JPH04232741A - ポリイミドとフルオロカーボンポリマーとのラミネートの製造方法 - Google Patents
ポリイミドとフルオロカーボンポリマーとのラミネートの製造方法Info
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- B32B27/304—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising vinyl halide (co)polymers, e.g. PVC, PVDC, PVF, PVDF
-
- H—ELECTRICITY
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
- H05K1/036—Multilayers with layers of different types
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
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-
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-
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- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2309/00—Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
- B32B2309/02—Temperature
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-
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2379/00—Other polymers having nitrogen, with or without oxygen or carbon only, in the main chain
- B32B2379/08—Polyimides
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0137—Materials
- H05K2201/015—Fluoropolymer, e.g. polytetrafluoroethylene [PTFE]
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0137—Materials
- H05K2201/0154—Polyimide
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/09—Treatments involving charged particles
- H05K2203/095—Plasma, e.g. for treating a substrate to improve adhesion with a conductor or for cleaning holes
- H05K2203/097—Corona discharge
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は接着性の改善された、ポ
リイミドとフルオロカーボンポリマーとの積層構造部材
の製造方法に関する。
リイミドとフルオロカーボンポリマーとの積層構造部材
の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ポリイミド重合体材料とフルオロカーボ
ンポリマーとの積層構造部材は、それらを電気または電
子機器用の支持体としてまたは絶縁フィルムとして有用
ならしめる諸物理学的性質の独特な組合せを有するよく
知られた製品である。
ンポリマーとの積層構造部材は、それらを電気または電
子機器用の支持体としてまたは絶縁フィルムとして有用
ならしめる諸物理学的性質の独特な組合せを有するよく
知られた製品である。
【0003】ポリイミドとフルオロカーボンポリマーと
の積層構造部材を製造するための多くの方法が今までに
開発されている。例えば米国特許第3,179,634
号の開示には、フルオロカーボンポリマーの表面を周囲
空気中で放電処理して表面密着性を改善し、その処理済
みポリマーを所望ポリイミドのポリアミド−酸プレカー
サーでコーティングし次にポリアミド−酸をポリイミド
に変換することにより製造されるポリイミドとフルオロ
カーボンポリマーとの積層構造部材が記載されている。
の積層構造部材を製造するための多くの方法が今までに
開発されている。例えば米国特許第3,179,634
号の開示には、フルオロカーボンポリマーの表面を周囲
空気中で放電処理して表面密着性を改善し、その処理済
みポリマーを所望ポリイミドのポリアミド−酸プレカー
サーでコーティングし次にポリアミド−酸をポリイミド
に変換することにより製造されるポリイミドとフルオロ
カーボンポリマーとの積層構造部材が記載されている。
【0004】米国特許第3,627,624号にはフル
オロカーボンポリマーをアセトン含有雰囲気中で放電処
理することにより接着性の改善された、ポリイミドとフ
ルオロカーボンポリマーとの積層製品を製造する方法が
開示されている。該構造部材は熱接着性であり、電気絶
縁用に適している。
オロカーボンポリマーをアセトン含有雰囲気中で放電処
理することにより接着性の改善された、ポリイミドとフ
ルオロカーボンポリマーとの積層製品を製造する方法が
開示されている。該構造部材は熱接着性であり、電気絶
縁用に適している。
【0005】また米国特許第4,801,506号には
ポリイミドとフルオロカーボンポリマーの両接触表面を
