JPH04234825A - ベンゾトリフルオリド化合物の製造法 - Google Patents
ベンゾトリフルオリド化合物の製造法Info
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- JPH04234825A JPH04234825A JP3123246A JP12324691A JPH04234825A JP H04234825 A JPH04234825 A JP H04234825A JP 3123246 A JP3123246 A JP 3123246A JP 12324691 A JP12324691 A JP 12324691A JP H04234825 A JPH04234825 A JP H04234825A
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【産業上の利用分野】本発明は、金属水素化触媒の存在
下でパラ−ハロベンゾトリフルオリド化合を水素移動剤
と反応させることによるベンゾトリフルオリド化合物の
製造法に関する。
下でパラ−ハロベンゾトリフルオリド化合を水素移動剤
と反応させることによるベンゾトリフルオリド化合物の
製造法に関する。
【従来技術及び発明が解決しようとする課題】現在まで
、ベンゾトリフルオリドは取り扱い難い物質の使用を伴
う複雑な方法のみにより製造することができた。或る方
法では、安息香酸が四フッ化硫黄と反応させられ、別の
方法では、ベンゾトリクロリドがフッ化水素酸と反応さ
せられた。一層安全な反応体を使用する一層複雑でない
経路はベンゾトリフルオリド及び関連化合物を製造する
コストを低減する。米国特許第4,022,795号明
細書の実施例2に於いて、2−アミノベンゾトリフルオ
リドが5−クロロ−2−アミノベンゾトリフルオリドか
ら調製し得ることが示唆されている。反応は、水酸化ナ
トリウム、相間移動触媒(実施例2ではベンジルトリエ
チルアンモニウムクロリド)の如き表面活性剤、及び木
炭担持パラジウムを用いて水中で起こる。反応条件はベ
ンゼン環からハロゲンを除去し、またニトロ基をアミノ
基に還元するが、競争反応がまた起こり、この反応では
二つ以上の芳香族またはヘテロ芳香族の核が核の塩素原
子または臭素原子により前に占められた位置で一緒に結
合される。実施例中、これらの二量体は生成物の60%
以上を構成し得る。これらの望ましくない副生物の存在
はベンゾトリフルオリド化合物の収率を低下し、所望の
生成物を製造する費用を追加し、生成物の精製を複雑に
する。
、ベンゾトリフルオリドは取り扱い難い物質の使用を伴
う複雑な方法のみにより製造することができた。或る方
法では、安息香酸が四フッ化硫黄と反応させられ、別の
方法では、ベンゾトリクロリドがフッ化水素酸と反応さ
せられた。一層安全な反応体を使用する一層複雑でない
経路はベンゾトリフルオリド及び関連化合物を製造する
コストを低減する。米国特許第4,022,795号明
細書の実施例2に於いて、2−アミノベンゾトリフルオ
リドが5−クロロ−2−アミノベンゾトリフルオリドか
ら調製し得ることが示唆されている。反応は、水酸化ナ
トリウム、相間移動触媒(実施例2ではベンジルトリエ
チルアンモニウムクロリド)の如き表面活性剤、及び木
炭担持パラジウムを用いて水中で起こる。反応条件はベ
ンゼン環からハロゲンを除去し、またニトロ基をアミノ
基に還元するが、競争反応がまた起こり、この反応では
二つ以上の芳香族またはヘテロ芳香族の核が核の塩素原
子または臭素原子により前に占められた位置で一緒に結
合される。実施例中、これらの二量体は生成物の60%
以上を構成し得る。これらの望ましくない副生物の存在
はベンゾトリフルオリド化合物の収率を低下し、所望の
生成物を製造する費用を追加し、生成物の精製を複雑に
する。
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ベンゾト
リフルオリド化合物が金属水素化触媒の存在下でパラ−
ハロベンゾトリフルオリド化合物を水素移動剤と反応さ
せることにより製造し得ることを発見した。ベンゾトリ
フルオリド化合物を製造する幾つかの従来方法と異なり
、本発明の方法は複雑な操作または危険な出発物質の使
