JPH0423376A - ガスレーザ装置の洗浄装置および洗浄方法 - Google Patents
ガスレーザ装置の洗浄装置および洗浄方法Info
- Publication number
- JPH0423376A JPH0423376A JP12304390A JP12304390A JPH0423376A JP H0423376 A JPH0423376 A JP H0423376A JP 12304390 A JP12304390 A JP 12304390A JP 12304390 A JP12304390 A JP 12304390A JP H0423376 A JPH0423376 A JP H0423376A
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- Japan
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- cleaning liquid
- gas laser
- cleaning
- laser device
- gas
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明はガスレーザ装置内部の洗浄装置および洗浄方法
に関する。
に関する。
(従来の技術)
ガスレーザ装置の開発および実用化が進むにつれてレー
ザの発振を繰り返し行なうと装置内に細かなゴミが徐々
に蓄積し、レーザの発振を妨げることがわかってきた。
ザの発振を繰り返し行なうと装置内に細かなゴミが徐々
に蓄積し、レーザの発振を妨げることがわかってきた。
したがって、操作が簡単で効果のある洗浄装置が要望さ
れているが、かかる要望を実現する洗浄装置は知られて
いない。
れているが、かかる要望を実現する洗浄装置は知られて
いない。
(発明が解決しようとする課題)
現在、ガスレーザ装置内で発生するゴミを洗浄するため
の方法として、最適と考えられる方法は確立されていな
い0本発明は、簡単な構成でガスレーザ装置内を効率的
に洗浄することを可能にする装置を提供するものである
。
の方法として、最適と考えられる方法は確立されていな
い0本発明は、簡単な構成でガスレーザ装置内を効率的
に洗浄することを可能にする装置を提供するものである
。
(課題を解決するための手段)
ガスレーザ装置内で発生したゴミは、レーザ発振時に高
速のガス流によって飛散し、洗浄の際には装置の底や内
部の部品の上に大部分のゴミが堆積する。そこで装置各
部に洗浄液の吹出し口を設置し、洗浄液を勢いよく吹付
けることにより装置の底や部品に堆積したゴミを洗い流
し、装置の底に設けた排出口より装置内部のゴミを装置
の外に排出する。このような構成にすることにより、装
置を分解せずにゴミの除去と内部の部品の洗浄ができる
0本発明はこのような観点からガスレーザ発振装置に洗
浄液の吹出し口と排出口を設置したことを特徴とするも
のである。
速のガス流によって飛散し、洗浄の際には装置の底や内
部の部品の上に大部分のゴミが堆積する。そこで装置各
部に洗浄液の吹出し口を設置し、洗浄液を勢いよく吹付
けることにより装置の底や部品に堆積したゴミを洗い流
し、装置の底に設けた排出口より装置内部のゴミを装置
の外に排出する。このような構成にすることにより、装
置を分解せずにゴミの除去と内部の部品の洗浄ができる
0本発明はこのような観点からガスレーザ発振装置に洗
浄液の吹出し口と排出口を設置したことを特徴とするも
のである。
(作用)
このような構成のガスレーザ装置においてレーザの発振
を繰り返すことによりゴミが増加し、レーザの発振に支
障が出てきた場合に洗浄を行なう。まず排出口を開け、
吹出し口より洗浄液を装置各部に勢いよく吹付けること
により装置内のゴミは装置の底に流されて排出口より装
置の外に排出される。ゴミの流出がなくなったら、洗浄
液を止め、内部に残った洗浄液を排出した後に排出口を
閉じて洗浄が完了する。
を繰り返すことによりゴミが増加し、レーザの発振に支
障が出てきた場合に洗浄を行なう。まず排出口を開け、
吹出し口より洗浄液を装置各部に勢いよく吹付けること
により装置内のゴミは装置の底に流されて排出口より装
置の外に排出される。ゴミの流出がなくなったら、洗浄
液を止め、内部に残った洗浄液を排出した後に排出口を
閉じて洗浄が完了する。
(実施例)
以下本発明の一実施例を図面によって説明する。第1図
は吹出し口6と排出ロアを有するガスレーザ装置の基本