放電処理することにより製造されたポリイミドとフルオ
ロカーボンポリマーとの積層構造部材が開示されている
。
ポリイミドとフルオロカーボンポリマーの両接触表面を
放電処理することにより製造されたポリイミドとフルオ
ロカーボンポリマーとの積層構造部材が開示されている
。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記ポリイミドとフル
オロカーボンポリマーの両者は周囲空気雰囲気中で放電
処理されているが、フルオロカーボンポリマーのアセト
ン雰囲気中での処理の重要性についての示唆は全くない
。
オロカーボンポリマーの両者は周囲空気雰囲気中で放電
処理されているが、フルオロカーボンポリマーのアセト
ン雰囲気中での処理の重要性についての示唆は全くない
。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明によれば従来技術
による場合よりも遥かに優れた接着性を有する、ポリイ
ミドとフルオロカーボンポリマーとの積層構造部材が、
ポリイミドの接触表面を放電処理しそしてフルオロカー
ボンポリマーの接触表面をアセトン雰囲気中で放電処理
することによって製造されうることが見出された。
による場合よりも遥かに優れた接着性を有する、ポリイ
ミドとフルオロカーボンポリマーとの積層構造部材が、
ポリイミドの接触表面を放電処理しそしてフルオロカー
ボンポリマーの接触表面をアセトン雰囲気中で放電処理
することによって製造されうることが見出された。
【0008】
【発明の要旨】本発明により、放電処理したポリイミド
の少なくとも1層およびアセトン雰囲気中で放電処理し
たフルオロカーボン重合体材料の少なくとも1層からな
る積層構造部材を製造する方法が提供される。
の少なくとも1層およびアセトン雰囲気中で放電処理し
たフルオロカーボン重合体材料の少なくとも1層からな
る積層構造部材を製造する方法が提供される。
【0009】さらに詳しく云えば、放電処理したポリイ
ミドの少なくとも1層並びにアセトン雰囲気中で放電処
理した、ヘキサフルオロプロピレンとテトラフルオロエ
チレンとのコポリマーの少なくとも1層からなる積層構
造部材の製造方法が提供される。
ミドの少なくとも1層並びにアセトン雰囲気中で放電処
理した、ヘキサフルオロプロピレンとテトラフルオロエ
チレンとのコポリマーの少なくとも1層からなる積層構
造部材の製造方法が提供される。
【0010】本発明によれば放電処理に付したポリイミ
ドフィルムの基層を、アセトン雰囲気好ましくは窒素/
アセトン雰囲気中において室温および大気圧で放電処理
に付したフルオロカーボンポリマーのフィルムにラミネ
ートすることからなるポリイミドとフルオロカーボンポ
リマーとの積層構造部材の製造方法が提供される。処理
速度40〜80フィート/分においてコロナ放電のよう
な典型的な放電への曝露は約0.0625〜0.125
秒である。
ドフィルムの基層を、アセトン雰囲気好ましくは窒素/
アセトン雰囲気中において室温および大気圧で放電処理
に付したフルオロカーボンポリマーのフィルムにラミネ
ートすることからなるポリイミドとフルオロカーボンポ
リマーとの積層構造部材の製造方法が提供される。処理
速度40〜80フィート/分においてコロナ放電のよう
な典型的な放電への曝露は約0.0625〜0.125
秒である。
【0011】該積層構造部材は、本質的には参考までに
本明細書中に組入れる米国特許第3,179,614号
;同第3,179,630号および同第3,179,6
34号の各明細書中に記載のようにして、芳香族テトラ
カルボン酸二無水物を不活性有機溶媒中においてジアミ
ンと反応させてポリアミド−酸溶液を得次いで該ポリア
ミド−酸をポリイミドに変換することによって製造され
るポリイミドの少なくとも1つの層を有する点に特徴が
ある。
本明細書中に組入れる米国特許第3,179,614号
;同第3,179,630号および同第3,179,6
34号の各明細書中に記載のようにして、芳香族テトラ
カルボン酸二無水物を不活性有機溶媒中においてジアミ
ンと反応させてポリアミド−酸溶液を得次いで該ポリア
ミド−酸をポリイミドに変換することによって製造され
るポリイミドの少なくとも1つの層を有する点に特徴が
ある。
【0012】本発明のポリイミドにおいて使用するのに
適当なジアミンの例は下記のとおりである。
適当なジアミンの例は下記のとおりである。
【0013】メタ−フェニレンジアミン;パラフェニレ
ンジアミン;4,4′−ジアミノ−ジフェニルプロパン
;4,4′−ジアミノ−ジフェニルメタン;ベンジジン
;4,4′−ジアミノ−ジフェニルスルフィド;4,4
′−ジアミノ−ジフェニルスルホン;3,3′−ジアミ
ノ−ジフェニルスルホン;4,4′−ジアミノ−ジフェ
ニルエーテル;2,6−ジアミノ−ピリジン;ビス−(
4−アミノ−フェニル)ジエチルシラン;ビス−(4−
アミノ−フェニル)ホスフィンオキシド;ビス−(4−
アミノ−フェニル)−N−メチルアミン;1,5−ジア
ミノ−ナフタレン;3,3′−ジメチル−4,4′−ジ
アミノ−ビフェニル;3,3′−ジメトキシベンジジン
;2,4−ビス(β−アミノ−t−ブチル)トルエン;
ビス−(パラ−β−アミノ−t−ブチル−フェニル)エ
ーテル;パラ−ビス(2−メチル−4−アミノ−ペンチ
ル)ベンゼン;パラ−ビス−(1,1−ジメチル−5−
アミノ−ペンチル)ベンゼン;m−キシリレンジアミン
;p−キシリレンジアミン;ビス(パラ−アミノ−シク
ロヘキシル)メタン;ヘキサメチレンジアミン;ヘプタ
メチレンジアミン;オクタメチレンジアミン;ノナメチ
レンジアミン;デカメチレンジアミン;3−メチルヘプ
タメチレンジアミン;4,4−ジメチルヘプタメチレン
ジアミン;2,11−ジアミノ−ドデカン;1,2−ビ
ス−(3−アミノ−プロポキシ)エタン;2,2−ジメ
チルプロピレンジアミン;3−メトキシ−ヘキサメチレ
