JPH04232282A - 多層コーチングを有するダイヤモンド及びその製造方法 - Google Patents

多層コーチングを有するダイヤモンド及びその製造方法

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JPH04232282A
JPH04232282A JP3174237A JP17423791A JPH04232282A JP H04232282 A JPH04232282 A JP H04232282A JP 3174237 A JP3174237 A JP 3174237A JP 17423791 A JP17423791 A JP 17423791A JP H04232282 A JPH04232282 A JP H04232282A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、母材中の保留を改善す
るための多層コーチングをしたダイヤモンドに関する。
【０００２】
【従来の技術】ダイヤモンドはのこ引き、孔あけ、目直
し、及び粉砕の用途に広く用いられている。工具本体に
つながっているニッケル、銅、鉄、コバルトもしくは錫
又はこれらの合金の母材に、ダイヤモンドは一般に結合
され又はその中に機械的に保持されている。この母材は
又フェノールホルムアルデヒドのような樹脂も含みうる
。
【０００３】このダイヤモンドが研摩グリット（砥粒）
の形をとっているときは、それは、しばしば母材中に機
械的に結合されている。これは母材がグリットをとり囲
み、決まった場所に保持するものである。簡単で実際的
ではあるが、機械的結合は比較的弱く、周囲の母材が使
用中にすり減るに従って、グリットは容易に失われる。 グリットを母材中に深く埋め込み、少しだけグリットを
外に出すことによりグリットの保留は改善されうる。し
かしこれは切削効率を下げる。一般ののこ刃への応用で
は、ダイヤモンドグリットの平均露出は、全グリット高
さの２０％未満である。支持する母材がすり減ってグリ
ットの３分の１以上が露出すると、グリットの損失が重
大な問題となる。始めのダイヤモンドグリットの３分の
２までが早過ぎて失われたとき、そのような切削工具の
平均寿命は減少する。
【０００４】米国特許第３，８７１，８４０号から、ダ
イヤモンド粒子上にタングステンのコーチングを析出さ
せれば、青銅、青銅合金のような母材がダイヤモンド粒
子に付着する能力を高めこれによって、工具を摩耗、切
断又は粉砕の用途に使用する間この粒子を工具中に保持
することが知られている。
【０００５】加えて、グリットの保留を改善する試みの
中で、チタン又はジルコニウムのような炭化物を形成す
る遷移金属でダイヤモンド粒子をコートすることが知ら
れた。このコーチングの内面はダイヤモンドと共に炭化
物を形成する。次いで、内部の層を酸化から保護するた
めに、ニッケル又は銅のような酸化されにくい金属の第
２の層を形成することができる。
【０００６】クロムのような内層とニッケルのような外
層を持った２層コートしたダイヤモンドを引張試験した
ところ、内層と外層の金属の境界で破断が生ずることが
明らかとなった。このことはニッケルがその下に存在す
る炭化物と合金化していないか、さもなくばよく結合し
ていないことを示唆している。結合は又ニッケルコーチ
ング工程の間内層のクロムの酸化によって弱められうる
。
【０００７】ダイヤモンド粒子を、チタン、マンガン、
クロム、バナジウム、タングステン、モリブデン又はニ
オブで、金属蒸着によりコートすることも又知られてい
る。しかしながら、これらの炭化物形成物質はダイヤモ
ンド結晶に充分に強く結合せず、高い応力のかかる多数
