JPH04224854A - グラフトコポリマー組成物 - Google Patents
グラフトコポリマー組成物Info
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- JPH04224854A JPH04224854A JP3061988A JP6198891A JPH04224854A JP H04224854 A JPH04224854 A JP H04224854A JP 3061988 A JP3061988 A JP 3061988A JP 6198891 A JP6198891 A JP 6198891A JP H04224854 A JPH04224854 A JP H04224854A
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- Japan
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- propylene
- rubber
- copolymer
- styrene
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L51/00—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L51/06—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to homopolymers or copolymers of aliphatic hydrocarbons containing only one carbon-to-carbon double bond
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- Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
- Saccharide Compounds (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】本発明はプロピレンポリマー物質の幹又は
基幹上にスチレンポリマーがグラフトしたグラフトコポ
リマーを含む組成物に関し、より詳しくは連続相として
のプロピレンポリマー物質及び分散相としてのスチレン
ポリマーを特徴とするヘテロ相構造を示すグラフトコポ
リマーを基にした組成物に関する。ポリマー幹上の活性
グラフト化部位でモノマーを重合することにより形成さ
れたグラフトコポリマーは１つの化学種であるけれども
、しかしそれらが成分ポリマーの性質の単純平均よりは
むしろグラフトポリマー並びに幹ポリマーの特有性質を
示すことができるのでポリマーハイブリッドの興味深い
種類を構成する。ポリマーの物理的ブレンドと比較した
ときに、グラフトコポリマーはその中のセグメント間化
学結合のために通常分散相のドメイン大きさが安定であ
り、およそ大きさの程度により小さいことができる小さ
いヘテロ相形態を示す。さらに、相間の付着力が良好で
ある。不混和性ポリマー例えばポリプロピレンとポリス
チレンの物理的ブレンドは、ブレンド中の不混和性ポリ
マー間の高い界面張力及び劣る付着力に関連する問題を
ある程度軽減できる相容化剤例えば適当に選ばれたブロ
ックコポリマーの包含を必要とする。ブレンド中のポリ
マーに対する相容化剤として少量のスチレン類ブロック
コポリマーゴムを含むポリプロピロピレとポリスチレン
の物理的ブレンドが米国特許第 ４，３８６，１８７号
中に記載されている。
基幹上にスチレンポリマーがグラフトしたグラフトコポ
リマーを含む組成物に関し、より詳しくは連続相として
のプロピレンポリマー物質及び分散相としてのスチレン
ポリマーを特徴とするヘテロ相構造を示すグラフトコポ
リマーを基にした組成物に関する。ポリマー幹上の活性
グラフト化部位でモノマーを重合することにより形成さ
れたグラフトコポリマーは１つの化学種であるけれども
、しかしそれらが成分ポリマーの性質の単純平均よりは
むしろグラフトポリマー並びに幹ポリマーの特有性質を
示すことができるのでポリマーハイブリッドの興味深い
種類を構成する。ポリマーの物理的ブレンドと比較した
ときに、グラフトコポリマーはその中のセグメント間化
学結合のために通常分散相のドメイン大きさが安定であ
り、およそ大きさの程度により小さいことができる小さ
いヘテロ相形態を示す。さらに、相間の付着力が良好で
ある。不混和性ポリマー例えばポリプロピレンとポリス
チレンの物理的ブレンドは、ブレンド中の不混和性ポリ
マー間の高い界面張力及び劣る付着力に関連する問題を
ある程度軽減できる相容化剤例えば適当に選ばれたブロ
ックコポリマーの包含を必要とする。ブレンド中のポリ
マーに対する相容化剤として少量のスチレン類ブロック
コポリマーゴムを含むポリプロピロピレとポリスチレン
の物理的ブレンドが米国特許第 ４，３８６，１８７号
中に記載されている。
【０００２】プロピレン及びスチレンポリマーの「化学
的」ブレンドを基にした、すなわちスチレンポリマー／
プロピレンポリマー物質の幹のグラフトコポリマーを基
にした構造用プラスチックはグラフトコポリマー中の微
小ドメイン構造から生ずる利益のために、またプロピレ
ンポリマー及びスチレンポリマー相の間に必要な付着力
が外部試剤、すなわち相容化剤、の作用によるよりはむ
しろグラフトコポリマー自体中の化学結合に由来するの
で当該技術における要求を満たすであろう。しかし今日
まで、これらのグラフトコポリマーについて示唆された
用途は主に不混和性ポリマー系に対する相容化剤及びガ
ムプラスチック組成物の成分に制限された。
的」ブレンドを基にした、すなわちスチレンポリマー／
プロピレンポリマー物質の幹のグラフトコポリマーを基
にした構造用プラスチックはグラフトコポリマー中の微
小ドメイン構造から生ずる利益のために、またプロピレ
ンポリマー及びスチレンポリマー相の間に必要な付着力
が外部試剤、すなわち相容化剤、の作用によるよりはむ
しろグラフトコポリマー自体中の化学結合に由来するの
で当該技術における要求を満たすであろう。しかし今日
まで、これらのグラフトコポリマーについて示唆された
用途は主に不混和性ポリマー系に対する相容化剤及びガ
ムプラスチック組成物の成分に制限された。
【０００３】米国特許第 ３，３１４，９０４号はスチ
レン／（ポリエチレン又はポリプロピレン）のグラフト
コポリマー、詳しくは、スチレン、アクリロニトリル、
及びポリエチレン又はポリプロピレンのグラフトインタ
ーポリマー、を製造し、そのグラフトコポリマーを一定
の選んだ相容性ゴム状物質とブレンドすることによる「
ガムプラスチック」の形成を記載している。グラフトコ
ポリマーのグラフトしたスチレン又はスチレン−アクリ
ロニトリル含量は７５〜９５％、好ましくは８５〜９５
％、より好ましくは９０〜９５％である。従って、グラ
フトコポリマーは主に結合したスチレン又は結合したス
チレン−アクリロニトリルであり、ポリプロピレンから
製造されたコポリマー中でポリプロピレンは単に小量成
分であり、分散相として存在する。従って、結合したス
チレン又はスチレン−アクリロニトリルの性質が優勢で
ある。 そのグラフトコポリマーはポリオレフィンを高エネルギ
ーイオン化放射線にさらし、次いで照射されたポリオレ
フィンをスチレン又はスチレン及びアクリロニトリルに
接触させることにより製造される。
レン／（ポリエチレン又はポリプロピレン）のグラフト
コポリマー、詳しくは、スチレン、アクリロニトリル、
及びポリエチレン又はポリプロピレンのグラフトインタ
ーポリマー、を製造し、そのグラフトコポリマーを一定
の選んだ相容性ゴム状物質とブレンドすることによる「
ガムプラスチック」の形成を記載している。グラフトコ
ポリマーのグラフトしたスチレン又はスチレン−アクリ
