JPH0421857B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0421857B2 JPH0421857B2 JP57079617A JP7961782A JPH0421857B2 JP H0421857 B2 JPH0421857 B2 JP H0421857B2 JP 57079617 A JP57079617 A JP 57079617A JP 7961782 A JP7961782 A JP 7961782A JP H0421857 B2 JPH0421857 B2 JP H0421857B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- order light
- photoresist
- image sensor
- signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3021—Imagewise removal using liquid means from a wafer supported on a rotating chuck
- G03F7/3028—Imagewise removal using liquid means from a wafer supported on a rotating chuck characterised by means for on-wafer monitoring of the processing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、自動現像装置、特にホトレジストを
用いたガラスマスター原盤における自動現像装置
に関する。
用いたガラスマスター原盤における自動現像装置
に関する。
最近レーザーの発展に伴なつて、レーザーを光
源とし、そのレーザー光を対物レンズ等で紋り込
んで感光材に照射し、信号を記録するシステムが
さかんに研究されている。特に、ホトレジストに
対物レンズで絞り込まれた光を当てて露光し、現
像する方法は、光学方式ビデオデイスク、光学方
式デイジタル・オーデオデイスク等のガラスマス
ター原盤を製作する際に広く用いられている。
源とし、そのレーザー光を対物レンズ等で紋り込
んで感光材に照射し、信号を記録するシステムが
さかんに研究されている。特に、ホトレジストに
対物レンズで絞り込まれた光を当てて露光し、現
像する方法は、光学方式ビデオデイスク、光学方
式デイジタル・オーデオデイスク等のガラスマス
ター原盤を製作する際に広く用いられている。
ガラスマスター原盤は、通常ガラス基板上に
1000Å程度のホトレジストを塗布し、そのガラス
原盤を回転させながら対物レンズに紋り込まれた
光線をホトレジストに照射して記録を行なつてい
る。その際、この光線は信号によつてオン−オフ
されているので信号に応じた光がホトレジストに
照射されることになる。また、ガラス原盤上に塗
布されるホトレジストは、解像度及び信号形状の
観点から一般にポジ型レジストが用いられる。こ
うして、露光が終つたガラス原盤は、次に現像工
程へ送られ、現像される。ポジ型レジストの場合
は、露光された部分が可溶性となるので、現像後
は第１図に示す様にガラス基板３上のホトレジス
ト２が溶出して形成された記録信号としてのピツ
ト１と、トラツクピツチに対応してピツチ１，１
間に形成されたランド１とによるレリーフ型のパ
ターンが得られる。この様にして、ガラス原盤マ
スターは製作されるが、ホトレジスト膜が1000Å
程度と非常に薄いので、雰囲気（例えば湿度等）
によつて大きく感度が左右され、ピツト１の断面
寸法(a)が変化することになる。しかし、この寸法
(a)は信号に関係するものであるから、非常に重要
なフアクターであり、正確に管理する必要がある
のである。そこで、この様な変動をなくすため、
従来から現像時に時間を制御してこの寸法(a)を一
定にすることが試みられていた。
1000Å程度のホトレジストを塗布し、そのガラス
原盤を回転させながら対物レンズに紋り込まれた
光線をホトレジストに照射して記録を行なつてい
る。その際、この光線は信号によつてオン−オフ
されているので信号に応じた光がホトレジストに
照射されることになる。また、ガラス原盤上に塗
布されるホトレジストは、解像度及び信号形状の
観点から一般にポジ型レジストが用いられる。こ
うして、露光が終つたガラス原盤は、次に現像工
程へ送られ、現像される。ポジ型レジストの場合
は、露光された部分が可溶性となるので、現像後
は第１図に示す様にガラス基板３上のホトレジス
ト２が溶出して形成された記録信号としてのピツ
ト１と、トラツクピツチに対応してピツチ１，１