ンジアミン;2,5−ジメチルヘキサメチレンジアミン
;2,5−ジメチルヘプタメチレンジアミン;5−メチ
ルノナメチレンジアミン;1,4−ジアミノ−シクロヘ
キサン;1,12−ジアミノ−オクタデカン;H2N(
CH2)3O(CH2)3NH2;H2N(CH2)3
S(CH2)3NH2;H2N(CH2)3N(CH3
)(CH2)3NH2′およびそれらの混合物。
ンジアミン;4,4′−ジアミノ−ジフェニルプロパン
;4,4′−ジアミノ−ジフェニルメタン;ベンジジン
;4,4′−ジアミノ−ジフェニルスルフィド;4,4
′−ジアミノ−ジフェニルスルホン;3,3′−ジアミ
ノ−ジフェニルスルホン;4,4′−ジアミノ−ジフェ
ニルエーテル;2,6−ジアミノ−ピリジン;ビス−(
4−アミノ−フェニル)ジエチルシラン;ビス−(4−
アミノ−フェニル)ホスフィンオキシド;ビス−(4−
アミノ−フェニル)−N−メチルアミン;1,5−ジア
ミノ−ナフタレン;3,3′−ジメチル−4,4′−ジ
アミノ−ビフェニル;3,3′−ジメトキシベンジジン
;2,4−ビス(β−アミノ−t−ブチル)トルエン;
ビス−(パラ−β−アミノ−t−ブチル−フェニル)エ
ーテル;パラ−ビス(2−メチル−4−アミノ−ペンチ
ル)ベンゼン;パラ−ビス−(1,1−ジメチル−5−
アミノ−ペンチル)ベンゼン;m−キシリレンジアミン
;p−キシリレンジアミン;ビス(パラ−アミノ−シク
ロヘキシル)メタン;ヘキサメチレンジアミン;ヘプタ
メチレンジアミン;オクタメチレンジアミン;ノナメチ
レンジアミン;デカメチレンジアミン;3−メチルヘプ
タメチレンジアミン;4,4−ジメチルヘプタメチレン
ジアミン;2,11−ジアミノ−ドデカン;1,2−ビ
ス−(3−アミノ−プロポキシ)エタン;2,2−ジメ
チルプロピレンジアミン;3−メトキシ−ヘキサメチレ
ンジアミン;2,5−ジメチルヘキサメチレンジアミン
;2,5−ジメチルヘプタメチレンジアミン;5−メチ
ルノナメチレンジアミン;1,4−ジアミノ−シクロヘ
キサン;1,12−ジアミノ−オクタデカン;H2N(
CH2)3O(CH2)3NH2;H2N(CH2)3
S(CH2)3NH2;H2N(CH2)3N(CH3
)(CH2)3NH2′およびそれらの混合物。
【0014】有用な溶媒としては通常、液体N,N−ジ
アルキルカルボキシルアミド類が一般的に挙げられる。 好ましい溶媒には該カルボキシルアミドのうちの低分子
量のもの特にN,N−ジメチルホルムアミドおよびN,
N−ジメチルアセトアミドがある。この種の溶媒のその
他の有用な化合物はN,N−ジエチルホルムアミドおよ
びN,N−ジエチルアセトアミドである。使用できる他
の溶媒にはジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピ
ロリドン、テトラメチル尿素、ジメチルスルホン、ヘキ
サメチルホスホルアミド、テトラメチレンスルホン等が
ある。これらの溶媒は単独で、お互いの組合せでまたは
貧溶媒例えばベンゼン、ベンゾニトリル、ジオキサン等
との組合せで使用されうる。使用する溶媒の量はポリア
ミド酸の75〜90重量%であるのが好ましい。その理
由は該濃度で最適分子量が得られることが見出されたた
めである。
アルキルカルボキシルアミド類が一般的に挙げられる。 好ましい溶媒には該カルボキシルアミドのうちの低分子
量のもの特にN,N−ジメチルホルムアミドおよびN,
N−ジメチルアセトアミドがある。この種の溶媒のその
他の有用な化合物はN,N−ジエチルホルムアミドおよ
びN,N−ジエチルアセトアミドである。使用できる他
の溶媒にはジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピ
ロリドン、テトラメチル尿素、ジメチルスルホン、ヘキ
サメチルホスホルアミド、テトラメチレンスルホン等が
ある。これらの溶媒は単独で、お互いの組合せでまたは
貧溶媒例えばベンゼン、ベンゾニトリル、ジオキサン等
との組合せで使用されうる。使用する溶媒の量はポリア
ミド酸の75〜90重量%であるのが好ましい。その理
由は該濃度で最適分子量が得られることが見出されたた
めである。
【0015】ポリアミド酸のポリイミドへの変換は熱変
換または化学変換のいずれかの手法によって遂行されう
る。熱変換法によれば、ポリアミド酸溶液を加熱した変
換表面例えば金属ドラムまたはベルト上にキャストし次
に約50℃より高い温度で加熱して部分的にポリアミド
酸をポリイミドに変換する。ポリアミド酸変換の程度は
用いる温度および露出時間に左右されるが、しかし一般
的にはアミド酸基の約25〜95%がイミド基に変換さ
れる。次いで部分的に変換されたポリアミド酸を220
℃以上に加熱して、完全にポリイミドに変換する。
換または化学変換のいずれかの手法によって遂行されう
る。熱変換法によれば、ポリアミド酸溶液を加熱した変
換表面例えば金属ドラムまたはベルト上にキャストし次
に約50℃より高い温度で加熱して部分的にポリアミド
酸をポリイミドに変換する。ポリアミド酸変換の程度は
用いる温度および露出時間に左右されるが、しかし一般
的にはアミド酸基の約25〜95%がイミド基に変換さ
れる。次いで部分的に変換されたポリアミド酸を220
℃以上に加熱して、完全にポリイミドに変換する。
【0016】化学変換法ではポリアミド酸溶液をまず約
10℃〜−10℃に冷却し次にポリアミド酸変換化学薬
品を加える。該ポリアミド酸変換化学薬品は第三アミン
触媒および無水物脱水物質である。好ましい無水物脱水
物質は無水酢酸であり、それはポリアミド酸中のアミド
酸基の量より僅かなモル過剰量において、典型的にはポ
リアミド酸の1当量あたり約2〜2.5モルで使用され
る。匹敵しうる量の第三アミン触媒が使用される。無水
酢酸の外に、その他の操作可能な低級脂肪酸無水物とし
ては無水プロピオン酸、無水酪酸、無水吉草酸、これら
