JPH04219971A - Semiconductor memory device - Google Patents
Semiconductor memory deviceInfo
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- JPH04219971A JPH04219971A JP2413859A JP41385990A JPH04219971A JP H04219971 A JPH04219971 A JP H04219971A JP 2413859 A JP2413859 A JP 2413859A JP 41385990 A JP41385990 A JP 41385990A JP H04219971 A JPH04219971 A JP H04219971A
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Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】この発明は半導体記憶装置に関し
、特にスタティックRAMのメモリセルアレイ周辺部に
位置する回路のレイアウトに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor memory devices, and more particularly to the layout of circuits located in the periphery of a static RAM memory cell array.
【0002】0002
【従来の技術】図3は例えばアイ・イ・イ・イー イ
ンターナショナル ソリッド ステイトサーキッツ
カンファレンス 1990年 ダイジェスト
オブ テクニカルペーパズ 132頁〜133頁
図3(IEEE International S
olid−State Circuits Confe
rence 1990, DIGEST OF TEC
HNICAL PAPERS,P.132 〜133,
Figure 3)に示されたスタティックRAMの
ビット線周辺の読み出し系回路の構成を示すブロック図
である。図において、1はメモリセル、2はビット線対
、3は上記ビット線対2の充電もしくはイコライズを行
うビット線負荷、4はワード線、5は上記ワード線4の
選択、駆動を行うXデコーダ回路、8はデータ線対、6
は上記ビット線対2と上記データ線対8間のデータの伝
達を制御するトランスファゲート対、7はYデコーダ回
路、9はセンスアンプ、10はデータ線である。[Prior Art] Figure 3 shows, for example, a digest of the I.I.I. International Solid State Circuits Conference 1990.
of Technical Papers, pages 132-133 Figure 3 (IEEE International S
solid-State Circuits Confe
rence 1990, DIGEST OF TEC
HNICAL PAPERS, P. 132-133,
FIG. 3 is a block diagram showing the configuration of a read circuit around the bit line of the static RAM shown in Figure 3). In the figure, 1 is a memory cell, 2 is a bit line pair, 3 is a bit line load that charges or equalizes the bit line pair 2, 4 is a word line, and 5 is an X decoder that selects and drives the word line 4. circuit, 8 is a data line pair, 6
Reference numerals denote a pair of transfer gates for controlling data transmission between the bit line pair 2 and the data line pair 8, 7 a Y decoder circuit, 9 a sense amplifier, and 10 a data line.
【0003】次に読み出し時の動作について説明する。
メモリセル1の選択は、Xデコーダ回路5、Yデコーダ
回路7が同時選択状態になった時に実現する。この時、
ワード線4はハイレベルにあり、またトランスファゲー
ト対6はビット線対2とデータ線対8を電気的に接続さ
れた状態にする。これによりメモリセル1に蓄えられて
いたデータはビット線対2、データ線対8を経て、セン
スアンプ9に伝達され、これにより増幅された信号がデ
ータ線10に伝えられる。データ線10は出力バッファ
(図示せず)に接続されチップ外部にデータが出力され
る。Next, the operation at the time of reading will be explained. Selection of the memory cell 1 is realized when the X decoder circuit 5 and the Y decoder circuit 7 are simultaneously selected. At this time,
Word line 4 is at a high level, and transfer gate pair 6 electrically connects bit line pair 2 and data line pair 8. As a result, the data stored in the memory cell 1 is transmitted to the sense amplifier 9 via the bit line pair 2 and the data line pair 8, and the amplified signal is transmitted to the data line 10. The data line 10 is connected to an output buffer (not shown) and data is output to the outside of the chip.
