°C, polished with a brush, and then polished with a sulfuric acid electrolyte.
Anodized for 1 minute (current density 2 A /dm 2 , voltage
10V). After washing with water, the plate was coated with a 5% sodium metasilicate aqueous solution for 10 seconds to produce an anodized aluminum plate 1. After applying the following photosensitive liquid to the above aluminum plate 1 using a rotary coating machine (whiler), 80°C
was dried for 3 minutes to obtain a PS plate (). Diazo compound - dodecylbenzenesulfonate of condensate of 4-diazophenylamine and formaldehyde 0.3g Copolymer (1) 3.0g Oil Blue #603 (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.)
0.1 g 5-sulfo-o-cresotic acid 0.08 g Ethylene glycol monomethyl ether 90 g N,N-dimethylformamide 10 g The coating amount after coating and drying was 1.7 g/m 2 . A negative film was vacuum-adhered onto the photosensitive layer of this PS plate (), and after irradiating it with ultraviolet light for 30 seconds using a 30A single-phase carbon arc lamp at a distance of 60cm,
Using a developer having the composition shown below, the film was developed by immersion at room temperature for 5 seconds. Potassium silicate 20% aqueous solution 50g Phenyl glycol (H) (Nippon Nyukazai Co., Ltd.) 40g Potassium isopropylnaphthalenedisulfonate
5g Potassium sulfite 2g Water 903g Next, it was washed with water and examined to see if the unexposed areas were removed, and it was found that the unexposed areas were well removed. Furthermore, when proof printing was carried out using this printing plate, there was no scumming caused by ink in the non-image areas.
Therefore, it was found that development can be performed even in a short development time. On the other hand, the PS plate (), which was made in exactly the same manner as the above composition except that it did not contain 5-through-o-cresotic acid, had a film remaining in the non-image area even after development under the above development conditions. remained, making it impossible to develop. In addition, when we investigated the printing durability of the above-mentioned printing plate made of PS plate (), we found that compared to a normal printing plate (for example, a printing plate obtained by developing the PS plate () in the usual long time), The same number of printing plates can be obtained, and at the same time, the ink receptivity of the printed area is also improved.
It was good and warm. Next, the PS plates () and () were exposed to negative film in close contact with each other in the same manner as described above, and the developability was compared. Table 1 shows the results. Comparative Example 1 In place of "diazo compound - dodecylbenzenesulfonate of a condensate of 4-diazocyphenylamine and formaldehyde" used in Example 1, "diazo compound - a condensate of 4-diazocyphenylamine and formaldehyde" was used. A PS plate similar to the PS plate of Example 1 () was prepared, except that P-toluenesulfonic acid was used instead of “5-sulfosalicylate” and “5-sulfo-o-cresotic acid”.
Similar to Example 1, the developability was compared using the test method shown in Table 1. In the test method, the printed area easily swells and is easily damaged. In the test method, some of the streaks eluted over a long period of time. In the test method, it appeared that development was possible, but background smearing occurred due to inking. The test method is dirty. The test method is dirty. Example 2 Aluminum plate with a thickness of 0.25 mm and a width of 1000 mm (material
1100) was degreased with alkaline, washed with water, and then polished with a brush using a polishing agent containing a 20% aqueous solution of carborundum. Next, the polishing residue was thoroughly removed in a 10% caustic soda bath, washed with water, and then washed in an electrolytic solution (20%) containing 2.5% hydrochloric acid and 0.1% sodium chloride at a current density of 10 A /dm 2 for 10 seconds. AC electrolytic polishing was performed. Then washed with water and placed in a 10% sulfuric acid bath (30°C) at current density.
After anodizing for 60 seconds at 2 A / dm2 and washing with water,
% potassium silicate bath (40°C) at a current density of 2 A /
AC anodic oxidation treatment was performed for 15 seconds at dm 2 , washed with water, and dried to obtain an anodized aluminum plate 2. A photosensitive liquid with the following composition is applied to this aluminum plate 2 using a spin coater, dried, and then the PS plate ()
I got it. The same diazo compound used in Example 1
0.3g Styrene-maleic anhydride copolymer resin 3g Oil Blue #603 (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.)
0.1 g 5-sulfo-m-cresotic acid 0.08 g Ethylene glycol monomethyl ether 90 g N,N-dimethylformamide 10 g The coating amount after drying was 2.0 g/m 2 . When the above PS plate () was subjected to a comparative test similar to that in Example 1, it was found that PS, which has the ability to accelerate development,
It has been confirmed that this is the version. Example 3 Anodized aluminum plate 2 used in Example 2
The following photosensitive compositions-1 and 2 were used.
was applied onto the plate 2 in a coating amount of 1.7 g/m 2 using a rotary coater, and dried to obtain PS plates () and (). Photosensitive composition-1: Diazo compound used in Example 1 0.3g Copolymer (1) of Example 1 3g Oil Blue #603 (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.)
0.1g 6-hydroxy-3-sulfobenzoitukaside
0.08g Ethylene glycol monomethyl ether 90g N,N-dimethylformamide 10g Photosensitive composition-2; Diazo compound used in Example 1 0.3g Copolymer (1) of Example 1 3g Oil Blue #603 (Orient Chemical Industry Co., Ltd.) (manufactured by Co., Ltd.)
0.1g Potassium salt of 5-sulfo-o-cresotic acid 0.08g Ethylene glycol monomethyl ether 90g N,N-dimethylformamide 10g Comparative tests similar to those in Example 1 were conducted on each of the PS plates () and (). Result, 6
-PS board coated with photosensitive composition-1 added with hydroxy-3-sulfozone zoitschacide ()
applied photosensitive composition-2 to which potassium salt of 5-sulfo-o-cresotic acid was added.
It showed almost the same printing suitability as PS board (). From the above Examples 1, 2, and 3, it is clear that the photosensitive lithographic printing plate of the present invention exhibits better printing suitability than the conventional one. Furthermore, the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is also excellent in terms of stability over time.