お互いの混合無水物、これらと芳香族モノカルボン酸例
えば安息香酸、ナフトエ酸等の無水物との混合無水物お
よびこれらと炭酸ないしギ酸の無水物との混合無水物並
びに脂肪族ケテン(ケテンおよびジメチルケテン)があ
る。ケテンは該酸の過激な脱水から誘導されるカルボン
酸の無水物としてみなすことができる。
10℃〜−10℃に冷却し次にポリアミド酸変換化学薬
品を加える。該ポリアミド酸変換化学薬品は第三アミン
触媒および無水物脱水物質である。好ましい無水物脱水
物質は無水酢酸であり、それはポリアミド酸中のアミド
酸基の量より僅かなモル過剰量において、典型的にはポ
リアミド酸の1当量あたり約2〜2.5モルで使用され
る。匹敵しうる量の第三アミン触媒が使用される。無水
酢酸の外に、その他の操作可能な低級脂肪酸無水物とし
ては無水プロピオン酸、無水酪酸、無水吉草酸、これら
お互いの混合無水物、これらと芳香族モノカルボン酸例
えば安息香酸、ナフトエ酸等の無水物との混合無水物お
よびこれらと炭酸ないしギ酸の無水物との混合無水物並
びに脂肪族ケテン(ケテンおよびジメチルケテン)があ
る。ケテンは該酸の過激な脱水から誘導されるカルボン
酸の無水物としてみなすことができる。
【0017】好ましい第三アミン触媒はピリジンおよび
β−ピコリンであり、それらは無水物脱水物質のモルあ
たり約1モルの量で使用される。これらの好ましいピリ
ジンおよびβ−ピコリンとほぼ同じ活性を有する第三ア
ミンもまた使用されうる。これらの例としては3,4−
ルチジン、3,5−ルチジン、4−メチルピリジン、4
−イソプロピルピリジン、N−ジメチルベンジルアミン
、イソキノリン、4−ベンジルピリジンおよびN−ジメ
チルドデシルアミンがある。トリメチルアミンおよびト
リエチルアミンは上記アミンよりも活性であり、より少
ない量で使用されうる。
β−ピコリンであり、それらは無水物脱水物質のモルあ
たり約1モルの量で使用される。これらの好ましいピリ
ジンおよびβ−ピコリンとほぼ同じ活性を有する第三ア
ミンもまた使用されうる。これらの例としては3,4−
ルチジン、3,5−ルチジン、4−メチルピリジン、4
−イソプロピルピリジン、N−ジメチルベンジルアミン
、イソキノリン、4−ベンジルピリジンおよびN−ジメ
チルドデシルアミンがある。トリメチルアミンおよびト
リエチルアミンは上記アミンよりも活性であり、より少
ない量で使用されうる。
【0018】ポリアミド酸変換化学薬品はほぼ室温以上
で反応して、ポリアミド酸をポリイミドに変換する。該
化学変換反応は10〜120℃で起こるが、該反応は比
較的高い温度では非常に迅速でありそして比較的低い温
度では非常に遅い。一定の温度以下では、ポリアミド酸
の化学変換は事実上停止する。この温度は一般的には約
10℃である。従って、ポリアミド酸溶液をこの温度以
下に冷却してからポリアミド酸変換化学薬品を加えるこ
とおよび変換化学薬品と一緒の該溶液の温度を押出しま
たはキャスティング中この温度以下に維持することが重
要である。
で反応して、ポリアミド酸をポリイミドに変換する。該
化学変換反応は10〜120℃で起こるが、該反応は比
較的高い温度では非常に迅速でありそして比較的低い温
度では非常に遅い。一定の温度以下では、ポリアミド酸
の化学変換は事実上停止する。この温度は一般的には約
10℃である。従って、ポリアミド酸溶液をこの温度以
下に冷却してからポリアミド酸変換化学薬品を加えるこ
とおよび変換化学薬品と一緒の該溶液の温度を押出しま
たはキャスティング中この温度以下に維持することが重
要である。
【0019】処理済みの冷却したポリアミド酸溶液は、
加熱された変換表面上にキャスティングするかまたは押
出され、次いでいくらかの溶媒が該溶液から蒸発される
とポリアミド酸は部分的にポリイミドに化学変換しそし
て該溶液はポリアミド酸−ポリイミドゲルの形態をとる
。アミド酸基のイミド基への変換は接触の時間および温
度によるが、通常は約25〜95%完了する。
加熱された変換表面上にキャスティングするかまたは押
出され、次いでいくらかの溶媒が該溶液から蒸発される
とポリアミド酸は部分的にポリイミドに化学変換しそし
て該溶液はポリアミド酸−ポリイミドゲルの形態をとる
。アミド酸基のイミド基への変換は接触の時間および温
度によるが、通常は約25〜95%完了する。
【0020】上記ゲルを引続き乾燥して水、残留溶媒お
よび残留する変換化学薬品を除去し、ポリアミド酸を完
全にポリイミドに変換する。乾燥はその時点ではポリア
ミド酸のポリイミドへの完全変換のない比較的穏和な条
件で実施できるか、または乾燥および変換はより高い温
度を用いて同時に実施することもできる。好ましくは、
高温を短時間用いて、同一工程でフィルムを乾燥しそし
てそれをポリイミドに変換するのがよい。フィルムは1
5〜400秒間200〜450℃に加熱するのが好まし
い。
よび残留する変換化学薬品を除去し、ポリアミド酸を完
全にポリイミドに変換する。乾燥はその時点ではポリア
ミド酸のポリイミドへの完全変換のない比較的穏和な条
件で実施できるか、または乾燥および変換はより高い温
度を用いて同時に実施することもできる。好ましくは、
高温を短時間用いて、同一工程でフィルムを乾燥しそし
てそれをポリイミドに変換するのがよい。フィルムは1
5〜400秒間200〜450℃に加熱するのが好まし
い。
【0021】本発明で用いるフルオロカーボンポリマー
フィルムはいずれかのフルオロカーボンポリマーのフィ
ルムであることができる。例としてはテトラフルオロエ
チレンとヘキサフルオロプロピレンとのコポリマー(F
EP)、フッ素化アルコキシエチレンコポリマー(PF
A)、フッ素化エチレンプロピレンエーテルコポリマー
(EPE)およびテトラフルオロエチレン(TFE)が
ある。
フィルムはいずれかのフルオロカーボンポリマーのフィ
ルムであることができる。例としてはテトラフルオロエ
チレンとヘキサフルオロプロピレンとのコポリマー(F
