JPH04221431A - 光学的情報記録担体の初期化装置 - Google Patents
光学的情報記録担体の初期化装置Info
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- JPH04221431A JPH04221431A JP2404852A JP40485290A JPH04221431A JP H04221431 A JPH04221431 A JP H04221431A JP 2404852 A JP2404852 A JP 2404852A JP 40485290 A JP40485290 A JP 40485290A JP H04221431 A JPH04221431 A JP H04221431A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は相変化型記録膜を有する
消去可能な円盤状光学的記録担体において、製造直後の
円盤状光学的記録情報担体の記録膜の反射率を上昇させ
る処理、いわゆる初期化を行う初期化装置に関する。
消去可能な円盤状光学的記録担体において、製造直後の
円盤状光学的記録情報担体の記録膜の反射率を上昇させ
る処理、いわゆる初期化を行う初期化装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】相変化型記録膜を有する消去可能な円盤
状光学的記録情報担体（以下光ディスクと呼ぶ）１は図
６（Ａ）の様に４つの部分から構成されている。
状光学的記録情報担体（以下光ディスクと呼ぶ）１は図
６（Ａ）の様に４つの部分から構成されている。
【０００３】この光ディスク１は製造直後、記録膜の状
態が非結晶質（アモルファス）状態にあり、このため反
射率が低く、光学的情報記録再生装置では使用できない
。
態が非結晶質（アモルファス）状態にあり、このため反
射率が低く、光学的情報記録再生装置では使用できない
。
【０００４】従来から初期化装置によって、記録膜の状
態を結晶質状態に変化させ反射率を高める処理を行って
いる。
態を結晶質状態に変化させ反射率を高める処理を行って
いる。
【０００５】従来の初期化装置について図５を用いて説
明する。光ディスク１はターンテーブルモータ２に保持
され、ターンテーブルモータ２やターンテーブルモータ
制御回路３の駆動手段によって制御され一定回転数（た
とえば１，８００ｒｐｍ）で回転している。Ａｒレーザ
等からなる初期化のための放射光源４からの出射ビーム
Ａ１はレンズ５，レンズ６，ミラー７と８、対物レンズ
９を経て光ビームＡ２として光ディスク１上の記録膜面
１Ｂに集束照射される。このときの記録膜面上の光ビー
ムＡ２の大きさは約φ２０μｍ程度である。
明する。光ディスク１はターンテーブルモータ２に保持
され、ターンテーブルモータ２やターンテーブルモータ
制御回路３の駆動手段によって制御され一定回転数（た
とえば１，８００ｒｐｍ）で回転している。Ａｒレーザ
等からなる初期化のための放射光源４からの出射ビーム
Ａ１はレンズ５，レンズ６，ミラー７と８、対物レンズ
９を経て光ビームＡ２として光ディスク１上の記録膜面
１Ｂに集束照射される。このときの記録膜面上の光ビー
ムＡ２の大きさは約φ２０μｍ程度である。
【０００６】光ディスク１の傾きやディスク面の歪によ
って、回転している光ディスク１の記録膜面が上下変動
し、対物レンズ９と光ディスク１の記録膜面１Ｂとの距
離が変化し、常に光ディスク１の記録膜面１Ｂに光ビー
ムＡ２が集束照射できなくなる。
って、回転している光ディスク１の記録膜面が上下変動
し、対物レンズ９と光ディスク１の記録膜面１Ｂとの距
離が変化し、常に光ディスク１の記録膜面１Ｂに光ビー
ムＡ２が集束照射できなくなる。
【０００７】このため、常に記録膜面に光ビームＡ２が
焦点を結ぶための自動焦点制御が必要となる。
焦点を結ぶための自動焦点制御が必要となる。
【０００８】記録膜の状態を変化させずに、十分な反射
