JPH0423219A - Magnetic disk and production thereof - Google Patents

Magnetic disk and production thereof

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Publication number
JPH0423219A
JPH0423219A JP12721290A JP12721290A JPH0423219A JP H0423219 A JPH0423219 A JP H0423219A JP 12721290 A JP12721290 A JP 12721290A JP 12721290 A JP12721290 A JP 12721290A JP H0423219 A JPH0423219 A JP H0423219A
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JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
protective film
carbon
magnetic disk
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP12721290A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naohiko Fujino
直彦 藤野
Yuichi Sakai
裕一 坂井
Tadashi Hyono
表野 匡
Koji Yabushita
宏二 薮下
Hisatoshi Hata
久敏 秦
Tomoji Morita
森田 知二
Mitsumasa Umezaki
梅崎 光政
Hiromoto Inoue
博元 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP12721290A priority Critical patent/JPH0423219A/en
Publication of JPH0423219A publication Critical patent/JPH0423219A/en
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野〕 本発明は磁気ティスフに関するものであり、さらに詳し
くは耐久性を向上させるへき保護膜ならびに潤滑層か形
成された磁気記録媒体およびその製造方法に関するもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a magnetic disk, and more particularly to a magnetic recording medium on which a crack protection film and a lubricant layer are formed to improve durability, and a method for manufacturing the same. It is something.

(従来の技術) 近年、コンピュータ・システムにおける磁気ティスフな
との外部記憶装置の重要性か増大しており、これにとも
ない磁気ディスクなどを使用した磁気記録装置の高記録
密度化に対する要求はますます高まっている。かかる磁
気記録装置は記録再生ヘットと磁気ディスクとの主要構
成部から構成されており、該磁気ティスフは高速で回転
していて前記記録再生ヘットは磁気ディスク表面から微
小間隔たけ離れた位置に置かれている。この微小間隔を
小さくして磁気記録装置の高性能化を図るために記録再
生ヘッドの荷重を小さくするとともに、接触始動・停止
(コンタクト・スタート・ストップ(CSS))型ヘッ
ト浮上システムが採用されている。磁気ディスクの高記
録密度化および高性能化を図るためには、磁気記録媒体
の薄層化、均−一様化、磁気特性の改良および低浮上量
における安定したヘッド浮揚状態を確保し、さらにヘッ
トとディスクの衝突(ヘッドクラッシュ)を防止すべき
ディスクの表面の粗さの精度の向上および耐ヘットクラ
ッシュ性などの向上が必要である。しかしディスク表面
の粗さの精度の向上にともない、磁気ディスクと磁気ヘ
ッドとの接触慴動時における動摩擦係数が著しく大きく
なり、ヘッド浮上まての慴動特性か悪いという欠点が生
しる。
(Prior Art) In recent years, the importance of external storage devices such as magnetic disks in computer systems has increased, and with this, there has been an increasing demand for higher recording densities in magnetic storage devices using magnetic disks. It's increasing. Such a magnetic recording device is composed of the main components of a recording/reproducing head and a magnetic disk, and the magnetic disk rotates at high speed, and the recording/reproducing head is placed at a position a minute distance from the surface of the magnetic disk. ing. In order to improve the performance of magnetic recording devices by reducing this minute interval, the load on the recording/reproducing head was reduced, and a contact start/stop (CSS) type head floating system was adopted. There is. In order to increase the recording density and performance of magnetic disks, it is necessary to make the magnetic recording medium thinner, more uniform, improve magnetic properties, and ensure a stable head flying state at a low flying height. It is necessary to improve the precision of the surface roughness of the disk, which should prevent collisions between the head and the disk (head crash), and to improve the head crash resistance. However, as the accuracy of the roughness of the disk surface improves, the coefficient of dynamic friction when the magnetic disk and the magnetic head come into contact with each other increases significantly, resulting in a disadvantage that the sliding characteristics of the head flying are poor.

従来の磁気ディスクとしては樹脂フィルムの基板、アル
ミ合金の基板またはN1−Cu−P合金の基板上にFe
と酸素を用いて反応性スパッタ訪てFeの酸化物からな
る層を形成した後、さらに大気中で酸化することにより
γ−Fe2O3から成る磁性層としたもの、ならびにア
ルミ合金の基板上にNj−P合金の下地層をメツキ法に
より形成し、さらにその上にN1−Go−P合金の磁性
層をメツキ法により形成したものか知られている。
Conventional magnetic disks include Fe on resin film substrates, aluminum alloy substrates, or N1-Cu-P alloy substrates.
A layer made of Fe oxide was formed by reactive sputtering using carbon dioxide and oxygen, and then oxidized in the air to form a magnetic layer made of γ-Fe2O3, as well as Nj- It is known that an underlayer of P alloy is formed by a plating method, and a magnetic layer of N1-Go-P alloy is further formed thereon by a plating method.

しかしなからこのような磁気ディスクにおいては、磁気
ヘットとの前述の慴動特性か悪く、そのため磁気ディス
クあるいは、磁気ヘットの損傷を生じ機械的耐久性が悪
いという欠点がある。
However, such a magnetic disk has the drawback that the above-mentioned sliding characteristics with the magnetic head are poor, resulting in damage to the magnetic disk or the magnetic head and poor mechanical durability.

このような欠点を解消し磁気ディスクの下地層および磁
性層を保護するために、従来より磁性層上にスパッタ法
、電子ビーム蒸着法、あるいはCVD法などにより炭素
から成る保護膜を形成したり、また、この上にフッ素系
潤滑剤をスピンコード法あるいはデイツプコート法など
により塗布したりして保護膜を形成している。なおこの
ような従来技術は、日本応用磁気学会誌、vol、]o
、No、] 、p、6 (+988)等に記載されてい
る。
In order to eliminate these drawbacks and protect the underlayer and magnetic layer of the magnetic disk, a protective film made of carbon has been conventionally formed on the magnetic layer by sputtering, electron beam evaporation, or CVD. Furthermore, a protective film is formed by applying a fluorine-based lubricant thereon by a spin coating method or a dip coating method. Furthermore, such conventional technology is described in the Journal of the Japanese Society of Applied Magnetics, vol.
, No.], p, 6 (+988), etc.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

従来の磁気ディスクは以上のように構成されているか、
上述の炭素から成る保護膜を持つ磁気ディスクにおいて
は、炭素保護膜上に塗布したフッ素系潤滑剤の保持か困
難であり、磁気ディスクの回転にともないフッ素系混滑
剤が飛散したり、放置時間および放置温度に依存してフ
ッ素系潤滑剤か蒸発したりして、保護層の磁気ヘットに
対する潤滑効果か劣化し、磁気ディスクあるいは磁気ヘ
ットに損傷か生しやすくなったり、充分な耐久性および
信頼性か得られないという問題点かあった。なお、上記
現象については雑誌(E、E、Klans and B
、Bhushan; ASLE 5P−20(1985
) )等に記載されている。
Are conventional magnetic disks configured as described above?
For magnetic disks with a protective film made of carbon as described above, it is difficult to retain the fluorine-based lubricant applied on the carbon protective film, and the fluorine-based lubricant may scatter as the magnetic disk rotates, or the fluorine-based lubricant may scatter over time and Depending on the temperature at which the fluorine-based lubricant is left, it may evaporate and the lubricating effect of the protective layer on the magnetic head may deteriorate, making the magnetic disk or magnetic head more susceptible to damage or causing insufficient durability and reliability. There was a problem that it was not possible to obtain the required amount. Regarding the above phenomenon, please refer to the magazine (E, E, Klans and B
, Bushhan; ASLE 5P-20 (1985
) etc.