【0004】一方、上記メモリセル1が選択されない場
合、従ってXデコーダ回路5もしくはYデコーダ回路7
、ないし両回路5,7が非選択状態にある場合、メモリ
セル1の記憶データはデータ線対8に伝達されず、この
時、選択状態にある他のメモリセル(図示せず)の記憶
データのみがデータ線対8に伝達される。図4は上記図
3の回路ブロックの物理的な配置の1例を示した図であ
る。ここではnカラムmロウのメモリセルアレイを持つ
スタティックRAMを例にしている。11,12,21
,22はそれぞれ長方形の形を持つメモリセルアレイの
四隅のメモリセルを示しており、11は1カラム1ロウ
目のメモリセル、12は1カラムmロウ目のメモリセル
、21はnカラム1ロウ目のメモリセル、22はnカラ
ムmロウ目のメモリセルである。15,25,17,2
7は上記各セルを選択するためのX及びYデコーダ回路
の配置を示しており、15は1ロウ目のXデコーダ回路
、25はmロウ目のXデコーダ回路、17は1カラム目
のYデコーダ回路、27はnカラム目のYデコーダ回路
である。また、この例では各カラムのビット線負荷13
,23及びトランスファゲート対16,26は各カラム
をはさむ形で配置されており、13は1カラム目のビッ
ト線負荷、23はnカラム目のビット線負荷、16は1
カラム目のトランスファゲート対、26はnカラム目の
トランスファゲート対である。On the other hand, if the memory cell 1 is not selected, then the X decoder circuit 5 or the Y decoder circuit 7
, or when both circuits 5 and 7 are in a non-selected state, the stored data of the memory cell 1 is not transmitted to the data line pair 8, and at this time, the stored data of another memory cell (not shown) in the selected state is transmitted. only is transmitted to data line pair 8. FIG. 4 is a diagram showing an example of the physical arrangement of the circuit blocks shown in FIG. 3. In FIG. Here, a static RAM having a memory cell array of n columns and m rows is taken as an example. 11, 12, 21
, 22 indicate the memory cells at the four corners of the memory cell array each having a rectangular shape, 11 is the memory cell in the 1st column, 1st row, 12 is the memory cell in the 1st column, m-th row, and 21 is the memory cell in the 1st row, in the n-column. The memory cell 22 is the memory cell in the nth column and the mth row. 15, 25, 17, 2
7 shows the arrangement of the X and Y decoder circuits for selecting each cell, 15 is the X decoder circuit in the first row, 25 is the X decoder circuit in the mth row, and 17 is the Y decoder circuit in the first column. The circuit 27 is a Y decoder circuit in the n-th column. In addition, in this example, the bit line load 13 of each column is
, 23 and transfer gate pairs 16, 26 are arranged to sandwich each column, 13 is the bit line load of the first column, 23 is the bit line load of the nth column, and 16 is the bit line load of the 1st column.
The transfer gate pair in the column 26 is a transfer gate pair in the n-th column.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】従来のスタティックR
AMのメモリセルアレイ周辺の各回路は以上のように配
置されており、このため、Xデコーダ回路5の幅は1つ
のメモリセルのビット線方向の長さで制限され、またY
デコーダ回路7やビット線負荷3、トランスファゲート
対6のようにカラムの両端に各カラム毎に配置される回
路の幅は1つのメモリセルのワード線方向の長さで制限
されることになる。[Problem to be solved by the invention] Conventional static R
Each circuit around the AM memory cell array is arranged as described above, so the width of the X decoder circuit 5 is limited by the length of one memory cell in the bit line direction, and the width of the
The width of circuits arranged in each column at both ends of the column, such as the decoder circuit 7, bit line load 3, and transfer gate pair 6, is limited by the length of one memory cell in the word line direction.
【0006】一般にメモリデバイスの大容量化を図るに
は、メモリセルサイズの縮小が必要とされる。従ってメ
モリセルアレイ周辺に配置される上記各回路の回路パタ
ーンの自由度は大幅に制限され、パターン作成がより困
難なものとなってきている。Generally, increasing the capacity of a memory device requires reducing the memory cell size. Therefore, the degree of freedom in the circuit pattern of each of the above-mentioned circuits arranged around the memory cell array is greatly restricted, making pattern creation more difficult.