の用途についてグリット保留を改善するものではないし
、これらは酸化を受け易いことが見出された。上記のよ
うに内層を酸化から保護するために用いられる外側金属
層は内層と適切に結合しない。
【０００８】出願係属中で共通の所有者に帰する米国特
許出願第０７／２６１，２３６号に示されているように
、最初にダイヤモンド粒子をクロムでコートし次いで化
学蒸着（以下「ＣＶＤ」ということがある）技術でクロ
ムの上にタングステンのコーチングを析出させることに
より母材とダイヤモンド粒子の間の結合力を更に改善し
ようとする試みがなされた。一般のＣＶＤ技術では、蒸
気中でクロムコートダイヤモンドを浮揚させ又は転がす
。この蒸気は一般に六弗化タングステンからなる。しか
しながら、この方法で好ましい結果が得られるが、弗素
含有ガスがクロム含有コーチングと有害に反応して弗化
クロムを生ずるという不幸な傾向があることが発見され
た。従って、六弗化タングステンを利用するＣＶＤ法に
ついては、炭化クロムとタングステン層の間の弗化クロ
ムの存在によってこの層組織の強度は制限される。
【０００９】
【課題を解決するための手段及び発明の効果】始めにダ
イヤモンドの上にクロムの層を析出させて炭化クロム層
を形成し、次いでこの炭化クロム層の上にチタンの層を
析出させることによりダイヤモンドの保留を高めうるこ
とが発見された。次いでこのチタン含有層を窒化して窒
化チタンを含む層を形成し、最後に、前記窒化チタン含
有層の表面にタングステン又はモリブデンの層を析出さ
せる。窒化チタンを含む中間層は、下に横たわる炭化ク
ロム及び上に横たわるタングステンの両方に非常によく
結合するだけでなく、タングステン析出工程の間炭化ク
ロムに対するハロゲン化物（例えば弗化物）含有ガスの
攻撃に対して保護障壁を形成する。
【００１０】本発明方法によれば、クロムからなる第１
の金属コーチング層でダイヤモンドをコートする。この
クロムはダイヤモンドと反応して炭化クロム含有層を生
じ、これは下に横たわるダイヤモンドと化学的に結合す
る。検討の結果望ましい結果を得るためには、コーチン
グの厚さは少なくとも０．０５μｍが好ましいことが判
明した。
【００１１】クロム層の析出と炭化クロムの形成に続い
て、該炭化クロムの外面上にチタン含有層を形成する。 次いでこのチタンは、これを窒化することによりハロゲ
ン化物含有ガス（例えば弗素）との反応に対して不動態
化する。一担窒化すれば、前記粒子をハロゲン化物（弗
化物）含有ガスに暴露する化学蒸着によって、タングス
テン又はモリブデン好ましくはタングステンのような遷
移元素のコーチングを窒化チタンの表面に形成する。
【００１２】始めのクロム層の析出のために種々の代替
手段をとりうる。第１の代替手段はダイヤモンドの表面
に金属蒸着（以下「ＭＶＤ」ということがある。）でク
ロムを析出させる方法である。ＭＶＤにおいては、クロ
ム微粉末の層を、コートすべきダイヤモンドと混合し、
次いで炉の中で約１０−６Ｔｏｒｒ　の真空下に１時間
以上６００〜７００℃程度の高温に加熱する。この処理
は、クロム粉末を蒸発させ、ダイヤモンドの表面に均一
な層をなして再析出させる。この工程の間、粒子が互い
に付着するのを防ぐため攪拌を行ってもよい。クロム粉
末粒子の粒度は３２５メッシュ程度が好ましい。クロム
粉末を塩化水素でコンディショニングするのはコーティ
ング工程の助けとなる。このコーティング工程はメタン
ガス雰囲気又はアルゴンもしくは水素のような非酸化性
ガスの雰囲気の下で行ってもよい。第１のクロム層を設
けるのに他の析出法を用いることができる。
【００１３】他の代替手段として、例えばＮａＣｌ、Ｃ
