JPH04228566A - スパッターイオンめっきによる導電性繊維被覆方法および装置 - Google Patents
スパッターイオンめっきによる導電性繊維被覆方法および装置Info
- Publication number
- JPH04228566A JPH04228566A JP9998591A JP9998591A JPH04228566A JP H04228566 A JPH04228566 A JP H04228566A JP 9998591 A JP9998591 A JP 9998591A JP 9998591 A JP9998591 A JP 9998591A JP H04228566 A JPH04228566 A JP H04228566A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fibers
- vacuum chamber
- hollow
- electrode
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Or Physical Treatment Of Fibers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacture Of Alloys Or Alloy Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は金属マトリックス複合材
料を製造するために使用される被覆された繊維の製造に
関する。
料を製造するために使用される被覆された繊維の製造に
関する。
【0002】
【技術的背景】例えば、英国特許第1,386,551
号および第1,560,110号の明細書から、繊維を
被覆材料の付着が化学的な蒸着により行われる反応室を
通して連続して延伸することにより金属マトリックス複
合材料の製造に使用される繊維を被覆することが知られ
ている。また、供給源からの材料が活性粒子によりスパ
ッター付着され、イオン化されかつ好適に帯電した加工
物にスパッター付着されるスパッターイオンめっきとし
て知られている方法により材料を付着させることができ
ることが知られている。
号および第1,560,110号の明細書から、繊維を
被覆材料の付着が化学的な蒸着により行われる反応室を
通して連続して延伸することにより金属マトリックス複
合材料の製造に使用される繊維を被覆することが知られ
ている。また、供給源からの材料が活性粒子によりスパ
ッター付着され、イオン化されかつ好適に帯電した加工
物にスパッター付着されるスパッターイオンめっきとし
て知られている方法により材料を付着させることができ
ることが知られている。
【0003】本発明は繊維の形態の導電性支持体上に被
覆を行なう方法および装置を提供し、そしてこの方法は
繊維に付着させようとする材料で構成された内壁部を有
する中空の陰極電極の内部に発生したプラズマ放電を通
してスパッターイオンめっきにより連続して被覆される
導電性繊維を延伸する作業を包含する。
覆を行なう方法および装置を提供し、そしてこの方法は
繊維に付着させようとする材料で構成された内壁部を有
する中空の陰極電極の内部に発生したプラズマ放電を通
してスパッターイオンめっきにより連続して被覆される
導電性繊維を延伸する作業を包含する。
【0004】本発明の装置は、真空室と、該真空室の内
部に配置されかつ中空の陰極として作用する円筒形の電
極であって、内面が導電性支持体繊維に付着させようと
する材料で構成された該電極と、該中空の陰極の内部に
プラズマ放電を発生させて、それにより帯電した種を中
空の陰極の壁部から付着させる手段と、繊維に電位を印
加する手段と、繊維を中空の陰極の内部のプラズマ放電
を通して連続して通過させる手段とを備えている。
部に配置されかつ中空の陰極として作用する円筒形の電
極であって、内面が導電性支持体繊維に付着させようと
する材料で構成された該電極と、該中空の陰極の内部に
プラズマ放電を発生させて、それにより帯電した種を中
空の陰極の壁部から付着させる手段と、繊維に電位を印
加する手段と、繊維を中空の陰極の内部のプラズマ放電
を通して連続して通過させる手段とを備えている。
【0005】連続して配置され、そして繊維に多層の被
覆を行なうことができるように異なる材料で構成された
1個よりも多数のこのような電極を含めることができる
。
覆を行なうことができるように異なる材料で構成された
1個よりも多数のこのような電極を含めることができる
。
【0006】
【実施例】さて、本発明を本発明の実施例の装置を示し
た略図について以下に説明する。図1について述べると
、スパッターイオンめっきにより炭化珪素繊維を被覆す
る装置は真空ポンプ(図示せず)およびポート2により
排気することができる真空室1を備えている。また、真
空室1には、ポート3が設けられており、ポート3によ
り、不活性のプラズマ発生ガスを真空室1に導入するこ
とができる。真空室1は冷却水コイル4により包囲され
ている。真空室1内には、円筒形の電極5が設けられて
いる。電極5は結線6および絶縁フィードスルー7によ
り真空室1の外部電源と接続され、それにより電極5に
負の電位を印加して、電極5を中空の陰極として作用さ
せることができる。また、炭化珪素またはその他の支持
体繊維10のための送りスプール8および巻取りスプー
ル9が設けられている。また、スパッターイオンめっき
法を助けるために、図示していないが、繊維10に結線
11および水銀ガスシール/フィードスルー12および
13を介して正の電位または交流電位を印加する手段が
設けられている。
た略図について以下に説明する。図1について述べると
、スパッターイオンめっきにより炭化珪素繊維を被覆す
る装置は真空ポンプ(図示せず)およびポート2により
排気することができる真空室1を備えている。また、真
空室1には、ポート3が設けられており、ポート3によ
り、不活性のプラズマ発生ガスを真空室1に導入するこ
とができる。真空室1は冷却水コイル4により包囲され
ている。真空室1内には、円筒形の電極5が設けられて
いる。電極5は結線6および絶縁フィードスルー7によ
り真空室1の外部電源と接続され、それにより電極5に
負の電位を印加して、電極5を中空の陰極として作用さ
せることができる。また、炭化珪素またはその他の支持
体繊維10のための送りスプール8および巻取りスプー
ル9が設けられている。また、スパッターイオンめっき
法を助けるために、図示していないが、繊維10に結線
11および水銀ガスシール/フィードスルー12および
13を介して正の電位または交流電位を印加する手段が
設けられている。
【0007】陰極電極5の内壁部14は製造10に蒸着
させようとする材料で構成されている。電極5の内壁部
14は水冷ジャケット15により包囲されている。冷却
水流入管16および流出管17は冷却水を陰極電極5の
内壁部14のまわりに循環させることができる。流入管
16および流出管17は絶縁されたリードスルー(le
ad−through)18および19をそれぞれ貫通
している。陰極電極5は絶縁上面21を有する支持部材
20上に装着されている。陰極電極5は電気遮蔽22に
より包囲されている。電気遮蔽22はそれ自体が接地さ
れた真空室1に結線23を介して接地されている。遮蔽
24および25は被膜材料がガスシール/フィードスル
ー12および13の内面に付着されることを阻止する作
用をする。実際問題として、陰極電極5の内壁部14は
異なる材料からなる別個のプレートの形態に構成するこ
とができる。これらのプレートは、独立して付勢させる
ことができ、それにより付着される被覆の組成を変える
ことができる。例えば、電極5は交互に配置されたチタ
ンおよび炭素のプレートで構成することができ、それに
より化学式どおりでない種々の被膜を炭化珪素製の繊維
10に付着させることができる。
させようとする材料で構成されている。電極5の内壁部
14は水冷ジャケット15により包囲されている。冷却
水流入管16および流出管17は冷却水を陰極電極5の
内壁部14のまわりに循環させることができる。流入管
16および流出管17は絶縁されたリードスルー(le
ad−through)18および19をそれぞれ貫通
している。陰極電極5は絶縁上面21を有する支持部材
20上に装着されている。陰極電極5は電気遮蔽22に
より包囲されている。電気遮蔽22はそれ自体が接地さ
れた真空室1に結線23を介して接地されている。遮蔽
24および25は被膜材料がガスシール/フィードスル
ー12および13の内面に付着されることを阻止する作
用をする。実際問題として、陰極電極5の内壁部14は
異なる材料からなる別個のプレートの形態に構成するこ
とができる。これらのプレートは、独立して付勢させる
ことができ、それにより付着される被覆の組成を変える
ことができる。例えば、電極5は交互に配置されたチタ
ンおよび炭素のプレートで構成することができ、それに
より化学式どおりでない種々の被膜を炭化珪素製の繊維
10に付着させることができる。
【0008】また、1個よりも多数の電極を設け、そし
て繊維10がこれらの電極を逐次通過して、それにより
繊維10に多層被膜を付着することができるように配置
してもよい。
て繊維10がこれらの電極を逐次通過して、それにより
繊維10に多層被膜を付着することができるように配置
してもよい。
【0009】使用中、真空室1の内部からのガスの排出
を助けるために、真空室1は約10−3トルまで排気さ
れ、そして図示しない装置により加熱される。真空室1
の内部からガスが排出されたときに、電極5の内部でグ
ロー放電を発生可能にするための不活性の作用ガス、例
えば、アルゴンまたはヘリウムが導入される。好適な圧
力は10−1トルから1.5×10−1トルまでの範囲
内であり、また好適な陰極電位は300ボルトないし9
00ボルトの範囲内である。
を助けるために、真空室1は約10−3トルまで排気さ
れ、そして図示しない装置により加熱される。真空室1
の内部からガスが排出されたときに、電極5の内部でグ
ロー放電を発生可能にするための不活性の作用ガス、例
えば、アルゴンまたはヘリウムが導入される。好適な圧
力は10−1トルから1.5×10−1トルまでの範囲
内であり、また好適な陰極電位は300ボルトないし9
00ボルトの範囲内である。
【0010】電極5の直径および長さ、作用ガス圧力お
よび入力される電力レベルは要求される繊維10の被覆
の蒸着速度および厚さにより決定される。
よび入力される電力レベルは要求される繊維10の被覆
の蒸着速度および厚さにより決定される。
【0011】電極5の内径、その直径および温度、プラ
ズマガス圧力、繊維10の温度および電位を経験に基づ
いて適正に最適化することにより、入力される電力、し
たがって、付着速度を最適化することができる。
ズマガス圧力、繊維10の温度および電位を経験に基づ
いて適正に最適化することにより、入力される電力、し
たがって、付着速度を最適化することができる。
【0012】例えば、22mmの口径および約200m
mの長さを有する水冷されるチタン電極5と共に約1K
Wの入力電力レベルを使用して、約750℃の平均のピ
ークガスプラズマ温度において、約150μmの直径の
炭化珪素繊維に対して約1.13×10−4gm m
m−1 KW hr−1の平均付着速度が得られた
。これは約1.5μmの付着速度に相当する。
mの長さを有する水冷されるチタン電極5と共に約1K
Wの入力電力レベルを使用して、約750℃の平均のピ
ークガスプラズマ温度において、約150μmの直径の
炭化珪素繊維に対して約1.13×10−4gm m
m−1 KW hr−1の平均付着速度が得られた
。これは約1.5μmの付着速度に相当する。
【0013】200ワットないし250ワットの入力電
力において、電極5から繊維10への0.03グラム/
時の転移速度が得られた。繊維10は約100μmの直
径を有し、そしてこの転移速度はほぼ65μmの被覆の
厚さに相当していた。
力において、電極5から繊維10への0.03グラム/
時の転移速度が得られた。繊維10は約100μmの直
径を有し、そしてこの転移速度はほぼ65μmの被覆の
厚さに相当していた。
【図1】本発明のスパッターイオンにより炭化珪素を被
覆する装置の断面図である。
覆する装置の断面図である。
1 真空室
4 水冷コイル
5 電極
6 結線
7 フィードスルー
8 送りスプール
9 巻取りスプール
10 繊維
11 結線
12 水銀ガスシール/フィードスルー13 水銀
ガスシール/フィードスルー14 内壁部 16 冷却水流入管 17 冷却水流出管 20 支持部材 22 電気遮蔽 24 遮蔽 25 遮蔽
ガスシール/フィードスルー14 内壁部 16 冷却水流入管 17 冷却水流出管 20 支持部材 22 電気遮蔽 24 遮蔽 25 遮蔽
Claims (5)
- 【請求項1】 繊維の形態の導電性支持体に被覆を行
なう方法において、繊維に付着させようとする材料で構
成された壁部を有する中空の円筒形の電極の内部にプラ
ズマ放電を発生させて、それにより該電極の内壁部から
の帯電した種をスパッター付着させ、そして該繊維をプ
ラズマ放電を通して連続して延伸して、プラズマからの
被覆材料を該繊維に付着させる操作を含む方法。 - 【請求項2】 スパッターイオンめっきにより導電性
繊維に被覆を行なう装置において、真空室と、真空室を
排気する手段と、プラズマ形成ガスを真空室に導入する
手段と、真空室の内部に配置されかつ使用中に陰極電極
として作用する円筒形の中空の電極であって、内面が導
電性繊維に付着させようとする材料で構成された該電極
と、該中空の陰極の内部にプラズマ放電を発生させて、
それにより該材料を中空の陰極の壁部から付着させる手
段と、繊維に電位を印加する手段と、繊維を中空の陰極
の内部のプラズマ放電を通して連続して通過させる手段
とを備えた装置。 - 【請求項3】 繊維が中空の陰極を逐次通過すること
ができ、それにより繊維に多層被覆を付着させることが
できるように配置された複数個の中空の陰極が設けられ
た請求項2記載の装置 - 【請求項4】 一つまたはそれ以上の中空の陰極が異
なる材料からなるプレートで構成され、そして異なる材
料からなるプレートを別個に付勢させて、それにより化
学式どおりでない異なる組成の被覆を繊維に付着可能に
する手段が設けられた請求項2または3のいずれか一項
に記載の装置。 - 【請求項5】 陰極電極の温度を制御する手段を含む
請求項2から4までのいずれか一項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB90097429 | 1990-05-01 | ||
| GB909009742A GB9009742D0 (en) | 1990-05-01 | 1990-05-01 | Production of composite precursor wires by sputter ion-plating onto an electrically conducting filament |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04228566A true JPH04228566A (ja) | 1992-08-18 |
Family
ID=10675267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9998591A Pending JPH04228566A (ja) | 1990-05-01 | 1991-05-01 | スパッターイオンめっきによる導電性繊維被覆方法および装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0455408A1 (ja) |
| JP (1) | JPH04228566A (ja) |
| GB (2) | GB9009742D0 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102108488A (zh) * | 2009-12-29 | 2011-06-29 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 镀膜装置 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5135554A (en) * | 1991-05-20 | 1992-08-04 | Hughes Aircraft Company | Method and apparatus for continuous sputter coating of fibers |
| GB9522062D0 (en) | 1995-10-27 | 1996-01-03 | Rolls Royce Plc | A seal and a chamber having a seal |
| GB9821903D0 (en) * | 1998-10-09 | 1998-12-02 | Rolls Royce Plc | A method of applying a coating to a metallic article and an apparatus for applying a coating to a metallic article |
| CN109627010A (zh) * | 2018-12-04 | 2019-04-16 | 燕山大学 | 碳化硅复合材料及其制备方法 |
| US12467129B2 (en) | 2022-11-09 | 2025-11-11 | Battelle Savannah River Alliance, Llc | Sputtering apparatus and related systems and methods for sputtering substrates |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| LU57484A1 (ja) * | 1968-12-05 | 1970-06-09 | ||
| GB1295285A (ja) * | 1969-04-25 | 1972-11-08 | ||
| GB1425754A (en) * | 1973-07-03 | 1976-02-18 | Electricity Council | Methods of and apparatus for coating wire rod or strip material by sputtering |
| GB2182350B (en) * | 1985-07-01 | 1989-04-26 | Atomic Energy Authority Uk | Coating improvements |