【0007】また、スタティックRAMの高速化を図る
場合、カラムセンス方式は有効な1手段である。図5に
カラムセンス方式を採用した場合のビット線周辺の読み
出し系回路の構成図及び図6に上記図5の物理的配置の
1例を示した図を示す。これらの図において、図3,図
4と同一符号は同一又は相当部分を示し、19はカラム
センスアンプ、14は1カラム目のカラムセンスアンプ
、24はnカラム目のカラムセンスアンプを示している
。これらの図からわかるように、カラムセンスアンプ1
9の1辺もやはりメモリセルサイズの制限を受けること
になる。このカラムセンスアンプ19はビット線対2の
わずかな変化を感知し、この変化をトランスファゲート
6を経てデータ線対8に高速に伝えるため、感度が良く
しかも負荷駆動能力の高い回路が必要とされている。
しかしながら十分な性能を持つカラムセンスアンプを高
集積スタティックRAMに採用することは、カラムセン
スアンプの素子数やトランジスタサイズ等の面積の点か
ら考えて回路パターンの作成を行う上で極めて困難なも
のとなっていた。[0007] Furthermore, the column sense method is an effective means for increasing the speed of static RAM. FIG. 5 shows a configuration diagram of a read circuit around a bit line when a column sensing method is adopted, and FIG. 6 shows an example of the physical layout of FIG. 5. In these figures, the same symbols as in FIGS. 3 and 4 indicate the same or equivalent parts, 19 indicates a column sense amplifier, 14 indicates a column sense amplifier for the first column, and 24 indicates a column sense amplifier for the nth column. . As you can see from these figures, column sense amplifier 1
One side of 9 is also limited by the memory cell size. This column sense amplifier 19 senses a slight change in the bit line pair 2 and quickly transmits this change to the data line pair 8 via the transfer gate 6, so a circuit with good sensitivity and high load driving ability is required. ing. However, it is extremely difficult to employ a column sense amplifier with sufficient performance in a highly integrated static RAM when creating a circuit pattern, considering the number of column sense amplifier elements and area such as transistor size. It had become.
【0008】さらに、Bi−CMOSスタティックRA
Mではバイポーラトランジスタに広い領域が必要となる
ため、駆動力が要求されている回路があるにもかかわら
ずバイポーラトランジスタの使用を制限しなくてはなら
ない等の問題があった。Furthermore, Bi-CMOS static RA
In M, since the bipolar transistor requires a large area, there are problems such as having to restrict the use of bipolar transistors even though there are circuits that require driving power.
【0009】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、メモリセルアレイ周辺回路のレ
イアウトパターンの自由度を上げ、パターン作成を容易
にでき、さらにはレイアウトパターンの自由度を上げる
ことで、従来、カラムセンスアンプ、バイポーラトラン
ジスタのように面積上の理由で大きく制限されていた回
路のパターン上の制約が取り払え、これらを自由に配置
でき、高性能化を促進できる半導体記憶装置を得ること
を目的とする。The present invention was made to solve the above-mentioned problems, and it increases the degree of freedom in the layout pattern of the peripheral circuit of the memory cell array, facilitates pattern creation, and further increases the degree of freedom in the layout pattern. By increasing the size of semiconductor memory, it is possible to remove restrictions on the pattern of circuits such as column sense amplifiers and bipolar transistors, which were previously largely limited due to area issues, and to freely arrange these circuits, promoting higher performance. The purpose is to obtain equipment.
【0010】0010
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体記
憶装置は、Xデコーダ回路のようにメモリセルアレイの
ロウ方向に配置されるメモリセルアレイ周辺の回路にお
いて、その回路領域のビット線方向の長さが複数ロウの
幅を持つ様に設定するかもしくは、Yデコーダ回路、カ
ラムセンスアンプ、ビット線負荷のように、メモリセル
アレイのカラム方向に配置されるメモリセルアレイ周辺
の回路において、その回路領域のワード線方向の長さが
複数カラムの幅を持つ様に設定したものである。[Means for Solving the Problems] In a semiconductor memory device according to the present invention, in a circuit around a memory cell array arranged in the row direction of the memory cell array, such as an X decoder circuit, the length of the circuit area in the bit line direction is or, in circuits surrounding the memory cell array arranged in the column direction of the memory cell array, such as Y decoder circuits, column sense amplifiers, and bit line loads, the word width of the circuit area It is set so that the length in the line direction has the width of multiple columns.
