JPH0422961A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは静電特性、耐
湿性及び耐久性の優れた電子写真感光体に関する。

（従来の技術） 電子写真感光体には所定の特性を得るため、あるいは適
用される電子写真プロセスの種類に応じて種々の構成を
とる。

電子写真感光体の代表的なものとして、支持体上に光導
電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備えた
感光体があり、広く用いられている。支持体と少なくと
も１層の光導電層から構成される感光体は、最も一般的
な電子写真プロセスによる、即ち、帯電、画像露光及び
現像、更に必要に応じて転写による画像形成に用いられ
る。

更には、ダイレクト製版用のオフセット原版として電子
写真感光体を用いる方法が広く実用されている。

電子写真感光体の光導電層を形成するために使用する結
合剤は、それ自体の成膜性および光ｉ電性粉末の結合剤
中への分散能力が優れるとともに、形成された記録体層
の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層の
光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰が
大きく、前露光疲労が少く、且つ、撮像時の湿度の変化
によってこれろ特性を安定に保持していることが必要で
ある等の各種の＃％電特性および優れた撮像性を具備す
る必要がある。

更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用原版の研究が
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印ｓｉ＋原版としての印刷特性を両立させた光導電層
用の結着樹脂が必要である。

しかしながら、従来公知の樹脂においては、特に帯電性
、暗電荷保持性、光怒度の静電特性、光導電層の平滑性
等に多くの問題があり、実用上満足できるものではなか
った。

又、電子写真式平版印刷用原版として開発されたとする
結着樹脂においても、現実に評価してみると前記の静電
特性、印刷物の地汚れ等に問題があった。

更に、これらの問題点を解決するために、結着樹脂とし
て酸性基を重合体の側鎖に含有する共重合成分を０．０
５〜１０重量％含有する低分子量の樹脂（編ｌＯ３〜１
０′）を用いる又は酸性基を重合体主鎖の片末端にのみ
結合して成る低分子量の樹脂Ｃ〜１０３〜１０４）を用
いることにより、光導電層の平滑性及び静電特性を良好
にし、しかも地汚れのない画質を得ることが特開昭６３
−２１７３５４号、同６４７０７６１号および特開平２
−６７５６３号にそれぞれ記載されている。

また結着樹脂として、酸性基を共重合体の側鎖に含有し
、又は、重合体主鎖の末端に結合し、且つ熱及び／又は
光硬化性官能基を含有する重合成分を含有する樹脂を用
いる技術が特開平１〜１００５５４号、特願昭６３−３
９６９０号に、酸性基を共重合体の側鎖に含有し、又は
重合体主鎖の末端に結合する樹脂を架橋剤と併用する技
術が特開平１−１０２５７３号、同２−８７４号にそれ
ぞれ開示され、更に前記低分子量の樹脂（重量平均分子
量１０３〜１０“）を高分子量（重量平均分子量ｌＯ“
以上）の樹脂と組合せて用いる技術が特開昭６４−５６
４号、同６３−２２０１４９号、同６３−２２０１４８
号、特開平１−２８０７６１号、同１−１１６６４３号
及び同１−１６９４５５号に、かかる低分子量体を熱及
び／又は光硬化性樹脂と組合せて用いる技術が特開平１
−２１１７６６号及び同２−３４８５９号に、かかる低
分子量体をクシ型ポリマーと組合せて用いる技術が特開
平２〜５３０６４号、同２−５６５５８号及び特願昭６
３２５４７８６号にそれぞれ開示されている。これらの
技術により、側鎖又は末端に酸性基を含有する樹脂を用
いたことによる上記特性を阻害せずにさらに光導電層の
膜強度を充分ならしめ、機械的強度が増大されることが
記載されている。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、これらの樹脂を用いても、環境が高温・
高温から低温・低湿まで著しく変動した場合における安
定した性能の維持においてはいまだ不充分であることが
判った。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング露
光方式では、従来の可視光による全面同時露光方式に比
べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも制約がある
ことから、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に対
して、より高い性能が要求される。

本発明は、以上の様な従来の電子写真感光体の有する課
題を改良するものである。

本発明の目的は、複写画像形成時の環境が低温低湿ある
いは高温高湿の如く変動した場合でも、安定して良好な
静電気特性を維持し、鮮明で良質な画像を存する電子写
真感光体を提供することである。

本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ環境依存性の
小さいｃｐｃ電子電子写真体光体供することである。

本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用いたスキャ
ニング露光方式に有効な電子写真感光体を提供すること
である。

本発明の他の目的は、電子写真式平版印刷原版として、
静電特性（特に暗電荷保持性及び光感度）に優れ、原画
に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面
−様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、
また耐剛性の優れた平版印刷原版を提供することである
。

（課題を解決するための手段） 上記目的は無機光導電体及び結着樹脂を少なくとも含有
する光導電層を有する電子写真感光体において、該結着
樹脂が、下記で表わされる結着樹脂［Ａ］の少なくとも
１種と熱及び／又は光硬化性樹脂〔Ｂ〕及び架橋剤のう
ちの少なくともいずれか１種とを含有することを特徴と
する電子写真感光体により達成されることが見出された
。

結着樹脂〔Ａ〕 ＩＸＩＯ’〜２Ｘ１０’の平均分子量を有し、−ＰＯ３
Ｈｚ基、−ＣＯＯＨ基、−５ＯｚＨ基、フェノール性Ｏ
Ｒ基、炭化水素基を示す）を示す）及び環状酸無水物含
有基から選択される少なくとも１つの酸性基を含有する
少なくとも１つの重合体成分から成るＡブロックと下記
一般式（１）で示される重合体成分を少なくとも含有す
るＢブロックとから構成されるＡＢ型ブロック共重合体
を含有して成る事を特徴とする電子写真感光体によって
達成される。

一般式（Ｔ　）　　　　　　　ＣＨ。

−ｆｌ−Ｃ）１２−Ｃ−チー ＣＯＯ−Ｒ （弐Ｎ）中、Ｒ１ば炭化水素基を表わす。）即ち、本発
明に用いられる結着樹脂は、上記の如き特定の酸性基（
以下特にことわらない限り酸性基の中に環状酸無水吻合
を基を含むこととする）を含有する成分とメタクリレー
ト成分を含有する成分とをそれぞれブロック成分として
構成するブロック共重合体樹脂〔Ａ〕と、熱及び／又は
光硬化性樹脂ｒＢ）及び架橋剤のうちの少なくともいず
れか１種とを含有して成る場合に、得られる感光体の電
子写真特性や機械的強度（印刷版として用いたときには
耐刷性）が向上することが判った。

本発明に用いられる樹脂〔Ａ〕は、ＡＢ型ブロック共重
合体であり、Ａブロックは、前記した特定の酸性基から
選ばれる少なくとも１種を含有する少なくとも１つの重
合成分から構成され、Ｂブロックは、式（１）で示され
るメタクリレート成分を少なくとも１種含有する重合体
成分を含をすることから成り、且つ重量平均分子量がｌ
Ｘｌ０’〜２×１０″である事を特徴とする。

前述の光導電層の平滑性及び静電特性を良化させるとし
て公知の酸性基含有結着樹脂の中で低分子量体を用いる
ものは、酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダムに
存在する樹脂あるいは、重合体主鎖の片末端二このみ酸
性基を結合して成る樹脂であった。

これに対し、本発明の結着樹脂で用いられる樹脂ｉＡ］
は、樹脂中に含有される酸性基が重合体主鎖ウニこラン
ダムに存在するものでも重合体主鎖の末端にのみ結合し
ているものでもなく、重合体主鎖中にブロフクで存在す
る様に、更に特定化された共重合体である。

本発明に従う共重合体ＣＡ）は、重合体の主鎖のいずれ
か一方の片側部分Ｑこ偏在化された酸性基の部分の領域
が無機光導電体の化学量論的な欠陥に充分に吸着すると
ともに、重合体主鎖を構成する他のブロック部分（Ｂブ
ロック部分）は、光導電体の表面をゆるやかに且つ充分
に被覆しでいると推定される。その作用機構により、本
発明に従う共重合体は無機光導電体の化学量論的な欠陥
部が多少変動しても、充分な吸着領域をもつ事から常に
安定した無機光導電体と樹脂〔Ａ；・との相互作用が保
たれると推論され、本発明に従えば従来公知の酸性基含
有樹脂に比べて一段と良好Ｏこ光導電体のトラップを充
分に補償すると共に湿度特性を向上させる一方、光導電
体の分散が充分に行なわれ、凝集を抑制するとともに、
高温・高温から低温・低湿まで環境変化が著しく変動し
でも安定した高性能の電子写真特性を維持することが判
った。そして熱及び／又は光硬化性樹脂ＣＢ）及び／又
は架橋剤は、樹脂〔Ａ〕を用いたことによる上記電子写
真特性の高性能を全く阻害せずに、樹脂［Ａ）のみでは
不充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめるもので
ある。特に半導体レーザーを用いたスキャニング露光方
式を用いる場合にを効である。また、光導電層表面の平
滑性が更に向上する。電子写真式平版印刷原版として光
導電層表面の平滑性の粗らい感光体を用いると、光導電
体である酸化亜鉛粒子と結着樹脂の分散状態が適切でな
く、凝集物が存在する状態で光導電層が形成されるため
、下体脂化処理液による下体脂化処理をしても非画像部
の親水化が均一に充分に行なわれず、印刷時に印刷イン
キの付着を引き起こし、結果として印刷物の非画像部の
地汚れが生してしまう。

本発明の樹脂を用いた場合無機光導電体と結着樹脂の吸
着・被覆の相互作用が適切に行われ、且つ光導電層の膜
強度が保持されるものである。

更に酸性基を重合体主鎖に連結する側鎖に含有するラン
ダム共重合体樹脂に比べて光感度が良好であることが判
った。

通常可視光〜赤外光域Ｓこ光感度を保有させるために用
いる分光増悪色素は、光導電体に吸着することでその分
光増感作用が充分機能するものであることから、本発明
の共重合体を含有する結着樹脂は、分光増感色素の吸着
を阻害しないで光導電体と適切に相互作用するものと推
定される。この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用色
素とじて特に有効なンアニン色素あるいはフタロシアニ
ン系顔料で特に顕著な効果を示した。