間に形成されたランド１とによるレリーフ型のパ
ターンが得られる。この様にして、ガラス原盤マ
スターは製作されるが、ホトレジスト膜が1000Å
程度と非常に薄いので、雰囲気（例えば湿度等）
によつて大きく感度が左右され、ピツト１の断面
寸法(a)が変化することになる。しかし、この寸法
(a)は信号に関係するものであるから、非常に重要
なフアクターであり、正確に管理する必要がある
のである。そこで、この様な変動をなくすため、
従来から現像時に時間を制御してこの寸法(a)を一
定にすることが試みられていた。
この従来の制御方式を第２図及び第３図により
説明すると、４は記録された信号の最内周部分、
５は最外周部分、６は４と５の間の記録された信
号の一部分である。現像工程で、ホトレジスト２
上に現像液７を供給すると、露光された部分８が
徐々に溶解されて行く。通常この過程はまず深さ
方向に進行し、それから横方向に進んで行く。一
方前記信号はスパイラル、又は同芯円状で一定の
間隔をもつて記録されている。したがつて、信号
トラツクは現像が進むにつれて光に対する位相格
子として働く様になる。そこで、現像時に、信号
が記録されている部分の一部４に通常直径１mm程
度のレーザースポツト９を照射すると、前記位相
子を通過したレーザービームは、０次光１０と±
１次光１１，１２に分離される様になる。この１
次光と０次光の比率は、格子の深さと巾によつて
決定されるので、従来はこの原理を用いて記録ピ
ツト１の寸法(a)が一定になる様に現像時間を制御
していたのである。
説明すると、４は記録された信号の最内周部分、
５は最外周部分、６は４と５の間の記録された信
号の一部分である。現像工程で、ホトレジスト２
上に現像液７を供給すると、露光された部分８が
徐々に溶解されて行く。通常この過程はまず深さ
方向に進行し、それから横方向に進んで行く。一
方前記信号はスパイラル、又は同芯円状で一定の
間隔をもつて記録されている。したがつて、信号
トラツクは現像が進むにつれて光に対する位相格
子として働く様になる。そこで、現像時に、信号
が記録されている部分の一部４に通常直径１mm程
度のレーザースポツト９を照射すると、前記位相
子を通過したレーザービームは、０次光１０と±
１次光１１，１２に分離される様になる。この１
次光と０次光の比率は、格子の深さと巾によつて
決定されるので、従来はこの原理を用いて記録ピ
ツト１の寸法(a)が一定になる様に現像時間を制御
していたのである。
しかしながら、この様な方法には次の様な欠点
が存在している。現像液の屈折率は水と同じく約
1.5であり、ホトレジストの屈折率を1.64として
もその差はわずか0.14である。今、膜厚を1000Å
とすると、格子による位相差は、レーザー光線の
波長をλ0として、3/100λ0であり、一次光は1.4％
程度しかでない。しかもこれはピツト１とランド
１′の寸法が同等の場合であつて、実際にはピツ
ト１の寸法はランド１′の寸法よりはるかに小さ
いため、一次光は上述の値よりもさらに小さくな
る。この様な弱微光をホトデイテクターで受けて
増巾するには、直流増幅によりサーボを掛けると
きに温度変化による暗電流のドリフト等により
種々の不安定要因があり、安定した装置を得るこ
とはなかなか困難であつた。
が存在している。現像液の屈折率は水と同じく約
1.5であり、ホトレジストの屈折率を1.64として
もその差はわずか0.14である。今、膜厚を1000Å
とすると、格子による位相差は、レーザー光線の
波長をλ0として、3/100λ0であり、一次光は1.4％
程度しかでない。しかもこれはピツト１とランド
１′の寸法が同等の場合であつて、実際にはピツ
ト１の寸法はランド１′の寸法よりはるかに小さ
いため、一次光は上述の値よりもさらに小さくな
る。この様な弱微光をホトデイテクターで受けて
増巾するには、直流増幅によりサーボを掛けると
きに温度変化による暗電流のドリフト等により
種々の不安定要因があり、安定した装置を得るこ
とはなかなか困難であつた。
本発明は、かかる問題点に鑑み、安定した現像
コントロールが可能な自動現像装置の提供を目的
とする。
コントロールが可能な自動現像装置の提供を目的
とする。
本発明は、このため、現像すべきガラスマスタ
ー原盤の一側方にレーザー光を紋り込んで照射す
るレンズを配置し、他側方の透過したレーザー光
の回折による０次光とと＋１次光又は０次光と−
１次光の重なり部に単一のイメージセンサーを配
置し、レーザー光を紋り込むことにより現像作用
中に発生する位相型パターンによる回折光の０次
光と±１次光を重ねる様にし、重ねることによつ
て位相差を明暗変化に変え、位相格子の深さと巾
を明暗のコントラストとしてイメージセンサーで