【0011】またこの発明に係る半導体記憶装置は、メ
モリセルアレイ周辺の回路のメモリセルアレイのロウ方
向に配置される回路,及びメモリセルアレイのカラム方
向に配置される回路において、その回路領域のビット線
方向の長さが複数ロウの幅を持つ様に設定し、かつ、ワ
ード線方向の長さが複数カラムの幅を持つ様に設定した
ものである。Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, in the circuits arranged in the row direction of the memory cell array in the circuits surrounding the memory cell array, and the circuits arranged in the column direction of the memory cell array, the bit line direction of the circuit area is The length is set to have a width of multiple rows, and the length in the word line direction is set to have a width of multiple columns.
【0012】0012
【作用】この発明におけるメモリセルアレイ周辺部に配
置される回路では従来カラム方向に位置する回路では回
路領域の1辺が1つのセルのビット線方向の長さで、ま
たロウ方向に位置する回路では回路領域の1辺が1つの
セルのワード線方向の長さで制限されていたが、これが
複数カラムの幅に緩和されることでレイアウトパターン
の自由度が上りこれによりパターン作成が容易になる。
さらに従来、細長い領域に納めることが困難であった複
雑な回路、例えばゲート幅の大きいトランジスタ、バイ
ポーラトランジスタ等を比較的自由に配置することがで
きるようになり、素子の高性能化を図ることが可能にな
る。[Operation] In the circuits arranged in the periphery of the memory cell array according to the present invention, one side of the circuit area is the length of one cell in the bit line direction for circuits located in the column direction, and for circuits located in the row direction One side of the circuit area was limited by the length of one cell in the word line direction, but by relaxing this to the width of a plurality of columns, the degree of freedom in layout patterns increases and pattern creation becomes easier. Furthermore, complex circuits that were previously difficult to fit into a long and narrow area, such as transistors with large gate widths and bipolar transistors, can now be arranged relatively freely, making it possible to improve the performance of devices. It becomes possible.
【0013】[0013]
【実施例】図1はこの発明の一実施例による半導体記憶
装置において、スタティックRAMのメモリセルアレイ
及びその周辺回路の配置を示すブロック図である。ここ
では2カラム分のYデコーダ系回路とカラムセンスアン
プを2カラム分の幅を持つ領域に納める場合を考える。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a block diagram showing the arrangement of a static RAM memory cell array and its peripheral circuits in a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. Here, we will consider a case where two columns' worth of Y decoder system circuits and column sense amplifiers are housed in an area having a width of two columns.
【0014】図において、図4と同一符号は同一又は相
当部分を示し、201は1及び2カラム目のYデコーダ
系回路+カラムセンスアンプの領域で、そのうち101
は1カラム目の領域、102は2カラム目の領域である
。202はn−1及びnカラム目のYデコーダ系回路+
カラムセンスアンプの領域で、103はn−1カラム目
の領域、104はnカラム目の領域である。また31,
32,41,42はメモリセルであり、31は2カラム
1ロウ目のメモリセル、32は2カラムmロウ目のメモ
リセル、41はn−1カラム1ロウ目のメモリセル、4
2はn−1カラムmロウ目のメモリセルを示している。
33,43はビット線負荷で、33は2カラム目のビッ
ト線負荷、43はn−1カラムnのビット線負荷である
。In the figure, the same reference numerals as in FIG. 4 indicate the same or corresponding parts, and 201 is the area of the Y decoder system circuit + column sense amplifier in the 1st and 2nd columns, of which 101
is the area in the first column, and 102 is the area in the second column. 202 is the n-1 and n-th Y decoder circuit +
In the area of the column sense amplifier, 103 is the area of the (n-1)th column, and 104 is the area of the nth column. Also 31,
32, 41, and 42 are memory cells, 31 is the memory cell in the 2nd column, 1st row, 32 is the memory cell in the 2nd column, m-th row, 41 is the memory cell in the n-1 column, 1st row, 4
2 indicates a memory cell in the m-th row of the n-1 column. 33 and 43 are bit line loads, 33 is the bit line load of the second column, and 43 is the bit line load of the n-1 column n.