本発明における低分子量体の樹脂〔Ａ〕のみを結着樹脂
として用いる場合にも、光導電体と結着樹脂が充分に吸
着し、粒子表面を被覆し得るため、光導電層の平滑性及
び静電特性においても良好で、しかも地汚れのない画質
が得みれ、更に、ＣＰＣ感光体あるいは数十枚の印刷枚
数のオフセット原版としては充分な膜強度が保をされる
。しかし、ここで本発明の如く樹脂［Ｂ］及び／又は架
橋剤を共存させることで、樹脂Ｆ　Ａ　）の機能を何ら
疎外することなく樹脂〔Ａ〕のみではいまだ不充分な光
導電層の機械的強度をより向上させることができた。従
って、本発明の感光体は、環境条件が変動しても優れた
静電特性を有し且つ、膜強度も充分であり、過酷な印刷
条件下（例えば大型印刷機で印圧が強くなる場合など）
でも最低６０００枚の印刷枚数が可能となった。

ブロック共重合体〔Ａ〕における、特定の酸性基含有樹
脂の重合体成分量は、共重合体ＣＣ１００重量部当り好
ましくは０．５〜２０重量部、より好ましくは３〜１５
重量部の割合で含有される。

一般式（［）で示されるメタクリレート成分を含有する
ブロック部分（Ｂブロック）における式（１）で示され
るメタクリレート成分量は、そのブロック全重量中、好
ましくは３０重量％〜１００重量％、より好ましくは５
０〜１００重量％である。共重合体［Ａ）の重量平均分
子量はｌＸｌ０’〜２×１０４、好ましくは３×１０３
〜ｌＸｌ０’である。

樹脂〔Ａ〕の分子量がｌＸｌ０’より小さくなると、皮
膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、また分子量が
２Ｘ１０’より大きくなると本発明の樹脂〔Ａ〕の効果
が少なくなり、従来公知の樹脂と同程度の電子特性にな
ってしまう。

結着樹脂〔Ａ〕における酸性基含有量が０．５重量％よ
り少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得るこ
とができず、該酸性基含有量が２０重量％よりも多いと
、分散性が低下し、膜平滑度及び電子写真特性の高温特
性が低下し、更にオフセットマスターとして用いるとき
に地汚れが増大するため、好ましくない。

該樹脂［Ａ］のガラス転移点は、−１０°Ｃ〜１００°
Ｃの範囲のものが好ましいが、より好ましくは５°Ｃ〜
８５°Ｃである。

本発明のＡＢ型ブロック共重合体（樹脂〔Ａ））のＡブ
ロックを構成する特定の酸性基を含有する重合成分につ
いて、更に具体的に説明する。

酸性基としては、−ＰＯ２）１２基、−ＣＯＯ）Ｈ基、
−３Ｏ，Ｈ基、フェノール性０）１基、−Ｐ−ＯＨ基（
Ｒは炭化水素基又は−ＯＲ’基（Ｒ’は炭化水素基）を
示す）及び環状酸無水物含有基が挙げられ、好ましくは
、−Ｃ００）１基、−５０３１（基、フェノール性ＯＨ
基、及びＰ−ＯＨ基である。

基（Ｒ’ は炭化水素基を表わす） を表わし、 Ｒ及 びＲ′は好ましくは炭素数１〜２２の脂肪族基（例えば
、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシ
ル基、２−クロロエチル基、２メトキソエチル基、３−
エトキシプロピル基、７１Ｊル基、クロトニル基、ブテ
ニル基、シクロヘキシル基、ヘンシル基、フェネチル基
、３−フェニルプロピル基、メチルベンジル基、クロロ
ヘンシル基、フロロベンジル基、メトキシヘンシル基等
）、又は置換されてもよいアリール基（例えば、フェニ
ル基、トリル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル
基、クロロフェニル基、フロロフェニル基、ブロモフェ
ニル基、クロロ−メチル−フェニル基、ジクロロフェニ
ル基、メトキシフェニル基、シアノフェニル基、アセト
アミドフェニル基、アセチルフェニル基、ブトキシフェ
ニル基等）等を表わす。

フェノール性ＯＨ基としては、ヒドロキシフェノール又
はヒドロキシフェニル基を置換基として含有するメクク
リル酸エステルもしくはアミド類を例として挙げること
ができる。

また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも１つの環状
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ノカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。

脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク酸無水
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロペンクン−１，２−ジカルボン酸無水物環、フクロ
ヘキサン−１，２−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキ
セン−１，２−ジカルボン酸無水物環、２，３−ビシク
ロＣ２，２，２Ｅオクタンジカルホン酸無水物環等が挙
げられ、これらの環は、例えは塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。

又、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸
無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水物環、ピリジ
ン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン酸
無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原
子、臭素原子等のハロナ゛ン原子、メチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒトロキノル
基、ノア５′基、ニトロ基、アルコキノカルボニル！（
フルコキノ基としては、例えは、メトキ７／基、エトキ
ノ基等）等が置換されていてもよい。

以」二の如き一特定の酸性基を含有する重合体成分、と
じては、例えば、本発明の樹脂ＳＡ〕においてＢブロッ
ク成：ｖ’１□を構成する重合体成分、即ち一般式（＋
）で示されるメタクリレート成分等の如き相当するビニ
ル系化合物と共重合する、該酸性基を含有するビニル系
化合物であればいずれでも用いることができる。

例えば、高分子学会編゛高分子データ・ハントブ、ツク
：基礎属］、培風館（１９８６刊）等に記載されている
ビニル系化合物を用いることができ、具体的シこは、ア
クリル酸、α及び／又はβ置換アクリル酸（例えばα−
ア七［キン体、α−アセトキ５メメチル体、α−（２−
アミノ）メチル体、αクロロ体、α−ブロモ体、α−フ
ロロ体、α−トリブチルノリル体、α−ノアノ体、β−
クロロ体、β−プロ七体、α−クロロ−β−メトキン体
、αβ−ジクロロ体等）、メタクリル酸、イタコン酸、
イタコン酸半エステル類、イタコン酸半アミド類、クロ
トン酸、２−アルケニルカルボン酸類（例えば２−ペン
テン酸、２−メチル−２−ヘキセン酸、２−オクテン酸
、４−メチル−２−ヘキセン酸、７１＝エチル−２−オ
クテン酸等）、マレイン酸、マレイン酸半エステル類、
マレイン酸半アミド類、ビニルヘンゼンカルボン酸、ビ
ニルヘンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホ
スホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル基の半エ
ステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又はスルホン酸
のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基中に該酸性基
を含有する化合物が挙げられる。

これらの化合物の具体例として以下のものを挙げること
ができる。但し、以下の各個において、ａは−Ｈ，−Ｃ
１，、−ＣＬ　−Ｂｒ　、−ＣＮ−１−ＣＬＣＯＯＣＨ
ｉ又は−ＣＬＣＯＯＩＩを示し、ｂは−Ｈ又は−ＣＨｊ
を示し、ｎは２〜１８の整数を示し、ｍは１〜１２の整
数を示し、ｆは１〜４の整数を示す。

（ａ ■） ＣＨづ ０ＯＨ （ａ １“。

ＣＨ＝　ＣＨ ０ＯＨ （ａ ＣＨづ Ｃ００（ＣＨｚ）ｎｃＯＯＨ （ａ ＣＨ２＝Ｃ Ｃ０ＮＨ（ＣＨｚ）ｎｃＯＯＨ （ａ ＣＨｚ ＣＯＯ（ＣＨｚ）ｎＣ００（ＣＨｚ）ｎｏＧＯ（ＣＨ ｚ） ＣＨ２＝Ｃ Ｃ０ＮＨ（ＣＨｚ）ｎＯｃＯ（ＣＨｚ）ｓ＋ｃＯＯＨ（
ａ ＣＨ２＝Ｃ Ｃ０ＮＨＣＯＯ（ＣＨｚ）ｎｃＯＯｌｌ（ａ ＣＨ，＝Ｃ ＣＯＮｔｌＣＯＮＨ（ＣＨｚ）ｎｃＯＯＨ（ａ−１１） ＣＯＮＨＣＨ ＣＢ、Ｃ００Ｈ （ａ 〒 （ａ−１４） 〒 （ｍは同じでも異なってもよし）） （ａ ＣＨ。

Ｃ）Ｉ ＣＨｚＯＣＯ（ＣＨｚ）ｍｃＯＯＨ （ａ ＣＨｚ　””　ＣＨ＋Ｃ８２￥−ＣＯＯＩ＋（ａ （ａ ＣＨ２＝Ｃ Ｃｏｏ　（ＣＨｚ）　ｎ０ｃＯＨ＝　ＣＨＣ００）Ｉ（
ａ−１９） （ａ−２０） （ａ−２１） （ａ−２２） （ａ−２３） 〒 〒 Ｈ （ａ （ａ 〒 （ａ−２６） （ａ−２７） Ｈ Ｈ Ｈ （ａ ２日） （ａ （ａ−３０） ＣＨ，＝Ｃ Ｃ＝ＣＣ００（ＣＨｚ）：＋１Ｉ （ａ φ （ａ−３２） （ａ （ａ−３４） （ａ−３５） （ａ−３６） （ａ Ｃ００（ＣＨｚ）ｚ　Ｃ０Ｎ（ＣＨｚＣＨｚＣＯＯＨ）
　ｚ（ａ Ｓｏ、）Ｉ （ａ （ａ ｏｏｎ （ａ−４１） ｌｈ ＣＨ （ａ−４２） （ａ−４３） （ａ−４４） ＣＨｚ＝ＣＨ ＣＨ （ａ 上記の如き特定の酸性基を含有する重合成分ばＡブロッ
ク中に２種以上含有されていてもよく、その場合におけ
る該２種以上の酸性基含有成分はＡブロック中において
ランダム共重合又はブロック共重合のいずれの態様で含
有されていてもよい。

また、該酸性基を含有しない成分がＡブロック中に含ま
れていてもよく、該成分の例としては前記一般弐Ｈ）又
は後記一般式（ｆｆ）で示される成分等があげられる。

かかる酸性基非含有成分の含有量はＡブロンク中好まし
くは０〜５０重量％、より好ましくは０〜２０重量％で
あり、最も好ましくは、かかる酸性基非含有成分はＡプ
ロ、り中に含まれない。

次にＡＢ型ブロック共重合体（樹脂〔Ａ〕）において、
Ｂブロック成分を構成する重合成分について詳しく説明
する。

Ｂブロック成分は、少なくとも一般式（１）で示される
メタクリレート成分を含有し、該式（ｒ）のメタクリレ
ート成分は好ましくはＢブロック成分中、３０〜１００
重量％、より好ましくは５０〜１００重量％含有される
。