率を得ることのできる放射光源として、Ｈｅ−Ｎｅレー
ザなどを用いている。
率を得ることのできる放射光源として、Ｈｅ−Ｎｅレー
ザなどを用いている。
【０００９】第２の放射光源であるＨｅ−Ｎｅレーザ１
０からの出射ビームＢ１は第２の光学系のレンズ１１、
偏光ビームスプリッタ１２、λ／４板１３、ミラー８、
対物レンズ９を経て光ビームＢ２として光ディスク１の
記録膜面Ｂ２に入射する。
０からの出射ビームＢ１は第２の光学系のレンズ１１、
偏光ビームスプリッタ１２、λ／４板１３、ミラー８、
対物レンズ９を経て光ビームＢ２として光ディスク１の
記録膜面Ｂ２に入射する。
【００１０】このときのミラー８は光ビームＡ１は透過
するが、光ビームＢ１は反射する特性をもっている。
するが、光ビームＢ１は反射する特性をもっている。
【００１１】ディスク１の記録膜面Ｂ２からの反射光ビ
ームＢ３は対物レンズ９、ミラー８、λ／４板１３、偏
光ビームスプリッタ１２を経て２分割光ディテクタ１４
に入射する。ディスク１の記録膜面の上下位置変動に伴
い、入射光Ｂ３は２分割光ディテクタ１４上の図７のよ
うに動く。
ームＢ３は対物レンズ９、ミラー８、λ／４板１３、偏
光ビームスプリッタ１２を経て２分割光ディテクタ１４
に入射する。ディスク１の記録膜面の上下位置変動に伴
い、入射光Ｂ３は２分割光ディテクタ１４上の図７のよ
うに動く。
【００１２】２分割光ディテクタ１４の出力は差動アン
プ１５、フォーカス制御回路１６を通じてリニアモータ
１７を駆動し、対物レンズ９を上下に移動させることで
、常に光ビームＡ２を光ディスク１の記録膜面１Ｂに集
束照射できるように制御する。
プ１５、フォーカス制御回路１６を通じてリニアモータ
１７を駆動し、対物レンズ９を上下に移動させることで
、常に光ビームＡ２を光ディスク１の記録膜面１Ｂに集
束照射できるように制御する。
【００１３】光ディスクは通常、図６（Ｂ）に示すよう
に外周から内周への渦状案内溝と放射状に配置されるア
ドレス部からなっている。図６（Ｃ）はアドレス部の拡
大図である。このアドレス部は案内溝の一部として構成
され案内溝の各々の位置を示すような情報が蓄えられて
いる。
に外周から内周への渦状案内溝と放射状に配置されるア
ドレス部からなっている。図６（Ｃ）はアドレス部の拡
大図である。このアドレス部は案内溝の一部として構成
され案内溝の各々の位置を示すような情報が蓄えられて
いる。
【００１４】この案内溝のピッチは約１．５μｍであり
、これに対して光ビームＡ２は約φ２０μｍ程度である
。このため各案内溝に対して光ビームを追従させる必要
がない。
、これに対して光ビームＡ２は約φ２０μｍ程度である
。このため各案内溝に対して光ビームを追従させる必要
がない。
【００１５】光ディスク１の記録面の記録使用領域に光
ビームＡ２を照射するため、ターンテーブルモータ２全
体を径方向に移動させる移動装置１９および送りモータ
装置１８を設けている。
ビームＡ２を照射するため、ターンテーブルモータ２全
体を径方向に移動させる移動装置１９および送りモータ
装置１８を設けている。
【００１６】このときの光ビームの照射位置の移動はタ
ーンテーブルの回転と同期して一定のスピードで行われ
、ターンテーブル１回転当たりの移動量は光ビームＡ２
の記録膜上の径方向の大きさとほぼ同等ないし、同等以
下の大きさで行われる。
ーンテーブルの回転と同期して一定のスピードで行われ
、ターンテーブル１回転当たりの移動量は光ビームＡ２
の記録膜上の径方向の大きさとほぼ同等ないし、同等以
下の大きさで行われる。
【００１７】従来例では、ターンテーブルモータ２全体
を移動させているが、逆に対物レンズ９等からなる光学
系全体を移動させるようなものもある。
を移動させているが、逆に対物レンズ９等からなる光学
系全体を移動させるようなものもある。
【００１８】また光ディスク１の記録膜面１Ｂへ照射さ
れる光ビームＡ２の強度は径方向の位置Ｒに応じて適正
に制御する必要がある。このために対物レンズ９の位置
を検出するリニアスケール２０からの出力を光ビーム強
