JPH0422054A - 透過型電子顕微鏡の対物レンズ - Google Patents
透過型電子顕微鏡の対物レンズInfo
- Publication number
- JPH0422054A JPH0422054A JP2126090A JP12609090A JPH0422054A JP H0422054 A JPH0422054 A JP H0422054A JP 2126090 A JP2126090 A JP 2126090A JP 12609090 A JP12609090 A JP 12609090A JP H0422054 A JPH0422054 A JP H0422054A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic field
- objective lens
- leakage magnetic
- yoke
- image
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は分解能を向上させるようにした透過型電子顕微
鏡（以下ＴＥＭと言う）の対物レンズに関するものであ
る。
鏡（以下ＴＥＭと言う）の対物レンズに関するものであ
る。
第２図は従来のＴＥＭに使用されている対物レンズの概
略構成を示す図である。図中、ｌＯはヨーク、１２はポ
ールピース、１４はコイル、１６は継目、１７は光軸、
１８は試料、２０は視野絞り、２２は結像面、２４は透
過電子線、２６は漏れ磁場である。
略構成を示す図である。図中、ｌＯはヨーク、１２はポ
ールピース、１４はコイル、１６は継目、１７は光軸、
１８は試料、２０は視野絞り、２２は結像面、２４は透
過電子線、２６は漏れ磁場である。
対物レンズはヨーク１０に対して交換可能なポルピース
１２か嵌め込まれ、コイル１４に励磁電流を流すことに
よりポールピース１２の間隙部分に磁場を集中させてレ
ンズを形成し、この位置付近に試料を置いてその透過拡
大像か得られる構造になっており、通常、対物レンズヨ
ーク下方に結像面２２かくるように設定され、結像面位
置に視野絞り２０を配置するようにしている。
１２か嵌め込まれ、コイル１４に励磁電流を流すことに
よりポールピース１２の間隙部分に磁場を集中させてレ
ンズを形成し、この位置付近に試料を置いてその透過拡
大像か得られる構造になっており、通常、対物レンズヨ
ーク下方に結像面２２かくるように設定され、結像面位
置に視野絞り２０を配置するようにしている。
ところで、対物レンズのヨーク１０は、第２図に示すよ
うに、ヨークＩＯａ、ＩＯｂのように、通常、ＦｅとＦ
ｅ＋Ｃｏ合金のような材質の異なる複数のヨーク片を継
ぎ合わせているために、継目１６か存在し、その部分て
僅かではあるか光軸上に漏れ磁場２６か発生する。また
継目のない一体型であり、かつ材質か同しものからなる
場合であってもヨークの下端コーナー付近での磁気飽和
により同様に光軸上に漏れ磁場か発生する。これを試料
側から見ると、長焦点レンズか発生したことになり、結
像面で球面収差が発生して分解能か低下してしまうとい
う問題かあった。
うに、ヨークＩＯａ、ＩＯｂのように、通常、ＦｅとＦ
ｅ＋Ｃｏ合金のような材質の異なる複数のヨーク片を継
ぎ合わせているために、継目１６か存在し、その部分て
僅かではあるか光軸上に漏れ磁場２６か発生する。また
継目のない一体型であり、かつ材質か同しものからなる
場合であってもヨークの下端コーナー付近での磁気飽和
により同様に光軸上に漏れ磁場か発生する。これを試料
側から見ると、長焦点レンズか発生したことになり、結
像面で球面収差が発生して分解能か低下してしまうとい
う問題かあった。
本発明は上記課題を解決するためのもので、対物レンズ
ヨーク下端付近に発生する望ましくない漏れ磁場による
分解能低下を防止するようにした透過型電子顕微鏡の対
物レンズを提供することを目的とする。
ヨーク下端付近に発生する望ましくない漏れ磁場による
分解能低下を防止するようにした透過型電子顕微鏡の対
物レンズを提供することを目的とする。
そのために本発明は、試料に電子線を照射し、対物レン
ズにより試料透過像を結像させ、観察するようにしたＴ
ＥＭにおいて、対物レンズによる試料結像面を対物レン
ズ漏れ磁場位置またはその近傍となるようにしたこと特
徴とする。
ズにより試料透過像を結像させ、観察するようにしたＴ
ＥＭにおいて、対物レンズによる試料結像面を対物レン
ズ漏れ磁場位置またはその近傍となるようにしたこと特
徴とする。
本発明は、対物レンズヨークの漏れ磁場発生位置または
その近傍に結像面かくるようにすることにより、漏れ磁
場に起因する球面収差の発生を極めて少なくし、分解能
の低下を防止することかできる。
その近傍に結像面かくるようにすることにより、漏れ磁
場に起因する球面収差の発生を極めて少なくし、分解能
の低下を防止することかできる。
以下、実施例を図面を参照して説明する。
第１図は本発明のＴＥＭの対物レンズの一実施例の構成
を示す図である。図中、第２図と同一番号は同一内容を
示している。
を示す図である。図中、第２図と同一番号は同一内容を
示している。
前述したように、ヨークの継目やヨーク下端付近では光
軸上に僅かなから漏れ磁場か発生してしまう。このよう
な漏れ磁場か球面収差に与える影響は、漏れ磁場の位置
と結像面の距離が大きい程顧著になるので、両者の位置
を一致させれば球面収差の悪化を最小限に抑えることか
できる。漏れ磁場の発生位置はヨークの形状、構造等に
よって変化するか、その位置は実測または計算によって
求めることか可能である。そこで、本発明においてはあ
らかじめ求めた漏れ磁場の位置か結像面になるように励
