JPH04226595A - 結晶質および微晶質パラフィンの水素化方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は結晶質および微晶質パラ
フィンを水素化する方法に関する。一層特定的に本発明
は、二層からなる床すなわち、アルミナ支持体上の酸化
物または硫化物の形のＮｉ、ＭｏおよびＰを基体とする
水添脱金属触媒を収納する第１の反応器床およびＮｉ、
ＭｏおよびＰを基体とする水添処理触媒を収納する第２
の床において結晶質および微晶質パラフィンを水素化し
、それによってパラフィンを完全かつ永続的に脱色する
方法に関する。本発明はまた、例えば微晶質パラフィン
の水素化操作の後に、結晶質パラフィンの水素化操作を
続け、セイボルト色度指数を高い値に保ちつつ、両操作
の交替により連続的な工程操作を実現するための、結晶
質および微晶質パラフィンを水素化するための交替的方
法も同様に企図する。

【０００２】

【従来の技術】結晶質および微晶質パラフィン中に存在
する色素は、少量の多環芳香族、芳香族、複素環および
不飽和炭化水素の存在と関係があり、これらの炭化水素
は、融点、粘度、針入度および油含有率のような代表的
な特性を変化することなくかつｎ−パラフィンを分解ま
たは異性化することなく、処理すべき供給原料から除去
すべきことは周知である。

【０００３】最新の技術によると、無水硫酸と接触した
後、ボーキサイトまたは他の吸着剤上で濾過することの
ような、結晶質および微晶質パラフィンを受容可能な色
度水準に保つための種々の方法のうち、色素を形成しか
つ酸化を惹起する化合物に対して適用する接触水素化方
法は、吸着剤中へのパラフィン原料の損耗ならびに（ま
たは）硫酸のような生成物の取扱い、再生および処分が
回避されるので、一層効率的かつ経済的であると考えら
れている。

【０００４】米国特許第３，２０８，９３１号明細書は
、色素を発生する化合物の主な部分を除去するような一
層苛酷な條件下で第１段階を実施される一方、製品に色
度安定性を付与するために一層穏和な条件下で第２段階
を実施する２段階微晶ろう水添精製方法を開示しており
、第２段階は第１段階の続きであり、循環ガス流によっ
て反応物質を冷却することからなる。第１段階の触媒は
１〜５重量％の酸化または硫化コバルトと５〜２０重量
％の酸化または硫化モリブデンとを含有し、残部は３〜
１５重量％のシリカゲルによって安定化した活性アルミ
ナである。第２段階の触媒は第１段階のそれと同様に耐
硫黄性触媒である。同様に、第２の床の触媒は、シリカ
ゲル、アルミナゲル、活性化ゲルまたはＸもしくはＹゼ
オライトのような高表面積支持体上のニッケルや貴金属
例えばＰｔ、ＰｄまたはＲｄのような水素化活性のより
高い水素化触媒であってよい。この方法は３０５〜４１
２℃で実施する。

【０００５】フランス特許第１，４５９，１１２号明細
書は、製品の色度、臭いおよび安定性を制御することを
意図するパラフィンの２段階接触水素化方法を開示して
いる。第１段階において、粗パラフィンは第１の反応器
内でアルミナ上に支持した酸化ＮｉおよびＭｏからなる
触媒と接触され、第２段階において、供給原料は第１の
反応器に対して直列におかれた第２の反応器内で、活性
炭上に支持した酸化Ｎｉ、ＣｏおよびＭｏ触媒と接触さ
れる。第１の反応器の触媒は１５重量％のＭｏＯ３　、
５重量％のＮｉＯおよび８０重量％のアルミナからなり
、一方第２の反応器の触媒は１５重量％のＭｏＯ３　、
４重量％のＣｏＯ、１重量％のＮｉＯおよび８０重量％
の活性炭からなる。この方法は連続的であり、２５０〜
３６０℃で実施され、水素流量は供給物１容積あたり２
０〜８０容積である。この方法は残渣油からの微晶ろう
および油含有率が１．５重量％より低い精製（脱油）パ
ラフィンに対して適用できる。

【０００６】米国特許第４，１８６，０７８号明細書は
、０．２〜５重量％のアルカリ金属を含有する、シリカ
−アルミナ上に支持した水素化金属成分を少くとも含む
触媒の存在で供給物を水素と接触するパラフィン水添精
製方法を開示しており、この触媒の表面積は２００〜３
００ｍ２　／ｇであり、またこの場合、（ａ）６０〜１
５０オングストロームの範囲の直径をもつ細孔の容積は
０〜１５０オングストロームの範囲の直径をもつ細孔の
容積の８０％であり、また（ｂ）０〜６００オングスト
ロームの直径をもつ細孔の容積は０．４５〜０．６０ｍ
ｌ／ｇの範囲にある。