度制御回路装置２１を経て、放射光源４に入力すること
で光ビームＡ１の強度を制御する。
れる光ビームＡ２の強度は径方向の位置Ｒに応じて適正
に制御する必要がある。このために対物レンズ９の位置
を検出するリニアスケール２０からの出力を光ビーム強
度制御回路装置２１を経て、放射光源４に入力すること
で光ビームＡ１の強度を制御する。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】従来、相変化型記録膜
を有する光ディスクは、初期の反射率が低いために、初
期化装置によって初期化を行い、反射率を高め、その後
光ディスクの基板の欠陥や、基板中の異物また記録膜中
の欠陥等を欠陥検出装置で検出し、光ディスクの選別を
行っている。
を有する光ディスクは、初期の反射率が低いために、初
期化装置によって初期化を行い、反射率を高め、その後
光ディスクの基板の欠陥や、基板中の異物また記録膜中
の欠陥等を欠陥検出装置で検出し、光ディスクの選別を
行っている。
【００２０】上記の様な方法では、そのために別個の装
置が必要となり光ディスクの製造工程を複雑化すると共
に生産コストの上昇を招いていた。
置が必要となり光ディスクの製造工程を複雑化すると共
に生産コストの上昇を招いていた。
【００２１】本発明はこのような従来の課題を解決する
ための光学的情報記録担体の初期化装置を提供するのを
目的とする。
ための光学的情報記録担体の初期化装置を提供するのを
目的とする。
【００２２】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、従来の光ディスクの初期化装置に加えて、
対物レンズからの出射光ビームの、光ディスクからの反
射光ビームの強度変化から光ディスク内の欠陥を検出す
る欠陥検出手段を有し、光ディスクの初期化を行うと同
時に光ディスク内の欠陥を検出するように構成したもの
である。
するために、従来の光ディスクの初期化装置に加えて、
対物レンズからの出射光ビームの、光ディスクからの反
射光ビームの強度変化から光ディスク内の欠陥を検出す
る欠陥検出手段を有し、光ディスクの初期化を行うと同
時に光ディスク内の欠陥を検出するように構成したもの
である。
【００２３】
【作用】本発明は上記構成により光ディスクの初期化の
際に、同時に光ディスクの欠陥検出を行うことができ、
光ディスク製造工程の簡略化が可能となる。
際に、同時に光ディスクの欠陥検出を行うことができ、
光ディスク製造工程の簡略化が可能となる。
【００２４】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面に基づい
て説明する。図１は実施例１における初期化装置の構成
図を示し、従来例と同一構成要素については同一符号を
用い説明を省略する。
て説明する。図１は実施例１における初期化装置の構成
図を示し、従来例と同一構成要素については同一符号を
用い説明を省略する。
【００２５】放射光源４から出射した光ビームＡ１はレ
ンズ５，６、偏光ビームスプリッタ２２、λ／４板２３
、ミラー７，８、対物レンズ９等の光学系を通って光デ
ィスク１上の記録膜面に光ビームＡ２として集束照射す
る。このときの記録膜面上の光ビームの大きさは従来例
と同様に約φ２０μｍ程度である。
ンズ５，６、偏光ビームスプリッタ２２、λ／４板２３
、ミラー７，８、対物レンズ９等の光学系を通って光デ
ィスク１上の記録膜面に光ビームＡ２として集束照射す
る。このときの記録膜面上の光ビームの大きさは従来例
と同様に約φ２０μｍ程度である。
【００２６】この光ビームＡ２によって光ディスク１の
記録膜の初期化が行われ、その結果、記録膜１Ｂの反射
率が上昇する。
記録膜の初期化が行われ、その結果、記録膜１Ｂの反射
率が上昇する。
【００２７】記録膜面１Ｂからの反射光は対物レンズ９
、ミラー８，７、λ／４板２３、偏光ビームスプリッタ
２２、レンズ２４を経て光ディテクタ２５に入射する。