【表】 実施例 4 実施例1で作製した陽極酸化アルミニウム板
に、次の組成からなる感光液を乾燥後の塗布量が
1.7g/m2になるように塗布した。 感光液組成 実施例1における共重合体(1) 3.0g ジアゾ化合物−4−ジアゾジフエニルアミンとホ
ルムアルデヒドの縮合物の2−ヒドロキシ−4−
メトキシベンゾフエノン−5−スルホン酸塩
0.3g 6−ヒドロキシ−3−スルホベンゾイツクアシド
0.08g ビクトリアブルーBOX(保土谷化学工業(株)製)
0.1g エチレングリコールモノメチルエーテル 90g N,N′−ジメチルホルムアミド 10g このようにして作製したPS版を()とする。 また、上記感光液組成中の6−ヒドロキシ−3
−スルホベンゾイツクアシドの代わりに、P−ト
ルエンスルホン酸(下記式(2))およびオルトスル
ホベンゾイツクアシドモノアンモニウ塩(下記式
(3))を同量用いて、同じようにPS版()、()
を作製した。
[Table] Example 4 A photosensitive solution having the following composition was applied to the anodized aluminum plate prepared in Example 1, and the coating amount after drying was
It was applied at a weight of 1.7 g/m 2 . Copolymer (1) in photosensitive liquid composition Example 1 3.0 g Diazo compound - 2-hydroxy-4- condensate of 4-diazodiphenylamine and formaldehyde
Methoxybenzophenone-5-sulfonate
0.3g 6-hydroxy-3-sulfobenzoitukaside
0.08g Victoria Blue BOX (manufactured by Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.)
0.1g Ethylene glycol monomethyl ether 90g N,N'-dimethylformamide 10g The PS plate prepared in this manner is referred to as (). In addition, 6-hydroxy-3 in the above photosensitive liquid composition
-In place of sulfobenzoitschacide, P-toluenesulfonic acid (formula (2) below) and orthosulfobenzoitschacide monoammonium salt (formula below)
Using the same amount of (3)), do the PS version () and () in the same way.
was created.