的な構造を示している。密封容器1にはガスが封入され
る。レーザ発振時にはファン3により発生したガス流が
風ガイド5を通り、熱交換器4により冷却された後、電
極2に導かれる。この時装置内部で発生したゴミは高速
のガス流により飛散し、レーザ発振時以外は容器の底や
各部品の上に堆積する。したがって、これらのゴミを洗
浄するには、まずバルブ9を開き各部品ごとに設置した
洗浄液吹出し口6より洗浄液を勢いよく吹付ける。洗浄
液は各部に堆積したゴミを吹飛ばし、密閉容器の内面や
風ガイドに沿って排出ロアへ流されて密閉容器外へ排出
される。各種のガスレーザ装置の中でもエキシマレーザ
装置内で発生するゴミは、装置を構成する金属部材およ
び絶縁物の細かな破片と、金属部材が使用するハロゲン
ガスにより腐食されて生成する腐食生成物からなる。こ
れは、発明者が実際に発振実験を繰り返し行なったエキ
シマレーザ装置内を調査して確認したものである。特に
、ハロゲン元素として塩素を使用する場合に生成する腐
食生成物は装置内部に使用している金属部材の塩化物(
Fel、 、NiCu、 。
は吹出し口6と排出ロアを有するガスレーザ装置の基本
的な構造を示している。密封容器1にはガスが封入され
る。レーザ発振時にはファン3により発生したガス流が
風ガイド5を通り、熱交換器4により冷却された後、電
極2に導かれる。この時装置内部で発生したゴミは高速
のガス流により飛散し、レーザ発振時以外は容器の底や
各部品の上に堆積する。したがって、これらのゴミを洗
浄するには、まずバルブ9を開き各部品ごとに設置した
洗浄液吹出し口6より洗浄液を勢いよく吹付ける。洗浄
液は各部に堆積したゴミを吹飛ばし、密閉容器の内面や
風ガイドに沿って排出ロアへ流されて密閉容器外へ排出
される。各種のガスレーザ装置の中でもエキシマレーザ
装置内で発生するゴミは、装置を構成する金属部材およ
び絶縁物の細かな破片と、金属部材が使用するハロゲン
ガスにより腐食されて生成する腐食生成物からなる。こ
れは、発明者が実際に発振実験を繰り返し行なったエキ
シマレーザ装置内を調査して確認したものである。特に
、ハロゲン元素として塩素を使用する場合に生成する腐
食生成物は装置内部に使用している金属部材の塩化物(
Fel、 、NiCu、 。
AjlCら等)である、これらは一般に吸湿性があり水
分があると吸湿して部品表面や壁面に固着する傾向があ
る。しかし金属塩化物は水またはメチルアルコール、エ
チルアルコール等炭素数10以下のアルコール類、アセ
トン等炭素数lO以下のケトン類。
分があると吸湿して部品表面や壁面に固着する傾向があ
る。しかし金属塩化物は水またはメチルアルコール、エ
チルアルコール等炭素数10以下のアルコール類、アセ
トン等炭素数lO以下のケトン類。
ジメチルエーテル等炭素数10以下のエーテル類に容易
に溶ける性質があり、洗浄液としてこれらの液体を使用
すれば固着した腐食生成物も簡単に溶解し洗い流せる。
に溶ける性質があり、洗浄液としてこれらの液体を使用
すれば固着した腐食生成物も簡単に溶解し洗い流せる。
また、ハロゲン元素としてフッ素を使用する場合に生成
する腐食生成物は装置内部に使用している金属部材のフ
ッ化物(FeF2゜NiF、、 Al2F、等)である
、これらのフッ化物は吸湿して固着するようなことはほ
とんどないため、洗浄液を吹付けるだけで容易に洗い流
すことができる。このとき使用する洗浄液は、メチルア
ルコール、エチルアルコール等金属塩化物の洗浄液以外
にも、ガスレーザ装置内のガスを交換するために一度減
圧にする際の圧力(0,1Torr)や送風ファンを回
転させてガスを流す際に温度が上昇する範囲(室温〜6
0℃)で沸騰する液体を使用することにより、容器内部
に残った洗浄液はガスの入替えや送風するというガスレ
ーザ装置の基本的な操作で簡単に気化し、装置外部に排
気できるため、再びレーザを発振するまでの時間を短縮
することができる。
する腐食生成物は装置内部に使用している金属部材のフ
ッ化物(FeF2゜NiF、、 Al2F、等)である
、これらのフッ化物は吸湿して固着するようなことはほ
とんどないため、洗浄液を吹付けるだけで容易に洗い流
すことができる。このとき使用する洗浄液は、メチルア
ルコール、エチルアルコール等金属塩化物の洗浄液以外
にも、ガスレーザ装置内のガスを交換するために一度減
圧にする際の圧力(0,1Torr)や送風ファンを回
転させてガスを流す際に温度が上昇する範囲(室温〜6