EP)、フッ素化アルコキシエチレンコポリマー(PF
A)、フッ素化エチレンプロピレンエーテルコポリマー
(EPE)およびテトラフルオロエチレン(TFE)が
ある。
【0022】フルオロカーボンポリマーフィルムはテト
ラフルオロエチレン約50重量%〜約95重量%とヘキ
サフルオロプロピレン約5重量%〜50重量%とのコポ
リマーであるのが好ましい。好ましいフルオロカーボン
コポリマーはヘキサフルオロプロピレン約7〜27重量
%を含有する。フルオロカーボンポリマーフィルムの厚
さは0.5〜5.0ミルである。
ラフルオロエチレン約50重量%〜約95重量%とヘキ
サフルオロプロピレン約5重量%〜50重量%とのコポ
リマーであるのが好ましい。好ましいフルオロカーボン
コポリマーはヘキサフルオロプロピレン約7〜27重量
%を含有する。フルオロカーボンポリマーフィルムの厚
さは0.5〜5.0ミルである。
【0023】ポリイミドフィルム表面の放電処理は本技
術分野でよく知られている。例えばコロナ放電またはプ
ラズマ放電がポリイミドフィルムの表面に発生される。 ポリイミドの放電処理条件は知られた方法で、フィルム
表面の所望状態、フィルムの物理学的性質およびその他
の要求を考慮して適切に決定される。例えばポリイミド
のコロナ放電処理は有利には、周囲空気中約125〜2
15W−分/m2の電力を用いて行なうことができる。
術分野でよく知られている。例えばコロナ放電またはプ
ラズマ放電がポリイミドフィルムの表面に発生される。 ポリイミドの放電処理条件は知られた方法で、フィルム
表面の所望状態、フィルムの物理学的性質およびその他
の要求を考慮して適切に決定される。例えばポリイミド
のコロナ放電処理は有利には、周囲空気中約125〜2
15W−分/m2の電力を用いて行なうことができる。
【0024】本発明方法の特徴は実質的には、参考まで
に本明細書中に組み入れられる米国特許第3,627,
624号に開示されるようなアセトン蒸気含有雰囲気中
でフルオロカーボンポリマーフィルム層をさらに放電処
理することにある。さらに詳しく云えば、放電を持続さ
せる気体担体媒体中に1〜5容量%のアセトン蒸気を含
有する雰囲気下において、大気圧で40〜50fpmの
処理速度を用いて平均電力レベル50〜160W−分/
m2でフルオロカーボンポリマーフィルムの表面を放電
に付す。予想外なことに、ポリイミドフィルムとフルオ
ロカーボンポリマーフィルムとのラミネートのヒートシ
ール強度は、フルオロポリマーフィルムに用いる処理雰
囲気に非常に左右されるということが見出された。フル
オロカーボンポリマーフィルムを空気中で処理するとほ
とんど結合を生じないが、一方アセトン−窒素雰囲気中
で処理すると10〜30倍の結合値増加が得られる。他
方、ポリイミドフィルムの放電処理雰囲気は最終の積層
構造部材の結合値にほとんど効果を有しない。
に本明細書中に組み入れられる米国特許第3,627,
624号に開示されるようなアセトン蒸気含有雰囲気中
でフルオロカーボンポリマーフィルム層をさらに放電処
理することにある。さらに詳しく云えば、放電を持続さ
せる気体担体媒体中に1〜5容量%のアセトン蒸気を含
有する雰囲気下において、大気圧で40〜50fpmの
処理速度を用いて平均電力レベル50〜160W−分/
m2でフルオロカーボンポリマーフィルムの表面を放電
に付す。予想外なことに、ポリイミドフィルムとフルオ
ロカーボンポリマーフィルムとのラミネートのヒートシ
ール強度は、フルオロポリマーフィルムに用いる処理雰
囲気に非常に左右されるということが見出された。フル
オロカーボンポリマーフィルムを空気中で処理するとほ
とんど結合を生じないが、一方アセトン−窒素雰囲気中
で処理すると10〜30倍の結合値増加が得られる。他
方、ポリイミドフィルムの放電処理雰囲気は最終の積層
構造部材の結合値にほとんど効果を有しない。
【0025】一般に、処理済みポリイミドフィルムおよ
び処理済みフルオロポリマーフィルムは、それらの処理
された側を加圧下で一緒に熱接着することにより結合し
て積層構造部材を形成する。後記実施例では工業標準用
シーリング温度350℃および若干低い温度315℃を
シール製造に使用している。2種のフィルムレイアップ
を用いて積層構造部材を製造する。これらのフィルムレ
イアップを上記温度、20psiで15〜20秒間保持
する。
び処理済みフルオロポリマーフィルムは、それらの処理
された側を加圧下で一緒に熱接着することにより結合し
て積層構造部材を形成する。後記実施例では工業標準用
シーリング温度350℃および若干低い温度315℃を
シール製造に使用している。2種のフィルムレイアップ
を用いて積層構造部材を製造する。これらのフィルムレ
イアップを上記温度、20psiで15〜20秒間保持
する。
【0026】後記表1〜6のデータは、ラミネート結合
におけるポリイミド処理雰囲気の効果欠如並びにフルオ
ロポリマー処理雰囲気の効果を示している。
におけるポリイミド処理雰囲気の効果欠如並びにフルオ
ロポリマー処理雰囲気の効果を示している。
【0027】本発明においてフルオロポリマーフィルム
はポリイミドフィルムの単一表面上に、または好ましく
はポリイミドフィルムの両表面上に付与されることがで
き、それによりその複合積層構造部材が電線絶縁用の被
覆材として使用されうる。
はポリイミドフィルムの単一表面上に、または好ましく
はポリイミドフィルムの両表面上に付与されることがで
き、それによりその複合積層構造部材が電線絶縁用の被
覆材として使用されうる。
【0028】本発明方法によって製造される積層構造部
材は、高温で安定な熱接着性フィルムが所望される際の
適用に有用である。該積層構造部材は熱接着性が所望さ
れる電気的適用において、例えば種々の型の電線、ケー
ブル用の絶縁、モーターまたはモーター電機子、モータ
ースロットライナー用のストラップ絶縁、モータープロ