磁電流を設定する。或いは励磁電流に対応して他の要素
を変化させて漏れ磁場の位置か結像面に一致ないしはそ
の近傍になるようにする。これにともなって、視野絞り
２０の位置も変える必要があり、その場合にはヨーク内
部に視野絞り２０を入れなければならないのて、例えば
第１図に示すように円筒タイプのものを使用してヨーク
下端から挿入するようなものとするか、あるいはヨーク
部分に端部か取り付けられるもの等を使用すればよい。
軸上に僅かなから漏れ磁場か発生してしまう。このよう
な漏れ磁場か球面収差に与える影響は、漏れ磁場の位置
と結像面の距離が大きい程顧著になるので、両者の位置
を一致させれば球面収差の悪化を最小限に抑えることか
できる。漏れ磁場の発生位置はヨークの形状、構造等に
よって変化するか、その位置は実測または計算によって
求めることか可能である。そこで、本発明においてはあ
らかじめ求めた漏れ磁場の位置か結像面になるように励
磁電流を設定する。或いは励磁電流に対応して他の要素
を変化させて漏れ磁場の位置か結像面に一致ないしはそ
の近傍になるようにする。これにともなって、視野絞り
２０の位置も変える必要があり、その場合にはヨーク内
部に視野絞り２０を入れなければならないのて、例えば
第１図に示すように円筒タイプのものを使用してヨーク
下端から挿入するようなものとするか、あるいはヨーク
部分に端部か取り付けられるもの等を使用すればよい。
こうして、結像面と漏れ磁場との距離か最小になるので
、球面収差の悪化を最小限に抑えて分解能の低下を防止
することができる。
、球面収差の悪化を最小限に抑えて分解能の低下を防止
することができる。
以上のように本発明によれば、ＴＥＭの対物レンズヨー
クの漏れ磁場発生位置またはその近傍に結像面かくるよ
うにすることにより、漏れ磁場に起因する球面収差の発
生を最小限にして分解能の低下を防止することかできる
。
クの漏れ磁場発生位置またはその近傍に結像面かくるよ
うにすることにより、漏れ磁場に起因する球面収差の発
生を最小限にして分解能の低下を防止することかできる
。
第１図は本発明のＴＥＭの対物レンズの一実施例の構成
を説明するだめの図、第２図は従来のＴＥＭに使用され
ている対物レンズの概略構成を説明するための図である
。 ｌＯ・・・ヨーク、１２・・・ポールピース、１４・・
コイル、 ■ ６・・・継目、 ７・・・光軸、 ８・ 試料、 ０・・・視野絞り、２２ ・・結像面、 ２４・・・透過電子線、 ２６・・漏れ磁場。 出 願 人 日本電子株式会社
を説明するだめの図、第２図は従来のＴＥＭに使用され
ている対物レンズの概略構成を説明するための図である
。 ｌＯ・・・ヨーク、１２・・・ポールピース、１４・・
コイル、 ■ ６・・・継目、 ７・・・光軸、 ８・ 試料、 ０・・・視野絞り、２２ ・・結像面、 ２４・・・透過電子線、 ２６・・漏れ磁場。 出 願 人 日本電子株式会社
Claims (1)
- （１）試料に電子線を照射し、対物レンズにより試料透
過像を結像させ、観察するようにした透過型電子顕微鏡
において、対物レンズによる試料結像面を対物レンズ漏
れ磁場位置またはその近傍となるようにしたこと特徴と
する透過型電子顕微鏡の対物レンズ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2126090A JPH0422054A (ja) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | 透過型電子顕微鏡の対物レンズ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2126090A JPH0422054A (ja) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | 透過型電子顕微鏡の対物レンズ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0422054A true JPH0422054A (ja) | 1992-01-27 |
Family
ID=14926357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2126090A Pending JPH0422054A (ja) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | 透過型電子顕微鏡の対物レンズ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0422054A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7131603B2 (en) | 2003-05-27 | 2006-11-07 | Denso Corporation | Micro-mist generation method and apparatus |
-
1990
- 1990-05-15 JP JP2126090A patent/JPH0422054A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7131603B2 (en) | 2003-05-27 | 2006-11-07 | Denso Corporation | Micro-mist generation method and apparatus |
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