JPH04222841A - 芳香族ポリエーテルケトンから成形された、対紫外線安定化構造体およびその製造方法 - Google Patents

芳香族ポリエーテルケトンから成形された、対紫外線安定化構造体およびその製造方法

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JPH04222841A
JPH04222841A JP3050937A JP5093791A JPH04222841A JP H04222841 A JPH04222841 A JP H04222841A JP 3050937 A JP3050937 A JP 3050937A JP 5093791 A JP5093791 A JP 5093791A JP H04222841 A JPH04222841 A JP H04222841A
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aromatic
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ultraviolet
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Andrea Franz
アンドレア、フランツ
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【技術分野】例えば西独特許２４３３２７８号明細書に
記載されているポリエーテルケトンは高い、例えば３５
０℃あるいはそれ以上の融点を有し、耐高熱性物品を製
造するのに適当である。
【０００２】しかしながら、その秀れた使用特性を保護
するため紫外線に対して安定化する必要がある。高い融
点とこれに伴なう高い処理温度のために、対紫外線安定
化剤をポリマーケトンの溶融体に直接添加することは極
めて困難であることが知られている。対紫外線安定化剤
は一般的に必要とされる高温で分解する傾向があるから
である。
【０００３】米国特許４，０８９，９９６号明細書には
、芳香族ポリスルホンから成形される物品、例えばフィ
ルムの表面を、錫およびチタン化合物で処理して、対紫
外線安定化することが記載されている。これは極めて高
コストを要することを別としても、芳香族ポリエーテル
ケトンに対しては適当でないことが判明している。
【０００４】そこで本発明の目的は、安定化剤の障害を
回避し、廉価な方法で、芳香族ポリエーテルケトンから
成形される構造体を紫外線に対して効果的に安定化する
ことである。
【０００５】
【発明の要約】しかるに上記目的は、少くとも１種類の
紫外線吸収性の立体障害フェノール、ベンズトリアゾー
ルあるいはヒドロキシベンゾフェノンを溶解あるいは分
散状態で含有する、ポリビニルアルコール、ポリビニル
アセタート、ポリビニルピロリドン、ポリアミド、ポリ
アリールスルホン、ポリアクリル酸エステルおよびこれ
らの共重合体より成る群から選択された少くとも１種類
のフィルム形成性ポリマーにより被覆されていることを
特徴とする、芳香族ポリエーテルケトンから成形された
、対紫外線安定化構造体により達成され得ることが本発
明者らにより見出された。
【０００６】そして上記安定化は、芳香族ポリエーテル
ケトンから成形された構造体を、Ｎ−メチルピロリドン
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、炭素
原子１から４個のアルカノール、その低級脂肪酸とのエ
ステル、水あるいはこれらの混合物に溶解させた、ポリ
エーテルケトンに対して不活性であり、少くとも１種類
の紫外線吸収剤を溶液もしくは分散液状で含有するフィ
ルム形成性ポリマーで被覆し、上昇せしめられた温度で
溶媒もしくは分散媒を除去してポリマーフィルムを残す
ことを特徴とする、芳香族ポリエーテルケトンから成形
された、対紫外線安定化構造体の製造方法により効果的
に達成され得る。
【０００７】本発明による芳香族ポリエーテルケトンか
ら成形された、新規の対紫外線安定化構造体は、被覆形
成されたポリマーのフィルムなし層およびこれに溶解さ
れもしくは分散された対紫外線安定化剤が共に紫外線を
吸収するという利点がある。また本発明による新規の安
定化方法は、芳香族ポリエーテルケトンから成形された
構造体に対して、種々のポリマーおよび／あるいは種々
の紫外線吸収剤から成る複数層を形成し得る利点がある
。この安定化方法は、さらに、簡単で、しかも高温に被
曝されない利点を有する。さらに本発明方法には、成形
されたポリエーテルケトン構造体に対紫外線安定化層が