検出し、現像条件を制御する様にした自動現像装
置を提供する。
ー原盤の一側方にレーザー光を紋り込んで照射す
るレンズを配置し、他側方の透過したレーザー光
の回折による０次光とと＋１次光又は０次光と−
１次光の重なり部に単一のイメージセンサーを配
置し、レーザー光を紋り込むことにより現像作用
中に発生する位相型パターンによる回折光の０次
光と±１次光を重ねる様にし、重ねることによつ
て位相差を明暗変化に変え、位相格子の深さと巾
を明暗のコントラストとしてイメージセンサーで
検出し、現像条件を制御する様にした自動現像装
置を提供する。
次に、本発明の一実施例を第４図に基づいて説
明する。なお、第１図乃至第３図で説明したもの
と同一の構成要素については同一の参照番号を付
して説明を省略する。ガラス基板３のホトレジス
ト２を形成した側の一側に間隔をあけてレンズ１
３が配置され、このレンズ１３にレーザービーム
９を入れ、ホトレジスト２上でレーザービーム９
が紋られる様に配置構成されている。ここで、前
述した様にホトレジストに記録された信号トラツ
クが位相格子として働くので、レーザー光は０次
光と±１次光とに分離され、その際ホトレジスト
面上で紋り込まれた光は紋り込み角度と同一の角
度で広がるため、０次光と±１次光との重なり部
１６が形成される。１４は、この重なり部１６に
対応させて配置されたイメージセンサー、１５は
オペアンプである。上記の様に０次光と±１次光
とが重なると、よく知られている様に位相差は明
暗変化に変わり、かつトラツクピツチは一定であ
るので明暗の周期は一定である。そしてこの明暗
のコントラストは、位相格子の深さと巾によつて
異なるので、この白黒パターンを前記イメージセ
ンサー１４で検出することにより現像の進度に対
応した交流信号が得られ、この交流信号をオペア
ンプ１５で増巾して制御信号として取り出すので
ある。交流信号は、従来の直流信号に比べて安定
的に増巾でき、しかもイメージセンサー１４はコ
ントラストを検出するもので、総光量の変動によ
つて影響を受けないので、現像の進度によるわず
かな変化を十分安定的にモニターすることができ
る。
明する。なお、第１図乃至第３図で説明したもの
と同一の構成要素については同一の参照番号を付
して説明を省略する。ガラス基板３のホトレジス
ト２を形成した側の一側に間隔をあけてレンズ１
３が配置され、このレンズ１３にレーザービーム
９を入れ、ホトレジスト２上でレーザービーム９
が紋られる様に配置構成されている。ここで、前
述した様にホトレジストに記録された信号トラツ
クが位相格子として働くので、レーザー光は０次
光と±１次光とに分離され、その際ホトレジスト
面上で紋り込まれた光は紋り込み角度と同一の角
度で広がるため、０次光と±１次光との重なり部
１６が形成される。１４は、この重なり部１６に
対応させて配置されたイメージセンサー、１５は
オペアンプである。上記の様に０次光と±１次光
とが重なると、よく知られている様に位相差は明
暗変化に変わり、かつトラツクピツチは一定であ
るので明暗の周期は一定である。そしてこの明暗
のコントラストは、位相格子の深さと巾によつて
異なるので、この白黒パターンを前記イメージセ
ンサー１４で検出することにより現像の進度に対
応した交流信号が得られ、この交流信号をオペア
ンプ１５で増巾して制御信号として取り出すので
ある。交流信号は、従来の直流信号に比べて安定
的に増巾でき、しかもイメージセンサー１４はコ
ントラストを検出するもので、総光量の変動によ
つて影響を受けないので、現像の進度によるわず
かな変化を十分安定的にモニターすることができ
る。
次に具体実施例を示すと、対物レンズ１３の開
口数（Ｎ、Ａ）が0.1、信号トラツクピツチが
1.6μｍ、レーザー光９の波長が0.6μｍの場合、ガ
ラス基板３の約20mm下方にイメージセンサー１４
を配置するとした場合、解像度が30μｍ以下のイ
メージセンサー１４を０次光と１次光の重なり部
１６に配置すれば良い。
口数（Ｎ、Ａ）が0.1、信号トラツクピツチが
1.6μｍ、レーザー光９の波長が0.6μｍの場合、ガ
ラス基板３の約20mm下方にイメージセンサー１４
を配置するとした場合、解像度が30μｍ以下のイ
メージセンサー１４を０次光と１次光の重なり部
１６に配置すれば良い。
本発明の自動現像装置によれば、以上の説明か
ら明らかな様に、現像すべきガラスマスター原盤
の一側方にレーザー光を紋り込んで照射するレン
ズを配置し、他側方の透過したレーザー光の回折
による０次光と＋１次光又は０次光と−１次光の
重なり部に単一のイメージセンサーを配置して、
重なり部に生じた位相格子の深さと巾に対応した
明暗のコントラストを前記イメージセンサーにて
検出するので、検出機、信号ともに１つとなつて