ａＣｌ２　、及びＫＣｌ　を含む塩の浴でダイヤモンド
とクロム粉末とを混合することによりクロムのコーチン
グを形成してもよい。この混合物を約６５０℃以上で約
５分間浸漬し、クロムを溶融塩浴中に溶解する。そして
ダイヤモンド結晶上にクロムが層を形成する。
【００１４】先に示唆したように、全クロム層はダイヤ
モンド粒子の炭素と化学的に反応してダイヤモンドと結
合した炭化クロム（Ｃｒ３Ｃ２）を形成する。この結合
はダイヤモンドの炭素と炭化物層の間の原子と原子の結
合であると考えられる。
【００１５】クロム層の厚さの好ましい範囲は０．０５
〜１μｍである。もっとも５μｍまでの厚さも許容でき
る。０．０５〜０．３０μｍが最も好ましい。もしこの
金属／炭化物層が薄過ぎると、次の金属コーチングがダ
イヤモンド表面まで拡散し、クロムと置換してダイヤモ
ンドとの結合が弱いものとなるだろう。０．０５μｍは
、結合に適当な連続的炭化クロムコーチングを確保する
およそのコーチングの最小限の厚さであることが見出さ
れた。
【００１６】鉄含量０．１％未満の純度９９．８％のク
ロム金属粉末を混合した公称直径５００μｍのダイヤモ
ンドグリットを用いて、７２０℃、１０−５Ｔｏｒｒ　
で４〜６時間ＭＶＤ法を実施したところ、少なくとも０
．０５μｍのクロムコーチングを生じた。７７０℃で２
時間ＭＶＤを実施したところ０．１０〜０．４０μｍの
コーチングを生じた。８２０℃及び８７０℃でそれぞれ
２時間ＭＶＤを実施したところそれぞれ０．３０〜０．
５０μｍ及び０．５０〜０．８０μｍのコーチングを生
じた。 ９２０℃で１時間ＭＶＤを実施したところ約１μｍの厚
さのコーチングを生じた。
【００１７】次のチタン含有層の形成において、１０−
５Ｔｏｒｒの真空下で９００℃で６時間同様のＭＶＤ法
によりチタニウムコーチングを形成した。チタン粉末を
ダイヤモンドと重量比１：１で混合した。この際、混合
の前に、チタン３．０ｇあたり濃ＨＣＬ０．１ｍＬを加
えて乾燥した。好ましくは、チタンは０．１μｍ以上の
厚さに析出させる。１０μｍまでの厚さは可能であると
考えられるが、厚さが１０μｍより大きいとコーチング
の引起こす応力によりクラックの生じるおそれがある。 チタン含有層を形成した後コートしたグリットを窒素雰
囲気中で２時間約１０００℃に加熱する。この加熱工程
はチタン含有層の最外部を窒素と結合させて窒化チタン
を形成する。これに替えて、物理的蒸着（スパッター）
法又はＣＶＤ法によりチタンを析出させてもよい。
【００１８】最後に、化学蒸着又は物理的蒸着の技術に
より、第３の最外のタングステン又はモリブデンを含む
コーチング層を形成してもよい。しかし、金属蒸着法は
好ましくない。何故ならこの方法に必要な高温度はダイ
ヤモンドを劣化させるおそれがあるからである。
【００１９】タングステン層を形成する最も好ましい方
法は、ダイヤモンド表面で六弗化タングステンのような
金属化合物を還元することを含む化学蒸着法である。例
えば米国特許第３，７５７，８７８号（Ｗｉｌｄｅｒ）
　を参照のこと。ＣＶＤが好ましいのは、多数のダイヤ
モンド片を均等にコートするのが容易なこと、及びタン
グステンを析出させるのに比較的低い温度を用いうるこ
とである。本発明方法において、ＣＶＤは一般に７００
℃、７Ｔｏｒｒ　で、還元性雰囲気下に１５〜９０分間
行う。タングステンはコバルト、ニッケル及びＣｕ−Ｚ
ｎ−Ｎｉのような普通に用いられる浸透（ｉｎｆｉｌｔ
ｒａｔｉｏｎ）　合金のような通常の母材物質と有利に
結合するので、この最外層としてタングステンは好まし
い物質である。この最外層からのタングステンは、拡散
及び、母材との固溶体の形成によってそのような母材物