用を伴わない。米国特許第4,022,795号明細書
は、相間移動触媒の使用が二量体の生成を減少するのに
必要であることを示唆している(実施例1及び2を参照
のこと)が、本発明者らは本発明者らのパラ−ハロベン
ゾトリフルオリド化合物を使用すると、相間移動触媒の
存在が二量体の生成を減少するのに必要とされないこと
を見出した。少なくとも0.05重量%の金属水素化触
媒を使用することにより、本発明者らは米国特許第4,
022,795号明細書の反応に生成された型の望まし
くない二量体副生物の生成を大巾に減少し得る。本発明
者らの反応に於いて、固体触媒が二種の不混和性液体の
間にあり得る反応を触媒作用する必要があるとしても、
表面活性剤の不在下でさえも、反応が完全に進行するこ
とを、本発明者らは予想外にも見出した。本発明の方法
に使用されるパラ−ハロベンゾトリフルオリド化合物は
、一般式
リフルオリド化合物が金属水素化触媒の存在下でパラ−
ハロベンゾトリフルオリド化合物を水素移動剤と反応さ
せることにより製造し得ることを発見した。ベンゾトリ
フルオリド化合物を製造する幾つかの従来方法と異なり
、本発明の方法は複雑な操作または危険な出発物質の使
用を伴わない。米国特許第4,022,795号明細書
は、相間移動触媒の使用が二量体の生成を減少するのに
必要であることを示唆している(実施例1及び2を参照
のこと)が、本発明者らは本発明者らのパラ−ハロベン
ゾトリフルオリド化合物を使用すると、相間移動触媒の
存在が二量体の生成を減少するのに必要とされないこと
を見出した。少なくとも0.05重量%の金属水素化触
媒を使用することにより、本発明者らは米国特許第4,
022,795号明細書の反応に生成された型の望まし
くない二量体副生物の生成を大巾に減少し得る。本発明
者らの反応に於いて、固体触媒が二種の不混和性液体の
間にあり得る反応を触媒作用する必要があるとしても、
表面活性剤の不在下でさえも、反応が完全に進行するこ
とを、本発明者らは予想外にも見出した。本発明の方法
に使用されるパラ−ハロベンゾトリフルオリド化合物は
、一般式
【化2】
(式中、Xは塩素または臭素であり、且つ夫々のRは独
立に水素、ニトロ、及びアミノから選ばれる)を有する
。式中、Xは塩素であることが好ましい。何となれば、
これらの化合物はそれ程高価ではないからである。 また、式中、両方のR基は夫々水素であることが好まし
い。何となれば、それは有価な生成物であるベンゾトリ
フルオリド(BTFと称する)を生成するからであるか
らである。また、一つのR基が水素であり、且つその他
のR基がニトロであることが好ましい。何となれば、そ
れはまた有価な生成物であるm−アミノベンゾトリフル
オリド(MABTFと称する)を生成するからである。 更に、両方のR基はアミノ基であることが好ましい。何
となれば、それはまた有価な生成物である3,5−ジア
ミノベンゾトリフルオリド(DABTFと称する)を生
成するからであるからである。一般式の範囲内に含まれ
る出発物質の殆どは市販されている。例えば、4−クロ
ロ−3,5−ジニトロベンゾトリフルオリド(CDNB
TFと称する)及び4−クロロベンゾトリフルオリド(
PCBTFと称する)は大量に市販されており、3−ニ
トロ−4−クロロベンゾトリフルオリドは4−クロロベ
ンゾトリフルオリドをニトロ化することにより製造でき
、4−クロロ−3,5−ジアミノベンゾトリフルオリド
(CDABTFと称する)はCDNBTFの還元により
容易に入手し得る。パラ−ハロベンゾトリフルオリド化
合物は水素移動剤と反応させられ、この水素移動剤はギ
酸アルカリ金属塩、ギ酸アンモニウム、またはこれらの
混合物であり得る。ギ酸アルカリ金属塩またはギ酸アン
モニウムはそのまま使用でき、あるいはギ酸を塩基と反
応させることによりその場で生成し得る。ギ酸アルカリ
金属塩が好ましい。何となれば、それらは良く作用し、
それらは安価であり、反応中に生成される副生物が取り
扱い易いからである。ギ酸ナトリウムが特に好ましい。 何となれば、それは安価であるからである。化学量論量
の水素移動剤が存在して塩素を除去し、存在するニトロ
基をアミノ基に還元し得るが、反応の完結を確実にする
ためには10モル%まで過剰の水素移動剤使用すること