【０００７】以上のように、文献中に開示されている微
晶質のろうの水添精製のための接触方法は、主としてこ
れらのパラフィンが食品または薬品分野で用いるべき場
合、すなわち高度に純粋なパラフィンである場合、色度
、貯蔵安定性および耐酸化性を意図している。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した文献
は接触工程の通油時間、すなわち実際の工程効率につい
て明らかにしていない。なぜならばこれらの文献はいづ
れも、色度に関する規格が守られる通油時間について何
ら述べていないからである。この通油時間は文献中では
めったに強調されることはないものの、工程にとって必
須的な特質である。しかし、例えば１１〜１２操業日の
後、アルミナ上のモリブデン触媒床の賦活剤（硫化剤）
としての硫化水素の周期的流れを採用する米国特許第３
，２０６，３８７号明細書には、接触活性の回復につい
て述べられている。触媒を再生するために工場の操業を
停止する代わりに、硫化水素の流れによって接触活性が
回復するので、適正な規格をもつ製品を長期にわたって
得るために触媒の保有量（ｉｎｖｅｎｔｏｒｙ）を変更
する必要はない。しかし、結晶質および微晶質のろうの
ための水添精製技術は、未だ改良を必要とする。なぜな
らば、一方で、提案されている触媒系のほとんどは実際
の効率が知られてなく、他方、水素化反応器中の硫化水
素のようなガスの流れは操作上および環境上の問題を惹
起するからである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】従って、本発明の主な目
的は、一方で、直列に配置した二つの触媒床を併用し、
他方、微晶質供給物と結晶質供給物とを交替する、つま
り微晶質供給物をまづ水素化し、色度水準が低下すると
微晶質供給物を結晶質ろうによっておきかえることによ
り、長期にわたって色度水準を十分に保ちかつ永続的な
通油時間を達成する、結晶質および微晶質ろうを水素化
するための高度に効率的な連続的接触方法を開示するこ
とである。従って、混合床を組合わせかつ供給物を交替
することにより、触媒系の再生のための設備の運転を中
断せずにしかも色度水準を規格以下に低下することなく
、接触プロセスを操作することができる。

【００１０】本発明の方法を適用する結晶質ろうおよび
微晶質ろうは、それぞれ蒸溜油および脱瀝油からの脱油
パラフィンである。

【００１１】プロセス條件は通常的なもの、すなわち２
８０〜３４５℃の温度、７５〜１５０Ｋｇ／ｃｍ２　の
圧力、１５０〜４００標準リットル／リットルのＨ２　
／供給物比、０．２０〜０．８０　　ｌ／時間のＷＨＳ
Ｖである。

【００１２】本発明の方法に従って水素化する微晶質お
よび結晶質パラフィン供給物および水素化生成物は下記
の表１の物理−化学的特性を示す。

【表１】

【００１３】本発明の接触方法は、単一の床内にいれら
れた予め硫化された異なる二つの触媒（以下混合床と称
する）の存在で実施する。重質の色素形成化合物を水素
化しかつ部分的に吸着する残渣油脱金属触媒に、供給物
を２８０〜３４５℃において、水素の存在でまづ接触し
、引続いて水添処理触媒と接触することにより水素化を
完了しかつ色相の安定化を達成する。

【００１４】混合床内の二種類の触媒の量は広い範囲で
変化してよいが、約２５容積％が水素化脱金属触媒から
なり混合床の残りが水添処理触媒である場合に最良の結
果が得られる。水添脱金属（ＨＤＭ）触媒が約２５容積
％より少ない場合、水素化処理効率が低下するので４〜
５日の通油期間の後、効率を回復すべきである。このた
めに、結晶質供給物を微晶質供給物とおきかえる。前者
は触媒床に対して良好な影響を与え、そのために触媒混
合床の活性が回復し、その結果、色度水準が上昇する。 一定の最適水準にいたるまでは、混合床内のＨＤＭ触媒
の量が多いほど、パラフィンの脱色水準が一層長期にわ
たって維持され、また微晶質パラフィンを結晶質供給物
でおきかえる必要が減る。