本発明はかかる従来の問題点を解決するためになされた
もので、炭素保護膜を、Si、GeSnおよびpbから
なる金属群から選ばれる少なくとも一種の金属元素を含
む炭素膜より成る保護膜に置き換えるとともに、親水性
官能基を分子内に有するフッ素系潤滑剤を塗布すること
で、潤滑剤を塗布した後の潤滑剤の飛散、蒸発現象かほ
とんとなく、その結果として再生出力か低下せず、さら
に実用上充分な耐火性および耐食性を有する磁気ディス
クを提供することを第一の目的とし、それを製造するた
め改良された磁気ディスクの製造方法を提供することを
第二の目的とする。
The present invention has been made to solve such conventional problems, and replaces the carbon protective film with a protective film made of a carbon film containing at least one metal element selected from the metal group consisting of Si, GeSn, and PB. In addition, by applying a fluorine-based lubricant that has a hydrophilic functional group in its molecule, there is almost no scattering or evaporation of the lubricant after the lubricant has been applied, and as a result, the reproduction output does not decrease. Furthermore, the first object is to provide a magnetic disk having practically sufficient fire resistance and corrosion resistance, and the second object is to provide an improved method for manufacturing the magnetic disk.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明に係わる磁気ディスクは、非磁性基体上に薄膜磁
性層を有し、前記磁性層上に、Si。
The magnetic disk according to the present invention has a thin magnetic layer on a non-magnetic substrate, and has Si on the magnetic layer.

Ge、Snおよびpbからなる金属群から選ばれる少な
くとも一種の金属元素を含む炭素膜より成る保護膜か形
成され、さらに前記保護膜上にカルホキシル基、アミノ
基、水酸基、シラノール基、スルホン酸基、リン酸基、
等の親水性官能基を構成分子内に有するフッ素系極性潤
滑剤層を塗布形成したものである。
A protective film made of a carbon film containing at least one metal element selected from the metal group consisting of Ge, Sn, and Pb is formed, and furthermore, a carboxyl group, an amino group, a hydroxyl group, a silanol group, a sulfonic acid group, phosphate group,
A fluorine-based polar lubricant layer having a hydrophilic functional group such as in its constituent molecules is formed by coating.

また、このような磁気ディスクは非磁性基体上に金属磁
性層が形成された基板を、炭素をターゲットとしたスパ
ッタ成膜室内に設けられた試料台上に載置し、前記室内
を高真空に排気した後、アルゴン(Ar)と、上記金属
の水素化物(S iH4、GeH4,SnH4、PbH
4等)、アルキル化合物(−数式: S i R4、G
eR4,5nR4,PbR4等)、アルコキシ化合物(
−数式: S i (OR)4 、Ge (OR)4.
5n (OR)、、Pb (OR) 4等)、(たたし
、いずれの−数式においてもRは例えばメチル基CH3
、エチル基C2H5、プロピル基C3H7、ブチル基C
4H9なとで表せるアルキル基)の少なくとも一種を含
む混合ガスを供給し、ガス圧1〜100mTorr、放
電電力20〜2000Wでスパッタすることにより上記
金属を含む炭素保護膜を形成し、そのあと前記保護膜上
に、カルボキシル基、アミノ基、水酸基、シラノール基
、スルホン酸基、リン酸基、等の親水性官能基を構成分
子内に有するフッ素系極性潤滑剤を塗布形成することに
より製造することがてきる。
In addition, in such a magnetic disk, a substrate in which a metal magnetic layer is formed on a non-magnetic substrate is placed on a sample stage installed in a sputter deposition chamber using carbon as a target, and the chamber is placed in a high vacuum. After evacuation, argon (Ar) and hydrides of the above metals (SiH4, GeH4, SnH4, PbH
4, etc.), alkyl compounds (-formula: S i R4, G
eR4, 5nR4, PbR4, etc.), alkoxy compounds (
-Formula: S i (OR)4, Ge (OR)4.
5n (OR), Pb (OR) 4, etc.), (in any of the formulas, R is, for example, a methyl group CH3
, ethyl group C2H5, propyl group C3H7, butyl group C
A carbon protective film containing the above-mentioned metal is formed by supplying a mixed gas containing at least one type of alkyl group represented by 4H9, etc., and performing sputtering at a gas pressure of 1 to 100 mTorr and a discharge power of 20 to 2000 W. It can be manufactured by coating a membrane with a fluorine-based polar lubricant having hydrophilic functional groups such as carboxyl groups, amino groups, hydroxyl groups, silanol groups, sulfonic acid groups, and phosphoric acid groups in its constituent molecules. I'll come.

〔作用〕[Effect]

本発明におけるSi、Ge、Snおよびpbのうちから
選ばれる少なくとも一種の金属元素を含む炭素膜より成
る保護膜内の金属原子は、炭素原子に比較して親水性官
能基を有するフッ素系極性潤滑剤分子と塩を形成したり
、イオン結合のような静電気的結合を形成することによ
って相互作用が強くなり、フッ素系極性潤滑剤は炭素膜
上に強く保持され、結果的に潤滑剤分子の飛散や蒸発か
ほとんと生じず、潤滑剤層の厚さか薄くとも、充分な機
械的耐久性を有するとともに充分な溢水性を有する磁気
ディスクを得ることができる。
In the present invention, the metal atoms in the protective film made of a carbon film containing at least one metal element selected from Si, Ge, Sn, and Pb are fluorine-based polar lubricants having more hydrophilic functional groups than carbon atoms. The interaction becomes stronger by forming salts with agent molecules or electrostatic bonds such as ionic bonds, and the fluorine-based polar lubricant is strongly retained on the carbon film, resulting in the lubricant molecules scattering. It is possible to obtain a magnetic disk with sufficient mechanical durability and sufficient water leakage properties even if the lubricant layer is thin, with almost no evaporation or evaporation occurring.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について説明する。 Examples of the present invention will be described below.