ロニトリル含量は７５〜９５％、好ましくは８５〜９５
％、より好ましくは９０〜９５％である。従って、グラ
フトコポリマーは主に結合したスチレン又は結合したス
チレン−アクリロニトリルであり、ポリプロピレンから
製造されたコポリマー中でポリプロピレンは単に小量成
分であり、分散相として存在する。従って、結合したス
チレン又はスチレン−アクリロニトリルの性質が優勢で
ある。 そのグラフトコポリマーはポリオレフィンを高エネルギ
ーイオン化放射線にさらし、次いで照射されたポリオレ
フィンをスチレン又はスチレン及びアクリロニトリルに
接触させることにより製造される。
【０００４】しかし、プロピレンポリマーの望ましい性
質例えば優れた耐薬品性、良好な耐湿性などを有する独
立型（ｓｔａｎｄ−ａｌｏｎｅ）構造用プラスチックと
して使用するにはスチレンポリマー／プロピレンポリマ
ー物質幹のグラフトコポリマーはプロピレンポリマーが
連続相であるヘテロ相形態を示さねばならない。これは
グラフトコポリマーのスチレンポリマー含量が約６５重
量パーセントを越えず、同時にプロピレンポリマーの剛
性を必要程度に改良するだけ高いことを必要とする。
質例えば優れた耐薬品性、良好な耐湿性などを有する独
立型（ｓｔａｎｄ−ａｌｏｎｅ）構造用プラスチックと
して使用するにはスチレンポリマー／プロピレンポリマ
ー物質幹のグラフトコポリマーはプロピレンポリマーが
連続相であるヘテロ相形態を示さねばならない。これは
グラフトコポリマーのスチレンポリマー含量が約６５重
量パーセントを越えず、同時にプロピレンポリマーの剛
性を必要程度に改良するだけ高いことを必要とする。
【０００５】スチレンポリマー／プロピレンポリマー幹
のグラフトコポリマーの独立型構造用プラスチックとし
てのポリマーの物理的ブレンドに比べた利点は、グラフ
トコポリマーに性質の良好なバランスを与える方法が見
いだされれば一層よく利用できるであろう。本発明は、
重量基準で、（ａ）プロピレンポリマー物質の幹上にグ
ラフトした約１０〜６５重量パーセントのスチレンポリ
マーを含むグラフトコポリマー約６０〜９５パーセント
、及び補足的に（ｂ）（１）約２０〜１００重量パーセ
ントの （ｉ）少くとも１種のモノアルケニル芳香族炭
化水素−共役ジエンブロックコポリマー、（ｉｉ） （
ｉ）の水素化生成物である少くとも１種のブロックコポ
リマー又は（ｉｉｉ） 少くとも１種の （ｉ）のブロ
ックコポリマーと少くとも１種の（ｉｉ）のブロックコ
ポリマーの混合物；及び（２）約８０〜０重量パーセン
トのオレフィンコポリマーゴム例えばＥＰＭ（エチレン
−プロピレンモノマーゴム）又はＥＰＤＭ（エチレン−
プロピレン−ジエンモノマーゴム）を含むゴム成分約４
０〜５パーセントを含むグラフトコポリマーを基にした
硬質熱可塑性組成物を提供する。「ブロックコポリマー
」という語は後に定義されるような前記 （ｉ）、（ｉ
ｉ）又は（ｉｉｉ） を示す。グラフトコポリマー及び
ゴム成分１００部当り約８０部（合計）までの添加剤例
えば充填剤、補強剤などが組成物中に含まれることがで
きる。さらに、組成物はグラフトコポリマー及びゴム成
分１００部当り約５〜３０部のプロピレンポリマー物質
を含むことができ、適当なプロピレンポリマー物質はグ
ラフトコポリマーの製造に有用なプロピレンポリマー物
質に対して示すとおりである。
のグラフトコポリマーの独立型構造用プラスチックとし
てのポリマーの物理的ブレンドに比べた利点は、グラフ
トコポリマーに性質の良好なバランスを与える方法が見
いだされれば一層よく利用できるであろう。本発明は、
重量基準で、（ａ）プロピレンポリマー物質の幹上にグ
ラフトした約１０〜６５重量パーセントのスチレンポリ
マーを含むグラフトコポリマー約６０〜９５パーセント
、及び補足的に（ｂ）（１）約２０〜１００重量パーセ
ントの （ｉ）少くとも１種のモノアルケニル芳香族炭
化水素−共役ジエンブロックコポリマー、（ｉｉ） （
ｉ）の水素化生成物である少くとも１種のブロックコポ
リマー又は（ｉｉｉ） 少くとも１種の （ｉ）のブロ
ックコポリマーと少くとも１種の（ｉｉ）のブロックコ
ポリマーの混合物；及び（２）約８０〜０重量パーセン
トのオレフィンコポリマーゴム例えばＥＰＭ（エチレン
−プロピレンモノマーゴム）又はＥＰＤＭ（エチレン−
プロピレン−ジエンモノマーゴム）を含むゴム成分約４
０〜５パーセントを含むグラフトコポリマーを基にした
硬質熱可塑性組成物を提供する。「ブロックコポリマー
」という語は後に定義されるような前記 （ｉ）、（ｉ
ｉ）又は（ｉｉｉ） を示す。グラフトコポリマー及び
ゴム成分１００部当り約８０部（合計）までの添加剤例
えば充填剤、補強剤などが組成物中に含まれることがで
きる。さらに、組成物はグラフトコポリマー及びゴム成
分１００部当り約５〜３０部のプロピレンポリマー物質
を含むことができ、適当なプロピレンポリマー物質はグ
ラフトコポリマーの製造に有用なプロピレンポリマー物
質に対して示すとおりである。
【０００６】本発明の組成物のグラフトコポリマー成分
中のプロピレンポリマー物質の幹上に存在するグラフト
したポリマーを示すために用いた「スチレンポリマー」
という語は（ａ）スチレンあるいは少くとも１つのＣ１
〜Ｃ４ 線状又は枝分れアルキル環置換基を有するア
ルキルスチレン、殊にｐ−アルキルスチレンのホモポリ
マー；（ｂ）（ａ）のモノマーの相互のすべての割合に
おけるコポリマー；及び（ｃ）少くとも１つの（ａ）の
モノマーとそのα−メチル誘導体例えばα−メチルスチ
レンとの、α−メチル誘導体がコポリマーの重量の約１
〜４０％を構成するコポリマーを示す。
中のプロピレンポリマー物質の幹上に存在するグラフト
したポリマーを示すために用いた「スチレンポリマー」
という語は（ａ）スチレンあるいは少くとも１つのＣ１
〜Ｃ４ 線状又は枝分れアルキル環置換基を有するア
ルキルスチレン、殊にｐ−アルキルスチレンのホモポリ
マー；（ｂ）（ａ）のモノマーの相互のすべての割合に
おけるコポリマー；及び（ｃ）少くとも１つの（ａ）の
モノマーとそのα−メチル誘導体例えばα−メチルスチ
レンとの、α−メチル誘導体がコポリマーの重量の約１
〜４０％を構成するコポリマーを示す。
【０００７】モノアルケニル芳香族炭化水素−共役ジエ
ンブロックコポリマーとのブレンドによるプロピレンポ
リマー物質の基幹上スチレンポリマーのグラフトコポリ
マーの変性は意外にも、オレフィンコポリマーゴム単独
による変性に比べて異常に高度にグラフトコポリマーの
衝撃強度及び延性を改良することが見いだされた。さら
に、モノアルケニル芳香族炭化水素−共役ジエンブロッ
クコポリマーを含むゴム変性剤で変性が一層有効に達成
され、すなわち衝撃強度及び変性の所与程度の改良をゴ
ム変性剤の一層低い添加レベルで達成でき、従ってグラ
フトコポリマーの剛性がより多く保持される。
ンブロックコポリマーとのブレンドによるプロピレンポ
リマー物質の基幹上スチレンポリマーのグラフトコポリ
マーの変性は意外にも、オレフィンコポリマーゴム単独
による変性に比べて異常に高度にグラフトコポリマーの
衝撃強度及び延性を改良することが見いだされた。さら
に、モノアルケニル芳香族炭化水素−共役ジエンブロッ
クコポリマーを含むゴム変性剤で変性が一層有効に達成
され、すなわち衝撃強度及び変性の所与程度の改良をゴ
ム変性剤の一層低い添加レベルで達成でき、従ってグラ
フトコポリマーの剛性がより多く保持される。
【０００８】この組成物の１態様において、ブロックコ
ポリマーはすべてのゴム成分を含む。あるいは、ゴム成
分の約１〜８０重量パーセントがオレフィンコポリマー
ゴム例えばＥＰＭ又はＥＰＤＭであり、残部すなわち約
９９〜２０パーセントがモノアルケニル芳香族炭化水素
−共役ジエンブロックコポリマーである。後者の態様に
おいて、組合わせゴム成分がＥＰＭ又はＥＰＤＭ単独に
よる変性に比べて有利であるだけでなく、また意外にも