【００１５】供給物を最初に接触する、混合床の部分を
構成する水添脱金属触媒は、１〜１４重量％のＭｏ、０
〜４重量％のＮｉ、０〜４重量％のＣｏおよび０〜３重
量％のＰを含有すべきであり、活性相はアルミナ上に支
持する。触媒１ｇあたりのｎ−ブチルアミンのミリ当量
で表わす触媒の酸性度は０．２〜１．０の範囲である。 表面積（ＢＥＴによる）は１００〜４００ｍ２　／ｇで
あり、水銀注入法によって測定する平均細孔直径は７．
０〜４０ｎｍでありまた全細孔容積Ｖｐｔは０．４〜１
．２ｍｌ／ｇである。細孔直径の関数としての細孔容積
分布は以下の範囲である。３．０＜Ｖｐ＜１０ｎｍでは
０．１〜０．６ｍｌ／ｇ、１０＜Ｖｐ＜１００ｎｍでは
０．１〜０．８ｍｌ／ｇ、１００＜Ｖｐ＜１０００では
０．０〜０．１５ｍｌ／ｇ、１０００ｎｍ＜Ｖｐでは０
．０〜０．１ｍｌ／ｇ。

【００１６】水添処理（ＨＤＴ）触媒は５〜２０重量％
のＭｏ、０．０〜８．０重量％のＮｉ、０．０〜８重量
％のＣｏおよび０．０〜６重量％のＰを含有すべきであ
り、活性相はアルミナ上に支持する。触媒１ｇあたりの
ｎ−ブチルアミンのミリ当量で表わす触媒の酸性度は０
．４〜１．４の範囲である。表面積（ＢＥＴによる）は
７０〜３２０ｍ２　／ｇであり、水銀注入法によって測
定する平均細孔直径は５．０〜２０ｎｍでありまた全細
孔容積Ｖｐｔは０．２〜０．６ｍｌ／ｇである。細孔直
径の関数としての細孔容積分布は以下の範囲である。 ３．０＜Ｖｐ＜１０ｎｍでは０．１〜０．６ｍｌ／ｇ、
１０＜Ｖｐ＜１００ｎｍでは０．０〜０．６ｍｌ／ｇ、
１００ｎｍ＜Ｖｐでは０．０〜０．１ｍｌ／ｇ。

【００１７】色度水準は−１６から＋３０にいたるセイ
ボルト色度指数によって評価する。この尺度においては
、色度指数が高いほど生成物の純度および耐酸化性が良
くなる。下記の表２は結晶質および微晶質パラフィンの
標準値を示す。

【表２】表２

【００１８】基本的に、本発明の水素化方法は、微晶質
および結晶質パラフィン供給物を、両工程についての２
８０〜３４５℃の温度、７５〜１５０Ｋｇ／ｃｍ２　の
水素分圧、０．２０〜０．８０　　１／時間の重量空間
速度ＷＨＳＶおよび１５０〜４００標準リットル／リッ
トルのＨ２　／供給物比において水添脱金属／水添処理
触媒の混合床に供給することにより実施する。混合床は
水添脱金属触媒を１０〜９５重量％含有してよく、混合
床の残りは水添処理触媒からなる。

【００１９】従って本明細書において開示しかつ特許請
求する本発明の方法は、第１の床が水添脱金属触媒から
なりまた第２の床が水添処理触媒からなり、水添脱金属
触媒の容積が２５〜７５％である、二つの触媒からなる
接触床に微晶質パラフィン供給物を接触することを特徴
とする。

【００２０】図１は通油時間とセイボルト色度水準との
関係を示すグラフである。曲線１および５は、単一の（
ＨＤＴまたはＨＤＭ）触媒を用いる場合、劣悪な色度が
得られることを示し、曲線２から４は混合床（ＨＤＭ＋
ＨＤＴ）触媒によって得られる色度の改善およびより長
い通油期間を例示する。

【００２１】図２は別な通油時間とセイボルト色度水準
との関係を示すグラフである。これは、ともに等容積の
ＨＤＭおよびＨＤＴ触媒を含有し、異なるＨＤＭを用い
ることが唯一の差である異なった二つの混合床の比較を
示す。