第1図は本発明の一実施例による磁気ディスクを示す断
面図である。第1図において、(1)はアルミ合金から
なる厚さが約1.9mmの非磁性基体であり、(2)は
基体(1)上に形成されたN1−P合金からなる厚さか
約10μmの下地層であり、(3)は下地層(2)上に
形成されたN1−C。
FIG. 1 is a sectional view showing a magnetic disk according to an embodiment of the present invention. In Figure 1, (1) is a non-magnetic substrate made of aluminum alloy with a thickness of about 1.9 mm, and (2) is a non-magnetic substrate made of an N1-P alloy formed on the substrate (1) with a thickness of about 10 μm. (3) is N1-C formed on the base layer (2).

Cr合金からなる厚さ約500人の磁性層であり、(4
)は磁性層(3)上に形成されたSl。
The magnetic layer is made of a Cr alloy and has a thickness of about 500 mm (4
) is Sl formed on the magnetic layer (3).

Ge、Snおよびpbの金属群から選ばれる少なくとも
一種の金属元素を含む炭素膜より成る厚さ約300人の
保護膜層である。モして(5)は親水性官能基を構成分
子内に有するフッ素系極性潤滑剤層であり、デイツプコ
ート法により後記KRYTOX  157FS(M)が
塗布されている。尚その厚さは約39人であった。
The protective film layer has a thickness of approximately 300 mm and is made of a carbon film containing at least one metal element selected from the metal group of Ge, Sn, and Pb. Above all, (5) is a fluorine-based polar lubricant layer having a hydrophilic functional group in its constituent molecules, and is coated with KRYTOX 157FS (M) described later by a dip coating method. The thickness was approximately 39 people.

次にSi、Ge、Snおよびpbの金属群から選ばれる
少なくとも一種の金属元素を含む炭素膜からなる炭素保
護膜層の形成方法の例を示す。
Next, an example of a method for forming a carbon protective film layer made of a carbon film containing at least one metal element selected from the metal group of Si, Ge, Sn, and Pb will be described.

第2図は上記ディスクを製造するためのDCスパッタリ
ング装置の概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic diagram of a DC sputtering apparatus for manufacturing the above disk.

あらかしめ、第1図中て磁性層(3)まて形成された基
板(20)を、第2図のDCスパッタリング装置を構成
する真空F (11)内のアース電極(12)−ヒに載
置し、炭素ターゲット(13)を直流電源(14)に接
続されたターゲット電極(15)上に載置する。そして
アース電極(12)とターゲット電極(15)を並行に
設置する。次に真空ポンプ(16)を動作させ真空槽内
を一旦高真空に引いた後、GeH,カス(17)とAr
カス(18)をガス導入口(19)から真空槽内に導入
する。次にアース電極(12)とターゲット電極(15
)との間に直流電圧を印加し、電極間にプラズマを発生
させる。そして、それら混合ガス圧1〜100mT。
In advance, the substrate (20) on which the magnetic layer (3) in FIG. A carbon target (13) is placed on a target electrode (15) connected to a DC power source (14). Then, a ground electrode (12) and a target electrode (15) are installed in parallel. Next, the vacuum pump (16) is operated to once draw the inside of the vacuum chamber to a high vacuum, and then GeH, scum (17) and Ar are removed.
The waste (18) is introduced into the vacuum chamber through the gas inlet (19). Next, the ground electrode (12) and the target electrode (15)
) to generate plasma between the electrodes. And the mixed gas pressure is 1 to 100 mT.

rr、放電電力20〜2000Wの範囲で適当な条件に
設置し、磁性層(3)上にゲルマニウム含有の炭素保護
膜を約300人の厚さにスパッタ成膜した。
rr and discharge power in the range of 20 to 2000 W, and a germanium-containing carbon protective film was sputtered to a thickness of about 300 mm on the magnetic layer (3).

ガス導入口(19)からのGeH4カス(17)とAr
ガス(18)の流量比を変えて膜中の炭素に対するゲル
マニウムの組成比率を評価した。第5図はその例を示1
−特性曲線図である。この時のスパッタ条件は混合カス
圧か10mTo r r、放電電力か500Wであった
GeH4 scum (17) and Ar from the gas inlet (19)
The composition ratio of germanium to carbon in the film was evaluated by changing the flow rate ratio of gas (18). Figure 5 shows an example 1
- Characteristic curve diagram. The sputtering conditions at this time were a mixed gas pressure of 10 mTorr and a discharge power of 500 W.

第3図は上記ディスクを製造するための別のDCスパッ
タリング装置の概略構成図である。
FIG. 3 is a schematic diagram of another DC sputtering apparatus for manufacturing the above disk.

あらかしめ、第1図中で磁性層(3)まで形成された基
板(20)を、第3区のDCスパッタリング装置を構成
する真空槽(jl)内のアース電極(12)上に載置し
、Ge含含有炭素ターワット21)を直流電#、(14
)に接続されたターケット電極(15)上に載置する。
In advance, the substrate (20) on which the magnetic layer (3) has been formed in FIG. , Ge-containing carbon tarwatt 21) with direct current #, (14
) is placed on the target electrode (15) connected to the target electrode (15).

そしてアース電極(12)とターゲット電8i(+5)
を並行に設置する。次に真空ポンプ(16)を動作させ
真空槽内を一旦高真空に引いた後、Arガス(18)を
ガス導入口(19)から真空槽内に導入する。次にアー
ス電極(12)とターゲット電極(15)との間に直流
電圧を印加し、電極間にプラズマを発生させる。
And the ground electrode (12) and the target electrode 8i (+5)
are installed in parallel. Next, the vacuum pump (16) is operated to once draw the inside of the vacuum chamber to a high vacuum, and then Ar gas (18) is introduced into the vacuum chamber from the gas inlet (19). Next, a DC voltage is applied between the earth electrode (12) and the target electrode (15) to generate plasma between the electrodes.

この時ターゲット(21)には炭素中にゲルマニウムを
0.01〜10atm%含有した合金ターゲットを用い
た。そして、ガ′ス圧1〜100mTorr、放電電力
20〜2000W、の範囲で適当な条件に設置し、磁性
層(3)上にゲルマニウム含有の炭素保護膜を約300
人の厚さにスパッタ成膜した。
At this time, an alloy target containing 0.01 to 10 atm % of germanium in carbon was used as the target (21). Then, the magnetic layer (3) is coated with a germanium-containing carbon protective film on the magnetic layer (3) under appropriate conditions such as a gas pressure of 1 to 100 mTorr and a discharge power of 20 to 2000 W.
A film was deposited by sputtering to a human thickness.