多くの場合に、組成物中のゴム成分の所与全量に対する
モノアルケニル芳香族炭化水素−共役ジエンブロックコ
ポリマー及びＥＰＭ又はＥＰＤＭの使用は、ブロックコ
ポリマー単独で得られるよりも大きい改良をグラフトコ
ポリマーの衝撃強度及び延性に与える。
ポリマーはすべてのゴム成分を含む。あるいは、ゴム成
分の約１〜８０重量パーセントがオレフィンコポリマー
ゴム例えばＥＰＭ又はＥＰＤＭであり、残部すなわち約
９９〜２０パーセントがモノアルケニル芳香族炭化水素
−共役ジエンブロックコポリマーである。後者の態様に
おいて、組合わせゴム成分がＥＰＭ又はＥＰＤＭ単独に
よる変性に比べて有利であるだけでなく、また意外にも
多くの場合に、組成物中のゴム成分の所与全量に対する
モノアルケニル芳香族炭化水素−共役ジエンブロックコ
ポリマー及びＥＰＭ又はＥＰＤＭの使用は、ブロックコ
ポリマー単独で得られるよりも大きい改良をグラフトコ
ポリマーの衝撃強度及び延性に与える。
【０００９】本発明の組成物の主成分はプロピレンポリ
マー物質の幹上に約１０〜６５、好ましくは約１０〜５
５重量パーセントのスチレンポリマーがグラフトしたグ
ラフトコポリマーであり、そのグラフトコポリマーはプ
ロピレンポリマー連続又はマトリックス相及びスチレン
ポリマー分散相を特徴とするヘテロ相形態を示す。重量
基準で組成物の約６０〜９５、好ましくは約７０〜９０
パーセントがグラフトコポリマーからなる。組成物の約
５〜４０、好ましくは約１０〜３０重量パーセント含ま
れるゴム成分がグラフトコポリマーと混合又はブレンド
される。ゴム成分５重量パーセント末端を含む組成物は
本発明の最も広い範囲内にある。
マー物質の幹上に約１０〜６５、好ましくは約１０〜５
５重量パーセントのスチレンポリマーがグラフトしたグ
ラフトコポリマーであり、そのグラフトコポリマーはプ
ロピレンポリマー連続又はマトリックス相及びスチレン
ポリマー分散相を特徴とするヘテロ相形態を示す。重量
基準で組成物の約６０〜９５、好ましくは約７０〜９０
パーセントがグラフトコポリマーからなる。組成物の約
５〜４０、好ましくは約１０〜３０重量パーセント含ま
れるゴム成分がグラフトコポリマーと混合又はブレンド
される。ゴム成分５重量パーセント末端を含む組成物は
本発明の最も広い範囲内にある。
【００１０】ゴム成分は重量基準で少くとも約２０、好
ましくは少くとも約５０パーセントのモノアルケニル芳
香族炭化水素−共役ジエンブロックコポリマーからなる
。このブロックコポリマーはＡ−Ｂ（又は２ブロック）
構造、線状Ａ−Ｂ−Ａ（又は３ブロック）構造、ラジア
ル（Ａ−Ｂ）ｎ 型（たゞし、ｎ＝３〜２０である）又
はこれらの構造型の組合わせ（たゞし、各Ａブロックは
モノアルケニル芳香族炭化水素ポリマーブロック例えば
スチレンポリマーであり、Ｂは不飽和ゴムブロック例え
ばポリマーブタジエン又はイソプレンである）の熱可塑
性エラストマーである。この型の種々の銘柄のコポリマ
ーが市販されている。それらの銘柄は構造、中間及び末
端ブロックの分子量及びモノアルケニル芳香族炭化水素
とゴムとの比、が異なる。２種又はそれ以上のブロック
コポリマー（その１つ又はそれ以上が水素化されること
ができる）の混合物において、構造型は同一又は異なる
ことができる。
ましくは少くとも約５０パーセントのモノアルケニル芳
香族炭化水素−共役ジエンブロックコポリマーからなる
。このブロックコポリマーはＡ−Ｂ（又は２ブロック）
構造、線状Ａ−Ｂ−Ａ（又は３ブロック）構造、ラジア
ル（Ａ−Ｂ）ｎ 型（たゞし、ｎ＝３〜２０である）又
はこれらの構造型の組合わせ（たゞし、各Ａブロックは
モノアルケニル芳香族炭化水素ポリマーブロック例えば
スチレンポリマーであり、Ｂは不飽和ゴムブロック例え
ばポリマーブタジエン又はイソプレンである）の熱可塑
性エラストマーである。この型の種々の銘柄のコポリマ
ーが市販されている。それらの銘柄は構造、中間及び末
端ブロックの分子量及びモノアルケニル芳香族炭化水素
とゴムとの比、が異なる。２種又はそれ以上のブロック
コポリマー（その１つ又はそれ以上が水素化されること
ができる）の混合物において、構造型は同一又は異なる
ことができる。
【００１１】典型的なモノアルケニル芳香族炭化水素モ
ノマーはスチレン、環置換Ｃ１ 〜４ 線状又は枝分れ
アルキルスチレン、及びビニルトルエンである。スチレ
ンが好ましい。適当な共役ジエンはブタジエン及びイソ
プレンである。ブロックコポリマーの平均分子量は一般
に約４５，０００〜２６０，０００ ｇ／モルの範囲内
にあり、約５０，０００〜１２５，０００ ｇ／モルの
範囲内の平均分子量は、それらが衝撃強度と剛性の最良
のバランスを有するブレンド組成物を与える基準で好ま
しい。また、不飽和及び飽和ゴムブロックを有するブロ
ックコポリマーを使用できるけれども、飽和ゴムブロッ
クを有するコポリマーが、またそれらを含む組成物の衝
撃／剛性バランスに基いて好ましい。ブロックコポリマ
ー中のモノアルケニル芳香族炭化水素と共役ジエンゴム
との重量比は、典型的には約５／９５〜５０／５０、好
ましくは約１０／９０〜４０／６０の範囲内にある。
ノマーはスチレン、環置換Ｃ１ 〜４ 線状又は枝分れ
アルキルスチレン、及びビニルトルエンである。スチレ
ンが好ましい。適当な共役ジエンはブタジエン及びイソ
プレンである。ブロックコポリマーの平均分子量は一般
に約４５，０００〜２６０，０００ ｇ／モルの範囲内
にあり、約５０，０００〜１２５，０００ ｇ／モルの
範囲内の平均分子量は、それらが衝撃強度と剛性の最良
のバランスを有するブレンド組成物を与える基準で好ま
しい。また、不飽和及び飽和ゴムブロックを有するブロ
ックコポリマーを使用できるけれども、飽和ゴムブロッ
クを有するコポリマーが、またそれらを含む組成物の衝
撃／剛性バランスに基いて好ましい。ブロックコポリマ
ー中のモノアルケニル芳香族炭化水素と共役ジエンゴム
との重量比は、典型的には約５／９５〜５０／５０、好
ましくは約１０／９０〜４０／６０の範囲内にある。
【００１２】後記の実施例は、プロピレンポリマー物質
上にスチレンポリマーがグラフトしたグラフトコポリマ
ーの衝撃強度及び延性における顕著な改良が、それに１
００パーセントブロックコポリマーゴムをブレンドする
と達成されることを示す。この組成物中のゴム成分もま
た、少くとも約２０、好ましくは少くとも５０パーセン
トの成分が少くとも１種のモノアルケニル芳香族炭化水
素−共役ジエンブロックコポリマーであれば２つ又はそ
れ以上の型のポリマーゴムを含むことができる。殊に好
ましいゴム成分はモノアルケニル芳香族炭化水素−共役
ジエンブロックコポリマー２０〜７０、より好ましくは
約５０〜７０パーセント及びＥＰＭ又はＥＰＤＭオレフ
ィンコポリマーゴム約８０〜３０、より好ましくは約５
０〜３０パーセントからなるものである。ブロックコポ
リマー及び、オレフィンコポリマーゴムに代わるブチル
ゴム又はブタジエン−スチレンのランダムコポリマー（
ＳＢＲ）からなるゴム成分をこの組成物中に使用できる
。
上にスチレンポリマーがグラフトしたグラフトコポリマ
ーの衝撃強度及び延性における顕著な改良が、それに１
００パーセントブロックコポリマーゴムをブレンドする
と達成されることを示す。この組成物中のゴム成分もま
た、少くとも約２０、好ましくは少くとも５０パーセン
トの成分が少くとも１種のモノアルケニル芳香族炭化水
素−共役ジエンブロックコポリマーであれば２つ又はそ
れ以上の型のポリマーゴムを含むことができる。殊に好
ましいゴム成分はモノアルケニル芳香族炭化水素−共役
ジエンブロックコポリマー２０〜７０、より好ましくは
約５０〜７０パーセント及びＥＰＭ又はＥＰＤＭオレフ
ィンコポリマーゴム約８０〜３０、より好ましくは約５
０〜３０パーセントからなるものである。ブロックコポ
リマー及び、オレフィンコポリマーゴムに代わるブチル