、ミラー８，７、λ／４板２３、偏光ビームスプリッタ
２２、レンズ２４を経て光ディテクタ２５に入射する。
【００２８】光ディスク１の記録膜１Ｂに異物や傷等の
欠陥、また光ディスク１の基板１Ａ内の異物や基板表面
の傷や汚れ等があると、図２に示すように光ディテクタ
２５の出力が変化する。
欠陥、また光ディスク１の基板１Ａ内の異物や基板表面
の傷や汚れ等があると、図２に示すように光ディテクタ
２５の出力が変化する。
【００２９】光ディテクタ２５の出力は欠陥検出回路２
６に加えられ、欠陥部をパルス化した後、欠陥検出回路
２６の出力は欠陥データ処理装置２７に入力される。欠
陥検出回路２６と欠陥データ処理装置２７とを合わせて
欠陥検出手段とする。
６に加えられ、欠陥部をパルス化した後、欠陥検出回路
２６の出力は欠陥データ処理装置２７に入力される。欠
陥検出回路２６と欠陥データ処理装置２７とを合わせて
欠陥検出手段とする。
【００３０】欠陥データ処理装置２７では、入力された
パルス信号とリニアスケール２０の出力とから、光ディ
スク１の使用領域全域にわたっての欠陥のデータを収集
処理し、欠陥数やそれぞれの欠陥の大きさや、欠陥の径
方向の分布等の状況が観測できるようになっている。
パルス信号とリニアスケール２０の出力とから、光ディ
スク１の使用領域全域にわたっての欠陥のデータを収集
処理し、欠陥数やそれぞれの欠陥の大きさや、欠陥の径
方向の分布等の状況が観測できるようになっている。
【００３１】図３に実施例２における初期化装置の構成
図を示す。実施例２では光ディスク１の記録膜１Ｂに対
して初期化を起こさない光ビームＢ１を使って、光ディ
スク１の欠陥検出を行う。
図を示す。実施例２では光ディスク１の記録膜１Ｂに対
して初期化を起こさない光ビームＢ１を使って、光ディ
スク１の欠陥検出を行う。
【００３２】２分割光ディテクタ１４の各々の出力は加
算回路２８に入力される。実施例１と同様に光ディスク
１の記録膜や基板に異物、傷や汚れ等の欠陥があると、
図２に示すように加算回路２８の出力が変化する。
算回路２８に入力される。実施例１と同様に光ディスク
１の記録膜や基板に異物、傷や汚れ等の欠陥があると、
図２に示すように加算回路２８の出力が変化する。
【００３３】加算回路２８の出力は欠陥検出回路２６を
経て欠陥データ処理装置２７に入力され、実施例１と同
様に光ディスク１の使用領域全域にわたっての欠陥のデ
ータ収集処理を行う。
経て欠陥データ処理装置２７に入力され、実施例１と同
様に光ディスク１の使用領域全域にわたっての欠陥のデ
ータ収集処理を行う。
【００３４】つぎに実施例３について、図４の初期化装
置の構成図を用いて説明する。実施例１，２では光ディ
スクの記録膜面に集束照射される光ビームＡ２の大きさ
が約φ２０μｍであり、光ディスクの案内溝に光ビーム
Ａ２を追従させる必要はなかった。実施例３では光ディ
スクの案内溝を中心として初期化を行うため、光ビーム
Ａ２を光ディスクの記録膜面へ約φ１〜２μｍ程度の大
きさで集束照射するとともに、案内溝を追従し且つ欠陥
を検出する。
置の構成図を用いて説明する。実施例１，２では光ディ
スクの記録膜面に集束照射される光ビームＡ２の大きさ
が約φ２０μｍであり、光ディスクの案内溝に光ビーム
Ａ２を追従させる必要はなかった。実施例３では光ディ
スクの案内溝を中心として初期化を行うため、光ビーム
Ａ２を光ディスクの記録膜面へ約φ１〜２μｍ程度の大
きさで集束照射するとともに、案内溝を追従し且つ欠陥
を検出する。
【００３５】放射光源４から出射した光ビームＡ１はレ
ンズ５，６、偏光ビームスプリッタ２２、λ／４板２３
、ミラー８，７、対物レンズ９を通って光ディスク１上
の記録膜面に光ビームＡ２として集束照射する。
ンズ５，６、偏光ビームスプリッタ２２、λ／４板２３
、ミラー８，７、対物レンズ９を通って光ディスク１上
の記録膜面に光ビームＡ２として集束照射する。
【００３６】上記構成では、光ディスク１の偏心や案内
溝の歪によって、常に光ディスク１の記録膜面の案内溝