合金ターゲット中のゲルマニウム含有率を変化させたと
きの、保護膜中の炭素に対するゲルマニウムの組成比率
を評価した。第6図はその例を示す特性曲線図である。
The composition ratio of germanium to carbon in the protective film was evaluated when the germanium content in the alloy target was changed. FIG. 6 is a characteristic curve diagram showing an example of this.

この時のスパッタ条件はArガス圧が5mTorr、放
電電力が500Wてあった。
The sputtering conditions at this time were an Ar gas pressure of 5 mTorr and a discharge power of 500 W.

第4図は上記ディスクを製造するための高周波プラズマ
CVD装置の概略図である。
FIG. 4 is a schematic diagram of a high frequency plasma CVD apparatus for manufacturing the above disk.

あらかしめ、第1図中て磁性層(3)まで形成された基
板(20)を、第4図の高周波プラズマCVD装置を構
成する真空槽(11)内の高周波電源(22)に接続さ
れた高周波電極(23)上に載置する。そしてアース電
極(12)を高周波電極(23)と並行に設置する。次
に真空ポンプ(16)を動作させ真空槽内を一旦高真空
に引いた後、CH4ガス(24)とGeH4ガス(17
)をカス導入口(19)から真空槽内に導入する。次に
アース電極(12)と高周波電極(23)との間に13
゜56 M Hzの高周波電圧を印加し、電極間にプラ
ズマを発生させる。そして、それら混合ガス圧1〜10
00 m T o r r、放電電力2〜200W、の
範囲で適当な条件に設置し、磁性層(3)上にゲルマニ
ウム含有の炭素保護膜を約300人の厚さに成膜した。
To summarize, the substrate (20) on which the magnetic layer (3) in FIG. Place it on the high frequency electrode (23). Then, a ground electrode (12) is installed in parallel with the high frequency electrode (23). Next, operate the vacuum pump (16) to once draw the inside of the vacuum chamber to a high vacuum, then CH4 gas (24) and GeH4 gas (17
) is introduced into the vacuum chamber through the waste inlet (19). Next, between the earth electrode (12) and the high frequency electrode (23), 13
A high frequency voltage of 56 MHz is applied to generate plasma between the electrodes. And those mixed gas pressure 1 to 10
A carbon protective film containing germanium was formed on the magnetic layer (3) to a thickness of about 300 mm under appropriate conditions such as 00 m Torr and a discharge power of 2 to 200 W.

カス導入口(19)からのCH4カス(24)とGeH
4ガスク17)の流量比を変えて炭素保護膜中の炭素に
対するゲルマニウムの組成比率を評価した。第7図はそ
の例を示す特性曲線図である。
CH4 dregs (24) and GeH from the dregs inlet (19)
The composition ratio of germanium to carbon in the carbon protective film was evaluated by changing the flow rate ratio of 4 gases 17). FIG. 7 is a characteristic curve diagram showing an example of this.

この時のプラズマCVDによる成膜条件は混合カスの圧
力が300mTorr、放電電力か60Wであった。こ
のようにして基板(20)上に保護膜層(4)を形成後
、この保護膜層上に、潤滑剤層(5)を形成する。本発
明に用いる親水性官能基を分子内に有するフッ素系極性
潤滑剤としては、分子中に少なくとも1個、好ましくは
1〜20個のカルボキシル基を存するフッ素系潤滑剤で
あればいずれのものであってもイ吏用できる。その具体
例としては、例えば、−数式(1):(式中、nは1〜
50の自然数を示す)で表されるもの、−数式(II) (式中、 mは1〜50の自然数、 は1〜50の 自然数を示す)で表されるもの、−数式(m)二F−(
CF2 )g−cool−1(m)(式中、gは1〜2
0の自然数を示す)で表されるものなどかあげられる。
The conditions for film formation by plasma CVD at this time were that the pressure of the mixed residue was 300 mTorr, and the discharge power was 60 W. After forming the protective film layer (4) on the substrate (20) in this manner, a lubricant layer (5) is formed on this protective film layer. The fluorine-based polar lubricant having a hydrophilic functional group in its molecule used in the present invention may be any fluorine-based lubricant having at least 1, preferably 1 to 20 carboxyl groups in its molecule. Even if there is, it can be used by an official. As a specific example, for example, - Formula (1): (where n is 1 to
(represents a natural number from 1 to 50), - represented by formula (II) (in the formula, m is a natural number from 1 to 50, and represents a natural number from 1 to 50), - formula (m) II F-(
CF2) g-cool-1(m) (where g is 1-2
Examples include those expressed as 0 (indicating a natural number).

一般式(I)で表されるものの具体令としては、例えば
デュポン社製、KRYTOX157FS(L)、KRY
TOX  157FS(M) 、 KRYTOX  1
57 F S (H)  (を字+7)(L)、(M)
、(H)はそれぞれ平均分子量で分けられ、分子式中の
nか異なるものである)かあげられる。
Specific examples of those represented by general formula (I) include, for example, KRYTOX157FS(L), KRYTOX157FS(L), manufactured by DuPont.
TOX 157FS (M), KRYTOX 1
57 F S (H) (Character +7) (L), (M)
, (H) are divided by average molecular weight, and n in the molecular formula is different).

一般式(n)で表されるものの具体例としては、たとえ
ばモンテフロース社製、Z−D I ACかあげられる
A specific example of the compound represented by the general formula (n) is Z-DI AC manufactured by Monteflores.

一般式(I[l)で表されるものの具体例としては、例
えば大日本インキ化学工業(株)製、メカファックF−
120(弐F−(CF2)8COOH)かあげられる。
As a specific example of the compound represented by the general formula (I[l), for example, Mechafac F-
120 (2F-(CF2)8COOH).

また他のフッ素系極性潤滑剤としては、分子内に少なく
とも1個以上のアミノ基、水酸基、シラノール基、スル
ホン酸基、リン酸基、等の親水基を持つものであればよ
い。その具体例としては、−数式(■、■):Ca F
I7  NH2(rv) C8F、7−NHC2H4NH2(V)モンテフロース
社製、Z−DOL、−数式(Vl)HOCH2CF2 
0   (C2F4 0)。
Other fluorine-based polar lubricants may be those having at least one hydrophilic group such as an amino group, hydroxyl group, silanol group, sulfonic acid group, or phosphoric acid group in the molecule. As a specific example, - formula (■, ■): Ca F
I7 NH2 (rv) C8F, 7-NHC2H4NH2 (V) Manufactured by Monteflores, Z-DOL, - Formula (Vl) HOCH2CF2
0 (C2F4 0).

−(CF20)。-(CF20).

−CF2  CH20H(■) (式中、n、mは1〜20の自然数を示す、−数式(■
〜X[): F17−803 F、7−03i (OCH3 (■) (IX) て表されるものなどがある。
-CF2 CH20H (■) (where n and m represent natural numbers from 1 to 20, -numerical formula (■
~X[): F17-803 F, 7-03i (OCH3 (■) (IX) etc.).