確実に接着される利点がある。
【０００８】
【発明の構成】芳香族ポリエーテルケトンは、２５℃に
おいて９６重量％硫酸中の０．５％溶液として測定して
、相対粘度１．０以上、好ましくは１．２から１．８、
ことに１．３から１．７を有するものが好ましい。 好ましいポリエーテルケトンは、以下の式（Ｉ）から（
Ｖ）の繰返し構造単位を有するものである。
【０００９】
【化１】 またＣＯ基の５０％までがＳＯ２基、１，４−フェニレ
ン単位あるいは４，４′−ビスフェニレン単位あるいは
４，４′−ビスフェニレン単位により代替されている共
重合体を使用することも好ましい。
【００１０】本発明の意図する成形構造体は、一般的に
溶融体から成形された構造体、ことにフィルム、フィラ
メント、繊維およびこれから構成される織成体もしくは
不織布構造体である。ことに好ましい構造体は、溶融紡
糸フィラメントおよび１．２：１から１０：１の延伸に
付された繊維である。
【００１１】芳香族ポリエーテルケトンから成形された
構造体には、少くとも１種類の紫外線吸収剤を溶解もし
くは分散状態で含有する、少くとも１種類のフィルム形
成性ポリマーの被覆層が施こされる。
【００１２】適当なフィルム形成性フィルムとしては、
例えばポリビニルアルコール、ポリビニルアセタート、
ポリビニルプロピオナート、ポリビニルピロリドン、ポ
リ（メタ）アクリル酸エステルおよびこの（メタ）アク
リル酸エステルとスチレンのような芳香族ビニル化合物
との共重合体である。
【００１３】その他のフィルム形成性ポリマーとしては
、例えば７、８、９、１０あるいは１１員のラクタム、
例えばカプロラクタムから製造されるポリアミド、およ
びＣ６−Ｃ１２ジカルボン酸のようなジカルボン酸と、
Ｃ６−Ｃ１５ジアミンのようなジアミンとから製造され
るポリアミドが適当である。適当な出発材料は、一方に
おいて例えばアジピン酸、アゼライン酸であり、他方に
おいてヘキサメチレンジアミン、オクタメチレンジアミ
ン、４，４′−ジシクロヘキシルメタン、４，４′−ジ
シクロヘキシルプロパンである。適当なポリマーとして
は、上述した出発材料の共重合体を含む。
【００１４】さらに適当なフィルム形成性フィルムとし
て、以下の式（ＶＩ）
【００１５】
【化２】 で表わされ、ＡおよびＢが相互に同じであっても異なっ
ていてもよく、それぞれ１，４−フェニレンあるいは１
，７−ナフチレンを意味し、Ｂがさらに４，４′−ビフ
ェニレンを意味し、Ｒ１およびＲ２が相互に同じでも異
なってもよくそれぞれ炭素原子１から４個を有するアル
キルを意味する場合の繰返し単位および／あるいは以下
の式（ＶＩＩ） 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　−
Ｏ−Ｘ−ＳＯ２−Ｘ−　　　　　　　　　　　　　　　
　（ＶＩＩ）で表わされ、Ｘが１，４−フェニレン、４
，４′−ビフェニレンあるいは１，７−ナフチレンを意
味する場合の繰返し単位から成る芳香族ポリスルホンで
ある。この式（ＶＩ）および（ＶＩＩ）の繰返し単位の
適当な例は以下の式で表わされるものである。
【００１６】
【化３】 ことに好ましいフィルム形成性ポリマーは、ポリアクリ
ル酸エステル、アクリル酸コポリエステル、さらにはポ
リスルホンおよびポリエーテルスルホンである。
【００１７】適当な紫外線吸収剤としては、例えば５−
メチル−３−ドデシルフェノール、ジ−ｔｅｒｔ−アミ
ルフェノール、４−ｔｅｒｔ−オクチルフェノールのよ
うな立体障害フェノール、およびビス（２，４−ジヒド
ロキシ）ベンゾフェノン、ビス（２−ヒドロキシ−４−
メトキシ−６−スルホナート）ベンゾフェノンのような
置換ベンゾフェノンが使用される。
【００１８】さらに他の適当な紫外線吸収剤としては、
２−（２−ヒドロキシ−３−ドデシル−５−メチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、１，６−ヘキサンジオール
−ビス−３−（３−ベンゾトリアゾール−Ｎ−イル−４
−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル）フェニルプロパ
ノアートのようなベンゾトリアゾールが挙げられる。
【００１９】芳香族ポリエーテルケトンから成形される
構造体は、紫外線吸収剤を含有するフィルム形成性ポリ
マーで完全に被覆される。被覆の厚さは一般的に１０か
ら５０μｍになされる。被覆は単一層でもあるいは３層
までの複数層でもよい。個々の層は同じフィルム形成性
ポリマーから成り、あるいは各層ごとに異なるフィルム
形成性ポリマーから成る。このフィルム形成性ポリマー
