JPH04269751A - 保管容器 - Google Patents
保管容器Info
- Publication number
- JPH04269751A JPH04269751A JP3030538A JP3053891A JPH04269751A JP H04269751 A JPH04269751 A JP H04269751A JP 3030538 A JP3030538 A JP 3030538A JP 3053891 A JP3053891 A JP 3053891A JP H04269751 A JPH04269751 A JP H04269751A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- storage container
- reticle
- container body
- stored
- container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、被保管物、例えば露光
用のレチクルやマスク（以下、レチクルという）を保管
する保管容器、特にレチクルを保管中にその表面に付着
している汚れを洗い流して除去できる保管容器に関する
。
用のレチクルやマスク（以下、レチクルという）を保管
する保管容器、特にレチクルを保管中にその表面に付着
している汚れを洗い流して除去できる保管容器に関する
。
【０００２】
【従来の技術】次に、被保管物、例えばレチクルを保管
する従来の保管容器について図２を参照しながら説明す
る。図２は、従来の保管容器を説明するための模式的側
断面図である。なお、本明細書においては同一部品、同
一材料等に対しては全図をとおして同じ符号を付与して
ある。
する従来の保管容器について図２を参照しながら説明す
る。図２は、従来の保管容器を説明するための模式的側
断面図である。なお、本明細書においては同一部品、同
一材料等に対しては全図をとおして同じ符号を付与して
ある。
【０００３】従来の保管容器は、図２に示すように、開
閉自在な扉２１ａを有する容器本体２１と、通気孔２２
ａ を点在させて容器本体２１内に配設された載置棚２
２と、塵埃と水分が極めて少ない気体、例えば窒素ガス
１３を貯蔵しているガスタンク（図示せず）に連通し、
容器本体２１内に窒素ガス１３を連続的に噴出するガス
導入管２３と、容器本体２１内から窒素ガス１３をその
外部に排出するガス排出管２４とを含んで構成していた
。
閉自在な扉２１ａを有する容器本体２１と、通気孔２２
ａ を点在させて容器本体２１内に配設された載置棚２
２と、塵埃と水分が極めて少ない気体、例えば窒素ガス
１３を貯蔵しているガスタンク（図示せず）に連通し、
容器本体２１内に窒素ガス１３を連続的に噴出するガス
導入管２３と、容器本体２１内から窒素ガス１３をその
外部に排出するガス排出管２４とを含んで構成していた
。
【０００４】かかる保管容器へ容器本体２１へのレチク
ル１１の保管は、レチクル１１を垂直に差し立てて収容
したホルダー１２を、容器本体２１内に水平状態で配設
した載置棚２２に載置した後、扉２１ａを閉めて容器本
体２１内を密閉し、そして、窒素ガス１３をガス導入管
２３から容器本体２１内に連続的に導入するようにして
行っている。
ル１１の保管は、レチクル１１を垂直に差し立てて収容
したホルダー１２を、容器本体２１内に水平状態で配設
した載置棚２２に載置した後、扉２１ａを閉めて容器本
体２１内を密閉し、そして、窒素ガス１３をガス導入管
２３から容器本体２１内に連続的に導入するようにして
行っている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】レチクル１１は、その
製作工程で使用したレジスト（図示せず）の残滓を溶解
して取り除くために、酸、例えば濃硫酸 （Ｈ２ＳＯ４
）中に数分間浸漬されるのが一般的である。この後、レ
チクル１１は、純水中に浸漬されて、その表面に付着し
ている硫酸が除去されることとなる。
製作工程で使用したレジスト（図示せず）の残滓を溶解
して取り除くために、酸、例えば濃硫酸 （Ｈ２ＳＯ４
）中に数分間浸漬されるのが一般的である。この後、レ
チクル１１は、純水中に浸漬されて、その表面に付着し
ている硫酸が除去されることとなる。
【０００６】ところが、このようにして製作したレチク
ル１１の表面に、極めて微量ではあるが硫酸が残り、か
かるレチクル１１をマスクとして使用した際に、このレ
チクル１１が受けた紫外線でその透明部の表面が変色し
、紫外線の透過率が低下することが明らかとなった。
ル１１の表面に、極めて微量ではあるが硫酸が残り、か
かるレチクル１１をマスクとして使用した際に、このレ
チクル１１が受けた紫外線でその透明部の表面が変色し
、紫外線の透過率が低下することが明らかとなった。
【０００７】レチクル１１の表面に残った硫酸は、純水
中にレチクル１１を長期間浸漬することで上記変色が発
生しない程度に除去可能であることがその後の調査によ
り判明したものの連続的に純水の供給と排水とが行える
、例えば、バスタブ（Ｂａｔｈｔｕｂ； 浴槽） 状を
した浸漬容器（図示せず）を新たに導入することが必要
であった。
中にレチクル１１を長期間浸漬することで上記変色が発
生しない程度に除去可能であることがその後の調査によ
り判明したものの連続的に純水の供給と排水とが行える
、例えば、バスタブ（Ｂａｔｈｔｕｂ； 浴槽） 状を
した浸漬容器（図示せず）を新たに導入することが必要
であった。
【０００８】このため、浸漬容器の導入費用と、浸漬容
器を設置するためのスペースがクリーンルーム内で追加
的に必要となる問題があった。本発明は、このような問
題を解消するためになされたものであって、その目的は