ゴム又はブタジエン−スチレンのランダムコポリマー（
ＳＢＲ）からなるゴム成分をこの組成物中に使用できる
。
【００１３】本発明の好ましい組成物中に使用されるエ
チレン／プロピレンモノマーゴムは典型的には約２５／
７５〜７５／２５、好ましくは約４０／６０〜６０／４
０の範囲内のエチレン／プロピレン重量パーセント比及
び約２．０〜６．０、好ましくは約２．５〜４．０ｄｌ
／ｇの範囲内の固有粘度を有するエラストマーである。 グラフトコポリマーの幹又は基幹を形成するプロピレン
ポリマー物質は（ａ）プロピレンのホモポリマー；（ｂ
）プロピレンとエチレン及びＣ４ 〜Ｃ１０ １−オ
レフィンからなる群から選ばれるオレフィンとの、オレ
フィンがエチレンであるときに最大重合エチレン含量が
約１０（好ましくは約４）重量パーセントであり、オレ
フィンがＣ４ 〜Ｃ１０ １−オレフィンであるとき
にその最大重合含量が約２０（好ましくは約１６）重量
パーセントであるランダムコポリマー；（ｃ）プロピレ
ンとエチレン及びＣ４ 〜Ｃ８ １−オレフィンからな
る群から選ばれるオレフィンとの、最大重合Ｃ４ 〜Ｃ
８ １−オレフィン含量が約２０（好ましくは約１６）
重量パーセントであり、エチレンがオレフィンの１つで
あるときに最大重合エチレン含量が約５（好ましくは約
４）重量パーセントであるランダムターポリマー；又は
（ｄ）反応器中で、又は物理的ブレンドによりエチレン
−プロピレンモノマーゴムで耐衝撃性改良された、変性
ポリマーのエチレン−プロピレンモノマーゴム含量が約
５〜３０パーセントの範囲内にあり、ゴムのエチレン含
量が約７〜７０、好ましくは約１０〜４０パーセントで
あるプロピレンのホモポリマー又はランダムコポリマー
（ｂ）である。Ｃ４ 〜Ｃ１０ １−オレフィンには
線状及び枝分れＣ４ 〜Ｃ１０ １−オレフィン例え
ば１−ブテン、１−ペンテン、３−メチル−１−ブテン
、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、３，４−
ジメチル−１−ブテン、１−ヘプテン、３−メチル−１
−ヘキセンなどが含まれる。プロピレンホモポリマー及
び耐衝撃性改良されたプロピレンホモポリマーは好まし
いプロピレンポリマー物質である。好ましくはないけれ
ども、約２〜８％のジエン含量を有するエチレン−プロ
ピレン−ジエンモノマーゴムで耐衝撃性改良されたプロ
ピレンホモポリマー及びランダムコポリマーもまた本発
明の最も広い観点内でプロピレンポリマー物質として使
用できる。適当なジエンはジシクロペンタジエン、１，
６−ヘキサジエン及びエチリデンノルボルネンである。
チレン／プロピレンモノマーゴムは典型的には約２５／
７５〜７５／２５、好ましくは約４０／６０〜６０／４
０の範囲内のエチレン／プロピレン重量パーセント比及
び約２．０〜６．０、好ましくは約２．５〜４．０ｄｌ
／ｇの範囲内の固有粘度を有するエラストマーである。 グラフトコポリマーの幹又は基幹を形成するプロピレン
ポリマー物質は（ａ）プロピレンのホモポリマー；（ｂ
）プロピレンとエチレン及びＣ４ 〜Ｃ１０ １−オ
レフィンからなる群から選ばれるオレフィンとの、オレ
フィンがエチレンであるときに最大重合エチレン含量が
約１０（好ましくは約４）重量パーセントであり、オレ
フィンがＣ４ 〜Ｃ１０ １−オレフィンであるとき
にその最大重合含量が約２０（好ましくは約１６）重量
パーセントであるランダムコポリマー；（ｃ）プロピレ
ンとエチレン及びＣ４ 〜Ｃ８ １−オレフィンからな
る群から選ばれるオレフィンとの、最大重合Ｃ４ 〜Ｃ
８ １−オレフィン含量が約２０（好ましくは約１６）
重量パーセントであり、エチレンがオレフィンの１つで
あるときに最大重合エチレン含量が約５（好ましくは約
４）重量パーセントであるランダムターポリマー；又は
（ｄ）反応器中で、又は物理的ブレンドによりエチレン
−プロピレンモノマーゴムで耐衝撃性改良された、変性
ポリマーのエチレン−プロピレンモノマーゴム含量が約
５〜３０パーセントの範囲内にあり、ゴムのエチレン含
量が約７〜７０、好ましくは約１０〜４０パーセントで
あるプロピレンのホモポリマー又はランダムコポリマー
（ｂ）である。Ｃ４ 〜Ｃ１０ １−オレフィンには
線状及び枝分れＣ４ 〜Ｃ１０ １−オレフィン例え
ば１−ブテン、１−ペンテン、３−メチル−１−ブテン
、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、３，４−
ジメチル−１−ブテン、１−ヘプテン、３−メチル−１
−ヘキセンなどが含まれる。プロピレンホモポリマー及
び耐衝撃性改良されたプロピレンホモポリマーは好まし
いプロピレンポリマー物質である。好ましくはないけれ
ども、約２〜８％のジエン含量を有するエチレン−プロ
ピレン−ジエンモノマーゴムで耐衝撃性改良されたプロ
ピレンホモポリマー及びランダムコポリマーもまた本発
明の最も広い観点内でプロピレンポリマー物質として使
用できる。適当なジエンはジシクロペンタジエン、１，
６−ヘキサジエン及びエチリデンノルボルネンである。
【００１４】前に記載したように、本発明の組成物のグ
ラフトコポリマー成分中のプロピレンポリマー物質の幹
上に存在するグラフトしたポリマーはスチレンポリマー
である。グラフトコポリマーのスチレンポリマー部分は
グラフトコポリマーの重量の約１０〜６５、好ましくは
約１０〜５５、最も好ましくは約２５〜５０パーセント
を構成する。その結果、グラフトコポリマーの形態はプ
ロピレンポリマー物質が連続又はマトリックス相であり
、スチレンポリマーが分散相であるようなものである。
ラフトコポリマー成分中のプロピレンポリマー物質の幹
上に存在するグラフトしたポリマーはスチレンポリマー
である。グラフトコポリマーのスチレンポリマー部分は
グラフトコポリマーの重量の約１０〜６５、好ましくは
約１０〜５５、最も好ましくは約２５〜５０パーセント
を構成する。その結果、グラフトコポリマーの形態はプ
ロピレンポリマー物質が連続又はマトリックス相であり
、スチレンポリマーが分散相であるようなものである。
【００１５】この組成物の主成分を形成するグラフトコ
ポリマーは種々の方法の１つにより製造することができ
る。これらの方法の１つはプロピレンポリマー物質上に
、グラフト化モノマーの存在下に又は後にモノマーによ
り処理する活性グラフト化部位を形成することを含む。 グラフト化部位は過酸化物又は遊離基重合開始剤である
他の化合物による処理により、あるいは高エネルギーイ
オン化放射線による照射により生成させることができる
。化学的又は放射線処理の結果ポリマー中に生じた遊離
基はポリマー上に活性グラフト化部位を形成し、この部
位でモノマーの重合を開始する。過酸化物開始グラフト
化法により生じたグラフトコポリマーが好ましい。
ポリマーは種々の方法の１つにより製造することができ
る。これらの方法の１つはプロピレンポリマー物質上に
、グラフト化モノマーの存在下に又は後にモノマーによ
り処理する活性グラフト化部位を形成することを含む。 グラフト化部位は過酸化物又は遊離基重合開始剤である
他の化合物による処理により、あるいは高エネルギーイ
オン化放射線による照射により生成させることができる
。化学的又は放射線処理の結果ポリマー中に生じた遊離
基はポリマー上に活性グラフト化部位を形成し、この部
位でモノマーの重合を開始する。過酸化物開始グラフト
化法により生じたグラフトコポリマーが好ましい。
【００１６】過酸化物開始法において、プロピレンポリ
マー物質は約６０〜１２５℃、好ましくは約８０〜１２
０℃の温度で、使用温度で約１〜２４０分、好ましくは
約５〜１００分、より好ましくは約１０〜４０分の分解
半減期を有する開始剤約０．１〜６、好ましくは約０．
２〜３．０ｐｐｈ （プロピレンポリマー物質１００重
量部当り重量部）で処理される。有機過酸化物、殊にア
ルコキシ基を生ずるもの、が開始剤の好ましい種類を構