が好ましい。その反応は金属水素化触媒(これはVII
I族金属である)により触媒作用を受ける。このような
触媒の例は活性ニッケル並びに例えば、パラジウム、白
金、ロジウム、及びルテニウムの如き貴金属を含む。好
ましい触媒はカーボン基質担持パラジウム(Pd/C)
である。何となれば、それは非常に良好に作用すること
がわかったからである。多量の二量体副生物の生成を避
けるためには、ハロベンゾトリフルオリドの重量基準で
少なくとも約0.05重量%の触媒を使用することが必
要である。約1重量%より多い触媒が使用し得るが、通
常、小さい付加的な利益は追加の費用に見合わない。反
応体を融解することにより反応をおこなうことが可能で
あるが、反応を溶媒中で行うことが好ましい。反応物質
の幾つかは殆どの溶媒に比較的不溶性であるので、溶解
した出発物質が反応し別の固体の出発物質が溶解するま
で、それらは固体として存在してもよい。プ口トン性ま
たは非プロトン性の極性溶媒が使用し得る。好適な極性
の非プロトン性溶媒の例はジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、及びn−メチルピロリジノンを含む
。好適な極性のプロトン性溶媒の例は水並びにメタノー
ル、n−オクタノール及びジエチレングリコールの如き
アルコールを含む。溶媒は、溶媒またはベンゾトリフル
オリド化合物のいずれかを容易に沸騰し除去するように
ベンゾトリフルオリド化合物生成物とは沸点で充分に異
なることが好ましい。出発物質がニトロ−ハロベンゾト
リフルオリドである場合には、溶媒は水またはC3まで
のアルカノールであることが好ましい。何となれば、ア
ミノベンゾトリフルオリド生成物は溶媒よりも高い沸点
を有し、溶媒が蒸留により容易に分離し得るからである
。出発物質がPCBTFである場合には、溶媒はジエチ
レングリコールまたはn−オクタノールであることが好
ましい。何となれば、ベンゾトリフルオリド化合物が留
去でき、それにより溶媒から分離し得るからである。あ
らゆる量の溶媒が使用し得るが、ハロベンゾトリフルオ
リド化合物1重量部に対して約5〜約20重量部の溶媒
の比を使用することが好ましい。反応は、溶媒が存在す
る場合には、反応体をほぼ室温〜ほぼ溶媒の沸点の間の
温度に加熱することにより進行する。反応体は約60〜
約90℃に加熱されることが好ましい。反応混合物のp
Hは重要ではないが、それは通常塩基性である。カーボ
ン担持パラジウム触媒が使用される場合、反応混合物を
窒素の如き不活性雰囲気で覆って空気中のパラジウムの
発火を防止することが好ましい。反応は、何時それが完
結されるかを測定するためにガスクロマトグラフィーに
より監視することができる。ベンゾトリフルオリド生成
物は、種々の製品を製造するのに使用し得る。例えば、
ジアミノベンゾトリフルオリドは特殊ポリマーを製造す
るのに使用でき、メタ−アミノベンゾトリフルオリド及
びベンゾトリフルオリドは農薬及び除草剤を製造するの
に使用でき、ベンゾトリフルオリドは医薬品を製造する
のに使用できる。
立に水素、ニトロ、及びアミノから選ばれる)を有する
。式中、Xは塩素であることが好ましい。何となれば、
これらの化合物はそれ程高価ではないからである。 また、式中、両方のR基は夫々水素であることが好まし
い。何となれば、それは有価な生成物であるベンゾトリ
フルオリド(BTFと称する)を生成するからであるか
らである。また、一つのR基が水素であり、且つその他
のR基がニトロであることが好ましい。何となれば、そ
れはまた有価な生成物であるm−アミノベンゾトリフル
オリド(MABTFと称する)を生成するからである。 更に、両方のR基はアミノ基であることが好ましい。何
となれば、それはまた有価な生成物である3,5−ジア
ミノベンゾトリフルオリド(DABTFと称する)を生
成するからであるからである。一般式の範囲内に含まれ
る出発物質の殆どは市販されている。例えば、4−クロ
ロ−3,5−ジニトロベンゾトリフルオリド(CDNB
TFと称する)及び4−クロロベンゾトリフルオリド(
PCBTFと称する)は大量に市販されており、3−ニ
トロ−4−クロロベンゾトリフルオリドは4−クロロベ
ンゾトリフルオリドをニトロ化することにより製造でき
、4−クロロ−3,5−ジアミノベンゾトリフルオリド