きわめて扱い易い上に、イメージセンサーで検出
することにより現像の進度に対応した交流信号が
得られて安定した増巾が可能でかつコントラスト
を検出するので総光量の変動の影響を受けず、現
像の進度を安定的にモニターしながら制御するこ
とができる。
ら明らかな様に、現像すべきガラスマスター原盤
の一側方にレーザー光を紋り込んで照射するレン
ズを配置し、他側方の透過したレーザー光の回折
による０次光と＋１次光又は０次光と−１次光の
重なり部に単一のイメージセンサーを配置して、
重なり部に生じた位相格子の深さと巾に対応した
明暗のコントラストを前記イメージセンサーにて
検出するので、検出機、信号ともに１つとなつて
きわめて扱い易い上に、イメージセンサーで検出
することにより現像の進度に対応した交流信号が
得られて安定した増巾が可能でかつコントラスト
を検出するので総光量の変動の影響を受けず、現
像の進度を安定的にモニターしながら制御するこ
とができる。
第１図はガラスマスター原盤の断面図、第２図
は同上面図、第３図は従来の現像時の状態を示す
側面図、第４図は本発明の一実施例を概略構成の
説明図である。 １は記録信号としてのピツト、２はホトレジス
ト、３はガラス基板、７は現像液、８はホトレジ
ストの露光された部分、９はレーザー光、１０は
０次光、１１は＋１次光、１２は−１次光、１３
はレンズ、１４はイメージセンサー、１６は０次
光と１次光又は０次光と−１次光との重なり部。
は同上面図、第３図は従来の現像時の状態を示す
側面図、第４図は本発明の一実施例を概略構成の
説明図である。 １は記録信号としてのピツト、２はホトレジス
ト、３はガラス基板、７は現像液、８はホトレジ
ストの露光された部分、９はレーザー光、１０は
０次光、１１は＋１次光、１２は−１次光、１３
はレンズ、１４はイメージセンサー、１６は０次
光と１次光又は０次光と−１次光との重なり部。
Claims (1)
- １ 現像すべきガラスマスター原盤の一側方にレ
ーザー光を絞り込んで照射するレンズを配置し、
他側方の透過したレーザー光の回析による０次光
と＋１次光又は−１次光の重なり部に単一のイメ
ージセンサーを配置し、前記イメージセンサーの
交流出力により、前記ガラスマスター原盤の現像
状態を検出するように構成したことを特徴とする
自動現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57079617A JPS58195848A (ja) | 1982-05-11 | 1982-05-11 | 自動現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57079617A JPS58195848A (ja) | 1982-05-11 | 1982-05-11 | 自動現像装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58195848A JPS58195848A (ja) | 1983-11-15 |
| JPH0421857B2 true JPH0421857B2 (ja) | 1992-04-14 |
Family
ID=13695011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57079617A Granted JPS58195848A (ja) | 1982-05-11 | 1982-05-11 | 自動現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58195848A (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5230429A (en) * | 1975-09-03 | 1977-03-08 | Canon Inc | Photographic image recording and processing system |
| JPS56145332A (en) * | 1980-04-12 | 1981-11-12 | Victor Co Of Japan Ltd | Detecting device for state of proper development |
-
1982
- 1982-05-11 JP JP57079617A patent/JPS58195848A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58195848A (ja) | 1983-11-15 |
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