テクターおよびヒューズ用の絶縁において並びにコンデ
ンサ誘電体およびプリント回路用バッキングとして特に
有用である。
材は、高温で安定な熱接着性フィルムが所望される際の
適用に有用である。該積層構造部材は熱接着性が所望さ
れる電気的適用において、例えば種々の型の電線、ケー
ブル用の絶縁、モーターまたはモーター電機子、モータ
ースロットライナー用のストラップ絶縁、モータープロ
テクターおよびヒューズ用の絶縁において並びにコンデ
ンサ誘電体およびプリント回路用バッキングとして特に
有用である。
【0029】
【実施例】以下に本発明を実施例によりさらに記載する
。これらの実施例は本発明を限定するものではない。 百分率はすべて特記しない限り重量基準による。 実施例 A. ポリイミドへの接着におけるフルオロポリマー処
理雰囲気の効果 0.5ミルのテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロ
プロピレンコポリマー(FEP)フィルムの両側を空気
中でコロナ放電処理した。電力レベルは50fpmおよ
び80fpmの各処理速度で86〜54W−分/m2で
あった。相当量のしわが明白であった。
。これらの実施例は本発明を限定するものではない。 百分率はすべて特記しない限り重量基準による。 実施例 A. ポリイミドへの接着におけるフルオロポリマー処
理雰囲気の効果 0.5ミルのテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロ
プロピレンコポリマー(FEP)フィルムの両側を空気
中でコロナ放電処理した。電力レベルは50fpmおよ
び80fpmの各処理速度で86〜54W−分/m2で
あった。相当量のしわが明白であった。
【0030】次に該処理物をアセトン/窒素雰囲気中で
の処理に付した。処理条件は前記と同一であったが、該
処理物の場合の雰囲気は3.1〜3.2容量%のアセト
ンを含有した。しわの量は前に観察された量よりもかな
り減少した。
の処理に付した。処理条件は前記と同一であったが、該
処理物の場合の雰囲気は3.1〜3.2容量%のアセト
ンを含有した。しわの量は前に観察された量よりもかな
り減少した。
【0031】4つの条件(50fpmおよび80fpm
の両速度で処理した空気およびアセトン/窒素)の下で
処理した0.5FEPフィルムの各試料を(1ミルの)
未処理ポリイミド基礎フィルムおよびコロナ処理済みポ
リイミド基礎フィルムに加熱接着した。該ポリイミドフ
ィルムはピロメリット酸二無水物と4,4′−ジアミノ
ジフェニルエーテルから誘導された。
の両速度で処理した空気およびアセトン/窒素)の下で
処理した0.5FEPフィルムの各試料を(1ミルの)
未処理ポリイミド基礎フィルムおよびコロナ処理済みポ
リイミド基礎フィルムに加熱接着した。該ポリイミドフ
ィルムはピロメリット酸二無水物と4,4′−ジアミノ
ジフェニルエーテルから誘導された。
【0032】ヒートシールは添付図面に示されているよ
うに、ポリイミドフィルムシート2枚の間に処理済みF
EPフィルムシート1枚を置くことによって構成された
。試料A、B、CおよびDの場合には、FEPフィルム
は半分に折りたたんでからポリイミドフィルムシート2
枚の間に置いた(3ミルの4層構成が存在するように)
。試料E、F、GおよびHの場合には、たった1枚だけ
のFEPフィルムを用いた(2.5ミルの3層構成が存
在するように)。各構成(1インチ横×4インチ縦)を
ジョーヒートシーラー中に置き、1インチ×1インチ断
面を一緒に接合した。ゆるんでいる未結合ポリイミドタ
ブをインストロン(Instron)剥離試験器中に置
き、シールを引き離した。
うに、ポリイミドフィルムシート2枚の間に処理済みF
EPフィルムシート1枚を置くことによって構成された
。試料A、B、CおよびDの場合には、FEPフィルム
は半分に折りたたんでからポリイミドフィルムシート2
枚の間に置いた(3ミルの4層構成が存在するように)
。試料E、F、GおよびHの場合には、たった1枚だけ
のFEPフィルムを用いた(2.5ミルの3層構成が存
在するように)。各構成(1インチ横×4インチ縦)を
ジョーヒートシーラー中に置き、1インチ×1インチ断
面を一緒に接合した。ゆるんでいる未結合ポリイミドタ
ブをインストロン(Instron)剥離試験器中に置
き、シールを引き離した。
【0033】これら4種のFEPフィルム処理条件での
各構成に関して4つのヒートシール値を得た。結果は3
15℃ヒートシールについては表1に、350℃ヒート
シールについては表2に示すとおりである。アセトン/
窒素中で処理したFEPフィルムおよび未処理ポリイミ
ド基礎フィルムの各シール値は表3に示すとおりである
。表1および2で観察される初期の低い値のために、空
気中で処理したFEPフィルムおよび未処理ポリイミド
フィルムについてはヒートシールは全く構成されなかっ
た。
各構成に関して4つのヒートシール値を得た。結果は3
15℃ヒートシールについては表1に、350℃ヒート
シールについては表2に示すとおりである。アセトン/
窒素中で処理したFEPフィルムおよび未処理ポリイミ
ド基礎フィルムの各シール値は表3に示すとおりである
。表1および2で観察される初期の低い値のために、空
気中で処理したFEPフィルムおよび未処理ポリイミド
フィルムについてはヒートシールは全く構成されなかっ
た。
【0034】表1、2および3の結果は、結合力におけ
るシール構成の効果がほとんどないことを示している。 315℃および350℃における平均ヒートシール値の
要約は表4に示されており、それはFEPフィルムのコ
ロナ放電処理による接着改善効果が雰囲気に非常に依存
することを明確に示している。
るシール構成の効果がほとんどないことを示している。 315℃および350℃における平均ヒートシール値の
要約は表4に示されており、それはFEPフィルムのコ