に、案内溝に沿って光ビームＡ２を照射できない。
溝の歪によって、常に光ディスク１の記録膜面の案内溝
に、案内溝に沿って光ビームＡ２を照射できない。
【００３７】このため案内溝追従制御が必要となる。光
ディスクの記録膜面からの反射光は対物レンズ９、ミラ
ー７，８、λ／４板２３、偏光ビームスプリッタ２２、
レンズ２４を経て２分割光ディテクタ２９に入射する。
ディスクの記録膜面からの反射光は対物レンズ９、ミラ
ー７，８、λ／４板２３、偏光ビームスプリッタ２２、
レンズ２４を経て２分割光ディテクタ２９に入射する。
【００３８】２分割光ディテクタ２９の各々の出力は差
動アンプ３０に入力され、光ビームＡ２の案内溝に対し
ての位置ずれを電気信号として検出する。差動アンプ３
０の出力はトラッキング制御回路３１を経てモータ３２
に加えられる。モータ３２はミラー７と連結し、ミラー
７の角度を変えることで、光ビームＡ２が案内溝を追従
するようにしている。
動アンプ３０に入力され、光ビームＡ２の案内溝に対し
ての位置ずれを電気信号として検出する。差動アンプ３
０の出力はトラッキング制御回路３１を経てモータ３２
に加えられる。モータ３２はミラー７と連結し、ミラー
７の角度を変えることで、光ビームＡ２が案内溝を追従
するようにしている。
【００３９】またトラッキング制御回路３１の出力は送
りモータ装置１８にも加えられ、案内溝を光ビームＡ２
が追従するに伴い光ディスク全体を径方向へ移動させる
。
りモータ装置１８にも加えられ、案内溝を光ビームＡ２
が追従するに伴い光ディスク全体を径方向へ移動させる
。
【００４０】２分割光ディテクタ２９の各々の出力は同
時に加算回路２８にも入力される。実施例１，２と同様
に光ディスク１の記録膜や基板に異物，傷や汚れ等の欠
陥があると、図２に示すように加算回路２８の出力が変
化する。
時に加算回路２８にも入力される。実施例１，２と同様
に光ディスク１の記録膜や基板に異物，傷や汚れ等の欠
陥があると、図２に示すように加算回路２８の出力が変
化する。
【００４１】実施例１，２での光ビームの大きさと比較
して約１桁程度小さいために、小さな欠陥をも検出する
ことができる。加算回路２８の出力は欠陥検出回路２６
を経て欠陥データ処理装置２７に入力される。
して約１桁程度小さいために、小さな欠陥をも検出する
ことができる。加算回路２８の出力は欠陥検出回路２６
を経て欠陥データ処理装置２７に入力される。
【００４２】加算回路２８の出力はアドレス読みとり回
路３４にも入力され、アドレス読みとり回路３４でアド
レス情報をチェックされた後、アドレスエラー情報を欠
陥データ処理装置２７に入力する。
路３４にも入力され、アドレス読みとり回路３４でアド
レス情報をチェックされた後、アドレスエラー情報を欠
陥データ処理装置２７に入力する。
【００４３】実施例３は実施例１および２と同様に光デ
ィスク１の使用領域全域にわたっての欠陥のデ−タの収
集処理を行うばかりでなく、同時に光ディスク上のアド
レス情報のチェックも行える。
ィスク１の使用領域全域にわたっての欠陥のデ−タの収
集処理を行うばかりでなく、同時に光ディスク上のアド
レス情報のチェックも行える。
【００４４】なお、上記は相変化消去可能光ディスクに
ついて説明したが、外部磁場を印加する磁場装置を付加
するだけで、光磁気型消去可能光ディスクにも応用でき
る。すなわち磁化方向をそろえる光磁気消去可能光ディ
スクの初期化と同時にディスクの欠陥検出を行うことが
できる。
ついて説明したが、外部磁場を印加する磁場装置を付加
するだけで、光磁気型消去可能光ディスクにも応用でき
る。すなわち磁化方向をそろえる光磁気消去可能光ディ
スクの初期化と同時にディスクの欠陥検出を行うことが
できる。
【００４５】
【発明の効果】以上に述べてきたように、本発明は従来
の初期化装置に欠陥検出回路および欠陥データ処理装置
よりなる欠陥検出手段を付加することで、相変化型消去
可能光ディスクまたは光磁気消去可能光ディスクの初期
化を行うのと同時に、光ディスクの欠陥検出を行うこと
