JPH0423737B2 - - Google Patents

Description

請求の範囲 １ 第１及び第２オリフイスを有する少なくとも
１個のチヤンバと、研究用に粒子を通す流体通路
用の孔を有する粒子研究装置のフローセルから気
泡を除去する方法であつて、無粒子液を前記チヤ
ンバの前記第１オリフイスを経て注入し、前記チ
ヤンバ内に無粒子液の乱流を形成し、 前記無粒子液の乱流を前記チヤンバの前記第２
オリフイスを経て排出させることを特徴とする粒
子研究装置のフローセルから気泡を除去する方
法。

２ 前記注入及び排出ステツプは前記第１及び第
２オリフイス間に差圧を供給することにより生じ
させることを特徴とする請求の範囲１記載の方
法。

３ 前記無粒子液の乱流を前記第２オリフイスを
経て排出する前記ステツプは前記第２オリフイス
に負圧を供給することにより生じさせることを特
徴とする請求の範囲２記載の方法。

４ 無粒子液を前記第１オリフイスを経て注入す
る前記ステツプは前記液を正圧で注入することに
より生じさせることを特徴とする請求の範囲３記
載の方法。

５ 前記乱流の形成は前記注入された無粒子液の
流れの方向をその初期流れ方向から変えることに
より行うことを特徴とする請求の範囲１記載の方
法。

６ 前記フローセルは２個のチヤンバ、第１及び
第２チヤンバ、を具え、前記第１チヤンバは前記
第２チヤンバの上方に配置され、前記無粒子液の
乱流は前記第２チヤンバ内に形成し、更に無粒子
液を前記第１チヤンバの前記第１オリフイスを経
て注入するステツプと、 前記無粒子液の流れを前記第１チヤンバの前記
第２オリフイスを経て排出させるステツプとを含
むことを特徴とする請求の範囲１記載の方法。

７ 第１オリフイスと排出オリフイスを有する第
１、上部、チヤンバ及び第１及び第２オリフイス
を有する第２チヤンバと、研究用に粒子懸濁液を
通す流体通路用の孔を有する粒子研究装置のフロ
ーセルから気泡を除去する方法であつて、 無粒子液を前記第１及び第２チヤンバの前記第
１オリフイスを経て前記チヤンバ内に注入して前
記チヤンバ内の気泡を除去し、 前記液と気泡を前記第１チヤンバの前記排出オ
リフイスを経て排出させることを特徴とする粒子
研究装置のフローセルから気泡を除去する方法。

８ 前記第１チヤンバの前記排出オリフイスは大
気圧に解放することを特徴とする請求の範囲７記
載の方法。

９ 第１及び第２オリフイスを有する少なくとも
１個のチヤンバと研究用に粒子懸濁液を通す流体
通路用の孔を有する粒子研究装置のフローセルか
ら破片屑及び堆積物を含む異物を除去する方法で
あつて、 ガスと液体の混合物を前記第１オリフイスを経
て前記チヤンバ内に注入して前記１つのチヤンバ
内の異物を除去し、 前記混合物と異物を前記第２オリフイスを経て
排出させることを特徴とする粒子研究装置のフロ
ーセルから異物を除去する方法。

１０ 前記注入及び排出ステツプは前記第１及び
第２オリフイス間に差圧を供給することにより生
じさせることを特徴とする請求の範囲９記載の方
法。

１１ 前記混合物及び異物を前記第２オリフイス
を経て排出させる前記ステツプは前記第２オリフ
イスに負圧を供給することにより生じさせること
を特徴とする請求の範囲１０記載の方法。

