JPH04233258A - 超小型電子回路パッケージ - Google Patents
超小型電子回路パッケージInfo
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- JPH04233258A JPH04233258A JP3136006A JP13600691A JPH04233258A JP H04233258 A JPH04233258 A JP H04233258A JP 3136006 A JP3136006 A JP 3136006A JP 13600691 A JP13600691 A JP 13600691A JP H04233258 A JPH04233258 A JP H04233258A
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は熱管理構造及び内部電気
的コア及びプレーンを有するカード及びボード等の電子
回路パッケージに関する。特に、本発明は電気的且つ構
造的に一体の熱放散手段を有する回路パッケージに関す
る。好ましい具体例では、少なくとも電力コア手段(電
源コア手段及び接地コア手段)及び信号コア手段を有す
る電子回路パッケージが提供されている。例えばポリイ
ミド又はエポキシ含浸ガラス布構造部材を有する有機回
路パッケージ等であり、ここで電力コア手段の1つ、す
なわち電源コア手段又は接地コア手段のいずれかもしく
は両方は、熱伝導体及び/又はヒートシンク(吸熱器)
のようにパッケージレベル熱管理の要素となるのに充分
な熱容量(thermal mass)を有する。
的コア及びプレーンを有するカード及びボード等の電子
回路パッケージに関する。特に、本発明は電気的且つ構
造的に一体の熱放散手段を有する回路パッケージに関す
る。好ましい具体例では、少なくとも電力コア手段(電
源コア手段及び接地コア手段)及び信号コア手段を有す
る電子回路パッケージが提供されている。例えばポリイ
ミド又はエポキシ含浸ガラス布構造部材を有する有機回
路パッケージ等であり、ここで電力コア手段の1つ、す
なわち電源コア手段又は接地コア手段のいずれかもしく
は両方は、熱伝導体及び/又はヒートシンク(吸熱器)
のようにパッケージレベル熱管理の要素となるのに充分
な熱容量(thermal mass)を有する。
【0002】
【従来の技術】電子パッケージの一般的構造及び製造方
法は、例えばドナルド・セラフィン(Donald P
. Seraphin)、ロナルド・ラスキー(Ron
ald Lasky)及びチェ−ヨー・リー(Che−
Yo Li )による「電子パッケージの原理(Pri
nciples of ElectronicPack
aging)、マグローヒル(McGraw−Hill
Book Company, New York)、
ニューヨーク(1988)」並びにラオ・チュマラ(R
ao R. Tummala)及びユージン・リマツェ
ースキー(Eugene J. Rymaszewsk
i )による「超小型電子パッケージ・ハンドブック(
Microelectronic Packaging
Handbook)、ヴァン・ノストランド・ライン
ホルド(Van Nostrand Reinhold
, New York )、ニューヨーク(1988)
」に記載されている。
法は、例えばドナルド・セラフィン(Donald P
. Seraphin)、ロナルド・ラスキー(Ron
ald Lasky)及びチェ−ヨー・リー(Che−
Yo Li )による「電子パッケージの原理(Pri
nciples of ElectronicPack
aging)、マグローヒル(McGraw−Hill
Book Company, New York)、
ニューヨーク(1988)」並びにラオ・チュマラ(R
ao R. Tummala)及びユージン・リマツェ
ースキー(Eugene J. Rymaszewsk
i )による「超小型電子パッケージ・ハンドブック(
Microelectronic Packaging
Handbook)、ヴァン・ノストランド・ライン
ホルド(Van Nostrand Reinhold
, New York )、ニューヨーク(1988)
」に記載されている。
【0003】電子回路は、例えば数千又は数百万もの個
々の抵抗器、キャパシタ、インダクタ、ダイオード及び
トランジスタ等、多数の電子回路構成要素を含む。これ
ら個々の回路構成要素は回路を形成するために相互接続
されていなければならず、また個々の回路は機能単位(
ユニット)を形成するために相互接続されなければなら
ない。電力及び信号はこれらの相互接続を介して分配さ
れる。個々の機能単位は機械的支持及び構造的保護を必
要とする。電気回路は機能するためには電気エネルギが
必要であり、機能性を保持するためには熱エネルギを除
去しなければならない。例えばチップ、モジュール、回
路カード及び回路ボード等の超小型電子パッケージは、
回路構成要素及び回路を保護し、収容し、冷却し、且つ
相互接続するために使用される。
々の抵抗器、キャパシタ、インダクタ、ダイオード及び
トランジスタ等、多数の電子回路構成要素を含む。これ
ら個々の回路構成要素は回路を形成するために相互接続
されていなければならず、また個々の回路は機能単位(
ユニット)を形成するために相互接続されなければなら
ない。電力及び信号はこれらの相互接続を介して分配さ
れる。個々の機能単位は機械的支持及び構造的保護を必
要とする。電気回路は機能するためには電気エネルギが
必要であり、機能性を保持するためには熱エネルギを除
去しなければならない。例えばチップ、モジュール、回
路カード及び回路ボード等の超小型電子パッケージは、
回路構成要素及び回路を保護し、収容し、冷却し、且つ
相互接続するために使用される。
【0004】集積回路内で、回路構成要素と回路構成要
素との間及び回路と回路との間の相互接続、熱放散並び
に機械的保護は、集積回路チップによって提供される。 モジュール内に格納されたこのチップはパッケージの第
1レベルと称される。
素との間及び回路と回路との間の相互接続、熱放散並び
に機械的保護は、集積回路チップによって提供される。 モジュール内に格納されたこのチップはパッケージの第
1レベルと称される。
【0005】少なくとも1つのより上のパッケージレベ
ルが存在する。この第2のパッケージレベルは回路カー
ドである。回路カードは少なくとも4つの機能のために
必要である。第1に、所望の機能遂行に要求される回路
又はビットカウントの総計が、第1レベルパッケージ即
ちチップのビットカウントを超えるので回路カードが使
用される。第2に、第2レベルパッケージ即ち回路カー
ドは、第1レベルパッケージ即ちチップ又はモジュール
内へ集積するのが困難な構成要素に場所を提供する。こ
れらの構成要素とは、キャパシタ、精密抵抗器、インダ
クタ、電子機械的スイッチ、光結合器等を含む。第3に
、回路カードは他の回路素子との信号相互接続に備える
。第4に、第2レベルパッケージは熱管理即ち熱放散に
備える。
ルが存在する。この第2のパッケージレベルは回路カー
ドである。回路カードは少なくとも4つの機能のために
必要である。第1に、所望の機能遂行に要求される回路
又はビットカウントの総計が、第1レベルパッケージ即
ちチップのビットカウントを超えるので回路カードが使
用される。第2に、第2レベルパッケージ即ち回路カー
ドは、第1レベルパッケージ即ちチップ又はモジュール
内へ集積するのが困難な構成要素に場所を提供する。こ
れらの構成要素とは、キャパシタ、精密抵抗器、インダ
クタ、電子機械的スイッチ、光結合器等を含む。第3に
、回路カードは他の回路素子との信号相互接続に備える
。第4に、第2レベルパッケージは熱管理即ち熱放散に
備える。
【0006】ほとんどの適用では、第3レベルのパッケ
ージが存在する。これはボードレベルパッケージである
。ボードは、複数のカードを受け入れると共にカード間
の通信を提供するためのコネクタを含む。
ージが存在する。これはボードレベルパッケージである
。ボードは、複数のカードを受け入れると共にカード間
の通信を提供するためのコネクタを含む。
【0007】回路密度増大に伴う論理密度の増大によっ
て、電子パッケージにより高い熱負荷がかかる。「電子
パッケージの原理」(上記)127頁の、アンドロス(
F.E.Andros )及びサマキア(B.G. S
ammakia )による”電子パッケージの熱管理(
Thermal Management in Ele
ctronic Packaging)”は、データ処
理装置で性能を改良するために、より大型の回路チップ
、より高いI/O密度、より増大した回路密度及びより
大きな信頼性を得るように電子パッケージを設計したと