(CDABTFと称する)はCDNBTFの還元により
容易に入手し得る。パラ−ハロベンゾトリフルオリド化
合物は水素移動剤と反応させられ、この水素移動剤はギ
酸アルカリ金属塩、ギ酸アンモニウム、またはこれらの
混合物であり得る。ギ酸アルカリ金属塩またはギ酸アン
モニウムはそのまま使用でき、あるいはギ酸を塩基と反
応させることによりその場で生成し得る。ギ酸アルカリ
金属塩が好ましい。何となれば、それらは良く作用し、
それらは安価であり、反応中に生成される副生物が取り
扱い易いからである。ギ酸ナトリウムが特に好ましい。 何となれば、それは安価であるからである。化学量論量
の水素移動剤が存在して塩素を除去し、存在するニトロ
基をアミノ基に還元し得るが、反応の完結を確実にする
ためには10モル%まで過剰の水素移動剤使用すること
が好ましい。その反応は金属水素化触媒(これはVII
I族金属である)により触媒作用を受ける。このような
触媒の例は活性ニッケル並びに例えば、パラジウム、白
金、ロジウム、及びルテニウムの如き貴金属を含む。好
ましい触媒はカーボン基質担持パラジウム(Pd/C)
である。何となれば、それは非常に良好に作用すること
がわかったからである。多量の二量体副生物の生成を避
けるためには、ハロベンゾトリフルオリドの重量基準で
少なくとも約0.05重量%の触媒を使用することが必
要である。約1重量%より多い触媒が使用し得るが、通
常、小さい付加的な利益は追加の費用に見合わない。反
応体を融解することにより反応をおこなうことが可能で
あるが、反応を溶媒中で行うことが好ましい。反応物質
の幾つかは殆どの溶媒に比較的不溶性であるので、溶解
した出発物質が反応し別の固体の出発物質が溶解するま
で、それらは固体として存在してもよい。プ口トン性ま
たは非プロトン性の極性溶媒が使用し得る。好適な極性
の非プロトン性溶媒の例はジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、及びn−メチルピロリジノンを含む
。好適な極性のプロトン性溶媒の例は水並びにメタノー
ル、n−オクタノール及びジエチレングリコールの如き
アルコールを含む。溶媒は、溶媒またはベンゾトリフル
オリド化合物のいずれかを容易に沸騰し除去するように
ベンゾトリフルオリド化合物生成物とは沸点で充分に異
なることが好ましい。出発物質がニトロ−ハロベンゾト
リフルオリドである場合には、溶媒は水またはC3まで
のアルカノールであることが好ましい。何となれば、ア
ミノベンゾトリフルオリド生成物は溶媒よりも高い沸点
を有し、溶媒が蒸留により容易に分離し得るからである
。出発物質がPCBTFである場合には、溶媒はジエチ
レングリコールまたはn−オクタノールであることが好
ましい。何となれば、ベンゾトリフルオリド化合物が留
去でき、それにより溶媒から分離し得るからである。あ
らゆる量の溶媒が使用し得るが、ハロベンゾトリフルオ
リド化合物1重量部に対して約5〜約20重量部の溶媒
の比を使用することが好ましい。反応は、溶媒が存在す
る場合には、反応体をほぼ室温〜ほぼ溶媒の沸点の間の
温度に加熱することにより進行する。反応体は約60〜
約90℃に加熱されることが好ましい。反応混合物のp
Hは重要ではないが、それは通常塩基性である。カーボ
ン担持パラジウム触媒が使用される場合、反応混合物を
窒素の如き不活性雰囲気で覆って空気中のパラジウムの
発火を防止することが好ましい。反応は、何時それが完
結されるかを測定するためにガスクロマトグラフィーに
より監視することができる。ベンゾトリフルオリド生成
物は、種々の製品を製造するのに使用し得る。例えば、
ジアミノベンゾトリフルオリドは特殊ポリマーを製造す
るのに使用でき、メタ−アミノベンゾトリフルオリド及
びベンゾトリフルオリドは農薬及び除草剤を製造するの
に使用でき、ベンゾトリフルオリドは医薬品を製造する
のに使用できる。
【実施例】以下の実施例は本発明を更に説明する。
実施例1
メタノール中でギ酸ナトリウムを使用するPCBTFの
水素化脱塩素によるBTFの調製 20mlの丸底フラスコに、1.01gのPCBTF、
0.56gのギ酸ナトリウム、及び10mlのメタノー
ルを仕込んだ。フラスコを窒素雰囲気でパージした後、