レチクルを保管中にその表面に付着している汚れを洗い
流して除去できる保管容器を提供することにある。
器を設置するためのスペースがクリーンルーム内で追加
的に必要となる問題があった。本発明は、このような問
題を解消するためになされたものであって、その目的は
レチクルを保管中にその表面に付着している汚れを洗い
流して除去できる保管容器を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記目的は、図１に示す
如く開閉自在な扉２１ａ を有し、被保管物１１を収納
して保管する容器本体２１と、供給された液体１４を霧
状にし、被保管物１１を保管した容器本体２１内に噴霧
する噴霧手段３１と、容器本体２１内に溜まった液体１
４を排出する排出手段３４とを含んで構成したことを特
徴とする保管容器で達成される。
如く開閉自在な扉２１ａ を有し、被保管物１１を収納
して保管する容器本体２１と、供給された液体１４を霧
状にし、被保管物１１を保管した容器本体２１内に噴霧
する噴霧手段３１と、容器本体２１内に溜まった液体１
４を排出する排出手段３４とを含んで構成したことを特
徴とする保管容器で達成される。
【００１０】
【作用】本発明の保管容器は、噴霧手段、例えば超音波
加湿器３１により容器本体２１内に液体、例えば純水１
４を霧状に噴霧するように構成している。したがって、
レチクル１１が保管されている容器本体２１内に純水１
４を超音波加湿器３１により霧状にして噴霧すれば、レ
チクル１１の表面は純水１４で濡らされて、レチクル１
１の表面に付着している汚れ、例えば硫酸は洗い流され
ることとなる。
加湿器３１により容器本体２１内に液体、例えば純水１
４を霧状に噴霧するように構成している。したがって、
レチクル１１が保管されている容器本体２１内に純水１
４を超音波加湿器３１により霧状にして噴霧すれば、レ
チクル１１の表面は純水１４で濡らされて、レチクル１
１の表面に付着している汚れ、例えば硫酸は洗い流され
ることとなる。
【００１１】このように本発明の保管容器は、図２によ
り説明した従来の保管容器が有するレチクル１１を保管
するという保管機能と、前記浸漬容器が有するレチクル
１１を純水１４に長時間浸漬して置けるという機能とを
兼ね備えることとなる。
り説明した従来の保管容器が有するレチクル１１を保管
するという保管機能と、前記浸漬容器が有するレチクル
１１を純水１４に長時間浸漬して置けるという機能とを
兼ね備えることとなる。
【００１２】したがって、本発明の保管容器は、レチク
ル１１の保管中にその表面に付着している硫酸を除去し
、従来の保管容器と前述した浸漬容器との導入を不要に
することとなる。
ル１１の保管中にその表面に付着している硫酸を除去し
、従来の保管容器と前述した浸漬容器との導入を不要に
することとなる。
【００１３】
【実施例】以下、被保管物、例えばレチクルを保管する
ための本発明の一実施例の保管容器について図１を参照
しながら説明する。図１は、本発明の一実施例の保管容
器を説明するための模式的側断面図である。
ための本発明の一実施例の保管容器について図１を参照
しながら説明する。図１は、本発明の一実施例の保管容
器を説明するための模式的側断面図である。
【００１４】本発明の一実施例の保管容器は、図２によ
り説明した従来の保管容器をベースにして構成したもの
であって、その構造は図１に示すように、開閉自在な扉
２１ａ を有する容器本体２１と、通水孔の機能をも合
わせ持つ通気孔２２ａ を点在させて容器本体２１内に
配設された載置棚２２と、純水タンク（図示せず）に連
通した給水管３２から供給された純水１４を霧状にして
噴霧管３３を介して容器本体２１内に噴霧する噴霧手段
、例えば超音波加湿器３１と、超音波加湿器３１により
容器本体２１内に噴霧され後に載置棚２２の通気孔２２
ａ から流れ落ちた純水１４を排水する排水管３４とで
構成したものである。
り説明した従来の保管容器をベースにして構成したもの
であって、その構造は図１に示すように、開閉自在な扉
２１ａ を有する容器本体２１と、通水孔の機能をも合
わせ持つ通気孔２２ａ を点在させて容器本体２１内に
配設された載置棚２２と、純水タンク（図示せず）に連
通した給水管３２から供給された純水１４を霧状にして
噴霧管３３を介して容器本体２１内に噴霧する噴霧手段
、例えば超音波加湿器３１と、超音波加湿器３１により
容器本体２１内に噴霧され後に載置棚２２の通気孔２２
ａ から流れ落ちた純水１４を排水する排水管３４とで
構成したものである。
【００１５】かくして、本発明の一実施例の保管容器の
載置棚２２にレチクル１１を垂直に収容したホルダー１
２を載置した後、扉２１ａ で密閉した容器本体２１内
に超音波加湿器３１により純水１４を霧状にして噴霧す
ると、霧状の純水１４がレチクル１１の表面に連続的に
付着するとともにその表面から流れ落ちて、レチクル１
１の表面に付着している汚れ、例えば硫酸は洗い流され
て除去されることとなる。
載置棚２２にレチクル１１を垂直に収容したホルダー１
２を載置した後、扉２１ａ で密閉した容器本体２１内
に超音波加湿器３１により純水１４を霧状にして噴霧す
ると、霧状の純水１４がレチクル１１の表面に連続的に
付着するとともにその表面から流れ落ちて、レチクル１
１の表面に付着している汚れ、例えば硫酸は洗い流され
て除去されることとなる。
【００１６】このように本発明の一実施例の保管容器は
、図２により説明した従来の保管容器が有するレチクル
１１を保管するという保管機能と、前述したバスタブ状
をした浸漬容器が有するレチクル１１を純水１４に長時
間浸漬して置けるという機能とを兼ね備えることとなる
。
、図２により説明した従来の保管容器が有するレチクル
１１を保管するという保管機能と、前述したバスタブ状