述べている。とりわけ電気回線の長さ及びポイント間の
飛行時間を減少することによって、チップサイズ、I/
O密度、回路密度及び信頼性の増大は性能の改良をもた
らした。同時に、これらの改良によって電力密度が大幅
に増大した。 例えば「超小型電子パッケージ・ハンドブック」(上記
)167頁の、アントネッティ(Antonetti
)、オクタイ(Oktay )及びシモンズ(Simo
ns)による”電子パッケージの熱伝達(Heat T
ransfer In Electronic Pac
kages)”は、平方メートル当たりの総熱流束は4
00キロワットなので、5ミリメートルx5ミリメート
ルのチップの熱流束は10ワットであると報告している
。
て、電子パッケージにより高い熱負荷がかかる。「電子
パッケージの原理」(上記)127頁の、アンドロス(
F.E.Andros )及びサマキア(B.G. S
ammakia )による”電子パッケージの熱管理(
Thermal Management in Ele
ctronic Packaging)”は、データ処
理装置で性能を改良するために、より大型の回路チップ
、より高いI/O密度、より増大した回路密度及びより
大きな信頼性を得るように電子パッケージを設計したと
述べている。とりわけ電気回線の長さ及びポイント間の
飛行時間を減少することによって、チップサイズ、I/
O密度、回路密度及び信頼性の増大は性能の改良をもた
らした。同時に、これらの改良によって電力密度が大幅
に増大した。 例えば「超小型電子パッケージ・ハンドブック」(上記
)167頁の、アントネッティ(Antonetti
)、オクタイ(Oktay )及びシモンズ(Simo
ns)による”電子パッケージの熱伝達(Heat T
ransfer In Electronic Pac
kages)”は、平方メートル当たりの総熱流束は4
00キロワットなので、5ミリメートルx5ミリメート
ルのチップの熱流束は10ワットであると報告している
。
【0008】個々のデバイスの電力需要の急減にもかか
わらず、チップ及びパッケージレベルの電力需要及び熱
負荷は急激に増大した。チップレベルの電力需要のこの
増大は、デバイス密度及び集積度がより急速に増大する
ためである。固体デバイスが最初に導入されたとき、真
空管に比べて個々の電力所要量が低い固体デバイスは熱
管理の懸念を(排除できないとしても)最小限にすると
考えられた。集積回路のパッキング密度及びそれに付随
する電力密度が年毎に驚くほど増加したので、この考え
は事実ではなかった。例えば、CMOSデバイスはデバ
イス当たりの電力需要がより低く、例えばバイポーラ・
デバイスであるが、最新CMOS集積回路当たりのCM
OSデバイス数は、旧式のバイポーラ型集積回路当たり
のバイポーラ・デバイス数よりも遙かに多い。
わらず、チップ及びパッケージレベルの電力需要及び熱
負荷は急激に増大した。チップレベルの電力需要のこの
増大は、デバイス密度及び集積度がより急速に増大する
ためである。固体デバイスが最初に導入されたとき、真
空管に比べて個々の電力所要量が低い固体デバイスは熱
管理の懸念を(排除できないとしても)最小限にすると
考えられた。集積回路のパッキング密度及びそれに付随
する電力密度が年毎に驚くほど増加したので、この考え
は事実ではなかった。例えば、CMOSデバイスはデバ
イス当たりの電力需要がより低く、例えばバイポーラ・
デバイスであるが、最新CMOS集積回路当たりのCM
OSデバイス数は、旧式のバイポーラ型集積回路当たり
のバイポーラ・デバイス数よりも遙かに多い。
【0009】一方、上述のように密度が遙かに増加した
論理又はメモリ及びそれに伴って増加した相互接続を小
さい領域に収容する必要性から、パッケージ設計、即ち
カード及びボード設計が駆り立てられる。アンドロス及
びサマキアによって述べられたように、この高密度カー
ド及びボードは高電力密度を有するので、精巧な熱管理
を必要とする。
論理又はメモリ及びそれに伴って増加した相互接続を小
さい領域に収容する必要性から、パッケージ設計、即ち
カード及びボード設計が駆り立てられる。アンドロス及
びサマキアによって述べられたように、この高密度カー
ド及びボードは高電力密度を有するので、精巧な熱管理
を必要とする。
【0010】操作温度が10°C増加する毎に集積回路
の故障率は係数2で増加するので、パッケージレベルの
熱管理は特に重要である。アンドロス及びサマキアは、
全てのパッケージレベルにおける信頼性は温度に直接関
係すると指摘している。例えば、より高い操作温度はク
リープ、腐食及び電気移動のような故障メカニズムを促
進する。同様にアンドロス及びサマキアが指摘している
のは、システムがパワーオン状態とパワーオフ状態との
間で繰り返されるときに生じる温度の差が、電子構成要
素の信頼性に重要な影響を与えるということである。こ
れは主に、異なる熱膨張係数を有する材料で形成された
複合構造が疲労するためである。
の故障率は係数2で増加するので、パッケージレベルの
熱管理は特に重要である。アンドロス及びサマキアは、
全てのパッケージレベルにおける信頼性は温度に直接関
係すると指摘している。例えば、より高い操作温度はク
リープ、腐食及び電気移動のような故障メカニズムを促
進する。同様にアンドロス及びサマキアが指摘している
のは、システムがパワーオン状態とパワーオフ状態との
間で繰り返されるときに生じる温度の差が、電子構成要
素の信頼性に重要な影響を与えるということである。こ
れは主に、異なる熱膨張係数を有する材料で形成された
複合構造が疲労するためである。
【0011】アントネッティ、オクタイ及びシモンズは
、電子パッケージの熱管理は以下の性能基準の幾つか又
は全てを満足することが必要であると記載している。 (a)集積回路デバイス温度が、”最悪の場合”の操作
条件(すなわち、デバイス及びモジュールの電力及び熱
抵抗、冷媒の流速、環境条件等の最悪値)で最大許容限
界以下に保持される。 (b)通常の操作条件下で集積回路デバイスが経験する
温度が、達成されるべき信頼性の目標値を与える。 (c)同一の信号ネットワークに属するデバイスの温度
変動が、許容限界内で保持される。 (d)熱管理機構の信頼性が許容できるものである。 (e)電子ノイズ限界が満足できるものである。
、電子パッケージの熱管理は以下の性能基準の幾つか又
は全てを満足することが必要であると記載している。 (a)集積回路デバイス温度が、”最悪の場合”の操作
条件(すなわち、デバイス及びモジュールの電力及び熱
抵抗、冷媒の流速、環境条件等の最悪値)で最大許容限
界以下に保持される。 (b)通常の操作条件下で集積回路デバイスが経験する
温度が、達成されるべき信頼性の目標値を与える。 (c)同一の信号ネットワークに属するデバイスの温度
変動が、許容限界内で保持される。 (d)熱管理機構の信頼性が許容できるものである。 (e)電子ノイズ限界が満足できるものである。
【0012】熱管理設計の意図は、特定の温度及び熱流
束の束縛下、熱源即ち集積回路チップからヒートシンク
即ち外部環境へ熱エネルギを流出させることによって、
これらの目的を達することである。理想的には、これは
伝導と対流、例えば自然及び強制対流との組合せによっ
て達成される。
束の束縛下、熱源即ち集積回路チップからヒートシンク
即ち外部環境へ熱エネルギを流出させることによって、
これらの目的を達することである。理想的には、これは
伝導と対流、例えば自然及び強制対流との組合せによっ
て達成される。
【0013】これらの目的の1つ又はより多くを達成す
るための種々の設計は、”IEEE Trans. C
omponents, Hybrids, and M
anuf. Techn., CHMT−8(2) (
June 1985) ”289−295頁のヴィンセ
ント・アントネッティ(Vincent A. Ant
onetti)及びロバート・シモンズ(Robert
E. Simons)による「電子装置内熱伝達の文献
目録(Bibliography of Heat T
ransfer In Electronic Equ
ipment )」に列記されている。アントネッティ
及びロバート・シモンズによって列挙された文献に記載
されたパッケージ内熱伝達構造は、熱伝達機能を遂行す
る高熱伝導性本体部分によって特徴付けられる。しかし
ながら、この高熱伝導性本体部分は集積回路チップから
電気的に絶縁されている。
るための種々の設計は、”IEEE Trans. C
omponents, Hybrids, and M
anuf. Techn., CHMT−8(2) (
June 1985) ”289−295頁のヴィンセ
ント・アントネッティ(Vincent A. Ant
onetti)及びロバート・シモンズ(Robert