【００２２】

【実施例】以下の諸例は本発明を例解するが、本発明を
限定するものと解すべきものではない。

【００２３】例１ 本例においては、床の２５容積％の水添脱金属触媒と７
５容積％の水添処理触媒とからなる混合床内で脱油微晶
質パラフィン供給物を水添精製にかけた。操作条件は、
水素分圧１２６Ｋｇ／ｃｍ２　（１８００ｐｓｉｇ）、
温度３３５℃、ＷＨＳＶ０．３５　　１／時間、Ｈ２　
／供給物比２００標準リットル／リットルであった。供
給物を最初に接触する混合床の部分を構成する水添脱金
属触媒は７重量％のＭｏ、２．１重量％のＮｉおよび１
．４重量％のＰを含有し、活性相はガンマ−アルミナ上
に支持する。触媒活性は触媒１ｇあたりｎ−ブチルアミ
ン０．４２ミリ当量であった。水銀注入法によって測定
するとき、細孔直径の関数としての細孔容積分布は、３
．０＜Ｖｐ＜１０ｎｍでは０．４７ｍｌ／ｇ、１０＜Ｖ
ｐ＜１００ｎｍでは０．２３ｍｌ／ｇ、１００＜Ｖｐ＜
１０００では０．１２ｍｌ／ｇ、１０００ｎｍ＜Ｖｐで
は０．０５ｍｌ／ｇである。平均細孔直径は９．８ｎｍ
であり、全細孔容積Ｖｐｔは０．８７ｍｌ／ｇであり、
表面積（ＢＥＴによる）は３００ｍ２　／ｇでありかつ
嵩密度は０．４７ｇ／ｃｍ３　である。水添処理触媒は
１４重量％のＭｏ、３．３重量％のＮｉおよび３．０重
量％のＰを含有し、活性相はガンマ−アルミナ上に支持
する。触媒の酸性度は触媒１ｇあたりｎ−ブチルアミン
０．７１ミリ当量である。水銀注入法によって測定する
とき、細孔直径の関数としての細孔容積分布は、３．０
＜Ｖｐ＜１０ｎｍでは０．３６ｍｌ／ｇ、１０＜Ｖｐ＜
１００ｎｍでは０．０２ｍｌ／ｇである。平均細孔直径
は８．７ｎｍであり、全細孔容積Ｖｐｔは０．３８ｍｌ
／ｇであり、表面積（ＢＥＴによる）は１６７ｍ２　／
ｇでありかつ嵩密度は０．８６ｇ／ｃｍ３　である。水
添脱金属および水添処理触媒はともに商業的に入手でき
る。

【００２４】本例（図１の曲線２）においては、８５時
間にわたってセイボルト色度＋３０以上に安定に維持さ
れ、その後色度水準の低下が始まった。１１０時間の通
油の後、色度水準は＋２７であったが、２８０時間の通
油の後（図示してはいない）、結晶質のＤ型供給物を微
晶質パラフィン供給物におきかえ、混合床温度を３００
℃に設定する一方、残りの條件は以前と同じに保持した
。温度が３００℃に安定化した直後、色度水準が増加し
た。すなわち、本プロセスの開始後３１０〜４２０時間
にわたって色度は＋１７水準に戻った。結晶質供給物を
用いるプロセス操作を４５０時間まで続け、その後温度
を３１５℃まで上昇した。色度は＋１６水準に安定化し
た。温度を再び３３５℃に上昇すると、４８５時間に色
度がセイボルト尺度で＋３０の水準に上昇した。結晶質
パラフィン供給物を５００時間まで通油し、その時脱油
微晶質パラフィン供給物を結晶質パラフィンにおきかえ
た。プロセス條件は前と同じ、すなわち３３５℃、１２
６Ｋｇ／ｃｍ２　、ＷＨＳＶ＝０．３５　　１／時間お
よびＨ２　／供給物＝２００標準リットル／リットルに
保った。追加的な５５時間の操作の後、色度水準は＋５
近くまで低下した。そのために再び供給物を結晶質パラ
フィンと交換した。さらに４５時間操作の後、色度水準
は再び＋３０であった。６３０時間において、触媒床温
度を３１５℃に低下し、残りのプロセス條件はそのまま
に保ったが、色度は＋３０より高い値に保持された。本
例においては、所望の色度水準を保持するように供給物
の交替を続けることにより、全通油時間は６６５時間す
なわち２７日と１７時間に達した。

【００２５】比較例 本例においては、例１におけるのと同じ操作条件下でま
た触媒の全容積を例１と同じにして、標準的な水添処理
触媒で充填された単一触媒床の内容物に脱油微晶質供給
物を接触した。触媒は例１の混合床の第２の部分のそれ
と同じである。図１の曲線１によって示されるごとく、
操作の開始時においてさえ、セイボルト色度水準＋３０
に達することができる。５時間の操作の後、色度はすで
に＋２７の水準であり、一方３４時間の後、色度は−１
４であり、許容不可能となる。従って、微晶質パラフィ
ンの水素化のために水添処理触媒を用いる従来的な処理
は、この単一触媒による通油時間が短くまた生成物のセ
イボルト色度指数が低いので、満足なものでない。