一般式（１）で示される繰り返し単位において、Ｒ１の
炭化水素基は置換されていてもよい。

Ｒ１は好ましくは炭素数１〜１８の置換されていてもよ
い炭化水素基を表わす。置換基としては上記ＡＢ型ブロ
ック共重合体のＡブロックを構成する重合成分に含有さ
れる前記酸性基以外の置換基であればいずれでもよく、
例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子
、臭素原子等）、０−Ｚｌ、−ＣＯＯ−Ｚｌ、　０ＣＯ
−Ｚｌ　（Ｚｌは、炭素数１〜２２のアルキル基を表わ
し、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘ
キサデシル基、オクタデシル基等である）等の置換基が
挙げられる。好ましい炭化水素基としては、炭素数１〜
工８の置換されてもよいアルキル基（例えば、メチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキ
シル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデ
シル基、オクタデシル基、２−クロロエチル基、２−ブ
ロモエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシカル
ボニルエチル基、２メトキシエチル基、３−ブロモプロ
ピル基等）、炭素数４〜１８の置換されてもよいアルケ
ニル基（例えば、２−メチル−１−プロペニル基、２ブ
テニル基、２−ペンテニル基、３−メチル−２ペンテニ
ル基、１−ペンテニル基、■−へキセニル基、２−へキ
セニル基、４−メチル−２−へキセニル基等）、炭素数
７〜１２の置換されてもよいアラルキル基（例えば、ベ
ンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基、ナ
フチルメチル基、２−ナフチルエチル基、クロロベンジ
ル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、エチルベ
ンジル基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、
ジメトキシベンジル基等）、炭素数５〜８の置換されて
もよい脂環式基（例えば、シクロヘキシル基、２−シク
ロヘキシルエチル基、２−シクロペンチルエチル基等）
又は炭素数６〜１２の置換されてもよい芳香族基（例え
ば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、
プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェ
ニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エ
トキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシ
フェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、
ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニ
ル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニ
ルフェニル基、フトキシカルボニルフェニル基、アセト
アミドフェニル基、プロピオアミドフェニル基、ドブシ
ロイルアミドフェニル基等）等があげられる。

Ｒ＋の炭化水素基において、Ｉｔ、が脂肪族基の場合に
は好ましくは、炭素数１〜５の炭化水素基を式（１）で
表わされる成分中の６０重量％以上含有することが好ま
しい。

更に、該樹脂〔Ａ〕において、Ｂブロック成分を構成す
る一般式（１）で示される繰り返し単位の一部又は全部
が下記一般式（Ｉａ）及び／又は（Ｉ　ｂ）で示される
繰り返し単位であることが好ましい。従ってＢブロック
成分中下記一般式（Ｉａ）及びＮ　ｂ）から選択される
少なくとも１つの繰り返し単位が該他のブロック中３０
重量％以上、 特に５０〜１００重量％含有されることが好ましい。

一般式（Ｉａ） ＣＩ＋３ 一般式（Ｉ　ｂ） Ｈｊ −←Ｃｌ！−Ｃ→− 〔式（Ｉａ）又は（Ｉ　ｂ）中、Ｘ、及びｘ２ハ互イニ
独立に、それぞれ水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素
基、塩素原子、臭素原子−ＣＯＺ！又は−ＣＯＯＺｚ（
２２は各々炭素数１〜１０の炭化水素基を示す）を表わ
す。但し、ｘｌと×２がともに水素原子を表わすことは
ない。

Ｌｌ及びＬ！はそれぞれ一〇〇〇−とベンゼン環を結合
する、単結合又は連結原子数１〜４個の連結基を表わす
。］ 該式（Ｉａ）及び／又は（Ｉｂ）で示される繰り返し単
位を酸性基を含有しないＢブロンク中に含有させること
により、より一層電子写真特性（特にν１゜、Ｄ、Ｒ，
Ｒ−Ｅｌ／ＩＱ　）の向上が達成できる。

この事の理由は不明であるが、１つの理由として、メタ
クリレートのエステル成分である、オルト位に置換基を
有する平面性のベンゼン環、又はナフタレン環の効果に
より、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマー分子鎖の
配列が適切に行なわれることによるものと考えられる。

式（Ｉａ）において、好ましい×１及び×２としてそれ
ぞれ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに、好ま
しい炭化水素基として、炭素数１〜４のアルキル基（例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等）、
炭素数７〜９のアラルキル基（例えばヘンシル基、フェ
ネチル基、３−フェニルプロピル基、クロロベンジル基
、ジクロロベンジル基、ブロモヘンシル基、メチルヘン
シル基、メトキシヘンシル基、り四ローメチルーベンジ
ル基等）及びアリール基（例えばフェニル基、トリル基
、シリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、
クロロフェニル基、ジクロロ７、ｚニル基等）、並びに
−ＣＯＺｚ及び−ＣＯＯＺｚ　　（好ましいＺ２として
は上記好ましい炭化水素基として記載したものを挙げる
ことができる）を挙げることができる。但し、Ｘｌとｘ
２がともに水素原子を表わすことはない。

式（Ｉａ）において、Ｌ、は−ＣＯＯ−とベンゼン環を
結合する、直接結合又は　＋ＣＨ２＋−Ｔ−（ｎｌは１
〜３の整数を表わす）　、ＣＨｚＣＨｚＯＣＯ−１（Ｃ
Ｈ２０）、、２（ｎｚはｌ又は２の整数を表わす）　、
−Ｃ）ＩＺＣＨ２０等の如き連結原子数１〜４個の連結
基を表わす。

式（Ｉｂ）におけるＬ２はり、と同一の内容を表わす。

本発明の樹脂［Ａ）のＢブロックにおいて好ましく用い
られる、式（ｌａ）又は（［ｂ）で示される繰り返し単
位の具体例を以下に挙げる。しかし、本発明の範囲は、
これらに限定されるものではない。

（ｂ−１） （ｂ−２） （ｂ （ｂ−４） Ｈｘ ＣＢ。

ＣＨｌ ＣＨユ （ｂ−５） （ｂ （ｂ−７） （ｂ　−８） Ｈｉ ＣＩ。

しｌ ＣＨ３ （ｂ−９） （ｂ （ｂ−１１） （ｂ−１２） ＣＢ。

ＣＨ。

Ｚ ＣＩ（３ ｒ し■３ （ｂ （ｂ （ｂ （ｂ−１６） ｕｆｆ ＣＨ。

ＣＨ。

（ｂ （ｂ （ｂ （ｂ ＣＩ（。

しＩ ＣＩ。

ＣＩ Ｈ３ （ｂ−２１） （ｂ　−２２） （ｂ （ｂ−２４） Ｈｓ ＣＨ３ ｒ ＣＨ。

しＩ Ｈｓ （ｂ （ｂ　−２６） （ｂ （ｂ−２８） ＣＨ３ ｌｈ ＣＨ３ Ｌ ｒ ｂ「 に８３ （ｂ−２９） Ｌ （ｂ ＣＨ。

一←ＣＨ，−Ｃ→− （ｂ−３１） ＣＩ（３ （ｂ　−３２） Ｌ （ｂ　−３３） ＨＩ （ｂ　−３４） ＣＨ。

（ｂ−３５） （ｂ ＣＨ。

しＬＩＵｔ；Ｈ３ （ｂ　−３７） （ｂ　−３８） （ｂ　−３９） （ｂ−４０） ＣＨコ ＨＩ ＣＨツ Ｃ１ｌ！ しυりしｎ３ 前記の特定の酸性基を含有する重合成分から成るＡブロ
ックとは別に構成される該Ｂブロックにおいて、前記式
（■）（好ましくは（Ｉａ）又は（Ｉ　ｂ）　）で示さ
れる繰り返し単位は２種以上含をされていてもよく、更
にこれら以外の他の重合成分を含有していてもよい、ａ
ｌ性基を含有しないＢブロックにおいて２種以上の重合
成分が含有される場合には、該ＡＢ型ブロック共重合成
分は該Ｂブロック中においてランダム共重合又はブロッ
ク共重合のいずれの態様で含有されていてもよいが、ラ
ンダムに含有されることが好ましい。

前記した式（１）、（Ｉａ）及び／又は（Ｉ　ｂ）で示
される繰り返し単位から選ばれた重合成分とともにＢブ
ロック中に含有され得る他の重合成分は、これらと共重
合する成分であればいずれでもよい。

例えば下記一般式（ｎ）で示される繰り返し単位が挙げ
られる。

一般式（ＩＩ） ａ、　　　ａ。

一−七ＣＨ−Ｃ→− Ｔ−Ｒ。

〔式（Ｉｔ）中、Ｔは−ＣＯＯ−、−０ＣＯ−、ＨＬ　
ｈ＋０ＣＯ−。

Ｒ３Ｒｒ −＋ＣＨ１±−ｚｃＯｏ−、−０−．−５（ｈ−、−Ｃ
ＯＮ−、−５ＯＪ−。

Ｃ０ＮＨＣＯＯ−、−ＣＯＮ）ＩＣＯＮＨ−、又は−〇
−を表わし、”１．ｌａｇ　　は、各々１〜２の整数を
表わし、Ｒ１は、式（１）中の１と同一の内容を表わす
、Ｒｚは式（１）中のＲ１と同一の内容を表わす。

ａ、及びａ□は、互いに同じでも異なってもよく、各々
水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜８の炭
化水素基、−ＣＯＯ−Ｚｚ又は炭素数１〜８の炭化水素
基を介したーＣｏｏ−Ｚ３　（Ｚｓは炭素数１〜１８の
炭化水素基を表わす）を表わす、〕より好ましくは、ａ
ｌ＋　ａｔは、互いに同じでも異なってもよく、水素原
子、炭素数１〜３のアルキル基（例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基等）、−ＣＯＯ−Ｚｘ又は−ＣＨｔ
ＣＯＯ−Ｚｓ　ＣＺｓはより好ましくは炭素数１〜１８
のアルキル基又はアルケニル基を表わし、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、
オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テ
トラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ペン
テニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、デセニル基等
が挙げられ、これらアルキル基、アルケニル基は前記Ｒ
３で示したと同様の置換基を有していてもよい）を表わ
す。

これら以外の繰り返し単位を構成する単量体として、更
にスチレン類（例えばスチレン、ビニルトルエン、クロ
ロスチレン、ブロモスチレン、ジクロロスチレン、ビニ
ルフェノール、メトキシスチレン、クロロメチルスチレ
ン、メトキシメチルスチレン、アセトキシスチレン、メ
トキシカルボニルスチレン、メチルカルバモイルスチレ
ン、等）、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ア
クロレイン、メタクロレイン、ビニル基含有複素ＩＩ化
合物（例えばＮ−ビニルピロリドン、ビニルピリジン、
ビニルイミダゾール、ビニルチオフェン等）アクリロア
ミド、メタクリロアミド等が例として挙げられるが、こ
れらの他の共重合成分はこれらに限定されるものではな
い。

更に、本発明の樹脂〔Ａ〕は、更に、熱及び光のうちの
少なくともいずれかにより樹脂の硬化反応を行なう官能
基、即ち「熱及び／又は光硬化性官能ＳＪを含有するこ
とが好ましい。即ち、樹脂［Ａ）はＢブロック部分にお
いて、式（Ｉ）（式（Ｉａ）、　（Ｉｂ）を含む〕に相
当する共重合体成分に加えて、更に熱及び／又は光硬化
性官能基を含有する共重合体成分を含有することが好ま
しく、それにより膜強度が更に向上し、電子写真感光体
の機械的強度が増大する。

本発明の樹脂［Ａ）における上記「熱及び／又は光硬化
性官能基を含有する共重合体成分」の割合は、該樹脂〔
Ａ〕中好ましくは０．５〜３０重量％である。より好ま
しくは、１〜２０重量％である。

結着樹脂における熱及び／又は光硬化性の官能基が存在
する場合に、その含有量が１重量％より少ないと硬化反
応不足で硬化性官能基による光導電層の膜強度向上の効
果が見られない。一方含有量が３０重量％を超えると、
本発明の結着樹脂ＣＡＩにおいても、優れた電子写真特
性の保持が難しくなり、従来公知の結着樹脂と同様の特
性に低下してしまう、更にオフセントマスターとして用
いた時に、印刷物の非画像部の地汚れが発生してしまう
。

光硬化性官能基として具体的には、乾英夫、永松元太部
、「感光性高分子」（講談社、１９７７年刊）、角田隆
弘、「新感光性樹脂」（印刷学会出版部、１９８１年刊
）加藤清視、「紫外線硬化システム　第５章〜第７章、
総合技術センター（１９８９年刊）、Ｇ、　Ｅ、　Ｇｒ
ｅｅｎ　ａｎｄ　Ｂ、　Ｐ、　５ｔｒａｒｋ　　Ｊ、　
Ｍａｃｒｏ、　Ｓｃｉ。

Ｒｅａｓ、　Ｍａｃｒｏ　Ｃｈｅｗ、、　Ｃ２１（２）
、　１８７〜２７３（１９８１〜８２）、Ｃ，Ｇ、　Ｒ
ａｔｔｅｙ、　　’Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｗｉｒｉｚａｔ
ｉｏｒ＋　ｏｆ　ＳｕｒｆａｃｅＣｏｏｔｉｎｇｓＪ（
Ａ、　Ｗｉｌｅｙ　ＩｎｔｅｒＳｃｉｅｎｃｅ　Ｐｕｂ
、　１９８２年刊）、等の総説に引例された光硬化性樹
脂として従来公知の感光性樹脂等に用いられる官能基が
用いられる。

また本発明における「熱硬化性官能基」は、前記の酸性
基以外の官能基であって、例えば、遠藤剛、「熱硬化性
高分子の精密化Ｃ，Ｍ、Ｃ（株）１９８６年刊）、原崎
勇次「最新バインダー技術便覧Ｊ第■−■章（総合技術
センター、１９８５年刊）、大津除行「アクリル樹脂の
合成・設計と新用途開発」（中部経営開発センター出版
部、１９８５年刊）、大森英三「機能性アクリル系樹脂
」（テクノシステム、　１９８５年刊）等の総説に引例
の官能基を用いることができる。

例えば−〇Ｈ基、−５Ｈ基、ＪＩＨ，基、−ＮＨＲｓＩ
　［Ｒｓは炭化水素基を表わし、例えば炭素数１〜１０
の置換されてもよいアルキル基（例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基
、デシル基、２−クロロエチル基、２−メトキシエチル
基、２−シアノエチル基等）、炭素数４〜８の置換され
てもよいシクロアルキル基（例えばシクロへブチル基、
シクロへキシル基等）、炭素数７〜１２の置換されても
よいアラルキル基（例えばベンジル基、フェネチル基、
３−フェニルプロピル基、クロロヘンシル基、メチルヘ
ンシル基、メトキシヘンシル基等）、置換されてもよい
アリール基（例えばフェニル基、トリル基、キシリル基
、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシフェ
ニル基、ナフチル基等）等が挙げられる〕、 Ｃ０ＮＨＣＨ２０Ｒ＆　　ＣＲ＆は水素原子又は炭素数
１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等）ｂ＋
　　ｂｚ を表わす〕、−Ｎ＝Ｃ・θ基及び　−Ｃ−ＣＨ基（ｂ＋
及びｂｚは、各々水素原子、ハロゲン原子（例えば塩素
原子、臭素原子等）又は炭素数１〜４のアルキル基（例
えばメチル基、エチル基等）を表わす）等を挙げること
ができる。又該重合性二重結合基として、具体的には一
般式（１）の繰り返し単位に相当する単量体の重合性よ
りも重合反応性か小さい重合性基、例えば、 ＣＨｓ ＣＨｚ・Ｃ−Ｃ０ＮＨ ｕｆｆ 、ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ０ＮＨ− ＣＨ＝ＣＨ１０−Ｃ−１ ＣＨ＝ＣＨ１５ｏｗ 、ＣＨ，＝ＣＨ−Ｃ０−１Ｃ）Ｉ２＝ＣＩ（−０ができ
る。

「熱／光硬化性官能基」含有の繰返し単位について例示
する。

但し、 以下の各偶において、ｂ及び はそれぞれＨ又はＣＨ。

を示し、Ｒ１＋ は−ＣＩ（−ＣＨ。

ＣＨｌ 又は−Ｃ００ＣＲ＝ＣＨ□を示し、ＲＩ！は〜Ｃ−〇Ｈ
１又は−Ｃ［Ｉ＝ＣＨ− ＣＢ。

を示し、Ｒ＋Ｊ は ＣＨ＝ＣＨ１、 Ｃ＝ＣＨ，又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ。

を示し、Ｒ４ は炭素数１〜４のアルキル基を示し、 Ｑｌは−５− 又は−０− を示し、Ｑ、は−ＯＨ又は−Ｎｉ１ｚを示し、ｐ及びｑ はそれぞれ１〜１１の整数を示し、ｒ は１〜ＩＯの整数を示し、Ｓ は２〜１１の整数を示し、 ｌは前記定義の通りである。

→ｃｏｚ−ｃ＋− ■ Ｃ００ＣＲ＝ＣＨ□ −４−Ｃ１，−Ｃ−キー Ｃ００ＣＨｚＣＫ＝ＣＨｔ 一←ＣＨ，−Ｃ−）− Ｃｏｏ（ＣＬ）ｐ−Ｃｏｏ−Ｒ＋　１ ｃｍ４）ｂ −（−ＣＢｇ−Ｃ−≠− Ｃ００（ＣＨｚ）　ｐＯｃＯ（ＣＢｇ）＠−Ｃｏｏ−Ｒ
＋　＋＋ｃＩ（−ｃ→− ＣＯＯＣＩｈＣＨＣＨｚｏｏＣ−Ｒ＋　ｘＨ ＋ｃｏｚ−ｃ）− ＣＯＮＨ（ＣＨｉ）ｒ−ＯＣＯ４＋ａ ｃ−９） ＋　ＣＨ！　−Ｃ）− ＣＯＯＣＣＨｔ）１−ＣＭ−ＣＫｚ−０−Ｃｏ−Ｒ＋５
Ｏ−ＣＯ−Ｒ＋ｓ （Ｒ＋ｓは同じでも異なってもよい） 千ＣＨ，−Ｃ）− ＣＯＮＨ（ＣＨｔ）ｅＣＯＯＣＨｚ−ＣＨＣＨｚｏｏＣ
−ＲｌｇＯＨ ｃ ＋　ＣＩ　−Ｃ→− ｃ−１３） ｂ ＋ＣＢ−Ｃ→− ＣＯＮＨＣＨｚＯＨ ｃ−１４） ｃ 千ＣＵ−Ｃ＋− ＣＯＮＨＣＨｚＯＲ＋＊ ｃ−１５） ｃ−１８） ÷ＣＢ−Ｃ→− Ｃｏｏ（Ｃ）ＩＩ）、−Ｑ！ −←ＣＨ−ＣＨ← ｃ−２１） 一＋ＣＯ，−Ｃ−）− ＣＯＯ（ＣＨｚ）ｇ−ＮＧＯ 本発明のＡＢ型ブロック共重合体〔Ａ〕は、従来公知の
重合反応法によって製造することができる。具体的には
、該特定の酸性基を含有する重合体成分に相当する単量
体において該酸性基を予め保護した官能基としておき、
有機金属化合物（例えばアルキルリチウム類、リチウム
ジイソプロピルアミド、アルキルマグネシウムハライド
類等）あるいはヨウ化水素／ヨウ素系等によるイオン重
合反応、ポルフィリン金属錯体を触媒とする光重合反応
あるいはグループ移動重合反応等の公知のいわゆるリビ
ング重合反応でＡＢ型ブロック共重合体を合成した後、
酸性基を保護した官能基を加水分解反応、加水素分解反
応、酸化分解反応あるいは、光分解反応等によって脱保
護反応を行ない、酸性基を形成させる方法が挙げられる
。その１つの例を下記の反応スキーム（１）に示した。

紗 例えば、Ｐ、　Ｌｕｔｚ、　ｐ、　Ｍａｓｓｏｎ　ｅｔ
ａｌ、　Ｐｏ１ｙｓ、　Ｂｕｌｌ。

ｕ、＋　７９　（１９８４）、　Ｂ、　Ｃ，＾ｎｄｅｒ
ｓｏｎ、　Ｇ、　Ｄ、＾ｎｄｒｅｗｓｅｔａｌ、　Ｍａ
ｃｒｏｗｏｌｅｃｕｌｅｓ、　ｌｊ、　　１６０１　（
１９８１）、　Ｋ。

Ｈａｔａｄａ、　Ｋ、　Ｕｔｅ、　ｅｔａｌ、　Ｐｏ１
ｙｓ、　Ｊ、　Ｑ、　９７７　（１９８５）。

ｌｆｉ、　１０３７　（１９８６）、　　右手浩−１畑
田耕−１高分子加工、皿、　３６６　（１９８７）、東
村敏延、沢本光男、高分子論文集、並、　１８９　（１
９８９）、門、Ｋｕｒｏｋｉ、　Ｔ。

Ａｉｄａ、　Ｊ、　Ａｍ、　Ｃｈｅｗ、　Ｓｏｃ、　匪
４７３７　（１９８７）、相田卓三、井上祥平、有機合
成化学、４ｆｉ、　３００　（１９８５）、Ｄ、　　Ｙ
、　　Ｓｏｇａｈ＋　　Ｉｔ、　　Ｒ，Ｈｅｒｔｌｅｒ
　　ｅｔａｌ、　　Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ＋ｆ
ｉ、　１４７３　（１９８７）等に記載の合成方法に従
って容易に合成することができる。

更に、Ａ−Ｂ型ブロック共重合体〔Ａ〕は、酸性基を保
護しないままの単量体を用い、ジシオカーバメント化合
物を開始剤とした光イニファーター重合法によって合成
することもできる０例えば、大津除行、高分子、鉦、　
２４Ｂ　（１９８８）、　檜森俊−大津隆一、Ｐｏｌｙ
ｍ、　Ｒｅｐ、　Ｊａｐ、」互３５０８　（１９８８）
、特開昭６４−１１１号、特開昭６４−２６６１９号等
に記載の合成方法に従って合成することができる。

又、本発明の特定の酸性基を保護する保護基及びその保
護基の脱Ｈ（脱保護反応）については、従来公知の知見
を利用して容易に行なうことができる。例えば前記した
引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉義勇、
栗田恵輔、「反応性高分子」■講談社刊（１９７７年）
　、Ｔ、Ｈ，Ｇｒｅｅｎｅ。

ｒＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇ
ａｎｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｉｓＪ。

Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　　＆　５ｏｎｓ　　（１９８１
年）、　Ｊ、　Ｆ、　Ｉｌ、　ＭｃＯｍｉｅ。

’Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇ
ａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」Ｐｌｅｎｕｍ　　Ｐｒ
ｅｓｓ＋　（１９７３年）等の総説に詳細に記載されて
いる方法を適宜選択して行なうことができる。

樹脂〔Ａ〕において、ＡＢ型ブロック共重合体中におけ
る該特定の酸性基を含有する重合体成分の存在量は、樹
脂〔Ａ〕１００重量部中、０．５〜２０重量％で、好ま
しくは３〜１５重量％である。樹脂〔Ａ〕の重量平均分
子量は好ましくば３Ｘ１０’〜ｌＸｌ０’である。

本発明において、樹脂〔Ａ〕とともに用いることのでき
る熱及び／又は光硬化性樹脂ＣＢ）について説明する。

樹脂〔Ｂ〕は、架橋性官能基、即ち熱及び光のうちの少
なくともいずれか一方により感光層を形成後、膜中で架
橋反応を生成し、ポリマー間の橋かけを形成する官能基
を含有する熱及び／又は光硬化性樹脂であり、好ましく
は、樹脂〔Ａ〕中に含有され得る前記熱及び／又は光硬
化性官能基と反応して架橋構造を形成するものである。

即ち、縮合反応、付加反応等による分子間の結合、ある
いは重合反応による架橋等を熱及び／又は光によって生
じさせる反応様式を利用するものである。

熱硬化性官能基としては具体的には解離性の水素原子を
有する官能基（例えば−ＯＨ基、−５Ｈ基、ＮＦＩＲｚ
＋基（Ｒ１＋は、水素原子、炭素数１〜１２の置換され
てもよい脂肪族基又は置換されてもよいアリール基を表
わす））と −ＮＣ５、環状ジカルボン酸無水物との群から各々選ば
れた官能基の組合せを少なくとも１組含有する場合ある
いは−ＣＯＮＨＣＨｚＯＲ３ｚ　（Ｒ２ｇは水素原子又
はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表わす）又は重合
性二重結合基等が挙げられる。

解離性の水素原子を有する官能基として好ましくは一〇
〇基、−ＳＯ基、−ＮＨＲｓ＋基が挙げられる。

該重合性二重結合基及び光硬化性官能基としては、具体
的には前記樹脂〔Ａ〕中に含有される「熱及び／光硬化
性官能基」に記載した内容と同様のものがあげられる。

かかる官能基を含有する重合体又は共重合体が本発明の
樹脂〔Ｂ〕の例として挙げられる。具体的には、遠藤剛
「熱硬化性高分子の精密化」（Ｃ０Ｍ、Ｃ（株）　、１
９８８年刊）、原崎勇次「最新バインダー技術便覧」第
１ｆ−１章（総合技術センター１９８５年刊）、大津除
行「アクリル樹脂の合成・設計と新用途開発」（中部経
営開発センター出版部１９８５年刊）、大森英三「機能
性アクリル系樹脂」（テクノシステム１９８５年刊）等
の総説に引例された従来公知の樹脂が用いられる。例え
ば、ポリエステル樹脂、変圧されていないエポキシ樹脂
、ポリカーボネート樹脂、アルカン酸ビニル樹脂、変性
ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、変性アルキッド樹脂
、メラミン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂等が挙げ
られ、これら樹脂中に前記した架橋反応形成の官能基が
含有されていればよい。好ましくは、これらの樹脂中に
樹脂［Ａ］で示される酸性基は含有しないか又は変性さ
れているものを本発明の樹脂として用いることができる
。

これらの官能基を含有する共電体成分に相当する単量体
の具体的なものとして、例えば該官能基を含有するビニ
ル系化合物を挙げることができる。

例えば、高分子学会績「高分子データ・ハンドブック〔
基礎編〕」培風館（１９８６刊）等に記載されている。

具体的には、アクリル酸、α及び／又はβ置換アクリル
酸（例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体
、α−（２−アミノメチル体、α−クロロ体、α−ブロ
モ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シ
アノ体、βクロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−
メトキシ体、α、β−ジクロロ体等）、メタクリル酸、
イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半ア
ミド類、クロトン酸、２−アルケニルカルボン酸類（例
えば２−ペンテン酸、２−メチル−２−ヘキセン酸、２
−オクテン酸、４−メチル−２−ヘキセン酸、４−エチ
ル−２−オクテンｔｃＪ）　、マレイン酸、マレイン酸
半エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼン
スルホン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホ
ン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボン酸類のビニル基又
はアリル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン
ｔｌｌ又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体
の置換基中に、又はスチレン誘導体の置換基中に、前記
官能基が含有されたビニル化合物類が挙げられる。

更に具体的には、前記した一般式（Ｉｔ）で示される単
量体を共重合成分として、その総量で３０重量％以上含
有する（メタ）アクリル系共重合体を樹脂ＣＢ）の例と
して挙げることができる。

樹脂〔Ｂ〕における「架橋し得る（架橋性）官能基を含
有する共重合成分」の含有量は０．５〜３０重量％が好
ましい。

樹脂〔Ｂ〕の重量平均分子量は好ましくは１×Ｉ０３〜
ｌＸｌ０’であり、より好ましくは５Ｘ１０’〜５Ｘ１
０’である。

本発明に用いる樹脂［Ａ３と樹脂［Ｂ］の使用量の割合
は、使用する無機光導電材料の種類、粒径、表面状態に
よって異なるが一般に樹脂〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕の用いる
割合は５〜８０対９５〜２０（重量比）であり、好まし
くは１０〜５０対９０〜５０（重量比）である。

一方、本発明においては、樹脂〔Ａ〕とともに、架橋剤
を含有することができる。架橋剤を含有する場合には、
樹脂〔Ａ〕が光及び／又は熱硬化性官能基を含有するか
及び／又は樹脂ＣＢ）を併用することが好ましい。架橋
剤を用いることにより膜中での架橋を促進することがで
きる。

用いられる架橋剤としては、通常架橋側として用いられ
る化合物を使用することができる。具体的には、山下晋
三、金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊（１９
８１年）高分子学会績「高分子データハンドブンク基礎
編」培風館（１９８６年）等に記載されている化合物を
用いることができる。

例えば、有機シラン系化合物（例えば、ビニルトリメト
キシシラン、ビニルトリブトキシシラン、γ−グリシド
キシプロビルトリメトキシ７ラン、Ｔ−メルカプトプロ
ピニトリエトキシシラン、Ｔアミノプロピルトリエトキ
シシラン等のシランカップリング剤等）、ポリイソシア
ナート系化合物（例えば、トルイレンジイソシアナート
、Ｏトルイレンジイソシアナート、ジフェニルメタンジ
イソシアナート、トリフェニルメタントリイソシアナー
ト、ポリメチレンポリフェニルイソシアナート、ヘキサ
メチレンジイソシアナート、イソホロンジイソシアナー
ト、高分子ポリイソシアナート等）、ポリオール系化合
物（例えば、１．４ブタンジオール、ポリオキシプロピ
レングリコール、ポリオキシアルキレングリコール、１
．　１１−トリメチロールプロパン等）、ポリアミン系
化合物（例えば、エチレンジアミン、γ−ヒドロキシプ
ロピル化エチレンジアミン、フェニレンジアミン、ヘキ
サメチレンジアミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、変
性脂肪族ポリアミン類等）、ポリエポキシ基含有化合物
及びエポキシ樹脂（例えば、垣内弘編著「エポキシ樹脂
」昭晃堂（１９８５年刊）、橋本邦之編著「エポキシ樹
脂」日刊工業新聞社（１９６９年刊）等に記載された化
合物類）、メラミン樹脂（例えば、三輪一部、松永英夫
編著「ユリア・メラミン樹脂」日刊工業新聞社（１９６
９年刊）等に記載された化合物類）、ポリ（メタ）アク
リレート系化合物（例えば、大河原信、三枝武夫、東村
敏延纒「オリゴマー」講談社（１９７６年）大森英三「
機能性アクリル系樹脂ｊテクノシステム（１９８５年刊
）等に記載された化合物類が挙げられ、具体的には、ポ
リエチレングリコールジアクリレート、ネノペンチルグ
リコールジアクリラート、１．６−ヘキサンジオールア
クリラート、トリメチロールプロパントリアクリラート
、ペンタエリスリトールポリアクリラート、ビスフェノ
ールＡ−ジグリシジルエーテルジアクリラート、オリゴ
エステルアクリラート：これらのメタクリラート体等が
ある。）等を挙げることができる本発明に用いられる架
橋剤の使用量は全結着樹脂量に対し０．５〜３０重量％
、特に１〜１０重量％であることが好ましい。

本発明では、感光層膜中での架橋反応を促進させるため
に、結着樹脂に必要に応じて反応促進剤を添加してもよ
い。

架橋反応が官能基間の化学結合を形成する反応様式の場
合には、例えば有機酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸、ベ
ンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等）等が挙
げられる。

架橋反応が重合性反応様式の場合には、重合開始剤（過
酸化物、アゾビス系化合物等が挙げられ、好ましくは、
アゾビス系重合開始剤である）、多官能重合性含有の単
量体（例えばビニルメタクリレート、アリルメタクリレ
ート、エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレ
ングリコールジアクリレート、ジビニルコハク酸エステ
ル、ジビニルアジピン酸エステル、ジアリルコハク酸エ
ステル、２−メチルビニルメタクリレート、ジビニルベ
ンゼン等）等が挙げられる。

更に、本発明では、本発明の樹脂以外の他の樹脂を併用
させることもできる。それらの樹脂としては、例えば、
アルキッド樹脂、ポリブチラール樹脂、ポリオレフィン
類、エチレン−酢ビ共重合体、スチレン樹脂、スチレン
−ブタジェン樹脂、アクリレートブタジェン樹脂、アル
カン酸ビニル樹脂等が挙げられる。

アクリレートブタジェン樹脂、アルカン酸ビニル樹脂等
が挙げられる。

上記他の樹脂は、本発明の樹脂を用いた全結着樹脂量の
３０％（重量比）を越えると本発明の効果（特に静電特
性の向上）が失われる。

本発明の結着樹脂は、感光層形成物を塗布した後、架橋
又は熱硬化される。架橋又は熱硬化を行なうためには、
例えば、乾燥条件を従来の感光体作製時の乾燥条件より
厳しくする０例えば、乾燥条件を高温度及び／又は長時
間とする。あるいは塗布溶剤の乾燥後、更に加熱処理す
ることが好ましい。例えば６０℃〜１２０℃で５〜１２
０分間処理する。

上述の反応促進剤を併用すると、より穏やかな条件で処
理することができる。

本発明に使用する無機光導電材料としては、酸化亜鉛、
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テル
ル、硫化鉛等が挙げられる。

無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の総量は、光導
電対１００重量部に対して、結着樹脂を１０〜１００重
量部なる割合、好ましくは１５〜５０重量部なる割合で
使用する。

本発明では、必要に応じて各種の色素を分光増悪荊とし
て併用することができる０例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージング１ｌ（Ｎａ８）第１２頁、Ｃ，Ｊ、　Ｙ
ｏｕｎｇ等、ＲＣＡ　Ｒｅｖｉｅｗ且４６９（１９５４
）、清田航平等、電気通信学会論文誌ユＵＬ−ＣＬｈ２
）−９７（１９８０）、原崎勇次等、工業科学雑誌ｉ７
Ｂ及び１８８（１９６３）　、谷忠昭、日本写真学会誌
甚、２０８（１９７２）等の総説引例のカーボニウム系
色素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素
、キサンチン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色
素（例えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素、スチリル色素等）、フ
タロシアニン色素（金属含有してもよい）等が挙げられ
る。

更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニルメ
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭５１４５２号、特開昭５
０−９０３３４号、特開昭５０−１１４２２７号、特開
昭５３−３９１３０号、特開昭５３−８２３５３号、米
国特許第３，０５２，５４０号、米国特許第４，０５４
，４５０号、特開昭５７−１６４５６号等に記載のもの
が挙げられる。

オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、
ログシアニン色素等のポリメチン色素としては、Ｆ、　
Ｍ、　Ｈａｒｍｗｅｒ　　’Ｔｈｅ　Ｃｙａｎｉｎｅ　
Ｄｙｅｓ　ａｒｉｄＲｅｌａｔｅｄ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄ
ｓ　Ｊ等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的
には、米国特許第３，０４７，３８４号、米国特許第３
．１１０，５９１号、米国特許第３，１２１．００８号
、米国特許第３．１２５．４４７号、米国特許第３，１
２８．１７９号、米国特許第３．１３２．９４２号、米
国特許第３．６２２．３１７号、英国特許第１．２２６
．８９２号、英国特許第１，３０９．２７４号、英国特
許第Ｌ４０５，８９８号、特公昭４８−７８１４号、特
公昭５５−１８８９２号等に記載の色素が挙げられる。

更に７００ｎｍ以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分光
増感するポリメチン色素として、特開昭４７８４０号、
特開昭４７−４４１８０号、特公昭５１−４１０６１号
、特開昭４９−５０３４号、特開昭４９−４５１２２号
、特開昭５７−４６２４５号、特開昭５６−３５１４１
号、特開昭５７４５７２５４号、特開昭６１−２６０４
４号、特開昭６１−２７５５１号、米国特許第３．６１
９．１５４号、米国特許第４，１７５，９５６号、ｒＲ
ｅｓｅａｒｃｈ　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ　Ｊ　１９８２
年、２１６、第１１７〜１１８頁等に記載のものが挙げ
られる。本発明の感光体は種々の増感色素を併用させて
も、その性能が増感色素により変動しにくい点において
優れている。更には、必要に応じて、化学増感側等の従
来知られている電子写真感光層用各種添加量を併用する
こともできる０例えば、前記した総説：イメージング■
Ｎ（Ｎａ８）第１２頁等の総説引例の電子受容性化合物
（例えば、ハロゲン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無
水物、有機カルボン酸等）、小門宏等、「最近の光導電
材料と感光体の開発・実用化」第４章〜第６章二日本科
学情報（株）出版部（１９８６年）の総説引例のボリア
リールアルカン化合物、ヒンダードフェノール化合物、
Ｐ−フェニレンジアミン化合物等が挙げられる。

これら各種添加量の添加量は、特に限定的ではないが、
通常光導電体１００重量部に対して０．０００１〜２．
０重量部である。

光導電層の厚さは１〜１００μ、特に１０〜５０μが好
適である。

また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は０．０１〜１μ、特に０．０５〜０．５μが好適であ
る。

感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主目
的として絶縁層を付設させる場合もある。

この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。

後者の場合、絶縁層の厚さは、５〜７０μ、特には、１
０〜５０μに設定される。

積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリビニルカルバ
ゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素などがある。

電荷輸送層の厚さとしては５〜４０μ、特には１０〜３
０μが好適である。

絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂としては
、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体樹脂、ポリア
クリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン
樹脂の熱可塑性樹脂及び効果性樹脂が適宜用いられる。

本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設ける
ことができる。一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基本に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基本の裏面（感光層を設ける面と反対面
）に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくとも１層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも１層以上のプレコート層が設
けられたもの、■等を蒸着した基体導電化プラスチック
を紙にラミネートしたもの等が使用できる。

具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例として、
坂本幸男、電子写真、１４（Ｎ［Ｌｌ）、Ｐ２〜１１（
１９７５）、森賀弘之、「入門特殊紙の化学」高分子刊
行会（１９７５）、阿、　Ｆ、　１（ｏｏｖｅｒ、　Ｊ
、　Ｍａｃｒｏｗｏｌ、　Ｓｃｉ。

Ｃｈｅｗ、　Ａ　−４（６）、第１３２７〜第１４１７
頁（１９７０）等に記載されているもの等を用いる。

（実施例） 以下に本発明の実施例を例示するが、本発明の内容がこ
れらに限定されるものではない。

〔樹脂〔Ａ〕の合成〕 樹脂〔Ａ〕の合成例１：（Ａ−１３ 工チルメタクリレート９５ｇ及びテトラヒドロフラン２
００ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−２０
℃に冷却した。１．ｌ−ジフェニルブチルリチウム１．
５ｇを加え１２時間反応した。更に、この混合溶液に、
トリフェニルメチルメタクリレート５ｇ及びテトラヒド
ロフラン５ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気した
後添加し、更に８時間反応した。この混合物を０℃にし
た後、メタノール１０ｄを加え３０分間反応し、重合を
停止させた。得られた重合体溶液を攪拌下にて温度３０
℃とし、これに３０％塩化水素エタノール溶液３ｍを加
え１時間攪拌した０次に、減圧下に反応混合物を全体量
が半分になるまで溶媒を留去した後、石油エーテルＩｌ
中に再沈した。

沈澱物を捕集し、減圧乾燥して得られた重合体は、−８
，５Ｘ１０’で収量７０ｇであった。

（Ａ−１） （重量比） ｂ＝ニブロック合を示す（以下同様） 樹脂〔Ａ〕の合成例２　：　（Ａ−２３ｎ−ブチルメタ
クリレート４６ｇ、（テトラフェニルボルフイナート）
アルミニウムメチル０．５ｇ及び塩化メチレン６０ｇの
混合溶液を窒素気流下にて温度３０℃とした。これに３
００Ｗ−キセノンランプ光をガラスフィルターを通して
２５ｃ−の距離から光照射し、１２時間反応した。この
混合物に更に、ベンジルメタクリレート４ｇを加え、同
様に８時間光照射した後、この反応混合物にメタノール
３ｇを加えて３０分間攪拌し反応を停止させた０次にこ
の反応混合物にＰｄ−Ｃを加え、温度２５℃で１時間接
触還元反応を行なった。

不溶物を濾別した後石油エーテル５００ｍ中に再沈し、
沈澱物を捕集し乾燥した。得られた重合体は収量３３ｇ
で〜９．３Ｘ１０’であった。

Ｃ００Ｃ４Ｈ＊（ｎ）　　　　　　Ｃｏｏｌ樹脂〔Ａ〕
の合成例３：（Ａ−３） ２−クロロ−６−メチルフェニルメタクリレート９０ｇ
及びトルエン２００ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に
脱気し０℃に冷却した０次いで１．１−ジフェニル−３
−メチルペンチルリチウム２．５ｇを加え、６時間攪拌
した。更にこの混合物に４−ビニルフェニルオキシトリ
メチルシランＬＯｇ’ｆｉｒｍＬ６時間攪拌した後、メ
タノール３ｇを加えて３０分間攪拌した。

次にこの反応混合物に３０％塩化水素エタノール溶液１
０ｇを加え２５℃で１時間撹拌した後、石油エーテルｌ
ｌ中に再沈し捕集した沈澱物をジエチルエーテル３００
ｍで２回洗浄し乾燥した。得られた重合体は、収量５８
ｇ？〜７．８　Ｘ　１０２であった。

（Ａ−３） 樹脂〔Ａ〕の合成例４：（Ａ−４） フェニルメタクリレート９５ｇ、ヘンシルＮ、　Ｎ−ジ
エチルジチオカーハメート４．８ｇの混合物を、窒素気
流下に容器に密閉し、温度６０°Ｃに加温した。

これに、４００Ｈの高圧水銀灯で１０ｃｍの距離からガ
ラフッイルターを通して、１０時間光照射し光重合した
。

これにアクリル酸５ｇ及びメチルエチルケトン１８０ｇ
を加えた後窒素置換し、再び１０時間光照射した。

得られた反応物をヘキサン１，５１に再沈、捕集し乾燥
した。得られた重合体は、６８ｇで〜９．５×１０３で
あった。

ＣＡ−４，） Ｈ３ 樹脂〔Ａ〕の合成例５〜１６ 前記樹脂〔Ａ〕の合成例と同様にして下記表−１に示す
樹脂〔Ａ〕を合成した。

表 ＣＨｌ −すＣ）１．−Ｃ″ＪＴｂ−ｆＹ士Ｔ ＣＯＯＲ。

各樹脂［Ａ）の本は６Ｘ１０” 〜９．５ｘｌＯ’ であ った。

樹脂〔Ａ〕の合成例１９〜２３ 前記樹脂〔Ａ〕の合成例〔４〕と同様にして下記表−１
−２に示す樹脂［Ａ］を合成した。各樹脂の〜は８Ｘ１
０’〜ｌＸｌ０’であった。

実施例１〜２及び比較例Ａ−Ｃ 実施例１ 合成例１で製造した樹脂（Ａ−ｔ〕２ｏｇ（固形分量と
して）、酸化亜鉛２００ｇ、下記構造のへブタメチンシ
アニン色素〔Ａ〕０．０２ｇフタルｍａ水ｓＯ，１５ｇ
及びトルエン３００ｇの混合物をボールミル中で４時間
分散した後に、更に下記構造の樹脂（Ｂ−１）　１５．
及びＮ、　Ｎ’　、Ｎ’　−トリメチルエチレンジアミ
ン５ｇを添加して５分間分散した。これを導電処理した
紙に、乾燥付着量が２２ｇ／ｍ”となる様に、ワイヤー
バーで塗布し、１００°Ｃで１時間乾燥し、ついで暗所
で２０°Ｃ６５％ＲＨの条件下で２４時間放置すること
により、電子写真感光材料を作製した。

樹脂（Ｂ−１） ＣＨ。

−すＣＨｚ−Ｃ′ｆ′ｉ′ＴｔＣＬ−１ｊ１士信「ヤｃ
ｕｔ−ｃｏ今一１一二３．６ ×１０４ （重量比） ノアニン色素〔Ａ］ 実施例２ 実施例１において、樹脂ＣＡ−１〕２０ｇの代わりに、
樹脂（Ａ　　５）２０ｇ（固形分量として）を用いた他
は、実施例１と同様に操作して、電子写真感光材料を作
製した。

比較例Ａ 実施例１において、樹脂〔Ａ−１）２０ｇに代えて下記
構造の樹脂（Ｒ−１）２０ｇを用いた他は、実施例１と
同様に操作して電子写真感光材料を作製した。

比較用樹脂（Ｒ−１３ ＣＩ（、Ｃ１ｌ。

）ｋ：６Ｘ１０’（ランダム共重合体）比較例Ｂ 実施例１において、樹脂（Ａ−１）２０ｇに代えて下記
構造の樹脂（Ｒ−２）２０ｇとした他は、実施例１と同
様に操作して電子写真感光材料を作製した。

（Ｒ−２）　　　　　　　　　ｃＨｆｆＨＯＯＣ−ＣＨ
Ｉ−５＋ＣＨ！−Ｃ＋ Ｃ００Ｃ，Ｈ５ Ｍｗ　８．０ｘ１０３ 比較例Ｃ 実施例１において、樹脂（Ａ−１）２０ｇの代わりに、
下記構造の樹脂（Ｒ−３）２０ｇとした他は実施例１と
同様にして電子写真感光材料を作成した。

（Ｒ−３） υ ８．５ＸＩ０３ （重量比） これらの感光材料について、静電特性、撮像性及び環境
条件を（２０’Ｃ１６５％Ｒ１１）及び（３０°Ｃ５８
０％１２Ｆｌ）とした時の撮像性を調べた。その結果を
表２に示す。

表−２に記した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る。

注１）　静電特性： 温度２０°Ｃ１６５％ＲＨの暗室中で、各感光材料にペ
ーパーアナライザー（川口電機（株）類ペーパーアナラ
イザー５Ｐ−４２８型）を用いて一６ｋＶで２０秒間コ
ロナ放電をさせた後、１０秒間放置し、この時の表面電
位Ｖ、。を測定した０次いでそのまま暗中で９０秒間静
置した後の電位ｖ１．。を測定し、９０秒間暗減衰させ
た後の電位保持性、即ち、暗減衰保持率（ＤＲＲ（％）
〕を、（Ｖｌ＠＠／Ｌｌｌ）Ｘ１００（％）で求めた。

又、コロナ放電により光導電層表面を一４００ｖに帯電
させた後、該光導電層表面をガリウムーアルミニウムー
ヒ素半導体レーザー（発振波長７８０ｎｍ）光で照射し
、表面電位（Ｖ＋Ｏ）が１７１０に減衰するまでの時間
を求め、これから露光量Ｅｌ／Ｉ・（ｅｒｇ／ｃｍ”）
を算出する。

測定時の環境条件は、２０℃、６５％ＲＨ（Ｉ）と３０
℃、８０％ＲＨ（ＩＩ）で行なった。

注２）　撮像性： 各感光材料を以下の環境条件で１昼夜放置した後、各感
光材料を−６にνで帯電し、光電として２６８−出力の
ガリウムーアルミニウムーヒ素半導体レーザー（発振波
長７８０ｎｓ）を用いて、感光材料表面上で、６４ｅｒ
ｇ／ｃｍ”の照射量下、ピッチ２５ａ及びスキャニング
速度３００ｍ／ｓｅｃのスピードで露光後、液体現像剤
として、ＥＬＰ−Ｔ　（富士写真フィルム（株）製）を
用いて、現像し、定着することで得られた複写画像（カ
ブリ、画像の画質）を目視評価した。

撮像時の環境条件は、２０’Ｃ６５％ｌ？Ｈ（１）と３
０°Ｃ８０％ＲＨ（Ｉ［）で実施した。

表−２に示す欅に、本発明の各感光材料は、静電特性が
良好で、実際の複写画像も地力ブリがなく複写両賞も鮮
明であった。

一方比較例Ａ−Ｃは、帯！電位（ν１゜）の低下あるい
は、光感度（Ｅ’／＋Ｊの低下が生し、実際の複写画像
でも画像の濃度（Ｄ９）の低下、それによる細線・文字
等のカスレ、地力ブリの発生が生してしまった。

以上のことより、本発明の樹脂を用いた場合にのみ静電
特性を満足する電子写真感光体が得られる。

更に、本発明の樹脂を用いた場合においても、特定の置
換基を有するメタクリレート成分を含有する樹脂（Ａ］
から成る実施例２の方が実施例１に比べてより静電特性
が向上５、特２こ半導体レーザー光スキヤニング露光方
式の感光体ンステムニこ優位になることが明らかとなっ
た。

実施例３ 合成例６で製造した樹脂（Ａ−６）１０ｇ（固形分量と
して）、下記構造の樹脂ＣＢ−２１０ｇ、酸化亜鉛２０
０ｇ、下記構造のシアニン色素３Ｂ）０．０１８ｇ、無
水フタル酸０．３０ｇ及びトルエン３００ｇの混合物を
ボールミル中で４時間分散し、この分散物に、グルタコ
ン酸４ｇを添加し、更にボールミルで１０分間分散して
、感光層形成物を調製し、これを導電処理した紙に、乾
燥付着量が２２ｇ／ｍ”となる様に、ワイヤーバーで塗
布し、１００°Ｃで３０秒間乾燥し、ついで１２０’Ｃ
で１時間加熱した。

ついで暗所で２０”Ｃ６５％ＲＨの条件下で２４時間放
置することにより、 電子写真感光材料を作製した。

シアニン色素ＣＢ） （ｃＨｚ）ａｓｏｉｅ （Ｃ１ｌｚ）−５（ｈＫ 樹脂〔Ｂ ２］ ＣＨ３ ＣＨ。

Ｃ００ＣｔＨｓ ０ＮＨｚ ＣＯＯＣＨｚ（ＪＩＣＨｚ ＼１ へ：４．５ ×１０４ この感光材料の皮膜性（表面の平滑度）、膜強 度、 静電特性、 撮像性及び環境条件を３０゛Ｃ１８０％ＲＨとした時の
静電特性、 撮像性を調べた。

以上の結果をまとめて表−３に示す。

表 表−３に示した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る。

注３）　光導電層の平滑性： 得られた感光材料は、へンク平滑度試験機（熊谷理工（
株）製）を用い、空気容１１１ｃｃの条件にて、その平
滑度（ｓｅｃ／ｃｃ）を測定した。

注４）　水との接触角： 各感光材料を不感脂化処理？Ｆ１．ＥＬＰ−Ｅ　　（富
士写真フィルム（株）製）を遺留水で２倍に希釈した溶
液ヲ用いて、エツチングプロセンサーに１回通して光導
電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留水２μ！の水
滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニオメータで測
定する。

注５〕　耐刷性 前記性２）の撮像性と同様にして、製版した後、上記性
４）と同条件で不感脂化処理し、これをオフセットマス
ターとしてオフセット印刷機（桜井製作所（株）製オリ
バー５２型）にかけ上質紙を印刷用紙として用いて、印
刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じ
ないで印刷できる枚数を示す（印刷枚数が多い程、耐剛
性が良好なことを表わす）。

表−３に示す様に、本発明の感光材料は、光導電層の平
滑性膜の機械的強度及び静電特性が良好で、実際の複写
画像も地力ブリがなく複写画質も鮮明であった。このこ
とは光導電体と結着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表
面を被覆していることによるものと推定される。同様の
理由で、オフセットマスター原版として用いた場合でも
不感脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非
画像部の水との接触角が１０度以下と小さく、充分に親
水化されていることが判る。実際に印刷して印刷物の地
汚れを観察しても地汚れは全く認められず、鮮明な画質
の印刷物が８０００枚得られた。

以上の事は、樹脂［Ａ）の作用を疎外することなく、樹
脂〔Ｂ］あるいは樹脂〔Ｂ］と架橋剤の働きによって、
膜の強度を著しく向上させていることを示すものである
。

実施例４ 合成例１３で製造した樹脂（Ａ−１３）　３８ｇ　（固
形分量として）酸化亜鉛２００ｇ、下記構造のメチン色
素（Ｃ）　０．０２０ｇ、無水マレイン酸０．３０ｇ及
びトルエン３００ｇの混合物をボールミル中で４時間分
散した後、１．３−キシリレンジイソシアナート４ｇを
加え、更にボールミル中で１０分間分散した。

これを導電処理した紙に、乾燥付着量が２２ｇ／ａｔと
なる様にワイヤーバーで塗布し、１００”Ｃで１５秒間
加熱した後、１２０″Ｃで２時間加熱した０次いで暗所
で２０°Ｃ３６５％Ｒ１（の条件下で２４時間放置する
ことにより電子写真感光材料を作製した。