E. Simons)による「電子装置内熱伝達の文献
目録(Bibliography of Heat T
ransfer In Electronic Equ
ipment )」に列記されている。アントネッティ
及びロバート・シモンズによって列挙された文献に記載
されたパッケージ内熱伝達構造は、熱伝達機能を遂行す
る高熱伝導性本体部分によって特徴付けられる。しかし
ながら、この高熱伝導性本体部分は集積回路チップから
電気的に絶縁されている。
【0014】熱伝達体部分の回路からの電気絶縁性は、
特許文献記載の構造にも共通する。例えば米国特許第4
、866、501号は、集積回路チップと”支持体”1
4とを有するシリコンウェハについて記載している。 この集積回路チップはウェハの一方の表面の凹みに接合
されており、前記”支持体”14は他方の表面に接合さ
れている。”支持体”はヒートシンク、又は接地プレー
ン等の導電プレーンであると開示されている。
特許文献記載の構造にも共通する。例えば米国特許第4
、866、501号は、集積回路チップと”支持体”1
4とを有するシリコンウェハについて記載している。 この集積回路チップはウェハの一方の表面の凹みに接合
されており、前記”支持体”14は他方の表面に接合さ
れている。”支持体”はヒートシンク、又は接地プレー
ン等の導電プレーンであると開示されている。
【0015】米国特許第4、860、165号は、ヒー
トシンク28が集積回路チップと熱的に接触するが電気
的には絶縁されている電子パッケージについて記載して
いる。
トシンク28が集積回路チップと熱的に接触するが電気
的には絶縁されている電子パッケージについて記載して
いる。
【0016】米国特許第4、700、273号は、ヒー
トシンク10と集積回路チップ2とがセラミック基板8
を介して熱的に接触するが電気的には絶縁されている電
子パッケージについて記載している。
トシンク10と集積回路チップ2とがセラミック基板8
を介して熱的に接触するが電気的には絶縁されている電
子パッケージについて記載している。
【0017】米国特許第4、459、607号も、ヒー
トシンク30と集積回路チップ10とが多層基板16−
28−30を介して熱的に接触するが電気的には絶縁さ
れている電子パッケージについて記載している。
トシンク30と集積回路チップ10とが多層基板16−
28−30を介して熱的に接触するが電気的には絶縁さ
れている電子パッケージについて記載している。
【0018】米国特許第4、703、339号も、ヒー
トシンク10、10aと集積回路チップ6とがセラミッ
ク基板1を介して熱的に接触するが電気的には絶縁され
ている電子パッケージについて記載している。
トシンク10、10aと集積回路チップ6とがセラミッ
ク基板1を介して熱的に接触するが電気的には絶縁され
ている電子パッケージについて記載している。
【0019】米国特許第4、585、706号は、熱伝
導性且つ電気絶縁性の焼結窒化アルミニウム基板上に集
積回路チップ11が取り付けられたパッケージについて
記載している。
導性且つ電気絶縁性の焼結窒化アルミニウム基板上に集
積回路チップ11が取り付けられたパッケージについて
記載している。
【0020】米国特許第4、602、314号は、集積
回路チップ32からヒートシンク40へ熱を伝導するた
めにCu又はAl30被覆コア26が使用された構造体
を開示している。ヒートシンク4はプリント回路ボード
12から隔てられていると共に、Cu又はAlクラッデ
ィング30はリード14から隔てられている。
回路チップ32からヒートシンク40へ熱を伝導するた
めにCu又はAl30被覆コア26が使用された構造体
を開示している。ヒートシンク4はプリント回路ボード
12から隔てられていると共に、Cu又はAlクラッデ
ィング30はリード14から隔てられている。
【0021】米国特許第4、782、893号は、電気
絶縁性且つ熱伝導性のチップ取り付けパッドを開示して
いる。
絶縁性且つ熱伝導性のチップ取り付けパッドを開示して
いる。
【0022】米国特許第4、750、089号は、チッ
プからパッドへの熱的接続とチップからパッドへの電気
的接続とが別々の路をたどる電子パッケージについて記
載している。
プからパッドへの熱的接続とチップからパッドへの電気
的接続とが別々の路をたどる電子パッケージについて記
載している。
【0023】米国特許第4、835、344号は、ピン
が電気絶縁性熱強化セラミック及び導体と接触している
ピン構造について記載している。
が電気絶縁性熱強化セラミック及び導体と接触している
ピン構造について記載している。
【0024】高回路密度多層超小型電子パッケージのた
めのパッケージレベルの熱管理は、信頼性のある簡易構
造体であって且つ効果的、経済的な構造体を要求する。 明らかに必要とされるのは、熱管理を組み込んだ簡易パ
ッケージ構造と、パッケージの構造的、熱的、電気的完
全性を保持しながら一体の高熱伝導性を得ることができ
るようにする製造方法とである。
めのパッケージレベルの熱管理は、信頼性のある簡易構
造体であって且つ効果的、経済的な構造体を要求する。 明らかに必要とされるのは、熱管理を組み込んだ簡易パ
ッケージ構造と、パッケージの構造的、熱的、電気的完
全性を保持しながら一体の高熱伝導性を得ることができ
るようにする製造方法とである。
【0025】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の主な目
的は、パッケージ外部表面からヒートシンク素子を除去
することによって、能動回路(論理及び/又はメモリ)
チップ及びモジュールのために利用できるパッケージの
表面積を少しでも増加させ、パッケージのパッキング密
度を増大させることである。
的は、パッケージ外部表面からヒートシンク素子を除去
することによって、能動回路(論理及び/又はメモリ)
チップ及びモジュールのために利用できるパッケージの
表面積を少しでも増加させ、パッケージのパッキング密
度を増大させることである。
【0026】本発明の1つの目的は、一体のヒートシン
ク手段の製造を含む簡易電子パッケージ製造方法を提供
することである。
ク手段の製造を含む簡易電子パッケージ製造方法を提供
することである。
【0027】更に本発明の目的は、電子パッケージの構
造的、熱的、電気的完全性を保持しながら高水準の一体
の熱吸収(ヒートシンク)能力を得ることである。
造的、熱的、電気的完全性を保持しながら高水準の一体
の熱吸収(ヒートシンク)能力を得ることである。
【0028】また更に本発明の目的は、電子パッケージ
に一体の内部熱吸収(ヒートシンク)構造の薄膜製造方
法を提供することである。
に一体の内部熱吸収(ヒートシンク)構造の薄膜製造方
法を提供することである。
【0029】更に本発明の目的は、同一パッケージ上の
論理及びメモリ集積回路を取り付ける表面に対して熱絶
縁性を有する超小型電子回路パッケージを提供すること
である。
論理及びメモリ集積回路を取り付ける表面に対して熱絶
縁性を有する超小型電子回路パッケージを提供すること
である。
【0030】また更に本発明の目的は、一体の熱伝達手
段へきわめて接近して埋め込まれたインピーダンス素子
(インダクタ、キャパシタ、及び抵抗素子としての)を
有する超小型電子回路パッケージを提供することである
。
段へきわめて接近して埋め込まれたインピーダンス素子
(インダクタ、キャパシタ、及び抵抗素子としての)を
有する超小型電子回路パッケージを提供することである
。
【0031】
【課題を解決するための手段】先行技術の問題点を解決
すると共に上記目的を達成するために、ここに開示され
た発明では、電力コア手段及び信号コア手段等の電気伝
導性構造体並びに熱伝導手段を有する超小型電子パッケ
ージを用いる。ここで熱伝導手段は、パッケージの電気
的アクティブ構造の一部であり、集積回路と電気的且つ
熱的に連続していると共に、超小型電子パッケージと一
体となっている。ここで用いられる電気伝導性構造体は
、電力コア手段(すなわち電源コア手段及び接地コア手
段)及び信号コア手段を含む。すなわち、ここで用いら
れる電力コア手段は集積回路へ電力を供給するための電
源コア手段と、集積回路を接地するための接地コア手段
とを含む。また信号コア手段は集積回路へ及び集積回路
から信号を伝達するための回路化手段を含む。
すると共に上記目的を達成するために、ここに開示され
た発明では、電力コア手段及び信号コア手段等の電気伝
導性構造体並びに熱伝導手段を有する超小型電子パッケ
ージを用いる。ここで熱伝導手段は、パッケージの電気
的アクティブ構造の一部であり、集積回路と電気的且つ
熱的に連続していると共に、超小型電子パッケージと一