【００２６】例２ 本例においては、混合床は５０容積％のＨＤＭ触媒と５
０容積％のＨＤＴ触媒とを含み、触媒は例１および比較
例におけるのと同じであった。図１の曲線３は、結果に
ついて示す。微晶質供給物を用いる場合の通油時間は、
触媒床の２５容積のみがＨＤＭ触媒からなる場合よりも
長くなることがわかる。従って、ＨＤＭ触媒は、結晶質
の供給物と交換することなく、微晶質の供給物の通油時
間を延長するように働き、従って工程の収率がかなり増
大する。曲線３において、点Ａは微晶質供給物と結晶質
供給物との交換を表わす。この交換により色度が最適水
準にもどる。

【００２７】経済性および（または）市場の必要性に応
じて、あるいは供給物の特別な特性に応じて、他の触媒
混合床組成物を示すことができる。上記した諸例は水素
化金属の含有率が異なる水添脱金属および水添処理触媒
を用いまた表面積、細孔容積分布、平均細孔直径などの
ような物理−化学的特性を変化することにより実施でき
る。例えば、ＨＤＭ触媒は４．１重量％のＭｏ、１．７
重量％のＮｉおよび０．０９重量％のＰを含有してよく
、また表面積が約１４７ｍ２／ｇ、平均細孔直径が１４
ｎｍ、全細孔容積Ｖｐｔが０．６８ｍｌ／ｇ、細孔容積
分布が３．０＜Ｖｐ＜１０ｎｍで０．１５ｍｌ／ｇ、１
０＜Ｖｐ＜１００ｎｍで０．５２ｍｌ／ｇまたＶｐ＞１
００ｎｍで０．０１ｍｌ／ｇであってよい。

【００２８】例３ 本例は上述した別なＨＤＭ触媒に関する。この触媒は４
．１重量％のＭｏ、１．７重量％のＮｉおよび０．０９
重量％のＰを含有し、表面積および他の特性は上記と同
じである。ＨＤＴ触媒（これは例１および２の触媒と同
じである）に対するこのＨＤＭ触媒の量は５０容積％で
あった。微晶質パラフィン供給物を、同一の操作条件下
で、同一容積のＨＤＭおよびＨＤＴ触媒からなる上記し
た床の作用下におく。図２に示すごとく、本例のＨＤＭ
触媒は、本発明の目的のためには全く十分なものである
が、例１および２において用いるＨＤＭ触媒に比較する
と僅かに低い性能を示す。図２において通油時間約１７
０時間の近くに屈曲点が存在することを指摘できるのは
興味深い。この点においては両混合床の水素化効率が僅
かな低下を示す。しかし、例３のＨＤＭ触媒が存在する
場合、水素化パラフィンの色度の低下は例１および２の
ＨＤＭ触媒について認められる低下よりも一層際立って
いる。このことは、例１および２のＨＤＭ触媒の活性相
の含有率（Ｍｏ７重量％、Ｎｉ２．１重量％、Ｐ１．４
重量％）が例３のＨＤＭ触媒に比べてより高いことによ
り説明できよう。

【００２９】例４および５ これらの例においては、例１および２と同じ触媒を用い
るが、活性相の含有率は一層高い。触媒の量は、例４に
おいてはＨＤＭ触媒が７５容積％でＨＤＴ触媒が２５容
積％であり、一方例５においてはＨＤＭ触媒が１００％
である。これらの例は図１の曲線４および５によって表
示される。触媒床中のＨＤＭ触媒の容積百分率が増加す
るにつれ、水素化プロセスの成績は悪化する。従って、
混合触媒床内の各触媒（ＨＤＭとＨＤＴ）には最適な量
がある。最適量は各触媒について約５０容積％である。

【００３０】従って、結晶質および微晶質パラフィンの
ための本発明の水素化方法は、本明細書および特許請求
の範囲に記載する條件を満足するならば、極めて柔軟性
にとみかつ強力であり、種々な組成の水添脱金属および
水添処理触媒による操作を可能とする。加えて、本方法
は、食品または薬品等級として得られる製品の商業的価
値を高く保ちつつ、広汎に変化する種類のパラフィン供
給物に対して容易に適応させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１の通油時間とセイボルト色度水準との関係
を示す。