質と結合しているようである。母材によっては母材との
金属間結合もありうる。
【００２０】タングステン層の厚さは好ましくは５〜５
０μｍであり、コーチングに応じて３０μｍまでがより
好ましい。一部には形成の方法と条件によっては、より
薄いコーチングが適当であろう。例えば、ＣＶＤはいく
分柱状のタングステンコーチングを生じうるが、これは
液体合金に浸透性のようである。従って、コーチングは
、内部金属層を後の望ましくない反応から内部の金属層
を適切に保護するに充分厚くなければならない。
【００２１】
【実施例】実施例 ２０個の１／２カラットの単結晶ダイヤモンドを３２５
メッシュのクロム粉末６ｇと混合した。２００ｇのクロ
ム粉末を、７２ｃｃの水と３６％ＨＣＬ６ｃｃとで１時
間、予め処理し、排水し、乾燥しておいた。次いでこの
粉末とダイヤモンドの混合物とを管状炉中８００℃で１
時間メタン雰囲気中で加工した。この工程で均一な炭化
クロム層が形成された。
【００２２】次いでこの炭化クロムでコートされたダイ
ヤモンドを、クロムについて上に述べたのと同様な方法
でＨＣｌで処理していた３２５メッシュのチタン粉末と
混合した。次いでチタンとダイヤモンドの混合物を高真
空炉中９００℃で６時間加工した。この間炉を約１０−
５Ｔｏｒｒ　の真空に維持した。このＴｉ／Ｃｒでコー
トしたダイヤモンドをＮ２　雰囲気中に、１０００℃で
２時間置き、チタン含有層を少なくとも部分的に窒化チ
タン（ＴｉＮ）に変換した。どんな特定の理論にも拘束
されたくないが、チタンコーチングは炭化クロム層の炭
素と相互に作用して炭化クロムのすぐ隣に内部炭化チタ
ン層を形成すると考えられる。炭化チタンとこのコーチ
ングの窒化チタン部分の間に炭化／窒化チタン（Ｔｉ（
ＣｘＮｙ））からなる中間体、変移層もあるかも知れな
い。
【００２３】最後に、Ｃｒ／Ｔｉコートしたダイヤモン
ドをＣＶＤ室に置き、タングステンで厚さ３０μｍにコ
ートした。後の工程でダイヤモンドを工具シャンクに結
合するのに普通に用いられる通常の浸透バインダー（例
えばＣｕ／Ｎｉベース合金）中に見出される元素の移行
に対する拡散障壁として有効に作用するために、タング
ステン層の厚さには３０μｍが必要と考えられる。用い
られる取付技術が浸透結合でなく、熱圧プレスであると
きは、タングステン層は５μｍの薄さでもよい。
【００２４】上述のコートされた半カラットのダイヤモ
ンドを研削砥石を正しく調整する工具のシャンクの作用
端に混入させた。ダイヤモンドをタングステン粉末中に
詰め、１０００℃で２０分間アンモニア雰囲気中にてＣ
ｕ−Ｚｎ−Ｎｉ合金で浸透させた。テストしてみると、
ダイヤモンドを取付けたシャンクをダイヤモンドの最大
の胴廻り以下にすりへらした後でもダイヤモンドは保留
されていた。コートしなかったダイヤモンド又はクロム
含有層及び同様な条件下にあるタングステンでコートし
たダイヤモンドは、シャンクを同程度にすり減らしたと
き工具からもぎ取られた。

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】　　次のものからなる良好な結合性を持つ
    ダイヤモンド要素： ａ．ダイヤモンド基体； ｂ．前記ダイヤモンド基体に結合した第１の層；ｃ．前
    記第１の層に結合した第２の層；及びｄ．前記第２の層
    に結合した第３の層、但し、前記第１の層は炭化クロム
    を含み、前記第３の層は遷移元素を含み、前記第２の層
    はクロム及び前記遷移元素以外の元素を含み、前記遷移
    元素はタングステン又はモリブデンである。
  2. 【請求項２】　　前記第２の層がハロゲン化物の攻撃に
    抵抗性を持つ化合物からなる請求項１に記載のダイヤモ