は、被覆全量に対して５から４０重量％の紫外線吸収剤
を含有する。ポリマー被覆が複数層である場合には、各
層は異なる紫外線吸収剤を含有し得る。
【００２０】フィラメント、繊維が被覆される場合、そ
の全量に対して２から２０重量％の、ことに５から１５
重量％の紫外線吸収剤を含有する。
【００２１】芳香族ポリエーテルケトンから形成された
新規の対紫外線安定化構造体は、ポリエーテルケトンに
対して不活性であり、かつ少くとも１種類の紫外線吸収
剤を溶液もしくは分散液状態で含有するフィルム形成性
ポリマーの溶液もしくは分散液で、芳香族ポリエーテル
ケトンから成形された構造体を被覆し、上昇せしめられ
た温度で溶媒もしくは分散媒を除去しポリマーフィルム
層を残存させることにより有利に製造され得る。
【００２２】本発明においてはポリエーテルケトンを溶
解しない溶媒が使用される。
【００２３】適当な溶媒は、例えば水、アルカノール、
ことに炭素１から４個のアルカノール、ジメチルスルホ
キシドのようなスルホキシド、ジメチルホルムアミド、
Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−ジエチルアセトアミド
、Ｎ−メチルピロリドンのようなＮ−ジ置換カルボキシ
アミドである。
【００２４】さらに他の適当な溶媒は、例えば水中ポリ
ビニルアルコール、アルコールもしくはエステル中ポリ
ビニルアセタート、アルコールもしくはＮ−メチルピロ
リドン中ポリアミド、Ｎ−メチルピロリドンもしくはジ
メチルホルムアミド中ポリエーテルスルホンであるが、
アクリラートポリマー、アクリレン／スチレン共重合体
は一般的に水性分散液の形態で使用される。
【００２５】溶液中におけるフィルム形成性ポリマーの
量割合は、５から２０重量％、ことに７から１５重量％
であり、フィルム形成性ポリマー対紫外線吸収剤の重量
割合は２：１から１０：１、ことに３：１から８：１の
範囲である。
【００２６】フィルム形成性ポリマーおよび紫外線吸収
剤の溶液もしくは分散液は、浸漬あるいは噴霧により、
均質な被覆をもたらすように、ポリエーテルケトン成形
構造体に施こされる。溶媒もしくは分散媒は、その沸点
に応じて５から２５０℃の温度で分散除去され、ポリマ
ーフィルムもしくは層が形成される。被覆処理は１回で
もよく、また反覆して、例えば２回反覆してもよく、後
者の場合、後続被覆は異なるフィルム形成性ポリマーお
よび／あるいは紫外線吸収剤を使用してもよい。
【００２７】本発明による成形構造体は、慣用の添加剤
、例えば可溶性の染料、顔料、白色化剤、つや出し剤な
どを含有し得る。
【００２８】以下の実施例により本発明をさらに具体的
に説明し、その効果を対比例とくらべて実証する。
【００２９】対比例１
【００３０】
【化４】 の繰返し単位から成り、２５℃において９６％濃度のＨ
２ＳＯ４１００ミリリットル中０．５ｇのポリマーの溶
液で測定して相対溶液粘度１．４７８を有するポリエー
テルケトンを、４１５℃の溶融温度において常法により
紡糸してマルチフィラメントヤーンとなし、これを２５
０℃において３：１の割合で延伸した。このフィラメン
トは以下の特性を示した。
【００３１】 　　　　　　　　　　線形密度　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　１０９／３０　　ｄｔｅｘ　　
　　　　　　　　破壊強さ　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　５　　ｃＮ／ｄｔｅｘ　　　　　　
　　　　破断時伸び　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　１２　　％フィラメントをＸｅｎｏｔｅｓｔ４
５（ハーナウ市、ヘロイス社製）に７日間被曝させて光
線および紫外線に対する耐性ないし安定性を測定した。
【００３２】温度３０℃、相対湿度６５％において７日
間の照射後、フィラメントは当初の破壊強さの５０％を
失ない、破断時伸びは５％に低下した。
【００３３】対比例２ 対比例１におけるようにしてポリエーテルケトンフィラ
メントを製造し、室温において１０ｇのＳｎＣｌ２・２
Ｈ２Ｏおよび１２．６ｇのテトライソプロピルチタナー
トの、無水エタノール２０ｇおよび氷醋酸１０ｇ中溶液
で、乾燥繊維上に約７％の附着分を残すように被覆処理
した。
【００３４】同様にＸｅｎｏｔｅｓｔ４５０を使用して
照射７日後に、破壊強さは当初値の５１％に低下し、破
断時伸びもわずかに６％となった。安定化化合物の繊維
に対する接着力も劣悪であり、繊維表面における安定化