【0015】201及び202で示された領域内ではそ
れぞれ2つのYデコーダ系回路、2つのカラムセンスア
ンプが配置されており、各カラムのYデコーダ系回路+
カラムセンスアンプ101,102,103,104の
ワード線方向の幅(図中、横方向)は2カラム分確保さ
れている。201,202の領域のビット線方向の長さ
(図中、縦方向)はメモリセルサイズに対し制限を受け
ることはなく、従って101,102及び103,10
4の各バッファは201及び202の領域内でビット線
方向及びカラム方向(図中、縦及び横方向)に対し、比
較的自由なレイアウトが可能となる。この結果、レイア
ウトパターンの作成が容易に成るほか、細長い領域に納
めることが困難な回路、例えばゲート幅の大きいトラン
ジスタ、広い領域を必要とするバイポーラトランジスタ
等を比較的自由にレイアウトすることが可能となる。Two Y decoder system circuits and two column sense amplifiers are arranged in the areas indicated by 201 and 202, respectively, and each column's Y decoder system circuit +
The width of the column sense amplifiers 101, 102, 103, and 104 in the word line direction (horizontal direction in the figure) is secured for two columns. The lengths of the regions 201 and 202 in the bit line direction (vertical direction in the figure) are not limited by the memory cell size, and therefore the lengths of the regions 101, 102 and 103, 10
Each of the buffers 4 can be laid out relatively freely in the bit line direction and column direction (vertical and horizontal directions in the figure) within the regions 201 and 202. As a result, it is not only easier to create layout patterns, but also circuits that are difficult to fit into a narrow area, such as transistors with large gate widths and bipolar transistors that require a large area, can be laid out relatively freely. Become.
【0016】なお、上記第1の実施例では2カラム分の
領域例えば201内で各バッファ101,102がカラ
ム単位で図中上下に配置されている例について示したが
、本発明はこれに限ることなく、2カラム分の領域内で
あるなら、各カラムのバッファをいかなる配置でもって
混在させてもよく、この場合においても上記実施例と同
様の効果を奏する。[0016] In the above-mentioned first embodiment, an example was shown in which the buffers 101 and 102 are arranged vertically in the figure in column units within an area of two columns, for example, 201, but the present invention is not limited to this. The buffers for each column may be mixed in any arrangement as long as they are within the area of two columns, and even in this case, the same effect as in the above embodiment can be achieved.
【0017】また、上記第1の実施例では2カラム分の
領域内で2カラム分のバッファを混在させることを述べ
ているが、本発明は2カラム分に特に限ることなく複数
カラム分の領域内で複数カラム分のバッファを混在させ
ても同様の効果を奏する。Furthermore, in the first embodiment, buffers for two columns are mixed within the area for two columns, but the present invention is not limited to the area for two columns, but can be applied to the area for multiple columns. A similar effect can be achieved even if buffers for multiple columns are mixed within.
【0018】次に本発明の第2の実施例による半導体記
憶装置を図2について説明する。この例でも2カラム分
のYデコーダ系回路とカラムセンスアンプを2カラム分
の幅を持つ領域に納める場合を考える。図2において、
図1と同一符号は同一又は相当部分を示し、各カラムの
Yデコーダ系回路+カラムセンスアンプ101,102
,103,104さらに各カラムのビット線負荷13,
23,33,43は各カラムの上下に交互に配置され、
2カラムで1組の繰返しの単位を構成している。この場
合でも、各カラムのYデコーダ系回路+カラムセンスア
ンプ101,102,103,104のレイアウト可能
な領域を第1の実施例と同様に2カラム分の幅まで確保
することができる。なお、この場合各カラム選択に必要
なアドレス選択信号線をカラムの両端に配置する必要が
あることは言うまでもない。Next, a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this example as well, consider the case where Y decoder circuits and column sense amplifiers for two columns are housed in an area having a width of two columns. In Figure 2,
The same symbols as in FIG. 1 indicate the same or equivalent parts, and each column's Y decoder system circuit + column sense amplifier 101, 102
, 103, 104 and each column's bit line load 13,
23, 33, and 43 are arranged alternately above and below each column,
Two columns constitute one set of repeating units. Even in this case, the area where the Y decoder system circuit + column sense amplifiers 101, 102, 103, and 104 of each column can be laid out can be secured up to the width of two columns as in the first embodiment. In this case, it goes without saying that address selection signal lines necessary for selecting each column must be arranged at both ends of the column.