が可能となり、製造工程の簡略化が可能となる実用効果
大なるものである。
の初期化装置に欠陥検出回路および欠陥データ処理装置
よりなる欠陥検出手段を付加することで、相変化型消去
可能光ディスクまたは光磁気消去可能光ディスクの初期
化を行うのと同時に、光ディスクの欠陥検出を行うこと
が可能となり、製造工程の簡略化が可能となる実用効果
大なるものである。
【図１】本発明の実施例１の光学的情報記録担体の初期
化装置の構成図
化装置の構成図
【図２】同じく実施例１，２における反射光の信号波形
図
図
【図３】同じく実施例２の構成図
【図４】同じく実施例３の構成図
【図５】従来例の構成図
【図６】（Ａ）光ディスク１の断面構造図（Ｂ）光ディ
スク１の案内溝とアドレスの配置図（Ｃ）アドレス部の
拡大図
スク１の案内溝とアドレスの配置図（Ｃ）アドレス部の
拡大図
【図７】２分割光ディテクタ１４上の光ビームＢ３の動
きを示す説明図
きを示す説明図
１ 光ディスク２
ターンテーブル
モータ３ ターン
テーブルモータ制御回路４
放射光源５，６，１１，２４ 凸レンズ ７，８ ミラー９
対物レンズ１０
第２の放射光源１２，２２
偏光ビームスプリッタ１３，２３
λ／４板１４
２分割光ディテクタ１５
差動アンプ１６
フォーカス制御回路１７
リニアモータ１８
送りモータ装置１９
送り機構２０
リニアースケール２１
光ビーム強度制御回路２５
光ディテクタ２６
欠陥検出回路２７
欠陥データ処理装置２８
加算回路２９
２分割光ディテクタ３０
加算回路３１
トラッキング制御回路３２
モータ３３
ミラーＭ３４
アドレス読みとり回路
ターンテーブル
モータ３ ターン
テーブルモータ制御回路４
放射光源５，６，１１，２４ 凸レンズ ７，８ ミラー９
対物レンズ１０
第２の放射光源１２，２２
偏光ビームスプリッタ１３，２３
λ／４板１４
２分割光ディテクタ１５
差動アンプ１６
フォーカス制御回路１７
リニアモータ１８
送りモータ装置１９
送り機構２０
リニアースケール２１
光ビーム強度制御回路２５
光ディテクタ２６
欠陥検出回路２７
欠陥データ処理装置２８
加算回路２９
２分割光ディテクタ３０
加算回路３１
トラッキング制御回路３２
モータ３３
ミラーＭ３４
アドレス読みとり回路
Claims (2)
- 【請求項１】 円盤状記録担体を所定の回転数で回転
させる駆動手段と、初期化のための放射光源と、前記放
射光源からの出射光ビームを前記円盤状記録担体上の記
録膜面に導き、かつ集束照射しするための光学系と、常
に前記録膜面に前記光学系からの出射光ビームを集光さ
せるための自動焦点制御装置と、前記光学系からの光ビ
ームの光ディスクの径方向の照射位置を移動させる移動
装置と、前記光学系からの光ビームの径方向照射位置を
測定するリニアスケールと、前記リニアスケールの出力
から前記放射光源に作用して、前記放射光源からの出射
光ビームの強度を制御する光ビーム強度制御装置と、前
記光学系からの出射光ビームの前記円盤状記録担体から
の反射光を検出する光ディテクタと、前記光ディテクタ
の出力変化から前記円盤状記録担体の欠陥を検出する欠
陥検出手段とにより構成した光学的情報記録担体の初期
化装置。 - 【請求項２】 円盤状光学記録担体を所定の回転数で
回転させる駆動手段と、初期化のための放射光源と、前
記放射光源からの出射光ビームを前記円盤状記録担体上
の記録膜面に導き、かつ集束照射するための光学系と、
常に前記録膜面に前記光学系からの出射光ビームを集光
させるための自動焦点制御装置と、前記光学系からの光
ビームの光ディスクの径方向の照射位置を移動させる移
動装置と、前記光学系からの光ビームの径方向照射位置
を測定するリニアスケールと、前記リニアスケールの出
力から前記放射光源に作用して、前記放射光源からの出
射光ビームの強度を制御する光ビーム強度制御装置と、
前記記録膜に影響を及ぼさない第２の放射光源と、前記
第２の放射光源の出射光ビームを前記円盤状光学記録担
体の記録膜面に導き、かつ前記記録膜からの反射光を光