ロナ放電処理による接着改善効果が雰囲気に非常に依存
することを明確に示している。
【0035】
【表1】
【0036】
【表2】
【0037】
【表3】
【0038】
【表4】
【0039】B. アセトン処理したフルオロポリマー
への接着に及ぼすポリイミド処理雰囲気の効果ピロメリ
ット酸二無水物および4,4′−ジアミノジフェニルエ
ーテルから誘導されたポリイミド(1ミル)を空気、窒
素およびアセトン雰囲気中で電力レベル215W−分/
m2および430W−分/m2において放電処理した。 処理済みの1ミルのポリイミドフィルムをアセトン処理
済みの0.5ミルFEPフィルムに結合した。シール構
成は図1に示されているとおりである。シーリングは前
記のように実施した。表5および表6に記載のデータは
、同様の接着レベルがコロナ処理済みポリイミドで得ら
れることを示している。すなわち全ての処理雰囲気が等
しく有効であるように思われる。これらの値は基礎の未
処理ポリイミドで得られた値よりも大きい。
への接着に及ぼすポリイミド処理雰囲気の効果ピロメリ
ット酸二無水物および4,4′−ジアミノジフェニルエ
ーテルから誘導されたポリイミド(1ミル)を空気、窒
素およびアセトン雰囲気中で電力レベル215W−分/
m2および430W−分/m2において放電処理した。 処理済みの1ミルのポリイミドフィルムをアセトン処理
済みの0.5ミルFEPフィルムに結合した。シール構
成は図1に示されているとおりである。シーリングは前
記のように実施した。表5および表6に記載のデータは
、同様の接着レベルがコロナ処理済みポリイミドで得ら
れることを示している。すなわち全ての処理雰囲気が等
しく有効であるように思われる。これらの値は基礎の未
処理ポリイミドで得られた値よりも大きい。
【0040】
【表5】
【0041】
【表6】
【図1】実施例で用いた種々の層構成を示す図であり、
(A)〜(D)は315℃ヒートシール、(E)〜(H
)は350℃ヒートシールによるものである。
(A)〜(D)は315℃ヒートシール、(E)〜(H
)は350℃ヒートシールによるものである。
Claims (5)
- 【請求項1】 少なくとも1つの層のポリイミドフィ
ルムと少なくとも1つの層のフルオロカーボンポリマー
フィルムとの積層構造部材の製造において、(a)
ポリイミドフィルム表面を放電処理に付し、(b)
フルオロカーボンポリマーフィルム表面をアセトン雰囲
気中で放電処理に付し、(c) 該ポリイミドフィル
ム表面および該フルオロカーボンポリマーフィルム表面
をラミネートして密着性ラミネートを形成する、工程か
らなる上記の製造方法。 - 【請求項2】 ポリイミドがピロメリット酸二無水物
と4,4′−ジアミノジフェニルエーテルとの重合およ
びイミド化から誘導される請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 フルオロカーボンポリマーがテトラフ
ルオロエチレン50〜95重量%とヘキサフルオロプロ
ピレン5〜50重量%とのコポリマーである請求項1記
載の方法。 - 【請求項4】 フルオロカーボンポリマーフィルム表
面をアセトン1〜5容量%含有の雰囲気中において放電
処理に付すことにより、該表面を密着性にする請求項1
記載の方法。 - 【請求項5】 315〜350℃の温度および約20
psiの圧力を用いて15〜20秒間、密着性ポリイミ
ドフィルム表面を密着性フルオロカーボンポリマーフィ
ルム表面にラミネートする請求項1記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US54504390A | 1990-06-28 | 1990-06-28 | |
| US545043 | 1990-06-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04232741A true JPH04232741A (ja) | 1992-08-21 |
Family
ID=24174658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3156513A Pending JPH04232741A (ja) | 1990-06-28 | 1991-06-27 | ポリイミドとフルオロカーボンポリマーとのラミネートの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0467096A1 (ja) |
| JP (1) | JPH04232741A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2004078460A1 (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-16 | Kuraray Co., Ltd. | プラスチックの接着方法 |
| JP2006157029A (ja) * | 2003-09-08 | 2006-06-15 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造システム |
| US7702413B2 (en) | 2003-09-08 | 2010-04-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device manufacturing system and method for manufacturing semiconductor devices including calculating oxide film thickness using real time simulator |
| JP2013126778A (ja) * | 2013-03-28 | 2013-06-27 | Toyobo Co Ltd | 多層フッ素樹脂基板 |