体となっている。ここで用いられる電気伝導性構造体は
、電力コア手段(すなわち電源コア手段及び接地コア手
段)及び信号コア手段を含む。すなわち、ここで用いら
れる電力コア手段は集積回路へ電力を供給するための電
源コア手段と、集積回路を接地するための接地コア手段
とを含む。また信号コア手段は集積回路へ及び集積回路
から信号を伝達するための回路化手段を含む。
【0032】ここに開示された発明では、電力コア手段
、すなわち電源コア(従来Vcc又はVddで示す)及
び接地コア(従来Vg で示す)は、電子パッケージの
熱管理構造の一体部分である。すなわち、熱伝導手段は
その一体部分として電力コア手段を含む。
、すなわち電源コア(従来Vcc又はVddで示す)及
び接地コア(従来Vg で示す)は、電子パッケージの
熱管理構造の一体部分である。すなわち、熱伝導手段は
その一体部分として電力コア手段を含む。
【0033】パッケージ熱管理構造の一体部分として電
力コア手段を利用するためには、電力コア手段の熱容量
及び熱伝導性が高いことが必要である。従って、ここに
熟慮された超小型電子パッケージにおいて電力コア手段
は、高電気伝導性、高熱伝導性、及び高比熱を有する材
料で製造された厚板電力コアである。典型的材料は、A
l及び周期表のIB族材料(Cu、Ag及びAu)であ
る。特に、厚いAl又はCu板、すなわち少なくとも約
1ミリメートルの厚さを有するAl又はCu板が好まし
い。
力コア手段を利用するためには、電力コア手段の熱容量
及び熱伝導性が高いことが必要である。従って、ここに
熟慮された超小型電子パッケージにおいて電力コア手段
は、高電気伝導性、高熱伝導性、及び高比熱を有する材
料で製造された厚板電力コアである。典型的材料は、A
l及び周期表のIB族材料(Cu、Ag及びAu)であ
る。特に、厚いAl又はCu板、すなわち少なくとも約
1ミリメートルの厚さを有するAl又はCu板が好まし
い。
【0034】本発明の好ましい適用例によると、信号プ
レーン又はコア、もしくは電力プレーン又はコア(電源
プレーン又はコア、接地プレーン又はコアもしくは両方
を含む)としての第1電気伝導性プレーンは、単独又は
他のパッケージ素子と組合わさって電子回路パッケージ
を冷熱(ヒートシンク)するための熱容量を有するよう
な大きさである。
レーン又はコア、もしくは電力プレーン又はコア(電源
プレーン又はコア、接地プレーン又はコアもしくは両方
を含む)としての第1電気伝導性プレーンは、単独又は
他のパッケージ素子と組合わさって電子回路パッケージ
を冷熱(ヒートシンク)するための熱容量を有するよう
な大きさである。
【0035】開示された発明によると、例えば信号コア
又はプレーン及び電力コア又はプレーン(接地コア又は
プレーンを含む)等の導電素子は、高電気伝導性(例え
ば、少なくとも約3x105 (ohm−cm) −1
以上)、高熱伝導性(例えば、少なくとも約1.25
J/sec−degC−cm以上)及び高比熱(少な
くとも約0.02 cal/degC−gm以上)を有
する材料で形成される。一般には、導電素子は厚膜金属
導電体又は金属箔導電体としての金属導電体、すなわち
少なくとも約1ミリメートルの厚さを有する熱及び電気
伝導性金属構造体で形成される。概して、上述のように
、信号コア並びに接地及び電源コアとしての導電体は金
属であり、金属導電体は一般には、Al及び周期表のI
B族金属(Cu、Ag及びAu)から成るグループから
選択される。特にCuが好ましい。
又はプレーン及び電力コア又はプレーン(接地コア又は
プレーンを含む)等の導電素子は、高電気伝導性(例え
ば、少なくとも約3x105 (ohm−cm) −1
以上)、高熱伝導性(例えば、少なくとも約1.25
J/sec−degC−cm以上)及び高比熱(少な
くとも約0.02 cal/degC−gm以上)を有
する材料で形成される。一般には、導電素子は厚膜金属
導電体又は金属箔導電体としての金属導電体、すなわち
少なくとも約1ミリメートルの厚さを有する熱及び電気
伝導性金属構造体で形成される。概して、上述のように
、信号コア並びに接地及び電源コアとしての導電体は金
属であり、金属導電体は一般には、Al及び周期表のI
B族金属(Cu、Ag及びAu)から成るグループから
選択される。特にCuが好ましい。
【0036】一般に誘電体とは、ガラス繊維又はガラス
布強化ポリマーもしくは高分子繊維又は高分子布強化ポ
リマーのような低誘電率高分子材料のことである。本発
明の特に好ましい適用例において、誘電体は熱強化誘電
高分子材料である。熱強化高分子誘電材料とは、高熱伝
導性添加剤が注入分散されたガラス又はポリマー強化高
分子材料である。典型的な高熱伝導性添加剤は、例えば
酸化亜鉛、酸化アルミニウム及び窒化アルミニウム等で
あるが、これに限定されるものではない。
布強化ポリマーもしくは高分子繊維又は高分子布強化ポ
リマーのような低誘電率高分子材料のことである。本発
明の特に好ましい適用例において、誘電体は熱強化誘電
高分子材料である。熱強化高分子誘電材料とは、高熱伝
導性添加剤が注入分散されたガラス又はポリマー強化高
分子材料である。典型的な高熱伝導性添加剤は、例えば
酸化亜鉛、酸化アルミニウム及び窒化アルミニウム等で
あるが、これに限定されるものではない。
【0037】
【実施例】ここに開示されている発明では、熱効果的電
力コア手段11と、信号伝達手段15、18と、例えば
熱強化誘電手段14を含む熱伝導手段とを有する超小型
電子パッケージ1が提供される。熱伝導手段は集積回路
5と電気的且つ熱的に連続しており、超小型電子パッケ
ージ1に一体となっている。ここに用いられる電力コア
手段は、集積回路へ電力を供給するための電源コア手段
と、集積回路を接地するための接地コア手段とを別々に
含む。
力コア手段11と、信号伝達手段15、18と、例えば
熱強化誘電手段14を含む熱伝導手段とを有する超小型
電子パッケージ1が提供される。熱伝導手段は集積回路
5と電気的且つ熱的に連続しており、超小型電子パッケ
ージ1に一体となっている。ここに用いられる電力コア
手段は、集積回路へ電力を供給するための電源コア手段
と、集積回路を接地するための接地コア手段とを別々に
含む。
【0038】本発明の好ましい適用例によると、例えば
信号プレーン又はコア、もしくは接地プレーン又はコア
を含む電力プレーン又はコア等の導電プレーンは、他の
パッケージ素子と組合わさって電子回路パッケージを冷
熱(ヒートシンク)するための熱容量を有するような大
きさである。
信号プレーン又はコア、もしくは接地プレーン又はコア
を含む電力プレーン又はコア等の導電プレーンは、他の
パッケージ素子と組合わさって電子回路パッケージを冷
熱(ヒートシンク)するための熱容量を有するような大
きさである。
【0039】ここに開示された発明の重要部分は、電力
コア手段11、すなわち電源コア(従来Vcc又はVd
dで示す)又は接地コア(従来Vg で示す)をパッケ
ージ熱管理構造の一体部分として利用することである。 すなわち、熱伝導手段はその一体部分として電力コア手
段を含む。
コア手段11、すなわち電源コア(従来Vcc又はVd
dで示す)又は接地コア(従来Vg で示す)をパッケ
ージ熱管理構造の一体部分として利用することである。 すなわち、熱伝導手段はその一体部分として電力コア手
段を含む。
【0040】電子パッケージ熱管理構造の一体部分とし
て電力コア手段11を利用するためには、電力コア手段
11の熱容量及び熱伝導性が高い、特に誘電体14と比
較して高いことが必要である。従って、ここに熟慮され
た超小型電子パッケージ1において、電力コア手段11
は例えば少なくとも約1ミリメートルの厚さを有するA
l又はCu板11等の厚板電力コアである。
て電力コア手段11を利用するためには、電力コア手段
11の熱容量及び熱伝導性が高い、特に誘電体14と比
較して高いことが必要である。従って、ここに熟慮され
た超小型電子パッケージ1において、電力コア手段11
は例えば少なくとも約1ミリメートルの厚さを有するA
l又はCu板11等の厚板電力コアである。
【0041】開示された発明によると、例えば信号コア
又はプレーン15、18及び/又は電力コア又はプレー
ン11(接地コア又はプレーンを含む)等の導電素子は
、上述のように高電気伝導性、高熱伝導性及び高比熱を
有する材料で形成される。この材料は金属導電体又は導
電性ポリマーであるが、最も一般的には厚膜金属導電体
としての金属導電体、又は金属箔導電体である。信号コ
ア並びに接地及び電力コアとしての導電体が金属である
場合、金属導電体は最も一般には、Al及び周期表のI
B族金属(Cu、Ag及びAu)から成るグループから
選択される。特にCuが好ましい。Cuが好ましいのは
、高電気伝導性、高熱伝導性及び高比熱を有するからで