成する。これらには過酸化アシル例えば過酸化ベンゾイ
ル及びジベンゾイル；過酸化ジアルキル及びアラルキル
例えば過酸化ジ−ｔ−ブチル、過酸化ジクミル、過酸化
クミルブチル、１，１−ジ−ｔ−ブチルペルオキシ−３
，５，５−トリメチルシクロヘキサン、２，５−ジメチ
ル−２，５−ジ−ｔ−ブチルペルオキシヘキサン及びビ
ス（α−ｔ−ブチル−ペルオキシイソプロピルベンゼン
）；ペルオキシエステル例えばｔ−ブチルペルオキシピ
バラート、過安息香酸ｔ−ブチル、２，５−ジメチルヘ
キシル２，５−ジ（ペルベンゾアート）ｔ−ブチルジ（
ペルフタラート）、ｔ−ブチルペルオキシ−２−エチル
ヘキサノアート、及び１，１−ジメチル−３−ヒドロキ
シブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノアート；並び
にペルオキシカーボネート例えばジ（２−エチルヘキシ
ル）ペルオキシジカーボネート、ジ（ｎ−プロピル）ペ
ルオキシジカーボネート及びジ（４−ｔ−ブチル−シク
ロヘキシル）ペルオキシジカーボネートが含まれる。
マー物質は約６０〜１２５℃、好ましくは約８０〜１２
０℃の温度で、使用温度で約１〜２４０分、好ましくは
約５〜１００分、より好ましくは約１０〜４０分の分解
半減期を有する開始剤約０．１〜６、好ましくは約０．
２〜３．０ｐｐｈ （プロピレンポリマー物質１００重
量部当り重量部）で処理される。有機過酸化物、殊にア
ルコキシ基を生ずるもの、が開始剤の好ましい種類を構
成する。これらには過酸化アシル例えば過酸化ベンゾイ
ル及びジベンゾイル；過酸化ジアルキル及びアラルキル
例えば過酸化ジ−ｔ−ブチル、過酸化ジクミル、過酸化
クミルブチル、１，１−ジ−ｔ−ブチルペルオキシ−３
，５，５−トリメチルシクロヘキサン、２，５−ジメチ
ル−２，５−ジ−ｔ−ブチルペルオキシヘキサン及びビ
ス（α−ｔ−ブチル−ペルオキシイソプロピルベンゼン
）；ペルオキシエステル例えばｔ−ブチルペルオキシピ
バラート、過安息香酸ｔ−ブチル、２，５−ジメチルヘ
キシル２，５−ジ（ペルベンゾアート）ｔ−ブチルジ（
ペルフタラート）、ｔ−ブチルペルオキシ−２−エチル
ヘキサノアート、及び１，１−ジメチル−３−ヒドロキ
シブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノアート；並び
にペルオキシカーボネート例えばジ（２−エチルヘキシ
ル）ペルオキシジカーボネート、ジ（ｎ−プロピル）ペ
ルオキシジカーボネート及びジ（４−ｔ−ブチル−シク
ロヘキシル）ペルオキシジカーボネートが含まれる。
【００１７】開始剤処理の期間に一致し又はそれに続く
時間にわたり、重なり又は重ならないで、プロピレンポ
リマー物質は使用されるプロピレンポリマー物質及びグ
ラフト化モノマー（類）の全重量を基にして約１０〜７
０重量パーセントのグラフト化モノマー（類）で、モノ
マー添加レベルで約４．５を越えない、好ましくは約４
．０を越えない、より好ましくは３．０ｐｐｈ 毎分を
越えない添加速度で処理される。モノマーが開始剤添加
期間後に添加されるならば、好ましくは約２．５開始剤
半減期より以上に開始剤とモノマー添加の期間を離さな
い。
時間にわたり、重なり又は重ならないで、プロピレンポ
リマー物質は使用されるプロピレンポリマー物質及びグ
ラフト化モノマー（類）の全重量を基にして約１０〜７
０重量パーセントのグラフト化モノマー（類）で、モノ
マー添加レベルで約４．５を越えない、好ましくは約４
．０を越えない、より好ましくは３．０ｐｐｈ 毎分を
越えない添加速度で処理される。モノマーが開始剤添加
期間後に添加されるならば、好ましくは約２．５開始剤
半減期より以上に開始剤とモノマー添加の期間を離さな
い。
【００１８】グラフト期間後、生じたグラフトしたプロ
ピレンポリマー物質から未反応モノマーを除去し、好ま
しくは加熱により、一般に少くとも約１１０℃の温度で
少くとも約５分間、好ましくは少くとも約１２０℃で少
くとも約２０分間、未反応開始剤を分解させ、残留遊離
基を失活させる。実質的に非酸化性環境が操作中維持さ
れる。
ピレンポリマー物質から未反応モノマーを除去し、好ま
しくは加熱により、一般に少くとも約１１０℃の温度で
少くとも約５分間、好ましくは少くとも約１２０℃で少
くとも約２０分間、未反応開始剤を分解させ、残留遊離
基を失活させる。実質的に非酸化性環境が操作中維持さ
れる。
【００１９】活性グラフト化部位が照射により生成され
る方法において、プロピレンポリマー物質は約１０〜８
５℃の範囲内の温度で高エネルギーイオン化放射線で照
射され、照射されたポリマー物質は１０〜１００℃、好
ましくは約１０〜７０℃、より好ましくは約１０〜５０
℃の温度で少くとも約３分間、好ましくはセミバッチ操
作で少くとも約１０分間、また好ましくは連続操作で約
３０〜６０分間、使用されるプロピレンポリマー物質及
びグラフト化モノマー（類）の全重量を基にして約１０
〜７０重量パーセントのグラフト化モノマー（類）で処
理される。その後、同時に又は引続き任意の順序で、生
じたグラフトされたプロピレンポリマー物質中の実質的
にすべての残留遊離基が失活され未反応モノマーが該物
質から除去される。プロピレンポリマー物質は実質的に
非酸化性環境中に、例えば不活性ガス下に、操作中少く
とも残留遊離基の失活が終った後まで維持される。遊離
基の失活は加熱により、例えば少くとも約１１０℃、好
ましくは約１２０℃の温度で、一般に少くとも約２０分
間行なわれる。
る方法において、プロピレンポリマー物質は約１０〜８
５℃の範囲内の温度で高エネルギーイオン化放射線で照
射され、照射されたポリマー物質は１０〜１００℃、好
ましくは約１０〜７０℃、より好ましくは約１０〜５０
℃の温度で少くとも約３分間、好ましくはセミバッチ操
作で少くとも約１０分間、また好ましくは連続操作で約
３０〜６０分間、使用されるプロピレンポリマー物質及
びグラフト化モノマー（類）の全重量を基にして約１０
〜７０重量パーセントのグラフト化モノマー（類）で処
理される。その後、同時に又は引続き任意の順序で、生
じたグラフトされたプロピレンポリマー物質中の実質的
にすべての残留遊離基が失活され未反応モノマーが該物
質から除去される。プロピレンポリマー物質は実質的に
非酸化性環境中に、例えば不活性ガス下に、操作中少く
とも残留遊離基の失活が終った後まで維持される。遊離
基の失活は加熱により、例えば少くとも約１１０℃、好
ましくは約１２０℃の温度で、一般に少くとも約２０分
間行なわれる。
【００２０】この組成物中に用いる好ましいグラフトコ
ポリマーは（ａ）少くとも約０．０７、より好ましくは
少くとも約０．１２、最も好ましくは少くとも約０．２
０の、細孔の４０％以上、より好ましくは５０％以上、
最も好ましくは９０％以上が１ミクロンより大きい直径
を有する細孔容積分率；（ｂ）少くとも０．１ｍ２／ｇ
の表面積；及び（ｃ）約０．４〜７ｍｍの範囲内の重量
平均直径 （ｗｅｉｇｈｔ ａｖｅｒａｇｅ ｄｉａｍ
ｅｔｅｒ）を有するプロピレンポリマー粒子から得られ
た均一にグラフトされた粒子の形態にある。
ポリマーは（ａ）少くとも約０．０７、より好ましくは
少くとも約０．１２、最も好ましくは少くとも約０．２
０の、細孔の４０％以上、より好ましくは５０％以上、
最も好ましくは９０％以上が１ミクロンより大きい直径
を有する細孔容積分率；（ｂ）少くとも０．１ｍ２／ｇ
の表面積；及び（ｃ）約０．４〜７ｍｍの範囲内の重量
平均直径 （ｗｅｉｇｈｔ ａｖｅｒａｇｅ ｄｉａｍ
ｅｔｅｒ）を有するプロピレンポリマー粒子から得られ
た均一にグラフトされた粒子の形態にある。
【００２１】ゴム成分がモノアルケニル芳香族炭化水素
−共役ジエンブロックコポリマー及びエチレン／プロピ
レンモノマーゴムを含む本発明の好ましい組成物は２つ
のゴム成分とグラフトコポリマーとの物理的ブレンドで