【0019】上記第2の実施例では2カラム分の領域で
1つの繰返し単位を構成しているが、上記第1の実施例
による構造と並用することで2カラム分に限ることなく
、偶数カラム分の領域で1つの繰返し単位を構成するこ
とができることは明らかである。In the above-mentioned second embodiment, one repeating unit is constituted by an area for two columns, but by using the structure in conjunction with the above-mentioned first embodiment, it is not limited to two columns, and even-numbered columns can be formed. It is clear that one repeating unit can be constructed in the region of minutes.
【0020】なお、上記第1及び第2の実施例はカラム
方向に位置するバッファに対して適用した例であるが、
本発明はロウ方向に位置する、例えばXデコーダ回路に
対して適用してもよく、この場合においても同様の効果
が期待できる。Note that the first and second embodiments above are examples applied to buffers located in the column direction.
The present invention may be applied to, for example, an X decoder circuit located in the row direction, and similar effects can be expected in this case as well.
【0021】[0021]
【発明の効果】以上のように、この発明によればメモリ
セルアレイ周辺部に配置される回路において、メモリセ
ルサイズにより制限されていた回路領域の幅をカラム方
向に配置されたバッファならば複数カラム分、ロウ方向
に配置されたバッファならば複数ロウ分の長さに拡げる
ことができるように構成したので、パターンレイアウト
が容易になり、また従来細長い領域に納めることが困難
であった複雑な回路、例えばゲート幅の大きいトランジ
スタ、バイポーラトランジスタ等を比較的自由に配置す
ることが可能となるため高性能の半導体記憶装置が得ら
れるという効果がある。As described above, according to the present invention, in circuits arranged around the memory cell array, the width of the circuit area, which was limited by the memory cell size, can be reduced to multiple columns if the buffer is arranged in the column direction. Buffers arranged in the row direction can be expanded to the length of multiple rows, making pattern layout easier and complex circuits that were conventionally difficult to fit into a long and narrow area. For example, transistors with large gate widths, bipolar transistors, etc. can be arranged relatively freely, so that a high-performance semiconductor memory device can be obtained.
【図1】この発明の第1の実施例による半導体記憶装置
における、スタティックRAMのメモリセルアレイ及び
その周辺回路の配置を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing the arrangement of a static RAM memory cell array and its peripheral circuits in a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】この発明の第2の実施例による半導体記憶装置
における、スタティックRAMのメモリセルアレイ及び
その周辺回路の配置を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing the arrangement of a static RAM memory cell array and its peripheral circuits in a semiconductor memory device according to a second embodiment of the invention.
【図3】従来のスタティックRAMのビット線周辺部の
読み出し系回路のブロック図である。FIG. 3 is a block diagram of a read-related circuit around a bit line of a conventional static RAM.
【図4】図3に示した各バッファの配置を示すブロック
図である。FIG. 4 is a block diagram showing the arrangement of each buffer shown in FIG. 3;
【図5】カラムセンス方式を用いた従来のスタティック
RAMの読み出し系回路のブロック図である。FIG. 5 is a block diagram of a read circuit of a conventional static RAM using a column sense method.