ある。
又はプレーン15、18及び/又は電力コア又はプレー
ン11(接地コア又はプレーンを含む)等の導電素子は
、上述のように高電気伝導性、高熱伝導性及び高比熱を
有する材料で形成される。この材料は金属導電体又は導
電性ポリマーであるが、最も一般的には厚膜金属導電体
としての金属導電体、又は金属箔導電体である。信号コ
ア並びに接地及び電力コアとしての導電体が金属である
場合、金属導電体は最も一般には、Al及び周期表のI
B族金属(Cu、Ag及びAu)から成るグループから
選択される。特にCuが好ましい。Cuが好ましいのは
、高電気伝導性、高熱伝導性及び高比熱を有するからで
ある。
【0042】一般に誘電体14は、セラミック、もしく
はガラス又はポリマー強化高分子誘電体である。強化高
分子誘電体の構造及び製造は、「電子パッケージの原理
」(上記)のゲオルグ・シュミット(George P
. Schmitt )、ベルント・アペルト(Ber
nd K. Appelt )及びジェフリー・ゴトロ
(Jeffrey T. Gotro)による”電子的
適用のためのポリマー及びポリマーベース複合物(Po
lymers and Polymer−Based
Composites for Electronic
Applications )”並びに「超小型電子
パッケージ・ハンドブック」(上記)のドナルド・セラ
フィン(Donald P. Seraphim)、ド
ナルド・バール(Donald E. Barr)ウィ
リアム・チェン(William T. Chen )
、ゲオルグ・シュミット(George P. Sch
mitt )及びラオ・チュマラ(Rao R. Tu
mmala)による”プリント回路ボードパッケージ(
Printed Circuit Board Pac
kaging )”に記載されている。
はガラス又はポリマー強化高分子誘電体である。強化高
分子誘電体の構造及び製造は、「電子パッケージの原理
」(上記)のゲオルグ・シュミット(George P
. Schmitt )、ベルント・アペルト(Ber
nd K. Appelt )及びジェフリー・ゴトロ
(Jeffrey T. Gotro)による”電子的
適用のためのポリマー及びポリマーベース複合物(Po
lymers and Polymer−Based
Composites for Electronic
Applications )”並びに「超小型電子
パッケージ・ハンドブック」(上記)のドナルド・セラ
フィン(Donald P. Seraphim)、ド
ナルド・バール(Donald E. Barr)ウィ
リアム・チェン(William T. Chen )
、ゲオルグ・シュミット(George P. Sch
mitt )及びラオ・チュマラ(Rao R. Tu
mmala)による”プリント回路ボードパッケージ(
Printed Circuit Board Pac
kaging )”に記載されている。
【0043】本発明の特に好ましい適用例において、誘
電体は熱強化高分子誘電材料である。熱強化誘電材料は
高熱伝導性添加剤が注入分散されたガラス強化高分子材
料である。プリント回路ボードの準備において使用され
る高い熱伝導性を有するエポキシ組成物が、米国特許出
願番号07/294、090号及び米国特許出願番号0
7/494、807号に記載されている。
電体は熱強化高分子誘電材料である。熱強化誘電材料は
高熱伝導性添加剤が注入分散されたガラス強化高分子材
料である。プリント回路ボードの準備において使用され
る高い熱伝導性を有するエポキシ組成物が、米国特許出
願番号07/294、090号及び米国特許出願番号0
7/494、807号に記載されている。
【0044】米国特許出願番号07/494、807号
記載の熱伝導性強化組成物は、熱効果的量の酸化亜鉛を
含む。例えば樹脂固体100重量部当たり酸化亜鉛が約
40から75重量部である。酸化亜鉛粉体は種々の粒形
をしており、球形が最も入手し易い。酸化亜鉛の粒子サ
イズは44ミクロンのふるい(スクリーン)を100%
通過するような大きさであると開示されている。
記載の熱伝導性強化組成物は、熱効果的量の酸化亜鉛を
含む。例えば樹脂固体100重量部当たり酸化亜鉛が約
40から75重量部である。酸化亜鉛粉体は種々の粒形
をしており、球形が最も入手し易い。酸化亜鉛の粒子サ
イズは44ミクロンのふるい(スクリーン)を100%
通過するような大きさであると開示されている。
【0045】典型的高熱伝導性添加剤は、例えば酸化亜
鉛、酸化アルミニウム及び窒化アルミニウム等であるが
、これに限定されるものではない。添加剤は樹脂固体に
対して一般に約40重量%から約75重量%の濃度で存
在する。特に好ましい熱強化誘電体は、約40から約7
5重量%、好ましくは約40から約60重量%の酸化亜
鉛(基準:総ポリマー)を含むガラス又はポリテトラフ
ルオロエチレン強化ポリイミド又はポリエポキシドであ
る。
鉛、酸化アルミニウム及び窒化アルミニウム等であるが
、これに限定されるものではない。添加剤は樹脂固体に
対して一般に約40重量%から約75重量%の濃度で存
在する。特に好ましい熱強化誘電体は、約40から約7
5重量%、好ましくは約40から約60重量%の酸化亜
鉛(基準:総ポリマー)を含むガラス又はポリテトラフ
ルオロエチレン強化ポリイミド又はポリエポキシドであ
る。
【0046】本発明の特に好ましい適用例の1つは、図
1に断面図で示されている回路パッケージである。この
適用例は、第2レベルパッケージ、すなわちカードであ
り、以下を含む。 (a)Cu板11等の金属厚板11。Cu板11は、ヒ
ートシンク及び/又は熱伝導体として充分に熱効果的で
ある厚さを有する厚板である。この厚さは少なくとも約
1ミリメートルである。 (b)金属板がAlのときは、金属板はCu層12及び
13を含む。スパッタリング、無電解メッキ又は電解メ
ッキによって形成可能なこの層は、チップ5の背面接合
を可能にすると共に、底部の放射熱伝達を高める。 (c)Cu板を更に表面処理(図示せず)することによ
って、頂部の積層板接着性が向上する。 (d)上述及び以下に記載されるように、熱強化誘電体
14は板11のCu表面層12へ積層されている。更に
、導電体/抵抗体層15が誘電体14へ積層される。 (e)層15に導電線がエッチングされる。または、導
電体/抵抗体層15が誘電体層14へ追加されてもよい
。更に処理を行うことによって、埋め込み抵抗器及び埋
め込みキャパシタが形成される。 (f)例えば導電体15と接地部22との接続及び導電
体18と接地部25との接続のために、熱強化誘電体は
次に例えばレーザによって選択的に開孔される。 (g)熱強化誘電層14はまた、チップ5を金属キャリ
ア11へ直接背面接合取り付けするためのウィンドウ2
3Aを提供するために、例えばレーザによって開孔され
る。 (h)はんだマスク材料等の感光性誘電体17が被覆、
露光及び現像され、例えば (i)層15と層18の間
の相互接続24、(ii)チップウィンドウ23A、
(iii)層18と接地点との間の相互接続のための分
離帯22、及び(iv)チップ5を接地点へ相互接続す
るためのウィンドウ15、を提供する。 (i)例えばパッド、ランド及び信号線を提供するため
に、感光性誘電体17の一部は、次に表面処理及び無電
解メッキ又は電解メッキ等によるCuメッキが行われる
。 (j)チップ相互接続21用のワイヤボンドパッド20
を形成するために、次にパッド又はランド上へ金又はニ
ッケルが選択的にメッキされる。 (k)その後、導電線18及びパッドがエッチングされ
る。
1に断面図で示されている回路パッケージである。この
適用例は、第2レベルパッケージ、すなわちカードであ
り、以下を含む。 (a)Cu板11等の金属厚板11。Cu板11は、ヒ
ートシンク及び/又は熱伝導体として充分に熱効果的で
ある厚さを有する厚板である。この厚さは少なくとも約
1ミリメートルである。 (b)金属板がAlのときは、金属板はCu層12及び
13を含む。スパッタリング、無電解メッキ又は電解メ
ッキによって形成可能なこの層は、チップ5の背面接合
を可能にすると共に、底部の放射熱伝達を高める。 (c)Cu板を更に表面処理(図示せず)することによ
って、頂部の積層板接着性が向上する。 (d)上述及び以下に記載されるように、熱強化誘電体
14は板11のCu表面層12へ積層されている。更に
、導電体/抵抗体層15が誘電体14へ積層される。 (e)層15に導電線がエッチングされる。または、導
電体/抵抗体層15が誘電体層14へ追加されてもよい
。更に処理を行うことによって、埋め込み抵抗器及び埋
め込みキャパシタが形成される。 (f)例えば導電体15と接地部22との接続及び導電
体18と接地部25との接続のために、熱強化誘電体は