【式】【formula】

【式】 次に、これら()、()、()の各々のPS
版を実施例1と同様に露光し、同じ現像液で5秒
間現像した。その結果、PS版()は素早く現
像できたが、()と()は残膜が残り、汚れ
の原因になつた。 また、この現像液を3倍希釈したもので30秒間
現像し、非画線部のぬけを観察した。PS版()
はきれいにぬけて、校正刷りでも汚れは生じなか
つた。が、()は()はぬけきらず、汚れが
生じた。このことから、本発明のPS版()は、
現像性について優れていることが判る。 さらに、これらのPS版を45℃、温度75%の恒
温恒湿槽に二週間保存したのち、実施例1と同様
に露光し、30秒間現像を行ない校正刷りをしたと
ころ、()、()の非画線部には汚れが生じ、
印刷できなかつた。 上記実施例の結果から明らなように、本発明の
一般式(1)で示される化合物、すなわち水酸器、カ
ルボン酸基およびスルホン酸基を同一ベンゼン核
中に所有している化合物は、ジアゾ樹脂の勇気塩
および/または無機塩と有機溶剤可溶性高分子化
合物よりも効果がある。
[Formula] Next, PS of each of these (), (), ()
The plate was exposed as in Example 1 and developed for 5 seconds with the same developer. As a result, PS plate () could be developed quickly, but () and () remained with residual film, which caused stains. Further, this developing solution was diluted 3 times and developed for 30 seconds, and the non-image areas were observed for removal. PS version ()
It came off cleanly and no stains appeared on the proof. However, () could not be removed completely and stains appeared. From this, the PS version () of the present invention is
It can be seen that the developability is excellent. Furthermore, after storing these PS plates for two weeks in a constant temperature and humidity chamber at 45°C and 75% temperature, they were exposed in the same manner as in Example 1, developed for 30 seconds, and made proofs. (), () Dirt occurs in the non-printed areas,
I couldn't print. As is clear from the results of the above examples, the compound represented by the general formula (1) of the present invention, that is, the compound having a hydroxyl group, a carboxylic acid group, and a sulfonic acid group in the same benzene nucleus, It is more effective than a diazo resin salt and/or inorganic salt and an organic solvent-soluble polymer compound.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 ジアゾ樹脂の有機塩および/または無機塩と
有機溶剤可溶性の高分子化合物を主成分とする感
光層に、 一般式 〔Rは、水素または炭素数1〜2のアルキル基、
またはアリール基、X+ 1,X+ 2は水素、アルカリ金
属、アルカリ土類金属(例えばナトリウム、カリ
ウム、カルシウム)、またはアミン類を示す。〕 で示される化合物を、該感光層の総重量に対し
0.1〜20重量%の範囲で添加することを特徴とす
る感光性平版印刷版。
[Scope of Claims] 1. A photosensitive layer containing an organic salt and/or inorganic salt of a diazo resin and an organic solvent-soluble polymer compound as a main component has the general formula [R is hydrogen or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms,
Alternatively, the aryl group, X + 1 , X + 2 represents hydrogen, an alkali metal, an alkaline earth metal (eg, sodium, potassium, calcium), or amines. ] The compound represented by is added to the total weight of the photosensitive layer.
A photosensitive lithographic printing plate characterized in that it is added in an amount of 0.1 to 20% by weight.
JP15328382A 1982-09-02 1982-09-02 Photosensitive lithographic plate Granted JPS5942539A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15328382A JPS5942539A (en) 1982-09-02 1982-09-02 Photosensitive lithographic plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15328382A JPS5942539A (en) 1982-09-02 1982-09-02 Photosensitive lithographic plate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5942539A JPS5942539A (en) 1984-03-09
JPH0421855B2 true JPH0421855B2 (en) 1992-04-14

Family

ID=15559081

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15328382A Granted JPS5942539A (en) 1982-09-02 1982-09-02 Photosensitive lithographic plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5942539A (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0812420B2 (en) * 1988-09-27 1996-02-07 富士写真フイルム株式会社 Photosensitive lithographic printing plate

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4945322A (en) * 1972-09-08 1974-04-30

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5942539A (en) 1984-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5837425A (en) Method of preparing a lithographic printing plate using a developer containing a development stabilizer
JPH0570815B2 (en)
JPH0516558A (en) Support for photosensitive lithographic form plate
JPH0322616B2 (en)
JPH03261592A (en) Photosensitive planographic printing plate
DE3915141C2 (en) Presensitized plate developer composition and methods of its development
EP0127893B1 (en) Light-sensitive composition for use with lithographic printing plates
JPS62159148A (en) Developing solution composition for photosensitive lithographic plate and developing method
JPS6336491B2 (en)
JPH01223445A (en) Photosensitive composition
JP3662061B2 (en) Photosensitive composition
JP2627014B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate
JPH06297875A (en) Photosensitive lithographic printing plate
JPH08220775A (en) Developer for photosensitive planographic printing plate
JP2883353B2 (en) Photosensitive layer for printing plate
JP2832553B2 (en) Photosensitive layer for printing plate
JP2944734B2 (en) Photosensitive layer for lithographic printing plate
JPH04161385A (en) Correction fluid for lithographic printing plate
JP2794128B2 (en) Photosensitive layer for printing plate
JP2791393B2 (en) Photosensitive layer for printing plate
JPH08234447A (en) Developer for photosensitive planographic printing plate
JPS5942539A (en) Photosensitive lithographic plate
JPS61211041A (en) Correction agent for lithographic printing block
JPH0411859B2 (en)
JPS60179743A (en) Solution for erasing photosensitive lithographic plate