| US4863576A (en) * | 1986-09-04 | 1989-09-05 | Collins George J | Method and apparatus for hermetic coating of optical fibers |
| EP0290127A1 (en) * | 1987-05-06 | 1988-11-09 | Varian Associates, Inc. | Sputter manufacturing method for superconducting wire |
| GB2219006A (en) * | 1988-05-26 | 1989-11-29 | Rolls Royce Plc | Coated fibre for use in a metal matrix |
-
1990
- 1990-05-01 GB GB909009742A patent/GB9009742D0/en active Pending
-
1991
- 1991-04-23 GB GB9109088A patent/GB2243844A/en not_active Withdrawn
- 1991-04-24 EP EP91303681A patent/EP0455408A1/en not_active Withdrawn
- 1991-05-01 JP JP9998591A patent/JPH04228566A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102108488A (zh) * | 2009-12-29 | 2011-06-29 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 镀膜装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2243844A (en) | 1991-11-13 |
| GB9109088D0 (en) | 1991-06-12 |
| EP0455408A1 (en) | 1991-11-06 |
| GB9009742D0 (en) | 1990-06-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4749587A (en) | Process for depositing layers on substrates in a vacuum chamber | |
| JP5043657B2 (ja) | 事前に組立済みのプロセス配管の内部表面を現場においてコーティングする方法及びシステム | |
| US4039416A (en) | Gasless ion plating | |
| US6274014B1 (en) | Method for forming a thin film of a metal compound by vacuum deposition | |
| US4619748A (en) | Method and apparatus for the reactive vapor deposition of layers of oxides, nitrides, oxynitrides and carbides on a substrate | |
| GB2077770A (en) | Gasless iron plating | |
| US6168698B1 (en) | Apparatus for coating a substrate | |
| US5306408A (en) | Method and apparatus for direct ARC plasma deposition of ceramic coatings | |
| JPS60181274A (ja) | 基板に被着を行なう装置および方法 | |
| US6110540A (en) | Plasma apparatus and method | |
| USH566H (en) | Apparatus and process for deposition of hard carbon films | |
| US5690796A (en) | Method and apparatus for layer depositions | |
| JPH09170078A (ja) | 導電性ターゲットから基板をコーティングする装置 | |
| EP1746178B1 (en) | Device for improving plasma activity in PVD-reactors | |
| JPH04228566A (ja) | スパッターイオンめっきによる導電性繊維被覆方法および装置 | |
| US5238741A (en) | Silicon carbide filaments bearing a carbon layer and a titanium carbide or titanium boride layer | |
| US3749662A (en) | Heated substrate support station for sputtering systems | |
| EP0047456B1 (en) | Ion plating without the introduction of gas | |
| EP0423996B1 (en) | Coated filaments for composites | |
| EP0770703B1 (en) | A seal and a chamber having a seal | |
| JP2854130B2 (ja) | スパッタリングにより基板を被覆するための装置 | |
| JPH03215664A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| GB2145434A (en) | Apparatus for treating the internal surface of a tube by electrical glow discharge | |
| JP2567843B2 (ja) | ハイブリツドイオンプレ−テイング方法とその装置 | |
| JP7219941B2 (ja) | プラズマcvd装置、磁気記録媒体の製造方法及び成膜方法 |