次に例えばレーザによって選択的に開孔される。 (g)熱強化誘電層14はまた、チップ5を金属キャリ
ア11へ直接背面接合取り付けするためのウィンドウ2
3Aを提供するために、例えばレーザによって開孔され
る。 (h)はんだマスク材料等の感光性誘電体17が被覆、
露光及び現像され、例えば (i)層15と層18の間
の相互接続24、(ii)チップウィンドウ23A、
(iii)層18と接地点との間の相互接続のための分
離帯22、及び(iv)チップ5を接地点へ相互接続す
るためのウィンドウ15、を提供する。 (i)例えばパッド、ランド及び信号線を提供するため
に、感光性誘電体17の一部は、次に表面処理及び無電
解メッキ又は電解メッキ等によるCuメッキが行われる
。 (j)チップ相互接続21用のワイヤボンドパッド20
を形成するために、次にパッド又はランド上へ金又はニ
ッケルが選択的にメッキされる。 (k)その後、導電線18及びパッドがエッチングされ
る。
【0047】この構造は、抵抗器並びに複合ヒートシン
ク及びコア11としての受動素子がカード1に埋め込ま
れているので、回路設計及び表面取り付けのための表面
積が解放されるという利点を提供する。更に、熱的及び
電気的性能が改良されたヒートシンク金属コア11へ高
電力チップ5が直接取り付けられるという利点がある。 更には、埋め込み抵抗器16及びキャパシタ(もしあれ
ば)がヒートシンク11に極めて接近して存在すると共
に、熱強化誘電薄層14によって相互に隔てられている
ので、これらの要素の熱効果を最小限にする。このパッ
ケージはまた、背面放射熱伝達の改良及び少なくとも2
つの配線層を提供する。
ク及びコア11としての受動素子がカード1に埋め込ま
れているので、回路設計及び表面取り付けのための表面
積が解放されるという利点を提供する。更に、熱的及び
電気的性能が改良されたヒートシンク金属コア11へ高
電力チップ5が直接取り付けられるという利点がある。 更には、埋め込み抵抗器16及びキャパシタ(もしあれ
ば)がヒートシンク11に極めて接近して存在すると共
に、熱強化誘電薄層14によって相互に隔てられている
ので、これらの要素の熱効果を最小限にする。このパッ
ケージはまた、背面放射熱伝達の改良及び少なくとも2
つの配線層を提供する。
【0048】この構造は、電子パッケージの構造的、熱
的及び電気的性質を元のまま保持しながら、高熱伝導性
に帰着する。
的及び電気的性質を元のまま保持しながら、高熱伝導性
に帰着する。
【0049】本発明の超小型電子パッケージがCuメッ
キスルーホール及びブラインドバイア相互接続を有し得
ること、又はパッケージがハンダ充填(非メッキ)スル
ーホール及びバイア相互接続を有し得ることは、当然の
ことながら理解されるべきである。これは以下の適用例
で説明されている。
キスルーホール及びブラインドバイア相互接続を有し得
ること、又はパッケージがハンダ充填(非メッキ)スル
ーホール及びバイア相互接続を有し得ることは、当然の
ことながら理解されるべきである。これは以下の適用例
で説明されている。
【0050】本発明の第2の適用例は図2に示されてい
る。図示されたカードは以下の方法によって製造される
。 (a)信号/電力コア又は信号/信号コアとしてのコア
30は、薄い熱強化ガラス繊維強化誘電材料37の頂部
38及び底部35表面上に銅箔を積層して製造される。 (b)コア30は次に、その頂部38及び底部35表面
に複数の信号線及び電力バス線を形成するために、例え
ば従来のフォトリソグラフィ及びエッチング手段によっ
て回路化される。 (c)上記回路化工程(b)と同時に、表面取り付けデ
バイスパッド及び相互接続ランドがコアの頂部表面に形
成される。例えばエッチングによって、又はポリマー厚
膜材料のスクリーニングによって、コアの底部表面35
に抵抗器及び/又はキャパシタ構造体16が形成される
。この方法で埋め込まれたインピーダンス(抵抗性、容
量性及び誘導性)素子は、厚板電力コアへ極めて隣接し
て位置する。 (d)従って、チップのワイヤボンディング用のNi/
Auメッキパッド20としてのパッドは、例えば従来の
フォトリソグラフィ及び電解メッキ手段によって形成さ
れる。代替として、ワイヤボンドパッドが無電解メッキ
によって形成されてもよい。 (e)次に回路化コア30は厚いヒートシンク/電気伝
導板11、すなわちヒートシンク/接地板へ積層される
。この板はCu板又はCu処理Al板である。上記のよ
うに、この厚板11は本発明の電子パッケージ10に一
体のヒートシンク及び接地プレーンとして機能する。 回路化コア30は、例えば薄い熱強化誘電材料14によ
って、厚いヒートシンク/接地プレーンへ接合される。 (f)コアの2つの回路化プレーン35、38の間、及
びコアプレーン35、38とヒートシンク/接地プレー
ンとの間の、通路孔22、24、25のような相互接続
手段は、CO2 レーザによって誘電材料37、14に
穴をあけることによって形成される。CO2 レーザは
誘電材料37、14を選択的に除去し、Cu回路化層3
5、38の除去は最小限である。従って、既にエッチン
グされたCuパターンは、レーザ開孔プロセスの自己整
合手段として働く。同様の方法で、接地プレーン11も
しくは埋め込み信号層又は電力層へ直接チップを取り付
けるためのチップウィンドウ23Aは、誘電材料14、
37のレーザ開孔によって形成される。 (g)フォトイメージャブル又はスクリーンド層として
の保護塗布層41が次に電子パッケージ10の頂部表面
へ塗布される。 (h)レーザ開孔通路の最終的電気的相互接続は、はん
だペースト51が通路孔内へスクリーンされると共に気
相又は赤外線手段によってリフローされる表面取り付け
アセンブリの間に行われる。
る。図示されたカードは以下の方法によって製造される
。 (a)信号/電力コア又は信号/信号コアとしてのコア
30は、薄い熱強化ガラス繊維強化誘電材料37の頂部
38及び底部35表面上に銅箔を積層して製造される。 (b)コア30は次に、その頂部38及び底部35表面
に複数の信号線及び電力バス線を形成するために、例え
ば従来のフォトリソグラフィ及びエッチング手段によっ
て回路化される。 (c)上記回路化工程(b)と同時に、表面取り付けデ
バイスパッド及び相互接続ランドがコアの頂部表面に形
成される。例えばエッチングによって、又はポリマー厚
膜材料のスクリーニングによって、コアの底部表面35
に抵抗器及び/又はキャパシタ構造体16が形成される
。この方法で埋め込まれたインピーダンス(抵抗性、容
量性及び誘導性)素子は、厚板電力コアへ極めて隣接し
て位置する。 (d)従って、チップのワイヤボンディング用のNi/
Auメッキパッド20としてのパッドは、例えば従来の
フォトリソグラフィ及び電解メッキ手段によって形成さ
れる。代替として、ワイヤボンドパッドが無電解メッキ
によって形成されてもよい。 (e)次に回路化コア30は厚いヒートシンク/電気伝
導板11、すなわちヒートシンク/接地板へ積層される
。この板はCu板又はCu処理Al板である。上記のよ
うに、この厚板11は本発明の電子パッケージ10に一
体のヒートシンク及び接地プレーンとして機能する。 回路化コア30は、例えば薄い熱強化誘電材料14によ
って、厚いヒートシンク/接地プレーンへ接合される。 (f)コアの2つの回路化プレーン35、38の間、及
びコアプレーン35、38とヒートシンク/接地プレー
ンとの間の、通路孔22、24、25のような相互接続
手段は、CO2 レーザによって誘電材料37、14に
穴をあけることによって形成される。CO2 レーザは
誘電材料37、14を選択的に除去し、Cu回路化層3
5、38の除去は最小限である。従って、既にエッチン
グされたCuパターンは、レーザ開孔プロセスの自己整
合手段として働く。同様の方法で、接地プレーン11も
しくは埋め込み信号層又は電力層へ直接チップを取り付
けるためのチップウィンドウ23Aは、誘電材料14、
37のレーザ開孔によって形成される。 (g)フォトイメージャブル又はスクリーンド層として
の保護塗布層41が次に電子パッケージ10の頂部表面
へ塗布される。 (h)レーザ開孔通路の最終的電気的相互接続は、はん
だペースト51が通路孔内へスクリーンされると共に気
相又は赤外線手段によってリフローされる表面取り付け
アセンブリの間に行われる。
【0051】本発明の第3の代替適用例は、ヒートシン
ク/接地プレーン手段からの伝導性熱伝達を高める。図
3に示されるこの適用例では、改良された熱伝達領域は
ヒートシンク/接地プレーン11内に備えられる。この
第3適用例のパッケージ60は以下によって準備される
。 (a)コア30すなわち信号/信号コア又は信号/電力
コアは、上述のように積層される。次にコア30は孔が