をした浸漬容器が有するレチクル１１を純水１４に長時
間浸漬して置けるという機能とを兼ね備えることとなる
。
【００１７】したがって、本発明の保管容器は、レチク
ル１１の保管中にその表面に付着している硫酸を除去し
、従来の保管容器と前述した浸漬容器との導入を不要に
するとともに、高価なクリーンルーム内における設置用
の占有面積を拡げることをも不要にすることとなる。
ル１１の保管中にその表面に付着している硫酸を除去し
、従来の保管容器と前述した浸漬容器との導入を不要に
するとともに、高価なクリーンルーム内における設置用
の占有面積を拡げることをも不要にすることとなる。
【００１８】
【発明の効果】前述したように本発明は、レチクルを保
管する機能と、レチクルの保管中にその表面の汚れを洗
い流す機能とを兼ね備えた保管容器を提供できる。した
がって、本発明の保管容器は、従来の保管容器と浸漬容
器との導入を不要とし、設備投資費用とクリーンルーム
の有効活用を可能にすることとなる。
管する機能と、レチクルの保管中にその表面の汚れを洗
い流す機能とを兼ね備えた保管容器を提供できる。した
がって、本発明の保管容器は、従来の保管容器と浸漬容
器との導入を不要とし、設備投資費用とクリーンルーム
の有効活用を可能にすることとなる。
【図１】は本発明の一実施例の保管容器を説明するため
の模式的側断面図、
の模式的側断面図、
【図２】は従来の保管容器を説明するための模式的側断
面図である。
面図である。
１１は、被保管物 （レチクル） 、
１２は、ホルダー、
１３は、気体 （窒素ガス） 、
１４は、純水、
２１は、容器本体、
２１ａ は、扉、
２２は、載置棚、
２２ａ は、通気孔、
２３は、ガス導入管、
２４は、ガス排出管、
３１は、噴霧手段 （超音波加湿器） 、３２は、給水
管、 ３３は、噴霧管、 ３４は、排水管をそれぞれ示す。
管、 ３３は、噴霧管、 ３４は、排水管をそれぞれ示す。
Claims (1)
- 【請求項１】 開閉自在な扉（２１ａ） を有し、被
保管物（１１）を収納して保管する容器本体（２１）と
、供給された液体（１４）を霧状にし、前記被保管物（
１１）を保管した前記容器本体（２１）内に噴霧する噴
霧手段（３１）と、前記容器本体（２１）内に溜まった
前記液体（１４）を排出する排出手段（３４）とを含ん
で構成したことを特徴とする保管容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3030538A JPH04269751A (ja) | 1991-02-26 | 1991-02-26 | 保管容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3030538A JPH04269751A (ja) | 1991-02-26 | 1991-02-26 | 保管容器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04269751A true JPH04269751A (ja) | 1992-09-25 |
Family
ID=12306577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3030538A Withdrawn JPH04269751A (ja) | 1991-02-26 | 1991-02-26 | 保管容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04269751A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008053392A (ja) * | 2006-08-24 | 2008-03-06 | Dainippon Printing Co Ltd | 収納ケースの洗浄方法 |
| US11226220B2 (en) | 2017-04-18 | 2022-01-18 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Ultrasonic transceiver |
| JP2024512099A (ja) * | 2021-04-01 | 2024-03-18 | ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト | ウェハ搬送装置 |
-
1991
- 1991-02-26 JP JP3030538A patent/JPH04269751A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008053392A (ja) * | 2006-08-24 | 2008-03-06 | Dainippon Printing Co Ltd | 収納ケースの洗浄方法 |
| US11226220B2 (en) | 2017-04-18 | 2022-01-18 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Ultrasonic transceiver |
| JP2024512099A (ja) * | 2021-04-01 | 2024-03-18 | ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト | ウェハ搬送装置 |
| US12308267B2 (en) | 2021-04-01 | 2025-05-20 | Siltronic Ag | Apparatus for transporting semiconductor wafers |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |