JPH0422488B2 - - Google Patents
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- JPH0422488B2 JPH0422488B2 JP8782885A JP8782885A JPH0422488B2 JP H0422488 B2 JPH0422488 B2 JP H0422488B2 JP 8782885 A JP8782885 A JP 8782885A JP 8782885 A JP8782885 A JP 8782885A JP H0422488 B2 JPH0422488 B2 JP H0422488B2
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Liquid Crystal Display Device Control (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、表示装置や液晶−光シヤツタアレイ
等に適用する液晶装置に関し、詳しくは表示特性
と駆動特性を改善した液晶装置に関する。
等に適用する液晶装置に関し、詳しくは表示特性
と駆動特性を改善した液晶装置に関する。
従来の液晶素子としては例えばエム・シヤツト
(M.Schadt)とダブリユー・ヘルフリツヒ(W.
Helfrich)著“アプライド・フイジツクス.レタ
ーズ”(“Applied Physics Letters”)第18巻、第
4号(1971年2月15日発行)、第127頁〜128頁の
“ボルテージ・デイペンダント・オプテイカル・
アクテイビテイー・オブ・ア・ツイステツド・ネ
マチツク・リキツド・クリスタル”(“Voltage
Dependent Optical Activity of a Twisted
N ematic Liquid Crystal”)に示されたツイ
ステツド・ネマチツク(twisted Nematic)液晶
を用いたものが知られている。このTN液晶は、
画素密度を高くしたマトリクス電極構造を用いた
時分割駆動の時、クロストークを発生する問題点
があるため、画素数が制限されていた。
(M.Schadt)とダブリユー・ヘルフリツヒ(W.
Helfrich)著“アプライド・フイジツクス.レタ
ーズ”(“Applied Physics Letters”)第18巻、第
4号(1971年2月15日発行)、第127頁〜128頁の
“ボルテージ・デイペンダント・オプテイカル・
アクテイビテイー・オブ・ア・ツイステツド・ネ
マチツク・リキツド・クリスタル”(“Voltage
Dependent Optical Activity of a Twisted
N ematic Liquid Crystal”)に示されたツイ
ステツド・ネマチツク(twisted Nematic)液晶
を用いたものが知られている。このTN液晶は、
画素密度を高くしたマトリクス電極構造を用いた
時分割駆動の時、クロストークを発生する問題点
があるため、画素数が制限されていた。
又、各画素に薄膜トランジスタによるスイツチ
ング素子を接続し、各画素毎をスイツチングする
方式の表示素子が知られているが、基板上に薄膜
トランジスタを形成する工程が極めて煩雑な上、
大面積の表示素子を作成することが難ずかしい問
題点がある。
ング素子を接続し、各画素毎をスイツチングする
方式の表示素子が知られているが、基板上に薄膜
トランジスタを形成する工程が極めて煩雑な上、
大面積の表示素子を作成することが難ずかしい問
題点がある。
このような従来型の液晶素子の欠点を改善する
ものとして、双安定性を有する液晶素子の使用が
クラーク(Clark)およびラガウエル
(Lagerwall)により提案されている(特開昭56
−107216号公報、米国特許第4367924号明細書
等)、双安定性を有する液晶としては、一般に、
カイラルスメクチツクC相(AmC*)又はH相
(SmH*)を有する強誘電性液晶が用いられる。
この液晶は電界に対して双安定状態を有し、従つ
て前述のTN型の液晶で用いられた光学変調素子
とは異なり、例えば一方の電界ベクトルに対して
1つの光学的安定状態に液晶が配向し、他方の電
界ベクトルに対しては他方の光学的安定状態に液
晶が配向される。またこの型の液晶は、加えられ
る電界に応答して、極めて速やかに上記2つの安
定状態のいずれかを取り、且つ電界の印加のない
ときはその状態を維持する性質を有する。このよ
うな性質を利用することにより、上述した従来の
TN型素子の問題点の多くに対して、かなり本質
的な改善が得られる。この点は、本発明と関連し
て、以下に、更に詳細に説明する。しかしなが
ら、この双安定性を有する強誘電性液晶素子は、
一般にセル厚が2μm以下で、それ以上のセル厚と
なると高コントラストの表示が得られない問題点
がある。
ものとして、双安定性を有する液晶素子の使用が
クラーク(Clark)およびラガウエル
(Lagerwall)により提案されている(特開昭56
−107216号公報、米国特許第4367924号明細書
等)、双安定性を有する液晶としては、一般に、
カイラルスメクチツクC相(AmC*)又はH相
(SmH*)を有する強誘電性液晶が用いられる。
この液晶は電界に対して双安定状態を有し、従つ
て前述のTN型の液晶で用いられた光学変調素子
とは異なり、例えば一方の電界ベクトルに対して
1つの光学的安定状態に液晶が配向し、他方の電
界ベクトルに対しては他方の光学的安定状態に液
晶が配向される。またこの型の液晶は、加えられ
る電界に応答して、極めて速やかに上記2つの安
定状態のいずれかを取り、且つ電界の印加のない
ときはその状態を維持する性質を有する。このよ
うな性質を利用することにより、上述した従来の
TN型素子の問題点の多くに対して、かなり本質
的な改善が得られる。この点は、本発明と関連し
て、以下に、更に詳細に説明する。しかしなが
ら、この双安定性を有する強誘電性液晶素子は、
一般にセル厚が2μm以下で、それ以上のセル厚と
なると高コントラストの表示が得られない問題点
がある。
本発明の目的は、前述した事情に鑑み、表示特
性及び駆動特性を改善した液晶光学素子を提供す
ることにある。
性及び駆動特性を改善した液晶光学素子を提供す
ることにある。
本発明は、
a 走査電極群と信号電極群との交差部で画素を
形成したマトリクス電極構造と、該走査電極群
と信号電極群との間に配置され、電界が印加さ
れていない時、液晶分子が第1の安定配向と第
2の安定配向との何れか一方に配向し、該第1
の安定配向の平均分子軸と第2の安定配向の平
均分子軸との間で角度2θを生じ、誘電率異方性
が負の値を生じる強誘電性液晶とを有する液晶
セルと、 b 第1の安定配向の液晶分子を第2の安定配向
とは反対側に移動させて第3の安定配向に配向
させ、第2の安定配向の液晶分子を第1の安定
配向とは反対側に移動させて第4の安定配向に
配向させ、該第3の安定配向の平均分子軸と第
4の安定配向の平均分子軸との間の角度を前記
角度2θより大きくする交流電圧を、前記マトリ
クス電極構造に印加する手段と、 c 走査電極を順次走査し、N番目に走査選択さ
れた走査電極上の画素に、同時に、第3の安定
配向の液晶分子を第4の安定配向に転移させる
のに十分な一方極性の電圧を印加し、 該N番目に走査選択された走査電極上の画素
のための情報信号を信号電極群に印加すること
によつて、該情報信号の印加に応じて、該N番
目に走査選択された走査電極上の画素に、第4
の安定配向の液晶分子を第3の安定配向に転移
させるのに十分な他方極性の電圧を印加し、 前記N番目に走査選択された走査電極上の画
素のための前記情報信号の極性に対して逆極性
であつて、強誘電性液晶の閾値電圧以下の電圧
に設定した電圧信号を信号電極群に印加し、N
+1番目に走査選択された走査電極上の画素
に、前記N番目に走査選択された走査電極上の
画素のための前記電圧信号の信号電極群への印
加が終了する前で、同時に、第3の安定配向の
液晶分子を第4の安定配向に転移させるのに十
分な一方極性の電圧を印加する手段と、 d 第3の安定配向に配向した液晶分子を通過し
た光線と、第4の安定配向に配向した液晶分子
を通過した光線との間で、光学的相違を生じさ
せる手段と、 を有する液晶装置を特徴としている。
形成したマトリクス電極構造と、該走査電極群
と信号電極群との間に配置され、電界が印加さ
れていない時、液晶分子が第1の安定配向と第
2の安定配向との何れか一方に配向し、該第1
の安定配向の平均分子軸と第2の安定配向の平
均分子軸との間で角度2θを生じ、誘電率異方性
が負の値を生じる強誘電性液晶とを有する液晶
セルと、 b 第1の安定配向の液晶分子を第2の安定配向
とは反対側に移動させて第3の安定配向に配向
させ、第2の安定配向の液晶分子を第1の安定
配向とは反対側に移動させて第4の安定配向に
配向させ、該第3の安定配向の平均分子軸と第
4の安定配向の平均分子軸との間の角度を前記
角度2θより大きくする交流電圧を、前記マトリ
クス電極構造に印加する手段と、 c 走査電極を順次走査し、N番目に走査選択さ
れた走査電極上の画素に、同時に、第3の安定
配向の液晶分子を第4の安定配向に転移させる
のに十分な一方極性の電圧を印加し、 該N番目に走査選択された走査電極上の画素
のための情報信号を信号電極群に印加すること
によつて、該情報信号の印加に応じて、該N番
目に走査選択された走査電極上の画素に、第4
の安定配向の液晶分子を第3の安定配向に転移
させるのに十分な他方極性の電圧を印加し、 前記N番目に走査選択された走査電極上の画
素のための前記情報信号の極性に対して逆極性
であつて、強誘電性液晶の閾値電圧以下の電圧
に設定した電圧信号を信号電極群に印加し、N
+1番目に走査選択された走査電極上の画素
に、前記N番目に走査選択された走査電極上の
画素のための前記電圧信号の信号電極群への印
加が終了する前で、同時に、第3の安定配向の
液晶分子を第4の安定配向に転移させるのに十
分な一方極性の電圧を印加する手段と、 d 第3の安定配向に配向した液晶分子を通過し
た光線と、第4の安定配向に配向した液晶分子
を通過した光線との間で、光学的相違を生じさ
せる手段と、 を有する液晶装置を特徴としている。
以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明
を更に詳細に説明する。
を更に詳細に説明する。
本発明で用いる液晶材料として、特に適したも
のは、カイラルスメクチツク液晶であつて、強誘
電性を有するものである。具体的にはカイラルス
メクチツクC相(SmC*)、カイラルスメクチツ
クG相(SmG*)、カイラルスメクチツクF相
(SmF*)、カイラルスメクチツクI相(SmI*)
又はカイラルスメクチツクH相(SmH*)の液晶
を用いることができる。
のは、カイラルスメクチツク液晶であつて、強誘
電性を有するものである。具体的にはカイラルス
メクチツクC相(SmC*)、カイラルスメクチツ
クG相(SmG*)、カイラルスメクチツクF相
(SmF*)、カイラルスメクチツクI相(SmI*)
又はカイラルスメクチツクH相(SmH*)の液晶
を用いることができる。
強誘電性液晶の詳細については、たとえば
“ル・ジユルナール・ド・フイジイク・レツトル”
(“LE JOURNAL DE PHYSIQUE
LETTRE”)36(L−69)1975年「フエロエレク
トリツク・リキツド・クリスタル」
(Ferroelectric Liquid Crystals;“アプライド・
フイジイツクス・レターズ”(“Applied Physics
Letters”)36(11)1980年「サブミクロ・セカン
ド・バイステイブル・エレクトロオプテイツク・
スイツチング・イン・リキツド・クリスタルス」
(「Submicro Second Bistable Electrooptic
Switching in Liquid Cystals」);“固体物理”16
(141)1981「液晶」等に記載されており、本発明
ではこれらに開示されたもののうち、負の誘電異
方性をもつ強誘電性液晶を用いることができる。
特に、好ましい強誘電性液晶としては、これによ
り高温側でコレステリツク相を示すものを用いる
ことができ、例えば下述の実施例に挙げた相転移
温度を示すフエニルエステル系液晶を用いること
ができる。
“ル・ジユルナール・ド・フイジイク・レツトル”
(“LE JOURNAL DE PHYSIQUE
LETTRE”)36(L−69)1975年「フエロエレク
トリツク・リキツド・クリスタル」
(Ferroelectric Liquid Crystals;“アプライド・
フイジイツクス・レターズ”(“Applied Physics
Letters”)36(11)1980年「サブミクロ・セカン
ド・バイステイブル・エレクトロオプテイツク・
スイツチング・イン・リキツド・クリスタルス」
(「Submicro Second Bistable Electrooptic
Switching in Liquid Cystals」);“固体物理”16
(141)1981「液晶」等に記載されており、本発明
ではこれらに開示されたもののうち、負の誘電異
方性をもつ強誘電性液晶を用いることができる。
特に、好ましい強誘電性液晶としては、これによ
り高温側でコレステリツク相を示すものを用いる
ことができ、例えば下述の実施例に挙げた相転移
温度を示すフエニルエステル系液晶を用いること
ができる。
これらの材料を用いて素子を構成する場合、液
晶化合物が所望の相となるような温度状態に保持
する為、必要に応じて素子をヒーターが埋め込ま
れた銅ブロツク等により支持することができる。
晶化合物が所望の相となるような温度状態に保持
する為、必要に応じて素子をヒーターが埋め込ま
れた銅ブロツク等により支持することができる。
第1図は、強誘電性液晶の動作説明のために、
セルの例を模式的に描いたものである。以下、所
望の相としてSmC*を例にとつて説明する。
セルの例を模式的に描いたものである。以下、所
望の相としてSmC*を例にとつて説明する。
11aと11bは、In2O3あるいはITO
(Indium−Tin Oxide)等の薄膜からなる透明電
極で被覆された基板(ガラス板)であり、その間
に液晶分子層12がガラス面に垂直になるように
配向したSmC*相の液晶が封入されている。太線
で示した線13が液晶分子を表わしており、この
液晶分子13は基板の面方向に連続的にらせん構
造を形成している。このらせん構造の中心軸15
と液晶分子13の軸方向とのなす角度をとして
表わす。この液晶分子13は、その分子に直交し
た方向に双極子モーメント(P⊥)14を有して
いる。基板11aと11b上の電極間に一定の閾
値以上の電圧を印加すると、液晶分子13のらせ
ん構造がほどけ、双極子モーメント(P⊥)14
がすべて電界方向に向くよう、液晶分子13は配
向方向を変えることができる。液晶分子13は、
細長い形状を有しており、その長軸方向と短軸方
向で屈折率異方性を示し、従つて例えばガラス面
の上下に互いにクロスニコルの偏光子を置けば、
電圧印加極性によつて光学特性が変わる液晶光学
素子となることは、容易に理解される。
(Indium−Tin Oxide)等の薄膜からなる透明電
極で被覆された基板(ガラス板)であり、その間
に液晶分子層12がガラス面に垂直になるように
配向したSmC*相の液晶が封入されている。太線
で示した線13が液晶分子を表わしており、この
液晶分子13は基板の面方向に連続的にらせん構
造を形成している。このらせん構造の中心軸15
と液晶分子13の軸方向とのなす角度をとして
表わす。この液晶分子13は、その分子に直交し
た方向に双極子モーメント(P⊥)14を有して
いる。基板11aと11b上の電極間に一定の閾
値以上の電圧を印加すると、液晶分子13のらせ
ん構造がほどけ、双極子モーメント(P⊥)14
がすべて電界方向に向くよう、液晶分子13は配
向方向を変えることができる。液晶分子13は、
細長い形状を有しており、その長軸方向と短軸方
向で屈折率異方性を示し、従つて例えばガラス面
の上下に互いにクロスニコルの偏光子を置けば、
電圧印加極性によつて光学特性が変わる液晶光学
素子となることは、容易に理解される。
本発明の液晶光学素子で好ましく用いられる液
晶セルは、例えば10μ以下とすることができる。
このように液晶層が薄くなるにしたがい、第2図
に示すように電界を印加していない状態でも液晶
分子のらせん構造がほどけ、非らせん構造とな
り、その双極子モーメントPaまたはPbは上向き
24a又は下向き24bのどちらかの状態をと
る。この液晶分子軸23aの分子軸と23bのな
す角度の1/2の角度をチルト角と称し、このチ
ルト角はらせん構造をとる時のコーンのなす頂
角に等しい。このようなセルに、第2図に示す如
く一定の閾値以上の極性の異なる電界Ea又はEb
を電圧印加手段21aと21bにより付与する
と、双極子モーメントは、電界Ea又はEbの電界
ベクトルに対応して上向き24a又は下向き24
bと向きを変え、それに応じて液晶分子は、1つ
の安定配向23aかあるいは他の安定配向23b
の何れか一方に配向する。
晶セルは、例えば10μ以下とすることができる。
このように液晶層が薄くなるにしたがい、第2図
に示すように電界を印加していない状態でも液晶
分子のらせん構造がほどけ、非らせん構造とな
り、その双極子モーメントPaまたはPbは上向き
24a又は下向き24bのどちらかの状態をと
る。この液晶分子軸23aの分子軸と23bのな
す角度の1/2の角度をチルト角と称し、このチ
ルト角はらせん構造をとる時のコーンのなす頂
角に等しい。このようなセルに、第2図に示す如
く一定の閾値以上の極性の異なる電界Ea又はEb
を電圧印加手段21aと21bにより付与する
と、双極子モーメントは、電界Ea又はEbの電界
ベクトルに対応して上向き24a又は下向き24
bと向きを変え、それに応じて液晶分子は、1つ
の安定配向23aかあるいは他の安定配向23b
の何れか一方に配向する。
このような強誘電性を液晶光学素子として用い
ることの利点は、先にも述べたが2つある。その
第1は、応答速度が極めて速いことであり、第2
は液晶分子の配向が双安定性を有することであ
る。第2の点を、例えば第2図によつて更に説明
すると、電界Eaを印加すると液晶分子は1つの
安定配向23aに配向するが、この状態は電界を
切つても安定である。又、逆向きの電界Ebを印
加すると、液晶分子は他の安定配向23bに配向
してその分子の向きを変えるが、やはり電界を切
つてもこの状態に留つている。
ることの利点は、先にも述べたが2つある。その
第1は、応答速度が極めて速いことであり、第2
は液晶分子の配向が双安定性を有することであ
る。第2の点を、例えば第2図によつて更に説明
すると、電界Eaを印加すると液晶分子は1つの
安定配向23aに配向するが、この状態は電界を
切つても安定である。又、逆向きの電界Ebを印
加すると、液晶分子は他の安定配向23bに配向
してその分子の向きを変えるが、やはり電界を切
つてもこの状態に留つている。
このような応答速度の速さと、双安定性が有効
に実現されるにはセル厚が出来るだけ薄い方が好
ましい。
に実現されるにはセル厚が出来るだけ薄い方が好
ましい。
このような強誘電性を有する液晶で素子を形成
するに当つて最も問題となるのは、先にも述べた
ように、SmC*相を有する層が基板面に対して垂
直に配列し且つ液晶分子が基板面に略平行に配向
したモノドメイン性の高いセルを形成することが
困難なことである。
するに当つて最も問題となるのは、先にも述べた
ように、SmC*相を有する層が基板面に対して垂
直に配列し且つ液晶分子が基板面に略平行に配向
したモノドメイン性の高いセルを形成することが
困難なことである。
ところで、従来より大面積の液晶セルを製造す
る上で、基板表面に一軸性の配向処理を施す方法
が知られている。この一軸性の配向処理法として
は基板表面をビロード、布や紙で一方向にラビン
グする方法あるいは基板表面にSiOやSiO2を斜方
蒸着する方法などが挙げられる。
る上で、基板表面に一軸性の配向処理を施す方法
が知られている。この一軸性の配向処理法として
は基板表面をビロード、布や紙で一方向にラビン
グする方法あるいは基板表面にSiOやSiO2を斜方
蒸着する方法などが挙げられる。
しかしながら、強誘電性液晶に対して、このよ
うなラビング法や斜方蒸着法を適用しても、配向
処理を施すこと自体が、前記した液晶分子の双安
定性を阻害するため、所謂メモリー性を生かした
駆動法を採用する場合には一軸性配向処理では、
不適当なものと考えられていた。
うなラビング法や斜方蒸着法を適用しても、配向
処理を施すこと自体が、前記した液晶分子の双安
定性を阻害するため、所謂メモリー性を生かした
駆動法を採用する場合には一軸性配向処理では、
不適当なものと考えられていた。
ところが、本発明者らが鋭意検討した結果、基
板表面に適正な一軸性の配向処理を施すことによ
り、以下に詳述する如く、ある特定化された双安
定状態を達成することか可能であり、メモリー性
を生かした駆動が達成し得ることが明らかとなつ
た。
板表面に適正な一軸性の配向処理を施すことによ
り、以下に詳述する如く、ある特定化された双安
定状態を達成することか可能であり、メモリー性
を生かした駆動が達成し得ることが明らかとなつ
た。
第3図AとBは、本発明の液晶素子の一実施例
を示している。第3図Aは、本発明の液晶素子の
平面図で、第3図BはそのA−A′断面図である。
を示している。第3図Aは、本発明の液晶素子の
平面図で、第3図BはそのA−A′断面図である。
第3図で示すセル構造体100は、ガラス板又
はプラスチツク板などからなる一対の基板101
aと101bをスペーサ104で所定の間隔に保
持され、この一対の基板をシーリングするために
接着剤106で接着したセル構造を有しており、
さらに基板101aの上には複数の透明電極10
2からなる電極群(例えばマトリクス電極構造の
うちの走査電圧印加用電極群)が例えば帯状パタ
ーンなどの所定パターンで形成されている。基板
101bの上には前述の透明電極102と交差さ
せた複数の透明電極102bからなる電極群(例
えば、マトリクス電極構造のうちの信号電圧印加
用電極群)が形成されている。
はプラスチツク板などからなる一対の基板101
aと101bをスペーサ104で所定の間隔に保
持され、この一対の基板をシーリングするために
接着剤106で接着したセル構造を有しており、
さらに基板101aの上には複数の透明電極10
2からなる電極群(例えばマトリクス電極構造の
うちの走査電圧印加用電極群)が例えば帯状パタ
ーンなどの所定パターンで形成されている。基板
101bの上には前述の透明電極102と交差さ
せた複数の透明電極102bからなる電極群(例
えば、マトリクス電極構造のうちの信号電圧印加
用電極群)が形成されている。
このような透明電極102bを設けた基板10
1bには、例えば、一酸化硅素、二酸化硅素、酸
化アルミニウム、ジルコニア、フツ化マグネシウ
ム、酸化セリウム、フツ化セリウム、シリコン窒
化物、シリコン炭化物、ホウ素窒化物などの無機
絶縁物質やポリビニルアルコール、ポリイミド、
ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリパ
ラキシリレン、ポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポ
リアミドポリスチレン、セルロース樹脂、メラミ
ン樹脂、ユリア樹脂やアクリル樹脂などの有機絶
縁物質を用いて被覆形成した配向制御膜105を
設けることができる。
1bには、例えば、一酸化硅素、二酸化硅素、酸
化アルミニウム、ジルコニア、フツ化マグネシウ
ム、酸化セリウム、フツ化セリウム、シリコン窒
化物、シリコン炭化物、ホウ素窒化物などの無機
絶縁物質やポリビニルアルコール、ポリイミド、
ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリパ
ラキシリレン、ポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポ
リアミドポリスチレン、セルロース樹脂、メラミ
ン樹脂、ユリア樹脂やアクリル樹脂などの有機絶
縁物質を用いて被覆形成した配向制御膜105を
設けることができる。
この配向制御膜105は、前述の如き無機絶縁
物質又は有機絶縁物質を被膜形成した後に、その
表面をビロード、布や紙で一方向に摺擦(ラビン
グ)することによつて得られる。
物質又は有機絶縁物質を被膜形成した後に、その
表面をビロード、布や紙で一方向に摺擦(ラビン
グ)することによつて得られる。
本発明の別の好ましい具体例では、SiOやSiO2
などの無機絶縁物質を基板101bの上に斜め蒸
着法によつて被膜形成することによつて、配向制
御膜105を得ることができる。
などの無機絶縁物質を基板101bの上に斜め蒸
着法によつて被膜形成することによつて、配向制
御膜105を得ることができる。
第8図に示された装置に於いてベルジヤー80
1は吸出口805を有する絶縁基板803上に載
置され、前記吸出口805から伸びる(図示され
ていない)真空ポンプによりベルジヤー801が
真空にされる。タングステン製又はモリブデン製
のるつぼ807はベルジヤー801の内部及び底
部に配置され、るつぼ807には数グラムの
SiO、SiO2、MgF2などの結晶808が載置され
る。るつぼ807は下方の2つのアーム807
a,807bを有し、前記アームは夫々導線80
9,810に接続される。電源806及びスイツ
チ804がベルジヤー801の外部導線809,
810間に直列に接続される。基板802はベル
ジヤー801の内部でるつぼ807の真上にベル
ジヤー801の垂直軸に対しKの角度を成して配
置される。
1は吸出口805を有する絶縁基板803上に載
置され、前記吸出口805から伸びる(図示され
ていない)真空ポンプによりベルジヤー801が
真空にされる。タングステン製又はモリブデン製
のるつぼ807はベルジヤー801の内部及び底
部に配置され、るつぼ807には数グラムの
SiO、SiO2、MgF2などの結晶808が載置され
る。るつぼ807は下方の2つのアーム807
a,807bを有し、前記アームは夫々導線80
9,810に接続される。電源806及びスイツ
チ804がベルジヤー801の外部導線809,
810間に直列に接続される。基板802はベル
ジヤー801の内部でるつぼ807の真上にベル
ジヤー801の垂直軸に対しKの角度を成して配
置される。
スイツチ804が開放されると、ベルジヤー8
01はまず約10-5mmHgの真空状態にされ、次に
スイツチ804が閉じられて、るつぼ807が適
温で白熱して結晶808が蒸発されるまで電源8
06を調節して電力が供給される。適温範囲
(700〜1000℃)に対して必要な電流は約100amps
である。結晶808は次に蒸発され図中Sで示さ
れた上向きの分子流を形成し、流体Sは、基板8
02に対してKの角度を成して基板802上に入
射され、この結果基板802が被覆される。角度
Kは上記の“入射角”であり、流体Sの方向は上
記の“斜め蒸着方向”である。この被膜の膜厚は
基板802をベルジヤー801に挿入する前に行
なわれる装置の時間に対する厚みのキヤリブレー
シヨンにより決定される。適宜な厚みの被膜が形
成されると電源806からの電力を減少させ、ス
イツチ804を開放してベルジヤー801とその
内部を冷却する。次に圧力を大気圧まで上げ基板
802をベルジヤー801から取り外す。
01はまず約10-5mmHgの真空状態にされ、次に
スイツチ804が閉じられて、るつぼ807が適
温で白熱して結晶808が蒸発されるまで電源8
06を調節して電力が供給される。適温範囲
(700〜1000℃)に対して必要な電流は約100amps
である。結晶808は次に蒸発され図中Sで示さ
れた上向きの分子流を形成し、流体Sは、基板8
02に対してKの角度を成して基板802上に入
射され、この結果基板802が被覆される。角度
Kは上記の“入射角”であり、流体Sの方向は上
記の“斜め蒸着方向”である。この被膜の膜厚は
基板802をベルジヤー801に挿入する前に行
なわれる装置の時間に対する厚みのキヤリブレー
シヨンにより決定される。適宜な厚みの被膜が形
成されると電源806からの電力を減少させ、ス
イツチ804を開放してベルジヤー801とその
内部を冷却する。次に圧力を大気圧まで上げ基板
802をベルジヤー801から取り外す。
また、別の具体例ではガラス又はプラスチツク
からなる基板101bの表面あるいは基板101
bの上に前述した無機絶縁物質や有機絶縁物質を
被膜形成した後に、該被膜の表面を斜方エツチン
グ法によりエツチングすることにより、その表面
に配向制御効果を付与することができる。
からなる基板101bの表面あるいは基板101
bの上に前述した無機絶縁物質や有機絶縁物質を
被膜形成した後に、該被膜の表面を斜方エツチン
グ法によりエツチングすることにより、その表面
に配向制御効果を付与することができる。
前述の配向制御膜105は、同時に絶縁膜とし
ても機能させることが好ましく、このためにこの
配向制御膜105の膜厚は一般に100Å〜1μ、好
ましくは500Å〜5000Åの範囲に設定することが
できる。この絶縁膜は、液晶層103に微量に含
有される不純物等のために生ずる電流の発生を防
止できる利点をも有しており、従つて動作を繰り
返し行なつても液晶化合物を劣化させることがな
い。
ても機能させることが好ましく、このためにこの
配向制御膜105の膜厚は一般に100Å〜1μ、好
ましくは500Å〜5000Åの範囲に設定することが
できる。この絶縁膜は、液晶層103に微量に含
有される不純物等のために生ずる電流の発生を防
止できる利点をも有しており、従つて動作を繰り
返し行なつても液晶化合物を劣化させることがな
い。
また、本発明の液晶素子では前述の配向制御膜
105と同様のものをもう一方の基板101aに
設けることができる。
105と同様のものをもう一方の基板101aに
設けることができる。
第3図に示すセル構造体100の中の液晶層10
3は、SmC*とすることができる。又、液晶層1
03の厚さは充分に薄く、液晶分子はらせん構造
を有していない。
3は、SmC*とすることができる。又、液晶層1
03の厚さは充分に薄く、液晶分子はらせん構造
を有していない。
第4図は、本発明の液晶素子の別の具体例を表
わしている。第4図で示す液晶素子は、一対の基
板101aと101bの間に複数のスペーサ部材
203が配置されている。このスペーサ部材20
3は、例えば配向制御膜105が設けられていな
い基板101の上にSiO,SiO2,Al2O3、TiO2な
どの無機化合物あるいはポリビニルアルコール、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイ
ミド、ポリパラキシリレン、ポリエステル、ポリ
カーボネート、ポリビニルアセタール、ポリ塩化
ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリスチ
レン、セルロース樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹
脂、アクリル樹脂やフオトレジスト樹脂などの樹
脂類を適当な方法で被膜形成した後に、所定の位
置にスペーサ部材203が配置される様にエツチ
ングすることによつて得ることができる。
わしている。第4図で示す液晶素子は、一対の基
板101aと101bの間に複数のスペーサ部材
203が配置されている。このスペーサ部材20
3は、例えば配向制御膜105が設けられていな
い基板101の上にSiO,SiO2,Al2O3、TiO2な
どの無機化合物あるいはポリビニルアルコール、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイ
ミド、ポリパラキシリレン、ポリエステル、ポリ
カーボネート、ポリビニルアセタール、ポリ塩化
ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリスチ
レン、セルロース樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹
脂、アクリル樹脂やフオトレジスト樹脂などの樹
脂類を適当な方法で被膜形成した後に、所定の位
置にスペーサ部材203が配置される様にエツチ
ングすることによつて得ることができる。
このようなセル構造体100は、基板101a
と101bの両側にはクロスニコル状態とした偏
光子107と108がそれぞれ配置されて、この
偏光子107と108により電極102aと10
2bの間に電圧を印加した時の光学変調を検知す
ることができる。
と101bの両側にはクロスニコル状態とした偏
光子107と108がそれぞれ配置されて、この
偏光子107と108により電極102aと10
2bの間に電圧を印加した時の光学変調を検知す
ることができる。
次に、本発明の液晶素子の作成法について液晶
材料としてエステル系液晶を例にとつて第3図と
第5図に従つて説明する。このエステル化合物
は、 の3成分混合系である。この液晶材料は、降温過
程に於て、下記の如き相転移を示す。
材料としてエステル系液晶を例にとつて第3図と
第5図に従つて説明する。このエステル化合物
は、 の3成分混合系である。この液晶材料は、降温過
程に於て、下記の如き相転移を示す。
Iso
―→
63℃Ch
―→
50℃SmA
―→
35℃SmC*
―→
3℃
Crystal
(Iso;等方相、Ch;コレステリツク相、SmA;
スメクチツクA相) 液晶層が充分に厚い場合(〜100μ)、SmC*で
はらせん構造をとり、そのピツチは約5μである。
スメクチツクA相) 液晶層が充分に厚い場合(〜100μ)、SmC*で
はらせん構造をとり、そのピツチは約5μである。
まず、前述のエステル系液晶が封入されている
セル構造体100は、セル100全体が均一に加
熱される様な加熱ケース(図示せず)にセツトさ
れる。
セル構造体100は、セル100全体が均一に加
熱される様な加熱ケース(図示せず)にセツトさ
れる。
次に、セル100中の化合物が等方相となる温
度(約70℃)まで加熱する。しかる後に、加熱ケ
ースの温度を降温させて。セル100中の等方相
となつている化合物を降温過程に移す。この降温
過程で等方相の化合物は、約63℃でグランジユア
ン組織のコレステリツク相に相転移し、さらに降
温過程を続けると約50℃でコレステリツク相から
一軸異方相であるSmAに相転移を生じることが
できる。この時、SmAの液晶分子軸は、ラビン
グ方向に揃う。
度(約70℃)まで加熱する。しかる後に、加熱ケ
ースの温度を降温させて。セル100中の等方相
となつている化合物を降温過程に移す。この降温
過程で等方相の化合物は、約63℃でグランジユア
ン組織のコレステリツク相に相転移し、さらに降
温過程を続けると約50℃でコレステリツク相から
一軸異方相であるSmAに相転移を生じることが
できる。この時、SmAの液晶分子軸は、ラビン
グ方向に揃う。
しかる後に、このSmAより降温過程でSmC*に
相転移することによつて、例えばセル厚を6μm程
度以下とする非らせん構造をもつモノドメインの
SmC*が得られる。
相転移することによつて、例えばセル厚を6μm程
度以下とする非らせん構造をもつモノドメインの
SmC*が得られる。
第5図は、液晶分子の配向状態を模式的に示す
もので、基板面505より上方から見た図であ
る。
もので、基板面505より上方から見た図であ
る。
図中、500は一軸性配向処理の方向、即ち、
本実施例ではラビング方向に相当している。
SmA相では、液晶分子がラビング方向500と
一致する液晶の平均分子軸方向501をもつて配
向する。SmC*相に於ては液晶分子の平均的な分
子軸方向は、502aの方向に傾き、ラビング方
向500とSmC*の平均分子軸方向502aは、
角度θをなして第1の安定配向状態となる。この
状態で上下基板に電圧を印加すると、SmC*の液
晶分子の平均的な分子軸方向は、角度θより大き
い角度に変化し、角度で飽和した第3の安定配
向状態をとる。この時の平均分子軸方向を503
aとする。
本実施例ではラビング方向に相当している。
SmA相では、液晶分子がラビング方向500と
一致する液晶の平均分子軸方向501をもつて配
向する。SmC*相に於ては液晶分子の平均的な分
子軸方向は、502aの方向に傾き、ラビング方
向500とSmC*の平均分子軸方向502aは、
角度θをなして第1の安定配向状態となる。この
状態で上下基板に電圧を印加すると、SmC*の液
晶分子の平均的な分子軸方向は、角度θより大き
い角度に変化し、角度で飽和した第3の安定配
向状態をとる。この時の平均分子軸方向を503
aとする。
次に、電圧を零に戻すと、液晶分子は再びもと
の第1の分子軸方向502aの状態に戻る。従つ
て、第1の分子軸方向502aの状態で、液晶分
子はメモリー性を有することになる。又、分子軸
方向502aの状態で、逆方向の電圧を印加する
と、その電圧が充分に高い場合には、液晶分子の
平均的分子軸方向は、飽和して角度をなす第4
の安定配向状態の平均分子軸方向503bに転移
する。そして、再び電圧を零に戻すと、液晶分子
は、角度θをなす第2の安定配向状態の平均分子
軸方向502bの状態に落ちつく。この第1と第
2の安定配向状態での液晶セルの厚さ方向におけ
る分子配列状態は、未だ明確に判明しているわけ
ではないが、厚さ方向に何らかの液晶分子の「ね
じれ」が存在しているものと推測される。又、第
3及び第4の配向状態は、第2図に示した理想的
双安定状態に対応しているものと考えられる。
の第1の分子軸方向502aの状態に戻る。従つ
て、第1の分子軸方向502aの状態で、液晶分
子はメモリー性を有することになる。又、分子軸
方向502aの状態で、逆方向の電圧を印加する
と、その電圧が充分に高い場合には、液晶分子の
平均的分子軸方向は、飽和して角度をなす第4
の安定配向状態の平均分子軸方向503bに転移
する。そして、再び電圧を零に戻すと、液晶分子
は、角度θをなす第2の安定配向状態の平均分子
軸方向502bの状態に落ちつく。この第1と第
2の安定配向状態での液晶セルの厚さ方向におけ
る分子配列状態は、未だ明確に判明しているわけ
ではないが、厚さ方向に何らかの液晶分子の「ね
じれ」が存在しているものと推測される。又、第
3及び第4の配向状態は、第2図に示した理想的
双安定状態に対応しているものと考えられる。
従つて、図に示す様に偏光子の一方の偏光軸方
向504を角度θをなす分子軸方向502aに合
致させることによつて、下述する如き電界による
第1と第2の安定配向状態との間で生じる配向転
移とこのメモリー性を生じた駆動法を用いた時に
オン状態とオフ状態での光学コントラストを向上
することができる。
向504を角度θをなす分子軸方向502aに合
致させることによつて、下述する如き電界による
第1と第2の安定配向状態との間で生じる配向転
移とこのメモリー性を生じた駆動法を用いた時に
オン状態とオフ状態での光学コントラストを向上
することができる。
第6図には前述のエステル化合物液晶のSmC*
相に於ける一軸性処理方向と平均的分子軸方向の
なす角θ及び分子軸502aの状態と502bの
状態での光学的コントラスト比の液晶層の厚さに
よる依存性の例が示されている。曲線61によれ
ば液晶層の厚さが小さくなるに従い、コントラス
トは増大する。又、62は液晶層の厚さとθの関
係を表わしている。尚、これらの測定は、SmA
→SmC*の相転移温度より7℃だけ低い温度にて
行われた。又、充分に電界(例えば20V〜30V程
度)を印加したときの平均的分子軸方向の値
は、液晶層の厚さにより若干異なるが約15°であ
つた。
相に於ける一軸性処理方向と平均的分子軸方向の
なす角θ及び分子軸502aの状態と502bの
状態での光学的コントラスト比の液晶層の厚さに
よる依存性の例が示されている。曲線61によれ
ば液晶層の厚さが小さくなるに従い、コントラス
トは増大する。又、62は液晶層の厚さとθの関
係を表わしている。尚、これらの測定は、SmA
→SmC*の相転移温度より7℃だけ低い温度にて
行われた。又、充分に電界(例えば20V〜30V程
度)を印加したときの平均的分子軸方向の値
は、液晶層の厚さにより若干異なるが約15°であ
つた。
さて、この様に第1と第2の安定配向状態を有
する液晶セルに、交流電界をスメクチツク相の液
晶分子層12と平行に印加する事により、それぞ
れ第1と第2の安定配向状態を第3と第4の安定
配向状態へと転換せしめる事が可能となつた。こ
の様な現象は、液晶材料が負の誘電異方性をもつ
事によつて生じると推測される。この交流電界の
周波数は、所定の電圧値では液晶が応答し得ない
程度に充分に高い値に設定されなければならな
い。このとき、クロスニコルの偏光子のうち一方
の偏光子の偏光軸は、第5図に示す第3の安定配
向状態の平均分子軸方向503a又は第4の安定
配向状態の平均分子軸方向503bに合致させ
た。交流電圧は、周波数400Hz以上100KHz以下
で、波形としては三角波、正弦波や矩形波等を用
いる事が出来、液晶層厚にもよるが、Vpp
(peakto peak)は20V〜100V程度であつた(電
圧値が大きくなると見かけ上が大きくなり、
15°で飽和した)。
する液晶セルに、交流電界をスメクチツク相の液
晶分子層12と平行に印加する事により、それぞ
れ第1と第2の安定配向状態を第3と第4の安定
配向状態へと転換せしめる事が可能となつた。こ
の様な現象は、液晶材料が負の誘電異方性をもつ
事によつて生じると推測される。この交流電界の
周波数は、所定の電圧値では液晶が応答し得ない
程度に充分に高い値に設定されなければならな
い。このとき、クロスニコルの偏光子のうち一方
の偏光子の偏光軸は、第5図に示す第3の安定配
向状態の平均分子軸方向503a又は第4の安定
配向状態の平均分子軸方向503bに合致させ
た。交流電圧は、周波数400Hz以上100KHz以下
で、波形としては三角波、正弦波や矩形波等を用
いる事が出来、液晶層厚にもよるが、Vpp
(peakto peak)は20V〜100V程度であつた(電
圧値が大きくなると見かけ上が大きくなり、
15°で飽和した)。
周波数;10KHz、Vpp=60Vの矩形波を用いた
ときの、角度と、コントラストを第7図に示
す。この図面より明らかなように、第3及び第4
の安定配向状態を利用することによつて、セル厚
が大きい領域でも高いコントラストを得ることが
可能である。すなわち、第7図中の71は液晶層
の厚さとコントラストとの関係を明らかにしてお
り、この71によれば、液晶層の厚さが大きい領
域でも高コントラストが得られている。又、図中
72は液晶層のセル厚との関係を明らかにして
いる。
ときの、角度と、コントラストを第7図に示
す。この図面より明らかなように、第3及び第4
の安定配向状態を利用することによつて、セル厚
が大きい領域でも高いコントラストを得ることが
可能である。すなわち、第7図中の71は液晶層
の厚さとコントラストとの関係を明らかにしてお
り、この71によれば、液晶層の厚さが大きい領
域でも高コントラストが得られている。又、図中
72は液晶層のセル厚との関係を明らかにして
いる。
セル厚が薄い場合には、コントラストは第6図
の場合と同程度であるが、光の透過率が増大する
というメリツトが出た。例えば、セル厚1μの場
合、第1と第2の安定配向状態θを用いて表示す
る場合にくらべ第3と第4の安定配向状態を用
いて表示すると、「明」状態の光の透過量が約3
倍となつた。
の場合と同程度であるが、光の透過率が増大する
というメリツトが出た。例えば、セル厚1μの場
合、第1と第2の安定配向状態θを用いて表示す
る場合にくらべ第3と第4の安定配向状態を用
いて表示すると、「明」状態の光の透過量が約3
倍となつた。
本発明の液晶光学素子の駆動法を次に示す。
第9図Aは、表示すべきマトリクス電極構造を
示し、91が走査電極、92が情報信号電極とし
て用いられる。第9図と第10図は、本発明の具
体例を表わしている。。第10図は、情報信号を
重畳することによつて付与された高周波の交流成
分は簡単のために省略してある。この例ではVo
とVth1又はVth2との間でVo<Vth1<3Vo、−
3Vo<−Vth2<−Voの関係に選定されている。
第9図B,aとbは、それぞれ選択された走査電
極に与えられる電気信号と選択されない走査電極
に与えられる電気信号を示している。
示し、91が走査電極、92が情報信号電極とし
て用いられる。第9図と第10図は、本発明の具
体例を表わしている。。第10図は、情報信号を
重畳することによつて付与された高周波の交流成
分は簡単のために省略してある。この例ではVo
とVth1又はVth2との間でVo<Vth1<3Vo、−
3Vo<−Vth2<−Voの関係に選定されている。
第9図B,aとbは、それぞれ選択された走査電
極に与えられる電気信号と選択されない走査電極
に与えられる電気信号を示している。
さて、補助信号位相t3の最適時間間隔として
は、この位相に於て、信号電極に印加される電圧
の大きさにも依存し、情報信号位相t2に於て負加
される電圧と逆極性の電圧を印加する場合、一般
的には電圧が大きい場合には時間間隔は短く、電
圧が小さい場合には時間間隔は長くするのが好ま
しいが、時間間隔が長いと、一画面全体を走査す
るのに長い時間を要することになる。このため、
好ましくはt3≦t2と設定することが好ましい。
は、この位相に於て、信号電極に印加される電圧
の大きさにも依存し、情報信号位相t2に於て負加
される電圧と逆極性の電圧を印加する場合、一般
的には電圧が大きい場合には時間間隔は短く、電
圧が小さい場合には時間間隔は長くするのが好ま
しいが、時間間隔が長いと、一画面全体を走査す
るのに長い時間を要することになる。このため、
好ましくはt3≦t2と設定することが好ましい。
第9図B,c〜fは、信号電極群に印加する情
報信号を表わしており、同図dとeが前回の信号
を黒(第5図に示す第3の安定配向503aに対
応)とし、同図cとfが前回の信号を白(第5図
に示す第4の安定配向503bに対応)とした
時、位相t2で同図eとcでは情報信号として黒に
対応するVoが印加され、同図dとfでは情報信
号として白に対応する。−Voが印加されている態
様を表わしている。又、位相t1がN+1ラインを
リフレツシユする位相に対応している。
報信号を表わしており、同図dとeが前回の信号
を黒(第5図に示す第3の安定配向503aに対
応)とし、同図cとfが前回の信号を白(第5図
に示す第4の安定配向503bに対応)とした
時、位相t2で同図eとcでは情報信号として黒に
対応するVoが印加され、同図dとfでは情報信
号として白に対応する。−Voが印加されている態
様を表わしている。又、位相t1がN+1ラインを
リフレツシユする位相に対応している。
第9図Cは、第9図Aに示す表示を得る時の駆
動波形を表わしている。第9図C中のS1〜S5は走
査電極に印加される信号、第9図C中のI1〜I3は
信号電極I1とI3に印加される信号、第9図C中の
AとCはそれぞれ第9図Aに示される画素AとC
に印加される電圧波形を表わしている。
動波形を表わしている。第9図C中のS1〜S5は走
査電極に印加される信号、第9図C中のI1〜I3は
信号電極I1とI3に印加される信号、第9図C中の
AとCはそれぞれ第9図Aに示される画素AとC
に印加される電圧波形を表わしている。
又、別の実施形態例として、高周波分流成分を
走査電極側共に与えることも可能である。
走査電極側共に与えることも可能である。
さらに、位相を合わせて走査電極側と、信号電
極側に与えることによつて、走査電極側と信号電
極側の末端ドラバーICの必要耐圧を低減させる
ことも可能である。
極側に与えることによつて、走査電極側と信号電
極側の末端ドラバーICの必要耐圧を低減させる
ことも可能である。
第11図にはさらに別の実施例を示す。
本実施例に於ては、交流信号は走査非選択信号
として与える。走査選択信号は、第9図B,aの
波形と同じ波形を与える。選択時に高周波を
OFFすることにより、液晶分子は動き易くなり、
スイツチングが容易になること、又、選択信号
(a:低周波成分)と非選択信号(b:高周波成
分)の重畳を避けることによつて走査側ドライバ
ICの必要耐圧低減のメリツトがある。
として与える。走査選択信号は、第9図B,aの
波形と同じ波形を与える。選択時に高周波を
OFFすることにより、液晶分子は動き易くなり、
スイツチングが容易になること、又、選択信号
(a:低周波成分)と非選択信号(b:高周波成
分)の重畳を避けることによつて走査側ドライバ
ICの必要耐圧低減のメリツトがある。
さて、本実施例に於て述べた液晶材料は、液晶
セルの厚さ約6μ以下で、電界が印加されていな
い時に第1と第2の双安定状態を有する。このよ
うなセルを高周波電界により第3と第4の双安定
状態に転換させた場合とさらにセル厚が厚く、明
確な双安定状態を示さない(セル厚15μの液晶セ
ル)ようなセルを高周波電界によつて、第3と第
4の双安定状態に転換させた場合との、スイツチ
ング特性の比較を次に示す(第12図)。
セルの厚さ約6μ以下で、電界が印加されていな
い時に第1と第2の双安定状態を有する。このよ
うなセルを高周波電界により第3と第4の双安定
状態に転換させた場合とさらにセル厚が厚く、明
確な双安定状態を示さない(セル厚15μの液晶セ
ル)ようなセルを高周波電界によつて、第3と第
4の双安定状態に転換させた場合との、スイツチ
ング特性の比較を次に示す(第12図)。
第12図の122は、電界が印加されていない
時、らせん構造の強誘電性液晶を生じ、実質的に
第5図に示す第1と第2の安定配向状態を生じな
いセル厚15μの液晶セルを用い、この時高周波交
流電圧として10KHzで±40Vppの矩形波を重畳し
た第9図Bに示す電気信号を印加し、それぞれ第
3と第4の安定配向状態を形成し第3の安定配向
状態が第4の配向状態に、又第4の安定配向状態
が第3の安定配向状態に反転するまでの電圧値V
と印加パルス幅τをプロツトした時の結果を表わ
している。又、第12図の121は電界が印加さ
れていない時、第5図に示す第1と第2の安定配
向状態の非らせん構造の強誘電性液晶を生じるセ
ル厚4μの液晶セル、高周波交流電圧として10KHz
で±20Vppの矩形波を用いたほかは前述と同様の
方法によつて得た結果を表わしている。従つて、
第12図中横軸はスイツチングに要する駆動パル
スの電圧値V(閾値)を、縦軸は印加パルス幅τ
を示している。尚、第12図中の○はセル厚4μ
の液晶セルを用いた時の実測値を、●はセル厚
15μの液晶セルを用いた時の実測値を示してい
る。
時、らせん構造の強誘電性液晶を生じ、実質的に
第5図に示す第1と第2の安定配向状態を生じな
いセル厚15μの液晶セルを用い、この時高周波交
流電圧として10KHzで±40Vppの矩形波を重畳し
た第9図Bに示す電気信号を印加し、それぞれ第
3と第4の安定配向状態を形成し第3の安定配向
状態が第4の配向状態に、又第4の安定配向状態
が第3の安定配向状態に反転するまでの電圧値V
と印加パルス幅τをプロツトした時の結果を表わ
している。又、第12図の121は電界が印加さ
れていない時、第5図に示す第1と第2の安定配
向状態の非らせん構造の強誘電性液晶を生じるセ
ル厚4μの液晶セル、高周波交流電圧として10KHz
で±20Vppの矩形波を用いたほかは前述と同様の
方法によつて得た結果を表わしている。従つて、
第12図中横軸はスイツチングに要する駆動パル
スの電圧値V(閾値)を、縦軸は印加パルス幅τ
を示している。尚、第12図中の○はセル厚4μ
の液晶セルを用いた時の実測値を、●はセル厚
15μの液晶セルを用いた時の実測値を示してい
る。
この第12図より明らかな様に、
4μのセルの方が、傾むきが急である。
このことは、4μセルの方が、時分割駆動を
行なう上で、クロストーク防止上、有利である
ことを意味している。
行なう上で、クロストーク防止上、有利である
ことを意味している。
4μセルの方が、駆動電圧が低い。
このことは、4μセルの方が、低耐圧ICドラ
イバーの使用が許されることを示している。
イバーの使用が許されることを示している。
第13図は情報信号電極側に変調波交流成分
Vacを重畳した場合の駆動回路のブロツク図で、
131はn×m(n,mは整数)の表示マトリク
スで、y1,y2……yoが各情報(信号)線、q1,
q2,……qnが各走査線、132は走査線駆動回路
で、そのcがタイミング入力が、dが転送クロツ
ク入力である。133は情報(信号)線駆動回路
で、そのaが情報(信号)入力で、bが転送クロ
ツク入力、y′1,y′2……y′oが各出力線である。1
34は変調波交流成分重畳回路で、xが変調波交
流入力で、y1,y2……yoがその出力線で、入力x
と入力y′の加算出力をyとする。すなわち、 xy′1=y1 xy′2=y2 〜 〜 xy′o=yo である。
Vacを重畳した場合の駆動回路のブロツク図で、
131はn×m(n,mは整数)の表示マトリク
スで、y1,y2……yoが各情報(信号)線、q1,
q2,……qnが各走査線、132は走査線駆動回路
で、そのcがタイミング入力が、dが転送クロツ
ク入力である。133は情報(信号)線駆動回路
で、そのaが情報(信号)入力で、bが転送クロ
ツク入力、y′1,y′2……y′oが各出力線である。1
34は変調波交流成分重畳回路で、xが変調波交
流入力で、y1,y2……yoがその出力線で、入力x
と入力y′の加算出力をyとする。すなわち、 xy′1=y1 xy′2=y2 〜 〜 xy′o=yo である。
第14図は、走査電極側に変調波交流成分Vac
を重畳した場合の駆動回路のブロツク図で、図中
の付号は第13図と同一の部材である。132の
走査線駆動回路の出力線q′1,q′2,……q′nにそれ
ぞれ変調波交流成分Vacを加算する。すなわち、 xq′1=q1 xq′2=q2 〜 〜 xq′n=qn である。
を重畳した場合の駆動回路のブロツク図で、図中
の付号は第13図と同一の部材である。132の
走査線駆動回路の出力線q′1,q′2,……q′nにそれ
ぞれ変調波交流成分Vacを加算する。すなわち、 xq′1=q1 xq′2=q2 〜 〜 xq′n=qn である。
第15図は情報(信号)電極と走査電極の両方
に変調波交流成分Vac/2を重畳し、各表示画素
にVacの変調波交流成分を与える場合に駆動回路
のブロツク図で、反転回路151により重畳波の
位相を180°ずらし、134の重畳回路に入力す
る。
に変調波交流成分Vac/2を重畳し、各表示画素
にVacの変調波交流成分を与える場合に駆動回路
のブロツク図で、反転回路151により重畳波の
位相を180°ずらし、134の重畳回路に入力す
る。
第16図は選択時に変調波をオフする場合の駆
動回路のブロツク図で、161はシフトレジスタ
で、c′はそのタイミング入力、d′は転送クロツク
入力である。162はアンドゲートであり、その
入力線q″が負論理のときのみ、入力線x″は通過
できず基準レベルとなる。
動回路のブロツク図で、161はシフトレジスタ
で、c′はそのタイミング入力、d′は転送クロツク
入力である。162はアンドゲートであり、その
入力線q″が負論理のときのみ、入力線x″は通過
できず基準レベルとなる。
すなわち、
x″AND q″1=q1
x″AND q″2=q2
〜
x″AND q″n=qn
である。