10%のPd/C0.10gを添加し、反応混合物を油
浴中で撹拌しながら加熱した(45〜95℃、1.5時
間)。反応混合物をメタノールで希釈し濾過した後、ガ
スクロマトグラフィー(GC)分折はBTFの収率98
.3%を示した。 実施例2 メタノール中でギ酸アンモニウムを使用するPCBTF
の水素化脱塩素によるBTFの調製 ギ酸ナトリウムに代えてギ酸アンモニウム(0.50g
)を使用して上記の実験を行った。67〜71℃(浴温
度)で1.1時間後に、99.5%の収率を測定した。 実施例3 異なる溶媒及び反応条件を使用して実施例1を繰り返し
た。結果を下記の表に要約する。 実施例4 ジエチレングリコール中でギ酸ナトリウムを使用するP
CBTFの水素化脱塩素によるBTFの調製磁気撹拌器
及び冷却器を備えた500mlの丸底フラスコに、PC
BTF20.07g、ギ酸ナトリウム32.16g、及
びジエチレングリコール200gを仕込み、窒素でパー
ジした。その後、これに10%のPd/C1.0111
gを添加し、フラスコを予熱油浴中に浸積し、60〜6
6℃で10時間撹拌した。室温に冷却した後、フラスコ
から蒸留し、水アスピレーター圧力での蒸留によりBT
F11.0g(収率68.1%、GCによる純度96.
0%)を集めた。その後、新しいPCBTF(20.6
g)及び新しいギ酸ナトリウム(30.4g)を添加す
ることにより、反応混合物を再使用した。 18.5時間加熱(60〜90℃)した後同様の蒸留に
よりBTF11.02g(収率66.1%、GCによる
純度91.1%)を回収した。反応混合物からの触媒は
、その後、まずそれを濾過しメタノール(4X100m
l)、次いで水(4X100ml)、続いてメタノール
(4X100ml)で洗浄し、次いで充分な減圧下で乾
燥する(約0.5mmHg、7時間、0.97g回収)
ことにより3回再使用した。その後、これをPCBTF
(10.05g)、ギ酸ナトリウム(16.22g)、
及びジエチレングリコール(100ml)と共に250
mlのフラスコに仕込み、80〜84℃で7.4時間加
熱した。上記と同様にして、蒸留によりBTF5.94
g(収率73.1%、GCによる純度96.5%)を回
収した。 実施例5 MABTFの調製 m−ニトロ−p−クロロベンゾトリフルオリド(MNP
CBTF)を使用して実施例1を繰り返した。下記の表
は条件及び結果を示す。 1 m−ニトロベンゾトリフルオリド中間体2 G
C、内部標準 3 前の実験からの再使用触媒 4 アルドリッチ・ケミカル・カンパニイにより販売
されるトリカプリルメチルアンモニウムクロリド。これ
は相間移動触媒であり、それ故この実験は本発明の範囲
外である。 実施例6 水性ギ酸ナトリウムを使用するMABTFの調製6.6
当量のギ酸ナトリウムを使用して実施例1を繰り返した
。
水素化脱塩素によるBTFの調製 20mlの丸底フラスコに、1.01gのPCBTF、
0.56gのギ酸ナトリウム、及び10mlのメタノー
ルを仕込んだ。フラスコを窒素雰囲気でパージした後、
10%のPd/C0.10gを添加し、反応混合物を油
浴中で撹拌しながら加熱した(45〜95℃、1.5時
間)。反応混合物をメタノールで希釈し濾過した後、ガ
スクロマトグラフィー(GC)分折はBTFの収率98
.3%を示した。 実施例2 メタノール中でギ酸アンモニウムを使用するPCBTF
の水素化脱塩素によるBTFの調製 ギ酸ナトリウムに代えてギ酸アンモニウム(0.50g
)を使用して上記の実験を行った。67〜71℃(浴温
度)で1.1時間後に、99.5%の収率を測定した。 実施例3 異なる溶媒及び反応条件を使用して実施例1を繰り返し
た。結果を下記の表に要約する。 実施例4 ジエチレングリコール中でギ酸ナトリウムを使用するP
CBTFの水素化脱塩素によるBTFの調製磁気撹拌器
及び冷却器を備えた500mlの丸底フラスコに、PC
BTF20.07g、ギ酸ナトリウム32.16g、及
びジエチレングリコール200gを仕込み、窒素でパー
ジした。その後、これに10%のPd/C1.0111
gを添加し、フラスコを予熱油浴中に浸積し、60〜6
6℃で10時間撹拌した。室温に冷却した後、フラスコ
から蒸留し、水アスピレーター圧力での蒸留によりBT
F11.0g(収率68.1%、GCによる純度96.