0℃)で沸騰する液体を使用することにより、容器内部
に残った洗浄液はガスの入替えや送風するというガスレ
ーザ装置の基本的な操作で簡単に気化し、装置外部に排
気できるため、再びレーザを発振するまでの時間を短縮
することができる。
次に、部品形状に適した吹出し口の一実施例を図面によ
って説明する。第2図は電極等の幅の広い部品用の洗浄
液吹出し口であり、電極2や電極支持台8に均等に洗浄
液を吹付けることができ、この吹出しロー本で幅の広い
部品をむらなく洗浄できる。第3図は送風ファン等回転
部品用の洗浄液吹出し口である。ファン3等の回転体を
洗浄する場合、低速で回転させながら洗浄液を吹付けれ
ば、−本の洗浄液吹出し口で全体で洗浄でき、第3図に
示すように吹出口6の先端が小さく形成された構造の吹
出し口6を用いることによりファン3が破損することも
ない。
って説明する。第2図は電極等の幅の広い部品用の洗浄
液吹出し口であり、電極2や電極支持台8に均等に洗浄
液を吹付けることができ、この吹出しロー本で幅の広い
部品をむらなく洗浄できる。第3図は送風ファン等回転
部品用の洗浄液吹出し口である。ファン3等の回転体を
洗浄する場合、低速で回転させながら洗浄液を吹付けれ
ば、−本の洗浄液吹出し口で全体で洗浄でき、第3図に
示すように吹出口6の先端が小さく形成された構造の吹
出し口6を用いることによりファン3が破損することも
ない。
また、他の一実施例を第4図によって説明する。
密閉容器1の容量が小さい場合や熱交換器4等の部品が
複雑な構造をしていたり、他の部品の影になり洗浄液を
吹付けにくい場合に、排出ロアを閉じたまま洗浄液吹出
し口6より洗浄液を密閉容器1がほぼ一杯になるまで入
れ、ファン3を回転させ洗浄液を循環させることによっ
て装置内部を洗浄できる。またゴミ取りネット11によ
り、洗浄液を循環させている間に洗浄液中に浮遊してい
るゴミを除去することができる0次にファン3を停止し
、排出ロアを開けて洗浄液を排出し、ゴミ取りネット1
1に捕捉されていたゴミを除去すれば装置を分解せずに
洗浄ができる。
複雑な構造をしていたり、他の部品の影になり洗浄液を
吹付けにくい場合に、排出ロアを閉じたまま洗浄液吹出
し口6より洗浄液を密閉容器1がほぼ一杯になるまで入
れ、ファン3を回転させ洗浄液を循環させることによっ
て装置内部を洗浄できる。またゴミ取りネット11によ
り、洗浄液を循環させている間に洗浄液中に浮遊してい
るゴミを除去することができる0次にファン3を停止し
、排出ロアを開けて洗浄液を排出し、ゴミ取りネット1
1に捕捉されていたゴミを除去すれば装置を分解せずに
洗浄ができる。
また他の一実施例を第5図によって説明する。
この実施例は密閉容器1の各部に洗浄液吹出し口挿入用
フランジ12を設け、洗浄時にだけ装置内部に洗浄液吹
出し口6を挿入して洗浄する。このような構成にした場
合、レーザ発振時にガスの流れを乱す突起物がなくなり
、レーザの発振に影響を与えずに装置内部の洗浄が可能
になる。
フランジ12を設け、洗浄時にだけ装置内部に洗浄液吹
出し口6を挿入して洗浄する。このような構成にした場
合、レーザ発振時にガスの流れを乱す突起物がなくなり
、レーザの発振に影響を与えずに装置内部の洗浄が可能
になる。
以上詳述したように本発明によれば、ガスレーザ装置の
洗浄液の吹出し口の排出口を設けることにより、装置を
分解せずに短時間で装置内部の洗浄をすることができる
。
洗浄液の吹出し口の排出口を設けることにより、装置を
分解せずに短時間で装置内部の洗浄をすることができる
。
第1図は本発明の基本的な構成図、第2図は幅の広い部
品用洗浄液吹出し口の構成図、第3図はファン用洗浄液
吹出し口の構成項、第4図は洗浄液を循環させて洗浄す
る場合の構成図、第5図は洗浄時だけ洗浄液吹出し口を
挿入する場合の構成図である。 1・・・密閉容器 2・・・電極第 図 第 図 第 図 第 図
品用洗浄液吹出し口の構成図、第3図はファン用洗浄液
吹出し口の構成項、第4図は洗浄液を循環させて洗浄す
る場合の構成図、第5図は洗浄時だけ洗浄液吹出し口を
挿入する場合の構成図である。 1・・・密閉容器 2・・・電極第 図 第 図 第 図 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ガスレーザ装置内に洗浄液の吹出し口とその廃液の
排出口とを設けてなる洗浄機構を有するガスレーザ装置
。 2、ガスレーザ装置内部のファン、電極、熱交換器等の