本発明によれば、セル厚が大きい領域でも高コ
ントラストの表示特性を得ることができ、又、セ
ル厚が薄い場合では交流電界を印加しない場合と
比較して光透過率を約3倍以上も高めることがで
き、この結果表示特性を向上させることができ
る。
ントラストの表示特性を得ることができ、又、セ
ル厚が薄い場合では交流電界を印加しない場合と
比較して光透過率を約3倍以上も高めることがで
き、この結果表示特性を向上させることができ
る。
第1図は、電界無印加時にらせん構造を形成し
ている強誘電性スメクチツク液晶を用いた素子の
斜視図である。第2図は、本発明で用いる電界印
加時に非らせん構造を形成している強誘電性スメ
クチツク液晶を用いた素子の斜視図である。第3
図Aは本発明の液晶光学素子の平面図で、第3図
BはそのA−A′断面図である。第4図は、本発
明の別の液晶光学素子の断面図である。第5図
は、液晶分子の安定配向方向と一軸性配向処理方
向を模式的に表わした平面図である。第6図は、
第1図の液晶素子を用いた時の液晶層の厚さ、θ
及びコントラストの関係を表わす説明図である。
第7図は、本発明に係る第2図の液晶素子を用い
た時の液晶層の厚さ、及びコントラストの関係
を表わす説明図である。第8図は、本発明で用い
る斜め蒸着層を形成するための装置を模式的に表
わした断面図である。第9図Aは、本発明で用い
るマトリクス電極構造の平面図である。第9図B
は、本発明で用いる走査信号及び情報信号の波形
を表わす説明図である。第9図Cは、第9図Bの
信号波形を用いた時の画素に印加される電圧波形
を表わす説明図である。第10図は、第9図Bの
信号波形を用いた時の時系列波形を表わす説明図
である。第11図は、本発明で用いる別の走査信
号及び情報信号の波形を表わす説明図である。第
12図は、強誘電性スメクチツク液晶素子を用い
た時の印加電圧とパルス幅の関係を表わす説明図
である。第13図、第14図、第15図及び第1
6図は、本発明で用いる駆動回路を表わす回路図
である。
ている強誘電性スメクチツク液晶を用いた素子の
斜視図である。第2図は、本発明で用いる電界印
加時に非らせん構造を形成している強誘電性スメ
クチツク液晶を用いた素子の斜視図である。第3
図Aは本発明の液晶光学素子の平面図で、第3図
BはそのA−A′断面図である。第4図は、本発
明の別の液晶光学素子の断面図である。第5図
は、液晶分子の安定配向方向と一軸性配向処理方
向を模式的に表わした平面図である。第6図は、
第1図の液晶素子を用いた時の液晶層の厚さ、θ
及びコントラストの関係を表わす説明図である。
第7図は、本発明に係る第2図の液晶素子を用い
た時の液晶層の厚さ、及びコントラストの関係
を表わす説明図である。第8図は、本発明で用い
る斜め蒸着層を形成するための装置を模式的に表
わした断面図である。第9図Aは、本発明で用い
るマトリクス電極構造の平面図である。第9図B
は、本発明で用いる走査信号及び情報信号の波形
を表わす説明図である。第9図Cは、第9図Bの
信号波形を用いた時の画素に印加される電圧波形
を表わす説明図である。第10図は、第9図Bの
信号波形を用いた時の時系列波形を表わす説明図
である。第11図は、本発明で用いる別の走査信
号及び情報信号の波形を表わす説明図である。第
12図は、強誘電性スメクチツク液晶素子を用い
た時の印加電圧とパルス幅の関係を表わす説明図
である。第13図、第14図、第15図及び第1
6図は、本発明で用いる駆動回路を表わす回路図
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 a 走査電極群と信号電極群との交差部で画
素を形成したマトリクス電極構造と、該走査電
極群と信号電極群との間に配置され、電界が印
加されていない時、液晶分子が第1の安定配向
と第2の安定配向との何れか一方に配向し、該
第1の安定配向の平均分子軸と第2の安定配向
の平均分子軸との間で角度2θを生じ、誘電率異
方性が負の値を生じる強誘電性液晶とを有する
液晶セルと、 b 第1の安定配向の液晶分子を第2の安定配向
とは反対側に移動させて第3の安定配向に配向
させ、第2の安定配向の液晶分子を第1の安定
配向とは反対側に移動させて第4の安定配向に
配向させ、該第3の安定配向の平均分子軸と第
4の安定配向の平均分子軸との間の角度を前記
角度2θより大きくする交流電圧を、前記マトリ
クス電極構造に印加する手段と、 c 走査電極を順次走査し、N番目に走査選択さ
れた走査電極上の画素に、同時に、第3の安定
配向の液晶分子を第4の安定配向に転移させる
のに十分な一方極性の電圧を印加し、 該N番目に走査選択された走査電極上の画素
のための情報信号を信号電極群に印加すること
によつて、該情報信号の印加に応じて、該N番
目に走査選択された走査電極上の画素に、第4
の安定配向の液晶分子を第3の安定配向に転移
させるにの十分な他方極性の電圧を印加し、 前記N番目に走査選択された走査電極上の画
素のための前記情報信号の極性に対して逆極性
であつて、強誘電性液晶の閾値電圧以下の電圧
に設定した電圧信号を信号電極群に印加し、N
+1番目に走査選択された走査電極上の画素
に、前記N番目に走査選択された走査電極上の
画素のための前記電圧信号の信号電極群への印
加が終了する前で、同時に、第3の安定配向の
液晶分子を第4の安定配向に転移させるのに十
分な一方極性の電圧を印加する手段と、 d 第3の安定配向に配向した液晶分子を通過し
た光線と、第4の安定配向に配向した液晶分子
を通過した光線との間で、光学的相違を生じさ
せる手段と、 を有する液晶装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8782885A JPS61246722A (ja) | 1985-04-24 | 1985-04-24 | 液晶装置 |
| US07/225,827 US4941736A (en) | 1985-04-23 | 1988-07-29 | Ferroelectric liquid crystal device and driving method therefor |
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| JP8782885A JPS61246722A (ja) | 1985-04-24 | 1985-04-24 | 液晶装置 |
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| JPS61246722A JPS61246722A (ja) | 1986-11-04 |
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Family
ID=13925806
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP8782885A Granted JPS61246722A (ja) | 1985-04-23 | 1985-04-24 | 液晶装置 |
Country Status (1)
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| JP (1) | JPS61246722A (ja) |
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-
1985
- 1985-04-24 JP JP8782885A patent/JPS61246722A/ja active Granted
Also Published As
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|---|---|
| JPS61246722A (ja) | 1986-11-04 |
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