なお上記化合物につ いては、「昭和63年度電子情報通信学会秋季全国大会
C−8」で記載されている。
The above-mentioned compound is described in "1986 Institute of Electronics, Information and Communication Engineers Autumn National Conference C-8".

実施例1 第2図に示す方法によって作製した、ゲルマニウムを5
atm%含む炭素保護膜が形成された基板上に、フッ素
系極性潤滑剤KRYTOX157FS(M)をデイツプ
コート法で塗布することで磁気ディスクを作製した。な
お、塗布時の条件として、KRYTOX  157FS
(M)をフッ素溶媒(トリフルオロトリクロロエタン)
に3g/lの条件で希釈し、この中へ基板を浸漬し、基
板引き上げ速度0.1m/minで行った。
Example 1 Germanium was prepared by the method shown in FIG.
A magnetic disk was manufactured by applying a fluorine-based polar lubricant KRYTOX157FS (M) by a dip coating method onto a substrate on which a carbon protective film containing atm% was formed. In addition, as conditions for coating, KRYTOX 157FS
(M) as a fluorine solvent (trifluorotrichloroethane)
The solution was diluted to 3 g/l, and the substrate was immersed in it at a substrate lifting speed of 0.1 m/min.

デイツプコート法についての詳細な説明は、「日本潤滑
学会第32期全国大会(大阪)予稿集2485〜48B
 (1987)J等に記載されている。
For a detailed explanation of the dip coat method, please refer to the Proceedings of the 32nd National Conference of the Japanese Society of Lubrication (Osaka) 2485-48B.
(1987) J et al.

実施例2 実施例1で用いたゲルマニウムを5atm%含む炭素保
護膜の代わりに、ゲルマニウムを0.04、0. 08
、0. 2 、0.6、0. 9.8atm%含む炭素
保護膜を有する基板を用いた以外は、実施例1と全く同
様にして実施例2の磁気ディスクを作製した。
Example 2 Instead of the carbon protective film containing 5 atm % germanium used in Example 1, 0.04, 0. 08
,0. 2, 0.6, 0. A magnetic disk of Example 2 was produced in exactly the same manner as Example 1 except that a substrate having a carbon protective film containing 9.8 atm % was used.

実施例3 実施例1で用いたゲルマニウムを5atm%含も炭素保
護膜の代わりに、シリコンをatm%含む炭素保護膜を
有する基板を用いた以外は、実施例1と全く同様にして
実施例3の磁気ディスクを作製した。
Example 3 Example 3 was carried out in exactly the same manner as in Example 1 except that a substrate having a carbon protective film containing 5 atm% of silicon was used instead of the carbon protective film containing 5 atm% of germanium used in Example 1. A magnetic disk was fabricated.

実施例4 実施例1で用いたゲルマニウムを5atm%含む炭素保
護膜の代わりに、スズを5atm%含む炭素保護膜を有
する基板を用いた以外は、実施例1と全く同様にして実
施例4の磁気ディスクを作製した。
Example 4 Example 4 was carried out in exactly the same manner as in Example 1 except that a substrate having a carbon protective film containing 5 atm% of tin was used instead of the carbon protective film containing 5 atm% of germanium used in Example 1. A magnetic disk was created.

実施例5 実施例1で用いたゲルマニウムを5a tm%含む炭素
保護膜の代わりに、鉛を5atm%含む炭素保護膜を有
する基板を用いた以外は、実施例1と全く同様にして実
施例5の磁気ディスクを作製した。
Example 5 Example 5 was carried out in exactly the same manner as in Example 1 except that a substrate having a carbon protective film containing 5 atm% of lead was used instead of the carbon protective film containing 5 atm% of germanium used in Example 1. A magnetic disk was fabricated.

実施例6 ′i!、2図に示す方法によって作製した、ゲルマニウ
ムを5atm%含む炭素保護膜を有する基板を用いた以
外は、実施例1と全く同様にして実施例6の磁気ディス
クを作製した。
Example 6 ′i! A magnetic disk of Example 6 was manufactured in exactly the same manner as Example 1, except that a substrate having a carbon protective film containing 5 atm % germanium, which was manufactured by the method shown in FIG. 2, was used.

実施例7 第3図に示す方法によって作製した、ゲルマニウムを5
stm%含む炭素保護膜を有する基板を用いた以外は、
実施例1と全く同様にして実施例7の磁気ディスクを作
製した。
Example 7 Germanium was prepared by the method shown in FIG.
Except for using a substrate with a carbon protective film containing stm%.
A magnetic disk of Example 7 was produced in exactly the same manner as Example 1.

比較例1 実施例1て用いた、ゲルマニウムを含有する炭素保護膜
を有する基板の代わりに、スパッタ法で成膜された従来
の炭素保護膜を存する基板を用いた以外は、実施例1と
全く同様にして比較例1の磁気ディスクを作製した。
Comparative Example 1 Completely the same as Example 1, except that instead of the substrate with the germanium-containing carbon protective film used in Example 1, a substrate with a conventional carbon protective film formed by sputtering was used. A magnetic disk of Comparative Example 1 was produced in the same manner.

比較例2 実施例1て用いたフッ素系極性C滑剤の代わりに、極性
基を持たない同系列の潤滑剤であるデュホン社製KRY
TOX  143AD、−数式%式%): ([) (式中、nは1〜50の自然数を示す)を用いた以外は
実施例1と全く同様にして比較例2の磁気ディスクを作
製した。
Comparative Example 2 Instead of the fluorine-based polar C lubricant used in Example 1, KRY manufactured by Duhon Co., Ltd., a lubricant of the same series without polar groups, was used.
TOX 143AD, - Formula % Formula %): ([) (In the formula, n represents a natural number from 1 to 50) A magnetic disk of Comparative Example 2 was produced in exactly the same manner as in Example 1 except that n was used.