部品ごとに洗浄液吹出し口を設けた請求項(1)記載の
ガスレーザ装置。 3、洗浄液として、メチルアルコール、エチルアルコー
ル等炭素数10以下のアルコール類、アセトン等炭素数
10以下のケトン類、ジメチルエーテル等炭素数10以
下のエーテル類を使用する請求項(1)記載のガスレー
ザ装置の洗浄方法。 4、0.1Torrの圧力で沸点が60℃以下の液体を
洗浄液として使用する請求項(1)記載のガスレーザ装
置の洗浄方法。 5、ガスレーザ装置内に洗浄液を満たし、ファンを回転
させて洗浄液を循環させることにより、ガスレーザ装置
内部を洗浄する請求項(1)記載のガスレーザ装置の洗
浄方法。 6、洗浄液吹出し口の挿入口を有する請求項(1)記載
のガスレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2123043A JP2612085B2 (ja) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | ガスレーザ装置の洗浄装置および洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2123043A JP2612085B2 (ja) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | ガスレーザ装置の洗浄装置および洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0423376A true JPH0423376A (ja) | 1992-01-27 |
| JP2612085B2 JP2612085B2 (ja) | 1997-05-21 |
Family
ID=14850797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2123043A Expired - Lifetime JP2612085B2 (ja) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | ガスレーザ装置の洗浄装置および洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2612085B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04177886A (ja) * | 1990-11-13 | 1992-06-25 | Fanuc Ltd | ガスレーザ装置 |
| JP2003008112A (ja) * | 2001-06-20 | 2003-01-10 | Gigaphoton Inc | ガスレーザ装置用洗浄装置及び洗浄方法 |
| KR101525966B1 (ko) * | 2015-02-10 | 2015-06-05 | 홍진석 | 가스 레이저 장치의 세정방법 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01129856U (ja) * | 1988-02-26 | 1989-09-04 |
-
1990
- 1990-05-15 JP JP2123043A patent/JP2612085B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01129856U (ja) * | 1988-02-26 | 1989-09-04 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04177886A (ja) * | 1990-11-13 | 1992-06-25 | Fanuc Ltd | ガスレーザ装置 |
| JP2003008112A (ja) * | 2001-06-20 | 2003-01-10 | Gigaphoton Inc | ガスレーザ装置用洗浄装置及び洗浄方法 |
| KR101525966B1 (ko) * | 2015-02-10 | 2015-06-05 | 홍진석 | 가스 레이저 장치의 세정방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2612085B2 (ja) | 1997-05-21 |
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