あることができる。組成物がモノアルケニル芳香族炭化
水素−共役ジエンブロックコポリマーと、組成物中へ混
合することを望むＥＰＭのすべて又は一部を与えるに足
る量のエチレン／プロピレンモノマーゴムで耐衝撃性改
良されたプロピレンホモポリマー又はランダムコポリマ
ー上にスチレンポリマーがグラフトされたグラフトコポ
リマーとのブレンドであるとき、組成物中にＥＰＭのす
べて又は若干はグラフトコポリマー自体の成分である。
−共役ジエンブロックコポリマー及びエチレン／プロピ
レンモノマーゴムを含む本発明の好ましい組成物は２つ
のゴム成分とグラフトコポリマーとの物理的ブレンドで
あることができる。組成物がモノアルケニル芳香族炭化
水素−共役ジエンブロックコポリマーと、組成物中へ混
合することを望むＥＰＭのすべて又は一部を与えるに足
る量のエチレン／プロピレンモノマーゴムで耐衝撃性改
良されたプロピレンホモポリマー又はランダムコポリマ
ー上にスチレンポリマーがグラフトされたグラフトコポ
リマーとのブレンドであるとき、組成物中にＥＰＭのす
べて又は若干はグラフトコポリマー自体の成分である。
【００２２】充填剤並びに補強剤、例えばカーボンブラ
ック及びガラス繊維、並びに無機粉末例えば炭酸カルシ
ウム、タルク、雲母及びガラスを本発明の組成物中に、
全グラフトコポリマー及びゴム成分１００重量部当り約
８０重量部までの濃度レベルで含ませることができる。 そのような充填剤が与える経済的利益に加えて、一層大
きい剛性及び高い熱変形温度を達成することができる。
ック及びガラス繊維、並びに無機粉末例えば炭酸カルシ
ウム、タルク、雲母及びガラスを本発明の組成物中に、
全グラフトコポリマー及びゴム成分１００重量部当り約
８０重量部までの濃度レベルで含ませることができる。 そのような充填剤が与える経済的利益に加えて、一層大
きい剛性及び高い熱変形温度を達成することができる。
【００２３】組成物の成分は普通の混合装置例えば押出
機又はバンバリーミキサー中でブレンド又は混合するこ
とができる。以下の実施例は例示のために提供され、本
発明のグラフトコポリマーを基にした組成物の種々の態
様を記載する。実施例及び対照例のすべてにおいて、グ
ラフトコポリマー及びモノアルケニル芳香族炭化水素−
共役ジエンブロックコポリマー、並びに使用される他の
変性剤はブラベンダー二軸スクリュー押出機中の単パス
又はダブルパスで混合され、押出され（実施例１５及び
対照７）；バンバリーミキサー中で配合されてブラベン
ダー一軸スクリュー中の単パスで押出され（実施例２及
び１３）；又はバンバリーミキサー中で配合されてブラ
ベンダー二軸スクリュー中の単パスで押出された（実施
例１、２、４〜１２及び１４、並びに対照１〜６）。Ｐ
−ＥＰＱとして知られる安定剤組成物（０．２重量％）
〔その主成分はテトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイトであ
る〕をすべてのバッチに、酸化を最小にするため配合前
に加えた。押出機温度は、２５０〜２６５℃であった溶
融ゾーンを除いて２００〜２４５℃の範囲内にあった。 押出されたブレンドは試験片（引張試験片、曲げ試験片
、及び０．３２×７．６×７．６ｃｍプラック）に成形
した。
機又はバンバリーミキサー中でブレンド又は混合するこ
とができる。以下の実施例は例示のために提供され、本
発明のグラフトコポリマーを基にした組成物の種々の態
様を記載する。実施例及び対照例のすべてにおいて、グ
ラフトコポリマー及びモノアルケニル芳香族炭化水素−
共役ジエンブロックコポリマー、並びに使用される他の
変性剤はブラベンダー二軸スクリュー押出機中の単パス
又はダブルパスで混合され、押出され（実施例１５及び
対照７）；バンバリーミキサー中で配合されてブラベン
ダー一軸スクリュー中の単パスで押出され（実施例２及
び１３）；又はバンバリーミキサー中で配合されてブラ
ベンダー二軸スクリュー中の単パスで押出された（実施
例１、２、４〜１２及び１４、並びに対照１〜６）。Ｐ
−ＥＰＱとして知られる安定剤組成物（０．２重量％）
〔その主成分はテトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイトであ
る〕をすべてのバッチに、酸化を最小にするため配合前
に加えた。押出機温度は、２５０〜２６５℃であった溶
融ゾーンを除いて２００〜２４５℃の範囲内にあった。 押出されたブレンドは試験片（引張試験片、曲げ試験片
、及び０．３２×７．６×７．６ｃｍプラック）に成形
した。
【００２４】成形した試験片の評価に用いた試験法はＡ
ＳＴＭ Ｄ−２５６（ノッチ付アイゾット衝撃）、Ａ
ＳＴＭ Ｄ−６３８（引張強さ）、ＡＳＴＭ Ｄ−
６３８（破断点伸び）、ＡＳＴＭ Ｄ−７９０（曲げ
弾性率）、及びＡＳＴＭ Ｄ−６４８（ＨＤＴ、１８
２０ｋＰａ ）であった。 実施例１〜６ 本発明の６組成物を前記のように製造して試験した。こ
れらの組成物においてブロックコポリマーはスチレンブ
ロックコポリマー（ＳＢＣ）であった。モノアルケニル
芳香族炭化水素−共役ジエンブロックコポリマーを含ま
ない６対照組成物もまた同様に製造して試験した。組成
物は、ｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルキキサノアー
ト（ペルオキシエステル）の酸素を含まないミネラルス
ピリット溶液を加熱したポリプロピレン（１００℃）上
に噴霧し、短時間保持した後スチレンを噴霧した前記過
酸化物開始グラフト重合法により製造したプロピレンホ
モポリマー幹上にスチレンホモポリマーがグラフトした
グラフトコポリマーを含有した。次のグラフト化条件を
用いてグラフトコポリマーを製造した：（ａ）実施例１
及び６並びに対照１及び２：１ｐｐｈ ペルオキシエス
テル、保持１５分、５４ｐｐｈ スチレンを１．６４ｐ
ｐｈ ／分で添加、１００℃で３時間保持、次いで１３
５℃で４時間窒素パージで失活及び乾燥；（ｂ）実施例
２、４及び５並びに対照３〜６：２．３５ｐｐｈ ペル
オキシエステル、保持１０分、及び８４．４ｐｐｈ ス
チレンを２．４ｐｐｈ ／分で添加、他は（ａ）と同じ
；（ｃ）実施例３：０．７９ｐｐｈ ペルオキシエステ
ル及びスチレン添加後、窒素パージ前１０４℃で２時間
保持、他は（ｂ）と同じ。ｐｐｈ ペルオキシエステル
値はすべて活性基準である。
ＳＴＭ Ｄ−２５６（ノッチ付アイゾット衝撃）、Ａ
ＳＴＭ Ｄ−６３８（引張強さ）、ＡＳＴＭ Ｄ−
６３８（破断点伸び）、ＡＳＴＭ Ｄ−７９０（曲げ
弾性率）、及びＡＳＴＭ Ｄ−６４８（ＨＤＴ、１８
２０ｋＰａ ）であった。 実施例１〜６ 本発明の６組成物を前記のように製造して試験した。こ
れらの組成物においてブロックコポリマーはスチレンブ
ロックコポリマー（ＳＢＣ）であった。モノアルケニル
芳香族炭化水素−共役ジエンブロックコポリマーを含ま
ない６対照組成物もまた同様に製造して試験した。組成
物は、ｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルキキサノアー
ト（ペルオキシエステル）の酸素を含まないミネラルス
ピリット溶液を加熱したポリプロピレン（１００℃）上
に噴霧し、短時間保持した後スチレンを噴霧した前記過
酸化物開始グラフト重合法により製造したプロピレンホ
モポリマー幹上にスチレンホモポリマーがグラフトした
グラフトコポリマーを含有した。次のグラフト化条件を
用いてグラフトコポリマーを製造した：（ａ）実施例１
及び６並びに対照１及び２：１ｐｐｈ ペルオキシエス
テル、保持１５分、５４ｐｐｈ スチレンを１．６４ｐ
ｐｈ ／分で添加、１００℃で３時間保持、次いで１３
５℃で４時間窒素パージで失活及び乾燥；（ｂ）実施例
２、４及び５並びに対照３〜６：２．３５ｐｐｈ ペル
オキシエステル、保持１０分、及び８４．４ｐｐｈ ス
チレンを２．４ｐｐｈ ／分で添加、他は（ａ）と同じ