メチン色素（Ｃ） 実施例３と同様にして、 各特性を測定し下表 実施例５〜１２ 実施例３において、樹脂（Ａ−６）Ｌｏｇ、樹脂〔Ｂ−
２）３０ｇ及び架橋剤としてのグルタコン酸４ｇの代わ
りに下記表−５の各樹脂及び架橋剤を各々用い、又、シ
アン色素〔Ｂ〕の代わりに下記構造のシアニン色素〔Ｄ
〕を０．０２０ｇ用いた他は、実施例３と同様にして各
感光材料を作製した。

シアニン色素（Ｄｌ Ｃ２Ｈ５ＣＪｓ 実施例３と同様にして、各特性を測定した。表５には（
３０℃、８０％ＲＨ）条件下の静電特性を示した。

本発明の各感光材料は帯電性、暗電荷保持率、光感度に
優れ、実際の複写画像を高温高温（３０°Ｃ１８０％Ｒ
１（）の過酷な条件においても地力ブリの発生や細線飛
びの発生等のない鮮明な画像を与えた。

オフセントマスター原版として印刷した所、いずれも、
地汚れのない、鮮明な画像の印刷物を６０００枚以上印
刷できた。

実施例１３〜１６ 下記の表−６樹脂〔Ａ〕８ｇ、下記表−６の樹脂ＣＢ）
Ｘ群２０ｇ、酸化亜鉛２００ｇ、前記シアニン色素（Ａ
　）　Ｏ，ＯｌＢｇ、マレイン酸無水物０．３０ｇ及び
トルエン３００．の混合物をボールミル中で４時間分散
した。

これに下記表−６の樹脂［Ｂ）Ｙ群を１２ｇ加え、ボー
ルミル中１０分間更に分散した。これを導電処理した紙
に、乾燥付着量が２５ｇ／ｓ＋”となる様にワイヤーバ
ーで塗布し、１００°Ｃで１５秒間加熱した後、１２０
°Ｃで２時間更に加熱した。次いで、２０’Ｃ１６５％
Ｒ１（の条件下で２４時間放置することにより電子写真
感光材料を作製した。

本発明の各感光材料はいずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度Ｑこ優れ、実際の複写画像も高温高温（３０°Ｃ
１８０％Ｒ旧の過酷な条件りこおいても、地力ブリの発
生のない鮮明な画像を得た。

更に、これをオフセットマスター原版として用いて印刷
した所、６０００枚でも鮮明な画質の印刷物を得た。

実施例１７ 樹脂（Ａ−５〕１０ｇ、下記樹脂ＣＢ　−１，５）　１
．８ｇ、酸化曲鉛２００ｇ、ローズヘンガルを０．５０
ｇ、テトラブロムフェノールブルーを０．２５ｇ、ウラ
ニンを０．３０ｇ、テトラヒドロフタル酸無水物０．３
０ｇ及びトルエンを２４０ｇａ合物し、ボールミル中で
４時間分散した。これに下記の樹脂［Ｂ　−１５）　１
２ｇを加え、１０分間分散した。これを導電処理した紙
に、乾燥付着量が２０ｇ／ｍ２となる様にワイヤーバー
で塗布し、１１０’Ｃで３０秒間加熱した後、１２０°
Ｃで２時間加熱した。次いで、２０°Ｃ１６５％ＲＨの
条件下で２４時間放置する二とにより電子写真感光材料
を作製した。

樹脂：５−ｔＳ） ＣＨ３ＣＨ３ 一１ニー　ＣＨ２−Ｃ−−ｈＢ−↑ＣＨ，−Ｃ−光「−
Ｃ００Ｃ１ｌＺＣ６１１，Ｃ００（ＣＬ）　ｚＯｃｏ（
Ｃ１２ＣＯＯＨ九　３．ＯＸＩＯ”　（重量組成比） 実施例１と同様にしτ、各特性を測定しなところ以下の
結果が得られた。

光導電層の平滑性：　　５００（ｃｃ／５ｅａ）静電特
性 Ｖ、、（Ｖ）　　Ｄ、Ｒ，Ｒ（：）　　Ｅ、／、０（ｆ
ｆｉ　、、、・ｓｅ０撮像性、（２０°Ｃ１６５χＲＨ
）及び（３０°Ｃ１８０χＲＨ）いずれの条件でも、良
好な複写画像を得た。

耐剛性：　６０００枚まで良好な印刷画像を得た。

以上の様に、本発明の感光材料は優れた電子写真特性と
高耐刷性を得ることができた。

但し、静電特性及び盪像性は以下の通り↓こ行なった。

静電特性： 温度２０°Ｃ２６５％Ｉ？Ｈの暗室中で、各感光材料に
ペーパーアナライザー（川口電機（株）製ペーパーアナ
ライザー５Ｐ−４２８型）を用いて６ｋＶで２０秒間コ
ロナ放電をさせた後、１０秒間放置し、この時の表面電
位ν、。を測定した。次いでそのまま暗中で６０秒間静
置した後の電位ｖ７゜を測定し、６０秒間暗減衰させた
後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率（ＤＲＲ（り　
］を、（Ｖ７０／ＶＩＯ）　Ｘ　１００（χ）で求めた
。

又、コロナ放電により光導電層表面を一４００ｖに帯電
させた後、該光導電層表面を照射２．０ルツクスの可視
光で照射し、表面電位（Ｖ、。）がｌ／１０に減衰する
までの時間を求め、これから露光Ｉ　Ｅ　ｌｙ　＋。（
ルックス秒）を算出する。

邊像性： 感光材料の製版は、全自動製版機ＥＬＰ４０４Ｖ（富士
写真フィルム（株）製）でＥＬＰ−Ｔをトナーとして用
いて、トナー画像を形成した。

実施例１８及び１９ 樹脂ＣＡ−２２〕及びＣ１２３）各６．３ｇ、下記表７
の樹脂（Ｓ）各３３．７ｇ、酸化亜鉛２００ｇ、ウラニ
ン０．０２ｇ、ローズヘンガル０．０４　ｇ、フロムフ
ェノールブルー０．０３　ｇ　、無水フタル酸０．４０
ｇ及びトルエン３００ｇの混合物を、ボールミル中で４
時間分散して感光属形成物を調整し、これを導電処理し
た祇ふこ、乾燥付着量が２４ｇ／ｍ”となる様にワイヤ
ーバーで塗布し、１１０　’Ｃで１分間乾燥し１こ。次
に、高圧水銀灯で３分間露光した後、次いで暗所で２０
゛Ｃ２６５％Ｒ１（の条件下で２４時間放置することに
より各電子写真感光体を作製した。得られた感光体の特
性を表−８に示した。

本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高温の（３０°
Ｃ−８０％ＲＨ）の過酷な条件においても、地力ブリの
発生のない、鮮明な画像を与えた。

更に、これをオフセントマスターの原版として用いて、
印刷した所、５０００〜６０００枚でも鮮明な画質の印
刷物を得た。

実施例２０〜２８ 結着樹脂として、下記表−９に記した樹脂〔Ａ〕６．５
ｇ及び樹脂（Ｂ　）　３３．５ｇ　、酸化亜鉛２００ｇ
、ローズベンガル０．０５ｇ　、テトラブロムフェノー
ルブルー０．０３ｇ、ウラニン０．０２ｇ、無水フター
ル酸０．０１ｇ及びトルエン２４０ｇの混合物をボール
ミル中で２時間分散した。この分散物に下記表−８の架
橋剤を所定量添加し、更に、ボールミル中で１０分間分
散した。これを導電処理した紙に、乾燥付着量１８ｇ／
ｌ１２となる様にワイヤーパーで塗布し１１０℃で３０
秒間加熱し、後、１２０°Ｃで２時間加熱した０次いで
２０°Ｃ１６５％ＲＨの条件下で２４時間放置すること
により電子写真怒光材料を作製した。

本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高温の（３０°
Ｃ−８０％Ｒ１（）の過酷な条件においても、地力ブリ
の発生のない、鮮明な画像を与えた。

更に、これをオフセントマスターの原版として用いて印
刷した所、８０００枚の所でも鮮明な画質の印刷物を得
た。

（発明の効果） 本発明によれば、静電特性（とくに厳しい条件下での静
電特性）に優れた、鮮明で良質な画像を有し、更に優れ
た機械的強度を有する電子写真怒光体を得ることができ
る。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング露光方
式に有効である。

式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）で示される特定のメタクリレー
ト成分を含有する繰り返し単位を本発明の樹脂に用いる
ことにより、更に静電特性が向上する。

（ほか３名）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）無機光導電体及び結着樹脂を少なくとも含有する
   光導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂
   が、下記で表わされる結着樹脂〔Ａ〕の少なくとも１種
   と熱及び／又は光硬化性樹脂〔Ｂ〕及び架橋剤のうちの
   少なくともいずれか１種とを含有することを特徴とする
   電子写真感光体。 結着樹脂〔Ａ〕 １×１０＾３〜２×１０＾４の重量平均分子量を有し、
   −ＰＯ＿３Ｈ＿２基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ＿３Ｈ基、
   フェノール性ＯＨ基、▲数式、化学式、表等があります
   ▼基｛Ｒは炭化水素基又は−ＯＲ′基（Ｒ′炭化水素基
   を示す）を示す｝及び環状酸無水物含有基から選択され
   る少なくとも１つの酸性基を含有する少なくとも１つの
   重合体成分から成るＡブロックと下記一般式（ I ）で
   示される重合体成分を少なくとも含有するＢブロックと
   から構成されるＡＢ型ブロック共重合体。 一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式（ I ）中、Ｒ＿１は炭化水素基を表わす。）（２
   ）該ＡＢ型ブロック共重合体におけるＢブロックが下記
   一般式（ I ａ）及び一般式（ I ｂ）から選択される少
   なくとも１つの繰り返し単位を３０重量％以上含有する
   事を特徴とする請求項（１）記載の電子写真感光体。 一般式（ I ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式（ I ｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式（ I ａ）又は（ I ｂ）中、Ｘ＿１及びＸ＿２は互
   いに独立に、それぞれ水素原子、炭素数１〜１０の炭化
   水素基、塩素原子、臭素原子、−ＣＯＺ＿２又は−ＣＯ
   ＯＺ＿２（Ｚ＿２は各々炭素数１〜１０の炭化水素基を
   示す）を表わす。但し、Ｘ＿１とＸ＿２がともに水素原
   子を表わすことはない。 Ｌ＿１及びＬ＿２はそれぞれ−ＣＯＯ−とベンゼン環を
   結合する、単結合又は連結原子数１〜４個の連結基を表
   わす。］ （３）該樹脂〔Ａ〕が、更に熱及び／又は光硬化性官能
   基を含有する繰り返し単位を共重合体成分として１〜３
   ０重量％含有する事を特徴とする請求項（１）又は（２
   ）記載の電子写真感光体。