１２ 前記混合物を前記第１オリフイスを経て注
入する前記ステツプは前記混合物を正圧で注入す
ることにより生じさせることを特徴とする請求の
範囲９記載の方法。

１３ 前記注入ステツプは堆積物を主として前記
チヤンバの壁面から除去することを特徴とする請
求の範囲９記載の方法。

１４ 前記注入ステツプは前記チヤンバの孔から
及び主としてその口腔部から破片屑を除去するこ
とを特徴とする請求の範囲９記載の方法。

１５ 前記注入ステツプは前記チヤンバの孔から
及び主としてその口腔部から破片屑も除去するこ
とを特徴とする請求の範囲１３記載の方法。

１６ 前記ガスと液体の混合物はこれらが前記チ
ヤンバに入るときに液滴を形成することを特徴と
する請求の範囲９記載の方法。

１７ 第１オリフイスを有する少なくとも１個の
チヤンバと、研究用に粒子懸濁液を通す流体通路
用の孔を有し、前記孔は前記チヤンバに近接配置
された第１端部と前記チヤンバから離れて配置さ
れた第２端部を有している粒子研究装置のフロー
セルから破片屑及び堆積物を含む異物を除去する
方法であつて、 ガスと液体の混合物を前記第１オリフイスを経
て前記１つのチヤンバに注入して： 破片屑を主として前記孔から除去し、且つ堆積
物を主として前記孔の壁面から除去し、 前記混合物と異物を前記孔の第２端部を経て排
出させることを特徴とする粒子研究装置のフロー
セルから異物を除去する方法。

１８ 前記フローセルは２個チヤンバ、第１及び
第２チヤンバを具え、前記注入及び排出の両ステ
ツプは前記第１及び第２チヤンバの間で交互に行
うことを特徴とする請求の範囲１７記載の方法。

１９ 前記第１チヤンバは前記第２チヤンバの上
方に配置されており、前記両チヤンバ間で交互に
行う注入及び排出ステツプは前記第２チヤンバに
対し始めることを特徴とする請求の範囲１７記載
の方法。

２０ 前記チヤンバは排出オリフイスを含み、前
記排出ステツプは前記孔の第２端部及び前記排出
オリフイスを経て行うことを特徴とする請求の範
囲１７記載の方法。

２１ 前記排出ステツプは前記孔の第２端部及び
前記排出オリフイスを経て同時に行うことを特徴
とする請求の範囲２０記載の方法。

２２ 前記ガスと液体の混合物はこれらが前記チ
ヤンバに入るときに液滴を形成することを特徴と
する請求の範囲１７記載の方法。

２３ 第１オリフイスを有する少なくとも１個の
チヤンバと、研究用に粒子懸濁液を通す流体通路
用の孔を有し、前記孔は前記チヤンバに近接配置
された第１端部と前記チヤンバから離れて配置さ
れた第２端部を有している粒子研究装置のフロー
セルから破片屑及び堆積物を含む異物を除去する
方法であつて、 ガスを前記第１オリフイスを経て前記１つのチ
ヤンバ内に注入して： チヤンバ内の異物を除去し、破片屑を前記孔か
ら除去し、且つ堆積物を前記孔の壁面から除去
し、且つ 前記ガスと異物を前記孔の第２端部を経て排出
させることを特徴とする粒子研究装置のフローセ
ルから異物を除去する方法。

２４ 前記フローセルは２個チヤンバ、第１及び
第２チヤンバを具え、前記注入及び排出の両ステ
ツプは前記第１及び第２チヤンバの間で交互に行
うことを特徴とする請求の範囲２３記載の方法。

２５ 前記第１チヤンバは前記第２チヤンバの上
方に配置されており、前記両チヤンバ間で交互に
行う注入及び排出ステツプは前記第２チヤンバに
対し始めることを特徴とする請求の範囲２４記載
の方法。