；（ｃ）実施例３：０．７９ｐｐｈ ペルオキシエステ
ル及びスチレン添加後、窒素パージ前１０４℃で２時間
保持、他は（ｂ）と同じ。ｐｐｈ ペルオキシエステル
値はすべて活性基準である。
【００２５】グラフトポリマーの製造に用いたプロピレ
ンポリマーは、次の特性：呼称メルトフローレート（Ａ
ＳＴＭ法Ｄ１２３８−８２、条件Ｌ）８ｄｇ／分；固有
粘度〔エリオット（Ｊ．Ｈ．Ｅｌｌｉｏｔｔ）ほか、ジ
ャーナル・オブ・アプライド・ポリマー・サイエンス（
Ｊ．Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｒ．）、
１４、２９４７〜２９６３（１９８０）の方法−１３５
℃でデカヒドロナフタレン中に溶解したポリマー〕２．
４ｄｌ／ｇ；表面積（Ｂ． Ｅ． Ｔ．） ０．３４ｍ
２／ｇ；重量平均直径２．０ｍｍ；及び細孔容積分率（
水銀ポロシメトリー法）０．３３を有する一般に球状粒
子の形態における微粉多孔性プロピレンホモポリマー〔
ＬＢＤ−４０６Ａ、ハイモント・イタリア（ＨＩＭＯＮ
Ｔ Ｉｔａｌｉａ Ｓ． ｒ． ｌ． ） から市販
〕であった。多孔性粒子中の細孔の９０％以上が直径１
ミクロン以上であった。
ンポリマーは、次の特性：呼称メルトフローレート（Ａ
ＳＴＭ法Ｄ１２３８−８２、条件Ｌ）８ｄｇ／分；固有
粘度〔エリオット（Ｊ．Ｈ．Ｅｌｌｉｏｔｔ）ほか、ジ
ャーナル・オブ・アプライド・ポリマー・サイエンス（
Ｊ．Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｒ．）、
１４、２９４７〜２９６３（１９８０）の方法−１３５
℃でデカヒドロナフタレン中に溶解したポリマー〕２．
４ｄｌ／ｇ；表面積（Ｂ． Ｅ． Ｔ．） ０．３４ｍ
２／ｇ；重量平均直径２．０ｍｍ；及び細孔容積分率（
水銀ポロシメトリー法）０．３３を有する一般に球状粒
子の形態における微粉多孔性プロピレンホモポリマー〔
ＬＢＤ−４０６Ａ、ハイモント・イタリア（ＨＩＭＯＮ
Ｔ Ｉｔａｌｉａ Ｓ． ｒ． ｌ． ） から市販
〕であった。多孔性粒子中の細孔の９０％以上が直径１
ミクロン以上であった。
【００２６】実施例１〜６の組成物及び６対照組成物で
行なった評価の結果は表１中に示される。
行なった評価の結果は表１中に示される。
【００２７】
【表１】
【００２８】
【表２】
【００２９】実施例７〜１４
組成物は実施例１中に記載した操作及び成分を用いて製
造したが、しかしこれらの実施例においてゴム成分は２
成分で組立てた。次のグラフト化条件を用いてグラフト
コポリマーを製造した：（ａ）実施例７、１１及び１２
、並びに対照７：１ｐｐｈ ペルオキシエステル、保持
１０〜１５分、５４ｐｐｈ スチレンを１．６〜１．８
ｐｐｈ ／分で添加、１００℃で３時間保持、次いで１
３５℃（たゞし実施例１２及び対照７において１００℃
）で４時間窒素パージで失活及び乾燥；（ｂ）実施例８
〜１０及び１３：２．３５ｐｐｈ ペルオキシエステル
、保持１０分、８４．４ｐｐｈ スチレンを２．４ｐｐ
ｈ ／分で添加、他は（ａ）と同じ；（ｃ）実施例１４
：０．７９ｐｐｈ ペルオキシエステル、スチレン添加
後窒素パージ前１０４℃で２時間保持、他は（ｂ）と同
じ。
造したが、しかしこれらの実施例においてゴム成分は２
成分で組立てた。次のグラフト化条件を用いてグラフト
コポリマーを製造した：（ａ）実施例７、１１及び１２
、並びに対照７：１ｐｐｈ ペルオキシエステル、保持
１０〜１５分、５４ｐｐｈ スチレンを１．６〜１．８
ｐｐｈ ／分で添加、１００℃で３時間保持、次いで１
３５℃（たゞし実施例１２及び対照７において１００℃
）で４時間窒素パージで失活及び乾燥；（ｂ）実施例８
〜１０及び１３：２．３５ｐｐｈ ペルオキシエステル
、保持１０分、８４．４ｐｐｈ スチレンを２．４ｐｐ
ｈ ／分で添加、他は（ａ）と同じ；（ｃ）実施例１４
：０．７９ｐｐｈ ペルオキシエステル、スチレン添加
後窒素パージ前１０４℃で２時間保持、他は（ｂ）と同
じ。
【００３０】これらの組成物及びモノアルケニル芳香族
炭化水素−共役ジエンブロックコポリマーを含まない対
照組成物に行なった評価の結果は表２中に総括される。
炭化水素−共役ジエンブロックコポリマーを含まない対
照組成物に行なった評価の結果は表２中に総括される。
【００３１】
【表３】
【００３２】
【表４】
【００３３】実施例１５
実施例１中に記載した操作及び成分を繰返したが、しか
し用いたプロピレンポリマーは約３．６％のエチレン含
量を有するエチレン／プロピレンランダムコポリマーで
あり、スチレンは前に記載した高エネルギーイオン化放
射線によりランダムコポリマー上に生じた遊離基部位で
グラフト重合させた。放射線量は４Ｍｒｄであり、放射
線室は室温（約２３℃）であった。照射が終った２分後
に照射したコポリマー上に１４７ｐｐｈ スチレンを室
温（２３℃）で、２３ｐｐｈ ／分の速度で６．５分間
噴霧し、スチレン及び照射したコポリマーをこの温度で
３０分までの間かくはんした。その後反応器温度を１４
０℃に上げ、かくはんをさらに３０分間続けて残留遊離
基を失活させた。過剰のモノマーは窒素パージにより除
去した。窒素雰囲気は放射線室中及びグラフト化反応器
中に維持した（０．００４容量％以下の酸素レベル）。 生じたグラフトコポリマー中のグラフトレベル（ポリス
チレン）は４４ｐｐｈ であった。
し用いたプロピレンポリマーは約３．６％のエチレン含
量を有するエチレン／プロピレンランダムコポリマーで
あり、スチレンは前に記載した高エネルギーイオン化放
射線によりランダムコポリマー上に生じた遊離基部位で
グラフト重合させた。放射線量は４Ｍｒｄであり、放射
線室は室温（約２３℃）であった。照射が終った２分後
に照射したコポリマー上に１４７ｐｐｈ スチレンを室
温（２３℃）で、２３ｐｐｈ ／分の速度で６．５分間
噴霧し、スチレン及び照射したコポリマーをこの温度で
３０分までの間かくはんした。その後反応器温度を１４
０℃に上げ、かくはんをさらに３０分間続けて残留遊離
基を失活させた。過剰のモノマーは窒素パージにより除
去した。窒素雰囲気は放射線室中及びグラフト化反応器
中に維持した（０．００４容量％以下の酸素レベル）。 生じたグラフトコポリマー中のグラフトレベル（ポリス
チレン）は４４ｐｐｈ であった。
【００３４】ブレンド組成物は次の性質を有した。
ノッチ付アイゾット衝撃、２３℃ ： ２
．８ｆｔ−ｌｂｆ ／ｉｎ
： （
１５０Ｊ／ｍ） 曲げ弾性率（１％割線）
： １１０，７００ｐｓｉ
： （７６３ＭＰａ） 引張強さ
：
２４４５ｐｓｉ
： （１６
．８ＭＰａ） 伸 び（破断点）
： ７３％実施例１６〜１７ 実施例１（実施例１６）及び７（実施例１７）に記載し
た操作及び成分を繰返したが、しかしグラフトコポリマ
ーの製造においてスチレンとα−メチルスチレンの混合
物をポリプロピレン上に噴霧した。グラフトコポリマー
の製造に用いた条件は次のとおりであった：１．５７ｐ
ｐｈ ペルオキシエステル、保持１０分、７６ｐｐｈ
スチレン及び８．４ｐｐｈ α−メチルスチレンを２．
４ｐｐｈ ／分で添加、１０２℃で３時間保持、次いで
１３３℃で４時間窒素パージ。
．８ｆｔ−ｌｂｆ ／ｉｎ
： （
１５０Ｊ／ｍ） 曲げ弾性率（１％割線）
： １１０，７００ｐｓｉ
： （７６３ＭＰａ） 引張強さ
：
２４４５ｐｓｉ
： （１６
．８ＭＰａ） 伸 び（破断点）
： ７３％実施例１６〜１７ 実施例１（実施例１６）及び７（実施例１７）に記載し
た操作及び成分を繰返したが、しかしグラフトコポリマ
ーの製造においてスチレンとα−メチルスチレンの混合
物をポリプロピレン上に噴霧した。グラフトコポリマー
の製造に用いた条件は次のとおりであった：１．５７ｐ
ｐｈ ペルオキシエステル、保持１０分、７６ｐｐｈ
スチレン及び８．４ｐｐｈ α−メチルスチレンを２．
４ｐｐｈ ／分で添加、１０２℃で３時間保持、次いで