0%)を集めた。その後、新しいPCBTF(20.6
g)及び新しいギ酸ナトリウム(30.4g)を添加す
ることにより、反応混合物を再使用した。 18.5時間加熱(60〜90℃)した後同様の蒸留に
よりBTF11.02g(収率66.1%、GCによる
純度91.1%)を回収した。反応混合物からの触媒は
、その後、まずそれを濾過しメタノール(4X100m
l)、次いで水(4X100ml)、続いてメタノール
(4X100ml)で洗浄し、次いで充分な減圧下で乾
燥する(約0.5mmHg、7時間、0.97g回収)
ことにより3回再使用した。その後、これをPCBTF
(10.05g)、ギ酸ナトリウム(16.22g)、
及びジエチレングリコール(100ml)と共に250
mlのフラスコに仕込み、80〜84℃で7.4時間加
熱した。上記と同様にして、蒸留によりBTF5.94
g(収率73.1%、GCによる純度96.5%)を回
収した。 実施例5 MABTFの調製 m−ニトロ−p−クロロベンゾトリフルオリド(MNP
CBTF)を使用して実施例1を繰り返した。下記の表
は条件及び結果を示す。 1 m−ニトロベンゾトリフルオリド中間体2 G
C、内部標準 3 前の実験からの再使用触媒 4 アルドリッチ・ケミカル・カンパニイにより販売
されるトリカプリルメチルアンモニウムクロリド。これ
は相間移動触媒であり、それ故この実験は本発明の範囲
外である。 実施例6 水性ギ酸ナトリウムを使用するMABTFの調製6.6
当量のギ酸ナトリウムを使用して実施例1を繰り返した
。
【化3】
1本発明の範囲外
2 5.6当量のHCOONaを、この実験に使用し
た。 MABTF反応平衡 二つの反応、即ちアリール塩素の水添分解及びニトロ基
からアミノ基への還元が起こっている。個々の反応式は
、下記のとおりである。
た。 MABTF反応平衡 二つの反応、即ちアリール塩素の水添分解及びニトロ基
からアミノ基への還元が起こっている。個々の反応式は
、下記のとおりである。
【化4】
こうして、全反応式は下記のとおりである。
【化5】
実施例7
MNPCBTFの還元/水素化脱塩素によるMABTF
の調製 冷却器を備えた250mlの1口フラスコに、MNPC
BTF25.09g(マーシャルトン(Marshal
lton)、111.2ミリモル)、ギ酸ナトリウム5
0.24g(738.7ミリモル、6.6モル当量)を
仕込んだ。その後、これを窒素でパージし、10%のP
d/C(アルドリッチ(Aldrich))2.57g
(10.2重量%)を添加し、反応フラスコを79℃の
予熱油浴中に浸積した。還流下に2.3時間攪拌した後
、反応混合物を室温に冷却し、水及び塩化メチレン各1
50mlを攪拌しながら添加した。反応混合物を濾過し
て触媒を回収し、これを塩化メチレン3X100mlで
洗浄し、洗浄物を濾液に添加した。層を分離し、水層を
更に100mlの塩化メチレンで抽出した。内部標準と
してn−ヘキサデカンを使用するガスクロマトグラフィ
ーによる抽出物の分析は収率87.8%に相当するMA
BTFの存在を示した。抽出物を無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濾過し、回転エバポレーターでストリッピング
してMABTF17.21g(収率96.0%、gc
istdによる純度97.5%)を得た。 実施例8 水中のCDABTFの水素化脱塩素によるDABTFの
調製 水10mlにCDABTF1.0g(4.76ミリモル
)を添加した。固体のギ酸ナトリウム(0.39g、
5.73ミリモル)を活性炭担持10%パラジウム0
.1gと共に添加した。混合物を完結するまで90℃で
加熱した。触媒を濾別し、酢酸エチルで洗浄した。水層
を酢酸エチルで2回抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒の除去に、粗DABTF0.76g(91.5
%)を単離した。融点89〜90℃。 実施例9 メタノール中のCDABTFの水素化脱塩素によるDA
BTFの調製 メタノール100mlにCDABTF10.0g(0.