前記実施例1と比較例1.2について磁気記録媒体の信
頼性を表すスピンオフ試験を行フた。その時の試験期間
に対する潤滑層膜Hの変化の推移を第8図に示す。ただ
し、ここて言うスピンオフ試験とは、被試料の磁気ディ
スクをスピンドルモーター上に搭載し、これを温度65
℃、湿度20%の恒温恒湿槽に設置した後、スピンドル
モーターを3600rpmて回転させ(m気ディスクも
3600rpmで回転する)、この回転にともなう磁気
ディスク面上の潤滑剤層の膜厚変化を評価する試験をい
う。すなわち、磁気ディスクの回転に伴い、潤滑層膜厚
か人きく減少した場合は、スピンオフ現象か生したこと
を示し、司滑効果の劣化か生じていることがわかる。特
にC5S動作試験においては、潤滑剤層がある厚さより
も薄くなると、C8Sにともなう摩擦力の増大が問題と
なり、また余り厚く塗布し過ぎるとヘッドとディスクと
の吸着現象が起きるため、潤滑剤層の厚さにある適当な
厚さの範囲があることが分っている(参考文献:日本潤
滑学会第32期全国大会(大阪)予稿集P485〜48
8(1987))。
A spin-off test was conducted on Example 1 and Comparative Examples 1.2 to show the reliability of the magnetic recording media. FIG. 8 shows the change in the lubricant layer H over the test period. However, the spin-off test referred to here means that the magnetic disk to be sampled is mounted on a spindle motor, and the magnetic disk is heated to 65°C.
℃ and 20% humidity, the spindle motor was rotated at 3600 rpm (the magnetic disk also rotated at 3600 rpm), and changes in the film thickness of the lubricant layer on the magnetic disk surface due to this rotation were observed. Refers to the test to be evaluated. That is, if the thickness of the lubricating layer decreases rapidly as the magnetic disk rotates, this indicates that a spin-off phenomenon has occurred, indicating that the lubricating effect has deteriorated. Particularly in C5S operation tests, if the lubricant layer becomes thinner than a certain thickness, the increase in frictional force associated with C8S becomes a problem, and if the lubricant layer is applied too thick, an adhesion phenomenon between the head and the disk occurs, so the lubricant layer It is known that there is an appropriate range of thickness within the range of
8 (1987)).

今回の潤滑層膜厚評価は、FT−I R(フーリエ変換
赤外吸収分光)による膜厚測定法を用いた。本方法は、
潤滑層の示す赤外吸収強度から算出されるものである。
In this evaluation of the lubricant layer thickness, a film thickness measurement method using FT-IR (Fourier transform infrared absorption spectroscopy) was used. This method is
It is calculated from the infrared absorption intensity shown by the lubricating layer.

なおその詳細については、前述の参考文献「日本潤滑学
会第32期全国人会(大阪)予稿集」p485〜488
 (1987)に詳細に説明されている。
For details, please refer to the above-mentioned reference, "Proceedings of the 32nd National Meeting of the Japanese Society of Lubrication (Osaka)," pages 485-488.
(1987).

第8図から、本発明の実施例1の磁気ディスクでは、ス
ピンオフによる潤滑層膜厚の変化か少なく、試験後も約
30人の厚さの潤滑剤層が残っているのに対し、従来の
タイプの比較例1および極性基を持たない潤滑剤を用い
たタイプの比較例2の磁気ディスクでは、潤滑剤層の膜
厚減少が大きく明らかにスピンオフが発生し、残りだ潤
滑剤層の厚さも薄<CSSによる摩擦係数の増大が起こ
る。
From FIG. 8, it can be seen that in the magnetic disk of Example 1 of the present invention, the change in the lubricant layer thickness due to spin-off is small, and a lubricant layer approximately 30 mm thick remains after the test, whereas in the case of the conventional magnetic disk. In the magnetic disks of type Comparative Example 1 and type Comparative Example 2 using a lubricant without polar groups, the thickness of the lubricant layer was significantly reduced, and spin-off clearly occurred, and the remaining lubricant layer thickness also increased. An increase in the coefficient of friction occurs when thin < CSS.

ここで、本発明の磁気ディスクが従来の磁気ディスクと
較へ、スピンオフに対し良好な理由について検討してみ
たところ、実施例1のディスク上に塗布された潤滑層膜
厚は、比較例1及び2のディスク上に塗布される潤滑層
膜厚よりも、同条件て塗布したにもかがねらず、厚く塗
布されることから、本発明のゲルマニウムを含む炭素膜
とフッ素系極性潤滑剤であるKRYTOX157FS(
M)分子内のカルボキシル基とが相互作用を有したこと
がねがった。これは炭素膜中のゲルマニウムのような金
属原子と潤滑剤分子中の親水性官能基とが、塩を形成し
たりイオン性結合のような静電気的結合により炭素原子
とのそれに比へて大きな結合エネルギーを有するためた
と考えられる。このことから、本発明の磁気ディスクの
構成部である潤滑層は、炭素膜上に相互作用を介してし
っかりと固着されるため、結果としてスどンオフしにく
い潤滑層を形成したものと考えられる。なお第9図に、
潤滑剤の塗布条件と潤滑層膜厚の関係を示す。
Here, we investigated the reason why the magnetic disk of the present invention is better against spin-off compared to the conventional magnetic disk, and found that the thickness of the lubricant layer coated on the disk of Example 1 was the same as that of Comparative Example 1. Even when applied under the same conditions, the lubricant layer was coated thicker than the lubricant layer coated on the disk of No. 2, so it was found that the carbon film containing germanium and the fluorine-based polar lubricant of the present invention were used. KRYTOX157FS (
M) It was found that there was an interaction with the carboxyl group in the molecule. This is because the metal atoms such as germanium in the carbon film and the hydrophilic functional groups in the lubricant molecules form salts or form electrostatic bonds such as ionic bonds, which form a larger bond than with carbon atoms. It is thought that this is because it has energy. From this, it is thought that the lubricant layer, which is a component of the magnetic disk of the present invention, is firmly fixed on the carbon film through interaction, resulting in the formation of a lubricant layer that is difficult to peel off. . Furthermore, in Figure 9,
The relationship between lubricant application conditions and lubricant layer thickness is shown.

また、表1には本発明の実施例1.2における連のスピ
ンオフ試験結果を示す。表1から、炭素膜中のゲルマニ
ウムのatm%量か約5%になるまで順次、塗布潤滑層
膜厚か増加している。このことから、膜中のゲルマニウ
ムの増加に伴い潤滑剤層との相互作用が強くなったこと
がわかる。
Further, Table 1 shows the results of a series of spin-off tests in Example 1.2 of the present invention. From Table 1, the thickness of the applied lubricating layer increases sequentially until the atm% amount of germanium in the carbon film becomes approximately 5%. This shows that as the amount of germanium in the film increases, the interaction with the lubricant layer becomes stronger.

また6週間におけるスピンオフ試験後の潤滑剤層の膜厚
も、炭素膜中のゲルマニウムの増加に伴い多くなってい
ることかわかり、スピンオフに対しその防止効果が大き
いことか確かめられる。
It can also be seen that the film thickness of the lubricant layer after the 6-week spin-off test increases with the increase in germanium in the carbon film, confirming that the effect of preventing spin-off is large.