剤の分布も不均斉であった。 実施例１ 対比例１におけるようにして得られたポリエーテルケト
ンフィラメントを、本発明方法により繰返し単位
【００
３５】
【化５】 の、２５℃でＮＭＰ１％溶液で測定して、相対溶液粘度
１．３１３のピリエーテルスルホン７ｇと対紫外線安定
化剤（２，４，２′，４′−テトラヒドロキシベンゾフ
ェノン）３．５ｇの、Ｎ−メチルピロリドン８９．５ｇ
中溶液で連続的に被覆処理し、２３０℃で乾燥して繊維
上に７％の被着物を残した。安定化剤のフィルム状被覆
の繊維に対する接着力は、上記と同様の照射処理後も依
然として満足すべきものであった。同様にＸｅｎｏｔｅ
ｓｔ４５０により７日間照射後も、繊維の破壊強さは当
初値の８４％を保持しており、破断時伸びもなお１０％
であった。
【００３６】実施例２ 実施例１におけると同様にして得られたポリエーテルケ
トンフィラメントを、本発明により、
【００３７】
【化６】 の繰返し単位を有し、２５℃でＮＭＰ中の１％濃度溶液
として測定して、相対溶液粘度１．３０６を示すポリス
ルホン７ｇと、以下の式
【００３８】
【化７】 で示される対紫外線安定化剤１ｇとの、Ｎ−メチルピロ
リドン９２ｇ中溶液で被覆し、２３０℃で乾燥後、繊維
上に８％の残留物を残した。
【００３９】フィルム状安定化剤の繊維に対する接着性
は、Ｘｅｎｏｔｅｓｔによる処理後においてもなお良好
であった。このＸｅｎｏｔｅｓｔ４５０により７日間処
理した後のフィラメントの破壊強さは当初値のなお７６
％を維持し、破断時伸びも依然として１０％であった。
【００４０】実施例３ 実施例１と同様にして得られたポリエーテルケトンフィ
ラメントからの繊維を、１００ｇのＮ−メチルピロリド
ン中、７ｇのポリエーテルスルホンおよび３．５ｇの２
，４，２′，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノンの
溶液でバッチ式被覆処理した。２３０℃で乾燥して溶媒
を蒸散除去し、被覆繊維をＸｅｎｏｔｅｓｔ４５０によ
り７日間照射処理した。その結果破壊強さは当初値の５
６％を維持している。
【００４１】実施例４ 実施例１におけると同様のポリエーテルケトンフィラメ
ントを、２重量％の可溶性黄色染料で染色し、実施例１
におけると同様にして被覆処理した。同様にＸｅｎｏｔ
ｅｓｔ４５０による７日間の照射処理後、その破壊強さ
は当初値の８７％を依然として維持した。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】　　少くとも１種類の紫外線吸収性の立体
    障害フェノール、ベンズトリアゾールあるいはヒドロキ
    シベンゾフェノンを溶解あるいは分散状態で含有する、
    ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタート、ポリビ
    ニルピロリドン、ポリアミド、ポリアリールスルホン、
    ポリアクリル酸エステルおよびこれらの共重合体より成
    る群から選択された少くとも１種類のフィルム形成性ポ
    リマーにより被覆されていることを特徴とする、芳香族
    ポリエーテルケトンから成形された、対紫外線安定化構
    造体。
  2. 【請求項２】　　芳香族ポリエーテルケトンから成形さ
    れた構造体を、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルム
    アミド、ジメチルスルホキシド、炭素原子１から４個の
    アルカノール、その低級脂肪酸とのエステル、水あるい
    はこれらの混合物に溶解させた、ポリエーテルケトンに
    対して不活性であり、少くとも１種類の紫外線吸収剤を
    溶液もしくは分散液状で含有するフィルム形成性ポリマ
    ーで被覆し、上昇せしめられた温度で溶媒もしくは分散
    媒を除去してポリマーフィルムを残すことを特徴とする
    、芳香族ポリエーテルケトンから成形された、対紫外線
    安定化構造体の製造方法。
JP3050937A 1990-03-22 1991-03-15 芳香族ポリエーテルケトンから成形された、対紫外線安定化構造体およびその製造方法 Pending JPH04222841A (ja)

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EP0447964B1 (de) 1995-06-21
EP0447964A2 (de) 1991-09-25
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