| JP2014132079A (ja) * | 2008-11-12 | 2014-07-17 | Saint-Gobain Performance Plastics Corp | バリヤ構造の製造方法 |
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| WO2002085621A1 (en) * | 2001-04-20 | 2002-10-31 | Toyo Kohan Co., Ltd. | Laminated plate and part using the laminated plate |
| US20090229809A1 (en) * | 2008-03-14 | 2009-09-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Device capable of thermally cooling while electrically insulating |
Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| JPS4912900A (ja) * | 1972-05-15 | 1974-02-04 | ||
| JPS62162542A (ja) * | 1986-01-13 | 1987-07-18 | 宇部興産株式会社 | 弗素樹脂層を有するポリイミドフイルム |
| JPS62223236A (ja) * | 1986-03-26 | 1987-10-01 | Toray Ind Inc | ポリイミド積層物の製造方法 |
Family Cites Families (7)
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|---|---|---|---|---|
| US3179614A (en) * | 1961-03-13 | 1965-04-20 | Du Pont | Polyamide-acids, compositions thereof, and process for their preparation |
| US3179634A (en) * | 1962-01-26 | 1965-04-20 | Du Pont | Aromatic polyimides and the process for preparing them |
| US3179630A (en) * | 1962-01-26 | 1965-04-20 | Du Pont | Process for preparing polyimides by treating polyamide-acids with lower fatty monocarboxylic acid anhydrides |
| US3575793A (en) * | 1968-09-19 | 1971-04-20 | Milprint Inc | Laminate of polypropylene,saran and cellophane and method of making same |
| BE756041A (fr) * | 1969-09-16 | 1971-02-15 | Du Pont | Pellicule adhesive de polymere fluore et procede |
| US4801506A (en) * | 1986-01-13 | 1989-01-31 | Ube Industries, Ltd. | Polyimide film having fluorocarbon resin layer |
| FR2597788A1 (fr) * | 1986-04-24 | 1987-10-30 | Solvay | Feuille composite pour le revetement etanche d'elements de construction et procede pour sa fabrication |
-
1991
- 1991-06-22 EP EP91110301A patent/EP0467096A1/en not_active Withdrawn
- 1991-06-27 JP JP3156513A patent/JPH04232741A/ja active Pending
Patent Citations (3)
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| WO2004078460A1 (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-16 | Kuraray Co., Ltd. | プラスチックの接着方法 |
| US8580069B2 (en) | 2003-03-07 | 2013-11-12 | Kuraray Co., Ltd. | Plastic bonding method |
| JP2006157029A (ja) * | 2003-09-08 | 2006-06-15 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造システム |
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| JP2013126778A (ja) * | 2013-03-28 | 2013-06-27 | Toyobo Co Ltd | 多層フッ素樹脂基板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0467096A1 (en) | 1992-01-22 |
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