【図２】図２は通油時間とセイボルト色度水準との別な
関係を示す。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　第１の床が水添脱金属触媒からなる一
   方、第二の床が水添処理触媒からなり、水添脱金属触媒
   が２５〜７５％の範囲内にある、二つの触媒からなる触
   媒床に、２８０〜３４５℃の温度、７５〜１５０Ｋｇ／
   ｃｍ２　の水素圧力、１５０〜４００標準リットル／リ
   ットルの水素対供給物比、０．２０〜０．８０　　１／
   時間の重量空間速度（ＷＨＳＶ）において、微晶質パラ
   フィン供給物を接触させることからなる、混合触媒床内
   で結晶質および微晶質パラフィンを水素化する方法。
2. 【請求項２】　　水添脱金属触媒が１〜１４重量％のＭ
   ｏ、０．０〜４．０重量％のＮｉ、０．０〜４．０重量
   ％のＣｏおよび０．０〜３重量％のＰを含み、活性相が
   アルミナ上に支持されており、触媒の酸性度が触媒１ｇ
   あたりｎ−ブチルアミン０．２〜１．０ミリ当量であり
   、ＢＥＴ表面積が１５０〜４００ｍ２／ｇであり、平均
   細孔直径が７．０〜４０ｎｍであり、全細孔容積が０．
   ４〜１．２ｍｌ／ｇであり、細孔容積分布が、３．０＜
   Ｖｐ＜１０ｎｍの範囲で、０．１〜０．６ｍｌ／ｇ、１
   ０＜Ｖｐ＜１００ｎｍで０．１〜０．８ｍｌ／ｇ、１０
   ０＜Ｖｐ＜１０００ｎｍで、０．０〜０．１５ｍｌ／ｇ
   かつＶｐ＞１０００ｎｍで０．０〜０．１である一方、
   水添処理触媒が５〜２０重量％のＭｏ、０．０〜８．０
   重量％のＮｉ、０．０〜８．０重量％のＣｏおよび０．
   ０〜６．０重量％のＰを含み、活性相がアルミナ上に支
   持されており、触媒の酸性度が触媒１ｇあたりｎ−ブチ
   ルアミン０．４〜１．４ミリ当量であり、ＢＥＴ表面積
   が７０〜３２０ｍ２　／ｇであり、平均細孔直径が５．
   ０〜２０ｎｍであり、全細孔容積が０．２〜０．６ｍｌ
   ／ｇであり、細孔容積分布が３．０＜Ｖｐ＜１０ｎｍの
   範囲で、０．１〜０．６ｍｌ／ｇ、１０＜Ｖｐ＜１００
   ｎｍで０．０〜０．６ｍｌ／ｇでありかつＶｐ＞１００
   ｎｍで０．０〜０．１ｍｌ／ｇである、請求項１記載の
   結晶質および微晶質パラフィンを水素化する方法。
3. 【請求項３】　　混合床内の各触媒の容積が望ましくは
   ５０％である、請求項１記載の結晶質および微晶質パラ
   フィンを水素化する方法。
4. 【請求項４】　　望ましくは、水添脱金属触媒がガンマ
   −アルミナ上に７．０重量％のＭｏ、２．１重量％のＮ
   ｉおよび１．４重量％のＰを含有する一方、水添処理触
   媒がガンマ−アルミナ上に１４重量％のＭｏ、３．３重
   量％のＮｉおよび３重量％のＰを含有する、請求項１記
   載の結晶質および微晶質パラフィンを水素化する方法。
5. 【請求項５】　　水素化方法にかけるに先立ち結晶質お
   よび微晶質パラフィンから予め油を除去する、請求項１
   記載の結晶質および微晶質パラフィンを水素化する方法
   。
6. 【請求項６】　　セイボルト色度水準が＋３０以上に保
   たれる微晶質パラフィン供給物の水素化における平均通
   油時間が１７０時間以上に達し、少くとも３６０時間ま
   ではセイボルト色度が＋２０以上であり、また約６００
   時間までは色度規格の下限界すなわちセイボルト尺度で
   ＋１５以内であり、その後、微晶質供給物を結晶質供給
   物によっておきかえつつ、色度水準を＋３０近辺まで上
   昇するように水素化プロセスを継続し、再び供給物を交
   換する、すなわち結晶質供給物を微晶質供給物によって
   おきかえる、請求項１記載の結晶質および微晶質パラフ
   ィンを水素化する方法。