0476モル)を添加した。固体のギ酸ナトリウム(8
.1g、0.119ミリモル)を活性炭担持10%パラ
ジウム1.0gと共に添加した。混合物を完結するまで
70℃で加熱し、水200mlを添加して塩を溶解した
。触媒を濾別し、トルエンで洗浄した。水層をトルエン
で抽出し、合わせた抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒の除去後に、粗DABTF6.75g(80.
5%)を単離した。
の調製 冷却器を備えた250mlの1口フラスコに、MNPC
BTF25.09g(マーシャルトン(Marshal
lton)、111.2ミリモル)、ギ酸ナトリウム5
0.24g(738.7ミリモル、6.6モル当量)を
仕込んだ。その後、これを窒素でパージし、10%のP
d/C(アルドリッチ(Aldrich))2.57g
(10.2重量%)を添加し、反応フラスコを79℃の
予熱油浴中に浸積した。還流下に2.3時間攪拌した後
、反応混合物を室温に冷却し、水及び塩化メチレン各1
50mlを攪拌しながら添加した。反応混合物を濾過し
て触媒を回収し、これを塩化メチレン3X100mlで
洗浄し、洗浄物を濾液に添加した。層を分離し、水層を
更に100mlの塩化メチレンで抽出した。内部標準と
してn−ヘキサデカンを使用するガスクロマトグラフィ
ーによる抽出物の分析は収率87.8%に相当するMA
BTFの存在を示した。抽出物を無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、濾過し、回転エバポレーターでストリッピング
してMABTF17.21g(収率96.0%、gc
istdによる純度97.5%)を得た。 実施例8 水中のCDABTFの水素化脱塩素によるDABTFの
調製 水10mlにCDABTF1.0g(4.76ミリモル
)を添加した。固体のギ酸ナトリウム(0.39g、
5.73ミリモル)を活性炭担持10%パラジウム0
.1gと共に添加した。混合物を完結するまで90℃で
加熱した。触媒を濾別し、酢酸エチルで洗浄した。水層
を酢酸エチルで2回抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒の除去に、粗DABTF0.76g(91.5
%)を単離した。融点89〜90℃。 実施例9 メタノール中のCDABTFの水素化脱塩素によるDA
BTFの調製 メタノール100mlにCDABTF10.0g(0.
0476モル)を添加した。固体のギ酸ナトリウム(8
.1g、0.119ミリモル)を活性炭担持10%パラ
ジウム1.0gと共に添加した。混合物を完結するまで
70℃で加熱し、水200mlを添加して塩を溶解した
。触媒を濾別し、トルエンで洗浄した。水層をトルエン
で抽出し、合わせた抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒の除去後に、粗DABTF6.75g(80.
5%)を単離した。
Claims (21)
- 【請求項1】 一般式 【化1】 (式中、Xは塩素または臭素であり、且つ夫々のRは独
立に水素、ニトロ、及びアミノから選ばれる)を有する
パラ−ハロベンゾトリフルオリド化合物を相間移動触媒
の不在下で、且つ上記のパラ−ハロベンゾトリフルオリ
ド化合物の重量基準で少なくとも約0.05%のVII
I族金属水素化触媒の存在下でギ酸アルカリ金属塩、ギ
酸アンモニウム、及びこれらの混合物からなる群から選
ばれた水素移動剤と反応させることを特徴とするベンゾ
トリフルオリド化合物の製造法。 - 【請求項2】 Xが塩素である請求項1に記載の方法
。 - 【請求項3】 一つのRが水素であり、その他のRが
ニトロである請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 水またはC3までのアルカノールが上
記の反応中に存在する請求項3に記載の方法。 - 【請求項5】 両方のRが水素である請求項1に記載
の方法。 - 【請求項6】 ジエチレングリコールまたはn−オク
タノールが上記の反応中に存在する請求項5に記載の方
法。 - 【請求項7】 両方のRがアミノである請求項1に記
載の方法。 - 【請求項8】 水またはC3までのアルカノールが上
記の反応中に存在する請求項7に記載の方法。 - 【請求項9】 極性溶媒が上記の反応中に存在する請
求項1に記載の方法。 - 【請求項10】 上記のパラ−ハロベンゾトリフルオ
リド化合物対上記の溶媒の重量比が約1対約5〜20で
ある請求項9に記載の方法。 - 【請求項11】 上記のVIII族金属水素化触媒が
貴金属触媒である請求項1に記載の方法。 - 【請求項12】 上記の貴金属触媒がカーボン担持パ
ラジウムである請求項11に記載の方法。 - 【請求項13】 上記の触媒の量が上記のパラ−ハロ
ベンゾトリフルオリド化合物の重量基準で約0.05〜
約1重量%である請求項11に記載の方法。 - 【請求項14】 上記の反応が約60〜約90℃の温