１３３℃で４時間窒素パージ。
【００３５】グラフトコポリマー中のグラフトレベル（
全スチレン／α−メチルスチレンコポリマー）は約４５
％であった。グラフトコポリマー中のスチレン／α−メ
チルスチレン比は約９／１であった。結果は表３中に示
される。
表 ３
実施例１６
実施例１７ 対照８ 対照９グラフトコポ
リマー（重量％） ８５
８５ １００ ８５ＳＢ
Ｃ（重量％） １
５ ７．５ −−
−−ＥＰＭ（重量％）
−− ７．５
−− １５ノッチ付アイゾ
ット衝撃、２３℃ ｆ−ｌｂｆ ／ｉｎ
１．９ １．８
０．３ ０．５ （Ｊ／ｍ
） （１０
１） （９４） （１７）
（２７） 曲げ弾性率ｐｓｉ 、
２１６，３００ ２１９，０
００ ３５２，８００ ２４６，３００ １％
割線−（ＭＰａ） （１４
９２） （１５１０） （２４３３）
（１６９９）引張強さ ｐｓｉ
４２９４
４００６ ６１３８ ４０５５（
ＭＰａ）
（２９．６） （２７．６）
（４２．３） （２８．０）伸び（破断点）（％
） ６５
９６ ３．９ ３．
５ＨＤＴ、２６４ｐｓｉ（１８２０ｋＰａ）（℃）
６３．５ ６３
６９ ６８開示した本発明の他の特
徴、利点及び態様は前記開示を読んだ後当業者に容易に
明らかになろう。これに関して、本発明の特定態様がか
なり詳しく記載されたけれども、これらの態様の変形及
び改変は、記載し、特許請求した本発明の精神及び範囲
から逸脱することなく行なうことができる。
全スチレン／α−メチルスチレンコポリマー）は約４５
％であった。グラフトコポリマー中のスチレン／α−メ
チルスチレン比は約９／１であった。結果は表３中に示
される。
表 ３
実施例１６
実施例１７ 対照８ 対照９グラフトコポ
リマー（重量％） ８５
８５ １００ ８５ＳＢ
Ｃ（重量％） １
５ ７．５ −−
−−ＥＰＭ（重量％）
−− ７．５
−− １５ノッチ付アイゾ
ット衝撃、２３℃ ｆ−ｌｂｆ ／ｉｎ
１．９ １．８
０．３ ０．５ （Ｊ／ｍ
） （１０
１） （９４） （１７）
（２７） 曲げ弾性率ｐｓｉ 、
２１６，３００ ２１９，０
００ ３５２，８００ ２４６，３００ １％
割線−（ＭＰａ） （１４
９２） （１５１０） （２４３３）
（１６９９）引張強さ ｐｓｉ
４２９４
４００６ ６１３８ ４０５５（
ＭＰａ）
（２９．６） （２７．６）
（４２．３） （２８．０）伸び（破断点）（％
） ６５
９６ ３．９ ３．
５ＨＤＴ、２６４ｐｓｉ（１８２０ｋＰａ）（℃）
６３．５ ６３
６９ ６８開示した本発明の他の特
徴、利点及び態様は前記開示を読んだ後当業者に容易に
明らかになろう。これに関して、本発明の特定態様がか
なり詳しく記載されたけれども、これらの態様の変形及
び改変は、記載し、特許請求した本発明の精神及び範囲
から逸脱することなく行なうことができる。
Claims (21)
- 【請求項１】 重量基準で、（ａ）プロピレンポリマ
ー物質の幹上にグラフトした約１０〜６５重量パーセン
トのスチレンポリマーを含むグラフトコポリマー約６０
〜９５パーセント、及び（ｂ）（１）約２０〜１００重
量パーセントの（ｉ）少くとも１種のモノアルケニル芳
香族炭化水素−共役ジエンブロックコポリマー、（ｉｉ
） （ｉ）の水素化生成物である少くとも１種のブロッ
クコポリマー又は（ｉｉｉ） 少くとも１種の （ｉ）
のブロックコポリマーと少くとも１種の（ｉｉ）のブロ
ックコポリマーの混合物；及び（２）約８０〜０重量パ
ーセントのオレフィンコポリマーゴムを含むゴム成分約
４０〜５パーセントを含む組成物。 - 【請求項２】 成分（ａ）が約７０〜９０パーセント
の量で存在し、成分（ｂ）が約３０〜１０パーセントの
量で存在する、請求項１に記載の組成物。 - 【請求項３】 成分（ｂ）がモノアルケニル芳香族炭
化水素−共役ジエンブロックコポリマー約２０〜７０重
量パーセント及びオレフィンコポリマーゴム約８０〜３
０重量パーセントである、請求項（１）に記載の組成物
。 - 【請求項４】 成分（ａ）のプロピレンポリマー物質
がプロピレンホモポリマー、他の１−オレフィンとのプ
ロピレンランダムコポリマー、及びエチレン−プロピレ
ンモノマーゴムで耐衝撃性改良されたプロピレンホモポ
リマーからなる群から選ばれる、請求項１に記載の組成
物。 - 【請求項５】 プロピレンポリマー物質がホモポリマ
ーである、請求項４に記載の組成物。 - 【請求項６】 オレフィンコポリマーゴムが約１〜約
８０パーセントの量で存在し、エチレン−プロピレンモ
ノマーゴム又はエチレン−プロピレン−ジエンモノマー
ゴムである、請求項１に記載の組成物。 - 【請求項７】 オレフィンコポリマーゴムのすべて又
は一部が耐衝撃性改良されたプロピレンポリマー物質に
より与えられる、請求項６に記載の組成物。 - 【請求項８】 オレフィンコポリマーゴムがエチレン
−プロピレンモノマーゴムである、請求項７に記載の組
成物。 - 【請求項９】 成分（ｂ）がモノアルケニル芳香族炭
化水素−共役ジエンブロックコポリマー約５０〜７０重
量パーセント及びオレフィンコポリマーゴム約５０〜３
０重量パーセントである、請求項１に記載の組成物。 - 【請求項１０】 ブチルゴム又はブタジエン−スチレ
ンのランダムコポリマーがオレフィンコポリマーゴムの
代りに使用される、請求項６に記載の組成物。 - 【請求項１１】 プロピレンポリマー物質の幹上にグ
ラフトしたスチレンポリマーの重量がグラフトコポリマ
ーの重量の約１０〜５５パーセントである、請求項１に
記載の組成物。 - 【請求項１２】 プロピレンポリマー物質の幹上にグ
ラフトしたスチレンポリマーの重量がグラフトコポリマ
ーの重量の約２５〜５０パーセントである、請求項１に
記載の組成物。 - 【請求項１３】 プロピレンポリマー物質の幹上にグ
ラフトしたスチレンポリマーがポリスチレンである、請
求項１に記載の組成物。 - 【請求項１４】 スチレンポリマーがスチレンとα−
メチルスチレン又はｐ−メチルスチレンとのコポリマー
である、請求項１に記載の組成物。 - 【請求項１５】 モノアルケニル芳香族炭化水素−共
役ジエンブロックコポリマーがＡ−Ｂ又はＡ−Ｂ−Ａ型
（たヾし各Ａはポリマーモノアルケニル芳香族炭化水素
−共役ジエンブロックであり、Ｂは共役ジエンのポリマ
ーゴムブロックである）である、請求項１に記載の組成
物。 - 【請求項１６】 各Ａがポリマースチレンブロックで
ある、請求項１５に記載の組成物。 - 【請求項１７】 Ｂブロックが水素化される、請求項
１５に記載の組成物。 - 【請求項１８】 グラフトコポリマーがプロピレンポ
リマー物質上のスチレンの過酸化物開始グラフト重合の
生成物である、請求項１に記載の組成物。 - 【請求項１９】 さらに、成分（ａ）及び（ｂ）１０
０重量部当り、充填剤、補強剤及び無機粉末からなる群
から選ばれる１種又はそれ以上の添加剤約８０重量部ま
でを含む、請求項１に記載の組成物。 - 【請求項２０】 さらに、成分（ａ）及び（ｂ）１０
０部当り、プロピレンポリマー物質約５〜３０部を含む
、請求項１に記載の組成物。 - 【請求項２１】 請求項１〜２０のいずれか一項に記
載の組成物を含む製造物品。
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|---|---|---|---|
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| US499115 | 1990-03-26 |
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|---|---|
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|---|---|---|---|
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