次にスピンオフ試験を行った後の前記実施例と比較例に
ついて磁気記録媒体の信頼性を表すCSS動作試験を行
った。その時のCSS動作試験回数と、その時ヘット、
ディスク間に発生した摩擦係数の関係を第10図に示す
Next, after performing the spin-off test, a CSS operation test was performed on the above-mentioned Example and Comparative Example to show the reliability of the magnetic recording medium. The number of CSS operation tests at that time and the head at that time,
FIG. 10 shows the relationship between the friction coefficients generated between the disks.

第10図から、実施例1に磁気ディスクのCSS動作試
験に伴う摩擦係数の増加は少ないのに対し、比較例1.
2の磁気ディスクでは著しく大きくなっていることが分
かる。このことから、本発明の磁気ディスクは磁気ヘッ
ドとの接触摺動に伴う機絨的劣化が少ないことがわかり
、潤滑層の効果が著しいことがわかる。なおC5S動作
試験方法については、「精密機械工学会誌」54゜5、
p73〜79 (1988)等に詳細に紹介さねている
From FIG. 10, it can be seen that in Example 1, the increase in the friction coefficient due to the CSS operation test of the magnetic disk was small, whereas in Comparative Example 1.
It can be seen that the size of the magnetic disk No. 2 is significantly larger. From this, it can be seen that the magnetic disk of the present invention suffers little mechanical deterioration due to sliding contact with the magnetic head, and it can be seen that the effect of the lubricating layer is remarkable. Regarding the C5S operation test method, please refer to "Journal of Precision Mechanical Engineering" 54゜5,
It is introduced in detail on pages 73-79 (1988).

表2には、本発明発明の実施例1.2を用いた連のスピ
ンオフ試験後の試料についてのC3S動作試験の結果を
示している。表2から炭素膜中のゲルマニウムのatm
%か約0,1%以上でCSS動作に伴なう機械的耐久性
改善の効果が著しいことがわかる。また表3には、本発
明の実施例1.3〜7、比較例1.2を用いたCSS動
作試験の結果を示している。表3から、Si、Ge、S
n、Pbの内、いずれかの金属元素を5%含む炭素保護
膜上にフッ素系極性潤滑剤を塗布したものは、C3Sか
3万回を越えても摩擦係数が0.5を越えず、CSS動
作に伴う機械的耐久性改善の効果が著しいことが分かる
Table 2 shows the results of the C3S operation test on the samples after the series of spin-off tests using Example 1.2 of the present invention. From Table 2, atm of germanium in carbon film
% or more, it can be seen that the effect of improving mechanical durability accompanying CSS operation is remarkable. Moreover, Table 3 shows the results of the CSS operation test using Examples 1.3 to 7 of the present invention and Comparative Example 1.2. From Table 3, Si, Ge, S
When a fluorine-based polar lubricant is coated on a carbon protective film containing 5% of either metal element among n and Pb, the friction coefficient does not exceed 0.5 even after 30,000 cycles of C3S. It can be seen that the effect of improving mechanical durability accompanying CSS operation is remarkable.

以上、本発明の実施例を比較例と対比して示したか、上
記実施例はごく一部の炭素成分原料および金属元素成分
原料を用いたにすぎない。その他のアルキル化合物、ア
ルコキシ化合物を用いた場合ても同様の効果が得られる
。金属元素成分としてアルキル化合物やアルコキシ化合
物を用いた場合には、金属元素の導入と同時に炭素成分
の一部をも導入できる。
In the above, examples of the present invention have been shown in comparison with comparative examples, but the above-mentioned examples only use a small part of the carbon component raw material and the metal element component raw material. Similar effects can be obtained when other alkyl compounds and alkoxy compounds are used. When an alkyl compound or an alkoxy compound is used as the metal element component, a part of the carbon component can also be introduced simultaneously with the introduction of the metal element.

また、上記実施例では、製造装置としてDCスパッタ装
置ならびに高周波プラズマCVD装置を用いたか、本発
明においてはプラズマ発生手段としてそれぞれ高周波、
直流ならびにマイクロ波ECRのいずれをもイ吏用でき
ることはいうまてもない。
In addition, in the above embodiments, a DC sputtering device and a high frequency plasma CVD device were used as manufacturing equipment, but in the present invention, high frequency,
Needless to say, both DC and microwave ECR can be used.

なお、本発明の実施例ては磁気ディスクについて述へた
か、フロッピーディスク、磁気テープ、磁気カードにも
本発明が有効である。
Although the embodiments of the present invention have been described with respect to magnetic disks, the present invention is also effective for floppy disks, magnetic tapes, and magnetic cards.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように本発明にかかる磁気ディスクは、基板上に
磁性層を形成し、その表面にシリコン、ゲルマニウム、
スズおよび鉛の中から選ばれる少なくとも一種の金属元
素を含む炭素膜より成る保護膜を形成し、さらにこの保
護膜上に親水性官能基を有するフッ素系極性潤滑剤層を
塗布形成したのて、保護膜が潤滑剤分子と相互作用を持
つために、潤滑剤層は炭素保護膜上に強く保持され、デ
ィスク回転にともなう潤滑剤層のスピンオフ現象、すな
わち飛散や蒸発がほとんど生じず、十分な機械的耐久性
を有する効果かある。また磁性層上に形成される層の合
計の膜厚を薄くできるので磁性層と磁気ヘットとのスペ
ーシングロスか少なく、磁気記録媒体の再生特性を良好
に保持てきる。そして、このため耐久性に優れ、かつ再
生出力か低下しない磁気ティスフが得られる効果かある
As described above, the magnetic disk according to the present invention has a magnetic layer formed on a substrate, and silicon, germanium, etc.
After forming a protective film made of a carbon film containing at least one metal element selected from tin and lead, and further coating and forming a fluorine-based polar lubricant layer having a hydrophilic functional group on this protective film, Because the protective film interacts with lubricant molecules, the lubricant layer is strongly retained on the carbon protective film, and spin-off of the lubricant layer due to disk rotation, that is, almost no scattering or evaporation, occurs, and sufficient mechanical strength is maintained. It has a durable effect. Furthermore, since the total thickness of the layers formed on the magnetic layer can be reduced, the spacing loss between the magnetic layer and the magnetic head is reduced, and the reproduction characteristics of the magnetic recording medium can be maintained favorably. Therefore, it is possible to obtain a magnetic tape which is excellent in durability and does not reduce the reproduction output.