度で行われる請求項1に記載の方法。 - 【請求項15】 上記の水素移動剤がギ酸ナトリウム
である請求項1に記載の方法。 - 【請求項16】(A)(1)パラ−クロロベンゾトリフ
ルオリド; (2)少なくともほぼ化学量論量のギ酸アルカリ金属塩
; (3)上記のパラ−クロロベンゾトリフルオリドの重量
基準で約0.05〜約1重量%のVIII族金属触媒;
及び (4)上記のパラ−クロロベンゾトリフルオリドに対す
る重量比で約5〜20の極性溶媒;を含む組成物を形成
し、ついで (B)上記の組成物を室温〜上記の溶媒の沸点の間の温
度で加熱することを特徴とする相間移動触媒の不在下の
ベンゾトリフルオリドの製造法。 - 【請求項17】 上記のVIII族金属触媒がカーボ
ン担持パラジウムである請求項16に記載の方法。 - 【請求項18】(A)(1)3−ニトロ−4−クロロベ
ンゾトリフルオリド; (2)少なくとも化学量論量のギ酸アルカリ金属塩;(
3)上記の3−ニトロ−4−クロロベンゾトリフルオリ
ドの重量基準で0.05〜約1重量%のVIII族金属
触媒;及び (4)上記の3−ニトロ−4−クロロベンゾトリフルオ
リドに対する重量比で約5〜約20の極性溶媒;を含む
組成物を形成し、ついで (B)上記の組成物を室温〜上記の溶媒の沸点の間の温
度で加熱することを特徴とする相間移動触媒の不在下の
メタ−アミノベンゾトリフルオリドの製造法。 - 【請求項19】 上記のVIII族金属触媒がカーボ
ン担持パラジウムである請求項18に記載の方法。 - 【請求項20】(A)(1)4−クロロー3,5−ジア
ミノベンゾトリフルオリド; (2)少なくとも化学量論量のギ酸アルカリ金属塩;(
3)上記の4−クロロ−3,5−ジアミノベンゾトリフ
ルオリドの重量基準で約0.05〜約1重量%のVII
I族金属触媒;及び (4)上記の4−クロロ−3,5−ジアミノベンゾトリ
フルオリドに対する重量比で約5〜約20の極性溶媒;
を含む組成物を形成し、ついで (B)上記の組成物を室温〜上記の溶媒の沸点の間の温
度で加熱することを特徴とする相移動触媒の不在下の3
,5−ジアミノベンゾトリフルオリドの製造法。 - 【請求項21】 上記のVIII族金属触媒がカーボ
ン担持パラジウムである請求項20に記載の方法。
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|---|---|---|---|
| US48816190A | 1990-03-05 | 1990-03-05 | |
| US488161 | 1995-06-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04234825A true JPH04234825A (ja) | 1992-08-24 |
Family
ID=23938562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3123246A Pending JPH04234825A (ja) | 1990-03-05 | 1991-03-05 | ベンゾトリフルオリド化合物の製造法 |
Country Status (2)
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|---|---|
| JP (1) | JPH04234825A (ja) |
| CA (1) | CA2037517A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015013832A (ja) * | 2013-07-05 | 2015-01-22 | 日立化成株式会社 | 芳香族化合物の製造方法及び有機エレクトロニクス材料 |
| JP2018012725A (ja) * | 2017-10-04 | 2018-01-25 | 日立化成株式会社 | 芳香族化合物の製造方法及び有機エレクトロニクス材料 |
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|---|---|---|---|---|
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1991
- 1991-03-04 CA CA002037517A patent/CA2037517A1/en not_active Abandoned
- 1991-03-05 JP JP3123246A patent/JPH04234825A/ja active Pending
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|---|---|
| CA2037517A1 (en) | 1991-09-06 |
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