開けられる。それによって形成された開孔は無電解銅プ
ロセスによってシードされ、コア30全体が次に電解C
uメッキ65される。これによって、コア30の頂部3
8表面と底部35表面との間の相互接続が供与される。 (b)コア30の底部表面35は次に回路化される。エ
ッチングを伴う従来のフォトリソグラフィック・プロセ
スによって回路化は典型的に実行される。 (c)コア30は次にヒートシンク/電気伝導厚板11
、すなわちヒートシンク/接地プレーンへ積層される。 この板はCu板又はCu処理Al板である。上記のよう
に、この厚板11は本発明の電子パッケージ60と一体
のヒートシンク及び接地プレーンとして機能する。 回路化コア30は、例えば薄い熱強化誘電材料14によ
って、厚いヒートシンク/接地プレーンへ接合される。 (d)コアの頂部表面、底部表面又は両表面の接地プレ
ーンへの電気的相互接続を提供するために、積層構造6
0は機械的に開孔され、無電解Cuシードされ、そして
電解Cuメッキされる。 (e)パッケージの頂部表面38は次に回路化される。 (f)特に好ましい具体例によると、ヒートシンク/接
地板11の熱伝達領域が改良される。これは、ヒートシ
ンク/接地プレーン11の背後表面13に溝67を形成
することによって達成される。この溝67はエッチング
によって形成することができる。溝のエッチングはパッ
ケージ頂部表面のエッチングと同時に行われる。溝67
は、例えば強制空気流環境の電子パッケージの背面を通
って空気流を運ぶことによって、対流熱伝達のために改
良された熱伝達領域を提供し、これによってパッケージ
の冷却手段を提供する。
ク/接地プレーン手段からの伝導性熱伝達を高める。図
3に示されるこの適用例では、改良された熱伝達領域は
ヒートシンク/接地プレーン11内に備えられる。この
第3適用例のパッケージ60は以下によって準備される
。 (a)コア30すなわち信号/信号コア又は信号/電力
コアは、上述のように積層される。次にコア30は孔が
開けられる。それによって形成された開孔は無電解銅プ
ロセスによってシードされ、コア30全体が次に電解C
uメッキ65される。これによって、コア30の頂部3
8表面と底部35表面との間の相互接続が供与される。 (b)コア30の底部表面35は次に回路化される。エ
ッチングを伴う従来のフォトリソグラフィック・プロセ
スによって回路化は典型的に実行される。 (c)コア30は次にヒートシンク/電気伝導厚板11
、すなわちヒートシンク/接地プレーンへ積層される。 この板はCu板又はCu処理Al板である。上記のよう
に、この厚板11は本発明の電子パッケージ60と一体
のヒートシンク及び接地プレーンとして機能する。 回路化コア30は、例えば薄い熱強化誘電材料14によ
って、厚いヒートシンク/接地プレーンへ接合される。 (d)コアの頂部表面、底部表面又は両表面の接地プレ
ーンへの電気的相互接続を提供するために、積層構造6
0は機械的に開孔され、無電解Cuシードされ、そして
電解Cuメッキされる。 (e)パッケージの頂部表面38は次に回路化される。 (f)特に好ましい具体例によると、ヒートシンク/接
地板11の熱伝達領域が改良される。これは、ヒートシ
ンク/接地プレーン11の背後表面13に溝67を形成
することによって達成される。この溝67はエッチング
によって形成することができる。溝のエッチングはパッ
ケージ頂部表面のエッチングと同時に行われる。溝67
は、例えば強制空気流環境の電子パッケージの背面を通
って空気流を運ぶことによって、対流熱伝達のために改
良された熱伝達領域を提供し、これによってパッケージ
の冷却手段を提供する。
【0052】上記のように製造された電子パッケージは
、構造体全体を通して均一な温度分布を提供する。
、構造体全体を通して均一な温度分布を提供する。
【0053】本発明の更にもう1つの適用例では、同一
パッケージ上に低電力チップと共に高電力チップを集積
するパッケージが提供されている。この特徴は図4に説
明されており、熱的、電気的及び信頼性要求を満足させ
るために利用可能な種々のチップ取り付け方法を示して
いる。図4は図2に関して記載された方法によって製造
された第2レベルパッケージ111を描いている。 (a)高電力密度とアースでの背面電気ポテンシャルと
を有する第1の集積回路チップ112が、リフローされ
たはんだ121によってヒートシンク/接地プレーン1
1へ直接取り付けられる。チップ112は、誘電層14
、17をCO2 レーザで開孔することによって形成さ
れたウィンドウ23Aに配置されている。このパッケー
ジ構造は集積回路チップ112にとって最大の冷却ポテ
ンシャルを提供する。直接取り付け及びヒートシンク/
接地プレーン11の高熱伝導性のために、パッケージ全
体で均一温度が保持される。 (b)高電力密度を有するがその背面はアースレベルで
ない第2の集積回路チップ113が、リフローされたは
んだ121によって埋め込み信号及び/又は電力層15
へ直接取り付けられる。チップ113は、誘電層17を
CO2 レーザで開孔することによって形成されたウィ
ンドウに備えられている。チップ113は更に、埋め込
み層の回路化の間に形成された大型熱展着パッド123
上に取り付けられる。熱はこのチップ113から背面は
んだ及びエッチ熱展着物を介して放散され、そして熱強
化誘電薄層14を介してヒートシンク/接地プレーン1
1へ伝導される。 (c)集積回路チップ114を取り付ける第3の方法は
、パッケージの頂部表面18へ直接リフローすることに
よるものである。このチップの熱放散は、頂部表面熱展
着物124を埋め込み層熱展着物144と接続するはん
だ充填ブラインドバイアス134によって提供される。 (d)低電力論理及び/又はメモリ集積回路デバイスを
電力デバイスを有する同一キャリア上にパッケージする
更にもう1つの方法は、第4の集積回路チップ115と
共に説明される。標準的な非熱強化誘電材料17によっ
て、他のデバイスからの熱的絶縁性が得られる。この論
理又はメモリデバイスに必要な冷却は、エッチ熱展着物
125によって提供される。このデバイスの付加的な冷
却は、任意の表面取り付けヒートシンク135によって
提供される。
パッケージ上に低電力チップと共に高電力チップを集積
するパッケージが提供されている。この特徴は図4に説
明されており、熱的、電気的及び信頼性要求を満足させ
るために利用可能な種々のチップ取り付け方法を示して
いる。図4は図2に関して記載された方法によって製造
された第2レベルパッケージ111を描いている。 (a)高電力密度とアースでの背面電気ポテンシャルと
を有する第1の集積回路チップ112が、リフローされ
たはんだ121によってヒートシンク/接地プレーン1
1へ直接取り付けられる。チップ112は、誘電層14
、17をCO2 レーザで開孔することによって形成さ
れたウィンドウ23Aに配置されている。このパッケー
ジ構造は集積回路チップ112にとって最大の冷却ポテ
ンシャルを提供する。直接取り付け及びヒートシンク/
接地プレーン11の高熱伝導性のために、パッケージ全
体で均一温度が保持される。 (b)高電力密度を有するがその背面はアースレベルで
ない第2の集積回路チップ113が、リフローされたは
んだ121によって埋め込み信号及び/又は電力層15
へ直接取り付けられる。チップ113は、誘電層17を
CO2 レーザで開孔することによって形成されたウィ
ンドウに備えられている。チップ113は更に、埋め込
み層の回路化の間に形成された大型熱展着パッド123
上に取り付けられる。熱はこのチップ113から背面は
んだ及びエッチ熱展着物を介して放散され、そして熱強
化誘電薄層14を介してヒートシンク/接地プレーン1
1へ伝導される。 (c)集積回路チップ114を取り付ける第3の方法は
、パッケージの頂部表面18へ直接リフローすることに
よるものである。このチップの熱放散は、頂部表面熱展
着物124を埋め込み層熱展着物144と接続するはん
だ充填ブラインドバイアス134によって提供される。 (d)低電力論理及び/又はメモリ集積回路デバイスを
電力デバイスを有する同一キャリア上にパッケージする
更にもう1つの方法は、第4の集積回路チップ115と
共に説明される。標準的な非熱強化誘電材料17によっ
て、他のデバイスからの熱的絶縁性が得られる。この論
理又はメモリデバイスに必要な冷却は、エッチ熱展着物
125によって提供される。このデバイスの付加的な冷
却は、任意の表面取り付けヒートシンク135によって
提供される。
【0054】図4に示された4つのチップ取り付け方法
は全て、集積回路I/Oからキャリアへのワイヤボンド
相互接続を有する第2レベルパッケージへチップを直接
背後接合することができる。当然ながら、例えば単なる