【図6】図5に示した各バッファの配置を示すブロック
図である。FIG. 6 is a block diagram showing the arrangement of each buffer shown in FIG. 5;
1 メモリセル
11 メモリセル
12 メモリセル
21 メモリセル
22 メモリセル
31 メモリセル
32 メモリセル
41 メモリセル
42 メモリセル
2 ビット線対
3 ビット線負荷
13 ビット線負荷
23 ビット線負荷
33 ビット線負荷
43 ビット線負荷
4 ワード線
5 Xデコーダ回路
15 Xデコーダ回路
25 Xデコーダ回路
6 トランスファゲート対
16 トランスファゲート対
26 トランスファゲート対
7 Yデコーダ回路
17 Yデコーダ回路
27 Yデコーダ回路
8 データ線対
9 センスアンプ
10 データ線
19 カラムセンスアンプ
14 カラムセンスアンプ
24 カラムセンスアンプ
101 Yデコーダ系回路+カラムセンスアンプ10
2 Yデコーダ系回路+カラムセンスアンプ103
Yデコーダ系回路+カラムセンスアンプ104 Y
デコーダ系回路+カラムセンスアンプ201 Yデコ
ーダ系回路+カラムセンスアンプのレイアウトが可能な
領域
202 Yデコーダ系回路+カラムセンスアンプのレ
イアウトが可能な領域1 Memory cell 11 Memory cell 12 Memory cell 21 Memory cell 22 Memory cell 31 Memory cell 32 Memory cell 41 Memory cell 42 Memory cell 2 Bit line pair 3 Bit line load 13 Bit line load 23 Bit line load 33 Bit line load 43 Bit line load 4 word line 5 X decoder circuit 15 X decoder circuit 25 19 Column sense amplifier 14 Column sense amplifier 24 Column sense amplifier 101 Y decoder system circuit + column sense amplifier 10
2 Y decoder system circuit + column sense amplifier 103
Y decoder system circuit + column sense amplifier 104 Y
Decoder circuit + column sense amplifier 201 Area 202 where layout of Y decoder circuit + column sense amplifier is possible Area 202 where layout of Y decoder circuit + column sense amplifier is possible
Claims (2)
回路であって、上記メモリセルアレイのロウ方向あるい
はカラム方向に配置される回路は、その回路領域のビッ
ト線方向あるいはワード線方向の長さが複数ロウあるい
は複数カラムの幅を持つ様に設定されていることを特徴
とする半導体記憶装置。1. A circuit located at the periphery of a memory cell array, which is arranged in the row direction or column direction of the memory cell array, has a plurality of lengths in the bit line direction or word line direction of the circuit area. A semiconductor memory device characterized by being set to have a width of a row or multiple columns.
回路であって、上記メモリセルアレイのロウ方向に配置
される回路及びカラム方向に配置される回路は、その回
路領域のビット線方向の長さが複数ロウの幅を持つ様に
設定され、かつ、ワード線方向の長さが複数のカラムの
幅を持つ様に設定されていることを特徴とする半導体記
憶装置。2. The circuits located in the periphery of the memory cell array, which are arranged in the row direction and the column direction of the memory cell array, have the length of the circuit area in the bit line direction. A semiconductor memory device characterized in that the semiconductor memory device is set to have a width of a plurality of rows, and a length in a word line direction is set to have a width of a plurality of columns.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2413859A JPH04219971A (en) | 1990-12-19 | 1990-12-19 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2413859A JPH04219971A (en) | 1990-12-19 | 1990-12-19 | Semiconductor memory device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04219971A true JPH04219971A (en) | 1992-08-11 |
Family
ID=18522414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2413859A Pending JPH04219971A (en) | 1990-12-19 | 1990-12-19 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04219971A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100402344B1 (en) * | 1999-02-08 | 2003-10-17 | 산요덴키가부시키가이샤 | Semiconductor memory device |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0278268A (en) * | 1988-09-14 | 1990-03-19 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
| JPH02246149A (en) * | 1989-03-20 | 1990-10-01 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device and method for remedying defect thereof |
-
1990
- 1990-12-19 JP JP2413859A patent/JPH04219971A/en active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0278268A (en) * | 1988-09-14 | 1990-03-19 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
| JPH02246149A (en) * | 1989-03-20 | 1990-10-01 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device and method for remedying defect thereof |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100402344B1 (en) * | 1999-02-08 | 2003-10-17 | 산요덴키가부시키가이샤 | Semiconductor memory device |
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