ディテクタに導く第２の光学系と、前記光ディテクタの
出力変化から前記円盤状記録担体の欠陥を検出する欠陥
検出手段とにより構成した光学的情報記録担体の初期化
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2404852A JPH04221431A (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 光学的情報記録担体の初期化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2404852A JPH04221431A (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 光学的情報記録担体の初期化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04221431A true JPH04221431A (ja) | 1992-08-11 |
Family
ID=18514507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2404852A Pending JPH04221431A (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 光学的情報記録担体の初期化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04221431A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003102563A1 (en) * | 2002-05-30 | 2003-12-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for detecting foreign matter on object, device for detecting foreign matter on object, and optical disc apparatus |
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1990
- 1990-12-21 JP JP2404852A patent/JPH04221431A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003102563A1 (en) * | 2002-05-30 | 2003-12-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for detecting foreign matter on object, device for detecting foreign matter on object, and optical disc apparatus |
| US7239588B2 (en) | 2002-05-30 | 2007-07-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for detecting foreign body on object surface, and optical disk apparatus |
| EP1522846A4 (en) * | 2002-05-30 | 2008-01-02 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | METHOD AND DEVICE FOR DETECTING FOREIGN MATERIALS ON A SUBJECT AND OPTICAL PANEL DEVICE |
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