例示であってこれに限定するものではないが、TAB(
テープ自動ボンディング)、プレスチック加鉛チップキ
ャリア及びセラミックパッケージ等を含む相互接続の代
替方法が利用されてもよいことは理解されるべきである
。
は全て、集積回路I/Oからキャリアへのワイヤボンド
相互接続を有する第2レベルパッケージへチップを直接
背後接合することができる。当然ながら、例えば単なる
例示であってこれに限定するものではないが、TAB(
テープ自動ボンディング)、プレスチック加鉛チップキ
ャリア及びセラミックパッケージ等を含む相互接続の代
替方法が利用されてもよいことは理解されるべきである
。
【0055】これらの適用例では、超小型電子回路パッ
ケージは、論理及びメモリ集積回路の同一パッケージ上
に表面取り付けするための熱的絶縁体を有する。更に詳
細にはこれら適用例では、高温、すなわち約110°C
以上での信頼性操作が可能な電力チップが、信頼性のあ
る操作のためには低温、例えば約75°C以下に保持さ
れるべきメモリ及び/又は論理チップを有する同一パッ
ケージ上に集積できる。厚いヒートシンク/電力プレー
ンが電力チップの冷却を提供し、論理及び/又はメモリ
チップは熱展着物の頂部表面によって冷却される。低電
力論理及び/又はメモリチップの付加的な冷却は、熱展
着物上に含まれる追加の表面取り付けヒートシンク手段
135によって提供される。
ケージは、論理及びメモリ集積回路の同一パッケージ上
に表面取り付けするための熱的絶縁体を有する。更に詳
細にはこれら適用例では、高温、すなわち約110°C
以上での信頼性操作が可能な電力チップが、信頼性のあ
る操作のためには低温、例えば約75°C以下に保持さ
れるべきメモリ及び/又は論理チップを有する同一パッ
ケージ上に集積できる。厚いヒートシンク/電力プレー
ンが電力チップの冷却を提供し、論理及び/又はメモリ
チップは熱展着物の頂部表面によって冷却される。低電
力論理及び/又はメモリチップの付加的な冷却は、熱展
着物上に含まれる追加の表面取り付けヒートシンク手段
135によって提供される。
【0056】本発明の方法及び装置は銅導電コア及びプ
レーンを参照して記載及び説明されたが、導電素子は他
の金属導電体で形成されてもよいことは理解されるべき
である。ヒートシンク及び金属導電体として有用な最も
一般的な熱活性導電コア及びプレーンは、厚膜金属導電
体又は金属箔導電体である。信号コア、接地及び電力コ
アとしての導電体がここに考慮されたヒートシンク及び
/又は熱伝導機能を提供するとき、この導電体は、典型
的に熱効果質量及び少なくとも約1ミリメートルの厚さ
を有する。
レーンを参照して記載及び説明されたが、導電素子は他
の金属導電体で形成されてもよいことは理解されるべき
である。ヒートシンク及び金属導電体として有用な最も
一般的な熱活性導電コア及びプレーンは、厚膜金属導電
体又は金属箔導電体である。信号コア、接地及び電力コ
アとしての導電体がここに考慮されたヒートシンク及び
/又は熱伝導機能を提供するとき、この導電体は、典型
的に熱効果質量及び少なくとも約1ミリメートルの厚さ
を有する。
【0057】本発明は特定の好ましい具体例及び適用例
に関して記載されたが、それによって本発明の範囲が制
限されることはなく、特許請求の範囲記載事項によって
のみ制限されるものである。
に関して記載されたが、それによって本発明の範囲が制
限されることはなく、特許請求の範囲記載事項によって
のみ制限されるものである。
【0058】
【発明の効果】上記のように構成された本発明の超小型
回路パッケージは熱吸収能力が向上されているので、パ
ッケージ外部表面からヒートシンク素子を除去すること
ができる。従って、能動回路(論理及び/又はメモリ)
チップ及びモジュールのために利用できるパッケージの
表面積が増大し、パッケージのパッキング密度を増大さ
せることが可能である。
回路パッケージは熱吸収能力が向上されているので、パ
ッケージ外部表面からヒートシンク素子を除去すること
ができる。従って、能動回路(論理及び/又はメモリ)
チップ及びモジュールのために利用できるパッケージの
表面積が増大し、パッケージのパッキング密度を増大さ
せることが可能である。
【図1】本発明の1つの適用例を具体化する第2レベル
パッケージの部分断面図である。
パッケージの部分断面図である。
【図2】本発明のパッケージ製造の代替方法によって製
造された第2レベルパッケージの部分断面図である。
造された第2レベルパッケージの部分断面図である。
【図3】本発明のパッケージ製造の更に代替方法によっ
て製造された第2レベルパッケージの部分断面図である
。
て製造された第2レベルパッケージの部分断面図である
。
【図4】チップ取付けの代替手段を描く本発明の第2レ
ベルパッケージの部分断面図である。
ベルパッケージの部分断面図である。
1 超小型電子パッケージ
5 集積回路
11 電力コア手段
14 誘電体
15、18 信号コア手段
Claims (14)
- 【請求項1】 超小型電子回路パッケージであって、
集積回路へ電力を供給すると共に集積回路を接地するた
めの電力コア手段と、集積回路から及び集積回路へ信号
を伝達するための信号コア手段と、前記超小型電子回路
パッケージ及び集積回路から熱を伝達するための熱伝導
手段とを含み、前記熱伝導手段が、熱的且つ電気的に前
記集積回路と連続していると共に、前記超小型電子回路
パッケージと一体である超小型電子回路パッケージ。 - 【請求項2】 前記熱伝導手段が前記電力コア手段を
含む請求項1記載の超小型電子回路パッケージ。 - 【請求項3】 前記電力コア手段が厚板電力コアであ
る請求項2記載の超小型電子回路パッケージ。 - 【請求項4】 前記厚板電力コアが少なくとも1ミリ
メートルの厚さである請求項3記載の超小型電子回路パ
ッケージ。 - 【請求項5】 集積回路手段と、前記電力コア手段と
、その間の誘電手段とを含む請求項2記載の超小型電子
回路パッケージ。 - 【請求項6】 前記誘電手段が高分子材料である請求
項5記載の超小型電子回路パッケージ。 - 【請求項7】 前記誘電手段が熱強化誘電材料を含む
請求項5記載の超小型電子回路パッケージ。 - 【請求項8】 前記熱強化誘電材料が、高熱伝導性添
加剤を有する繊維強化高分子材料を含む請求項7記載の
超小型電子回路パッケージ。 - 【請求項9】 前記高熱伝導性添加剤が、酸化亜鉛、
酸化アルミニウム及び窒化アルミニウムから成るグルー
プから選択される請求項8記載の超小型電子回路パッケ
ージ。 - 【請求項10】 銅メッキスルーホール及びブライン
ドバイア相互接続手段を有する請求項1記載の超小型電
子回路パッケージ。 - 【請求項11】 非メッキ、レーザ開孔及びはんだ充
填されたブラインドバイア相互接続手段を有する請求項
10記載の超小型電子回路パッケージ。 - 【請求項12】 金属接地厚板上に電力集積回路が直
接背面接合されている請求項1記載の超小型電子回路パ
ッケージ。 - 【請求項13】 同一パッケージ上に論理及びメモリ
集積回路を表面取り付けするための熱絶縁体を有する請
求項12記載の超小型電子回路パッケージ。 - 【請求項14】 厚板電力コアに極めて接近した埋め
込みインピーダンス素子を含む請求項1記載の超小型電
子回路パッケージ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US55615690A | 1990-07-23 | 1990-07-23 | |
| US556156 | 1990-07-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04233258A true JPH04233258A (ja) | 1992-08-21 |
Family
ID=24220129
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3136006A Pending JPH04233258A (ja) | 1990-07-23 | 1991-05-10 | 超小型電子回路パッケージ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0471938A1 (ja) |
| JP (1) | JPH04233258A (ja) |
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| JP2022163905A (ja) * | 2021-04-15 | 2022-10-27 | 日立Astemo株式会社 | 電子装置 |
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