また、このような磁気ディスクは非磁性基体上に7ib トとしたスパッタ成膜室内に設けられた試料台上に載置
し、上記室内を高真空に排気した後、アルゴンと、シリ
コン、ゲルマニウム、スズ及び鉛の金属群から選ばれる
少なくとも一種の金属元素の水素化物、アルキル化合物
、及びアルコキシ化合物から選ばれる少なくとも一種を
含む混合ガスを供給し、ガス圧1〜200mTorr、
放電電力20〜2000Wの条件でスパッタすることに
より上記金属元素を含む炭素保護膜を形成し、そのあと
上記保護股上に、親水性官能基を構成分子内に有するフ
ッ素系極性潤滑剤を塗布形成することにより容易に得る
ことかできる。
In addition, such a magnetic disk is placed on a sample stage provided in a sputtering film forming chamber with 7 ib deposited on a non-magnetic substrate, and after the chamber is evacuated to a high vacuum, argon, silicon, germanium, Supplying a mixed gas containing at least one kind of hydride of at least one metal element selected from the metal group of tin and lead, an alkyl compound, and an alkoxy compound, a gas pressure of 1 to 200 mTorr,
A carbon protective film containing the metal element is formed by sputtering at a discharge power of 20 to 2000 W, and then a fluorine-based polar lubricant having a hydrophilic functional group in its constituent molecules is applied to the protective crotch. This can be easily obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例による磁気ディスクを示す部
分断面図、第2図は本発明の一実施例による磁気ディス
クを製造するためのDCスパッタ装置の一例を示す概略
構成図、第3図は本発明の一実施例による磁気ディスク
を製造するためDCスパッタ装置の他の例を示す概略構
成図、第4図は本発明の一実施例による磁気ディスクを
製造するための高周波プラズマCVD装置の一例を示す
概略構成図、第5図は、第2図に示す装置において用い
られるGeH4ガスの流量比と形成した炭素保護膜中の
Geの含有量との関係を示す特性曲線図、第6図は、第
3図に示す装置において用いられるターゲットのGe含
有量と形成した炭素保護膜中のGeの含有量との関係を
示す特性曲線図、第7図は、第4図に示す装置において
用いられるGeH4ガスの流量比と形成した炭素保護膜
中のGeの含有量との関係を示す特性曲線図、第8図は
、本発明の実施例及び従来の磁気ディスクにおけるスピ
ンオフ試験期間と潤滑剤層膜厚の変化との関係を示す特
性曲線図、第9図は本発明の実施例及び従来の磁気ディ
スクにおける、KRYTOX  157FS (M)の
濃度と塗布膜厚の変化との関係を示す特性曲線図、並び
に第10図は、本発明の実施例及び従来の磁気ディスク
におけるC5S試験回数と磁気ディスクの摩擦係数の変
化との関係を示す特性曲線図である。 図において、(1)は非磁性基体、(2)は下地層、(
3)は磁性層、(4)は保護膜層、(5)はフッ素系潤
滑剤層、(11ンは真空槽、(13)は炭素ターゲット
、(17)はケルマンカス、(18)はアルゴンガス、
(2o)は基板、(21)はGe含含有炭素ターフット
(24)はメタンガスを示す。 なお、図中、同一符号は同一、または相当部分をボす。
FIG. 1 is a partial sectional view showing a magnetic disk according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing an example of a DC sputtering apparatus for manufacturing a magnetic disk according to an embodiment of the present invention, and FIG. The figure is a schematic configuration diagram showing another example of a DC sputtering apparatus for producing a magnetic disk according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a high-frequency plasma CVD apparatus for producing a magnetic disk according to an embodiment of the present invention. A schematic configuration diagram showing an example, FIG. 5 is a characteristic curve diagram showing the relationship between the flow rate ratio of GeH4 gas used in the apparatus shown in FIG. 2 and the Ge content in the formed carbon protective film, and FIG. The figure is a characteristic curve diagram showing the relationship between the Ge content of the target used in the apparatus shown in Fig. 3 and the Ge content in the formed carbon protective film. FIG. 8 is a characteristic curve diagram showing the relationship between the flow rate ratio of the GeH4 gas used and the Ge content in the formed carbon protective film. FIG. 9 is a characteristic curve diagram showing the relationship between the concentration of KRYTOX 157FS (M) and the change in coating film thickness in the embodiment of the present invention and the conventional magnetic disk. 10 and 10 are characteristic curve diagrams showing the relationship between the number of C5S tests and the change in the friction coefficient of the magnetic disk in the embodiment of the present invention and the conventional magnetic disk. In the figure, (1) is a nonmagnetic substrate, (2) is an underlayer, (
3) is a magnetic layer, (4) is a protective film layer, (5) is a fluorine-based lubricant layer, (11 is a vacuum chamber, (13) is a carbon target, (17) is a Kerman gas, and (18) is an argon gas ,
(2o) is a substrate, and (21) is a Ge-containing carbon turf (24) is methane gas. In addition, in the figures, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)、非磁性基体上に薄膜磁性層を有し、上記薄膜磁
性層上に、シリコン、ゲルマニウム、スズ、及び鉛の金
属群から選ばれる少なくとも一種の金属元素を含む炭素
膜より成る保護膜が形成され、さらに上記保護膜上に、
親水性官能基を構成分子内に有するフッ素系極性潤滑剤
層を塗布形成した磁気ディスク。
(1) A protective film comprising a thin magnetic layer on a non-magnetic substrate, and a carbon film containing at least one metal element selected from the metal group of silicon, germanium, tin, and lead on the thin magnetic layer. is formed, and further on the above protective film,
A magnetic disk coated with a fluorine-based polar lubricant layer that has hydrophilic functional groups in its constituent molecules.
(2)、非磁性基体上に薄膜磁性層が形成された基板を
、炭素をターゲットとしたスパッタ成膜室内に設けられ
た試料台上に載置し、上記室内を高真空に排気した後、
アルゴンとシリコン、ゲルマニウム、スズ及び鉛の金属
群から選ばれる少なくとも一種の金属元素の水素化物、
アルキル化合物、及びアルコキシ化合物から選ばれる少
なくとも一種を含む混合ガスを供給し、ガス圧1〜10
0mTorr、放電電力20〜2000Wの条件でスパ
ッタすることにより上記金属元素を含む炭素保護膜を形
成し、そのあと上記保護膜上に、親水性官能基を構成分
子内に有するフッ素系極性潤滑剤を塗布形成する磁気デ
ィスクの製造方法。
(2) A substrate in which a thin magnetic layer is formed on a non-magnetic substrate is placed on a sample stage installed in a sputter film formation chamber with carbon as a target, and the chamber is evacuated to a high vacuum.
a hydride of argon and at least one metal element selected from the metal group of silicon, germanium, tin and lead;
A mixed gas containing at least one selected from an alkyl compound and an alkoxy compound is supplied, and the gas pressure is 1 to 10
A carbon protective film containing the above-mentioned metal element is formed by sputtering under the conditions of 0 mTorr and discharge power of 20 to 2000 W, and then a fluorine-based polar lubricant having a hydrophilic functional group in its constituent molecules is applied on the above-mentioned protective film. A method of manufacturing a magnetic disk by coating.
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