    ンド要素。
  3. 【請求項３】　　前記第２の層がチタン化合物である請
    求項２に記載のダイヤモンド要素。
  4. 【請求項４】　　前記チタン化合物が窒化チタンからな
    る請求項３に記載のダイヤモンド要素。
  5. 【請求項５】　　根本資料としてハロゲン化物を用いる
    化学蒸着剤により、前記第３の層を析出させてなる請求
    項１〜４のいずれか１項に記載のダイヤモンド要素。
  6. 【請求項６】　　次のものからなる、堅く固着したダイ
    ヤモンド要素を含む製品： ａ．ダイヤモンド基体； ｂ．前記ダイヤモンド基体に化学的に結合した第１の層
    ； ｃ．前記第１の層に化学的に結合した第２の層；ｄ．前
    記第２の層に化学的に結合した第３の層；及びｅ．前記
    第３の層に結合した本体、 但し、前記第１の層は炭化クロムを含み、前記第３の層
    は遷移元素を含み、前記第２の層はクロム及び前記遷移
    元素以外の元素を含み、前記遷移元素はタングステン又
    はモリブデンである。
  7. 【請求項７】　　前記第２の層がハロゲン化物の攻撃に
    抵抗性を持つ化合物を含む請求項６に記載の製品。
  8. 【請求項８】　　前記第２の層がチタン化合物を含む請
    求項７に記載の製品。
  9. 【請求項９】　　前記チタン化合物が窒化チタンを含む
    請求項８に記載の製品。
  10. 【請求項１０】　　根本資料としてハロゲン化物を用い
    る化学蒸着剤により、前記第３の層を析出させてなる請
    求項６〜９のいずれか１項に記載の製品。
  11. 【請求項１１】　　前記本体がＣｕ−Ｚｎ−Ｎｉ合金で
    浸透したタングステン母体からなる請求項６〜１１のい
    ずれか１項に記載の製品。
  12. 【請求項１２】　　次のステップを含む、基体に堅く結
    合されるダイヤモンド要素の製造方法； ａ．ダイヤモンド要素に第１の層を析出させるステップ
    ； ｂ．前記ダイヤモンド要素に第２の層を析出させるステ
    ップ； ｃ．前記ダイヤモンド要素に第３の層を析出させるステ
    ップ、 但し、前記第１の層は炭化クロムを含み、前記第２の層
    は遷移元素を含み、前記第２の層はクロム及び前記遷移
    元素以外の元素を含み、前記遷移元素はタングステン又
    はモリブデンである。
  13. 【請求項１３】　　前記第３の層を析出させるステップ
    が、ハロゲン化物ガスの存在下で前記タングステン又は
    モリブデンを化学蒸着法で析出させ、前記第２の層が前
    記ハロゲン化物ガスの攻撃に対して抵抗性を持った化合
    物から成る請求項１２に記載の方法。
  14. 【請求項１４】　　前記第２の層を析出させるステップ
    がハロゲン化物の攻撃に対して抵抗性のある物質の層を
    析出させるステップを含む請求項１２又は１３に記載の
    方法。
  15. 【請求項１５】　　前記第２の層の析出がチタンの層を
    析出させ、このチタンをハロゲン化物の攻撃に対して不
    動態化するステップを含む請求項１２，１３又は１４に
    記載の方法。
  16. 【請求項１６】　　前記不動態化するステップが前記チ
    タンを窒化することを含む請求項１５に記載の方法。
JP3174237A 1990-07-20 1991-07-16 多層コーチングを有するダイヤモンド及びその製造方法 Expired - Fee Related JP2716885B2 (ja)

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