２６ 前記チヤンバは排出オリフイスを含み、前
記排出ステツプは前記孔の第２端部及び前記排出
オリフイスを経て行うことを特徴とする請求の範
囲２３記載の方法。

２７ 前記排出ステツプは前記孔の第２端部及び
前記排出オリフイスを経て同時に行うことを特徴
とする請求の範囲２６記載の方法。

２８ 前記ガスは前記チヤンバ内に注入されたと
きそこに残存する液体から液滴を生成することを
特徴とする請求の範囲２３記載の方法。

２９ 第１及び第２オリフイスを有する少なくと
も１個のチヤンバと、研究用に粒子懸濁液を通す
流体通路用の孔を有し、該孔は前記チヤンバに近
接する第１端部と前記チヤンバから離れて位置す
る第２端部を有している粒子研究装置のフローセ
ルから破片屑、堆積物及び気泡を含む異物を除去
する方法であつて、 (A) ガスと液体の混合物を前記第１オリフイスを
経て前記チヤンバ内に注入して前記１つのチヤ
ンバ内の異物を除去すると共に前記混合物を異
物を前記第２オリフイスを経て排出させるチヤ
ンバ横断異物除去ステツプと、 (B) ガスと液体の混合物を前記第１オリフイスを
経て前記１つのチヤンバ内に注入して： (a) 破片屑を主として前記孔から除去すると共
に、 (b) 堆積物を主として前記孔の壁面から除去
し、且つ前記混合物と異物を前記孔の第２端
部を経て排出させる第１孔横断異物除去ステ
ツプと、 (C) ガスを前記第１オリフイスを経て前記１つの
チヤンバ内に注入して： (a) 前記チヤンバ内の異物を除去し、 (b) 破片屑を前記孔から除去し、且つ (c) 堆積物を前記孔の壁面から除去し、且つ 前記ガスと異物を前記孔の第２端部を経て
排出させる第２孔横断異物除去ステツプと、 (d) 無粒子液を前記チヤンバの前記第１オリフ
イスを経て注入し、 無粒子液の乱流を前記チヤンバ内に形成
し、且つ前記無粒子液の乱流を前記第２オリ
フイスを経て排出させるチヤンバ横断および
孔通過気泡除去ステツプと を含むことを特徴とする粒子研究装置のフローセ
ルの異物除去装置。

３０ (A) 第１端部を有し、分析すべき粒子懸濁
試料液を保持するチヤンバと、 (B) 端部を有する出力装置と、 (C) 前記チヤンバの第１端部に配置された第１端
部と前記出力装置の前記端部に配置された第２
端部を有する有孔装置と、 (D) 前記粒子懸濁試料液を前記有孔装置に供給す
る試料装置と、 (E) 前記チヤンバへの無粒子液通路を与えるシー
ス装置とを含み、 前記チヤンバには排出オリフイスが設けられて
おり、該排出オリフイスは、前記無粒子液が前記
チヤンバ及び前記有孔装置の前記第１端部内に注
入されるとともに前記無粒子液が前記排出オリフ
イスを経て排出される際に前記チヤンバ内におい
て無粒子液の乱流を形成するよう配置されてお
り、いかなる気泡も前記チヤンバ及び／又は前記
有孔装置の第１端部から前記排出オリフイスを経
て排出されるようにしてある ことを特徴とする粒子分析装置。

３１ 前記排出オリフイスは無粒子液の流れによ
り気泡が前記チヤンバ内の気泡の自然集積点に送
出される点にできるだけ近づけて配置してあるこ
とを特徴とする請求の範囲３０範囲の装置。

明細書 本発明は、一般に、流体通路用の孔を有しこの
孔を経て懸濁液中の粒子を研究のために通す有孔
装置を含む１個以上のチヤンバを具えるフローセ
ルを有する粒子分析及び／又は研究装置に関する
ものであり、特には破片屑、堆積物及び気泡を含
む異物の除去に関するものであり、これら異物を
前記孔及びその周囲区域、その感知区域の一部、
から除去しないと、これら異物は孔を通過する粒
子により生ずる信号の精度に影響を及ぼす。更
に、前記流体からの異物及び粒子は前記チヤンバ
及び前記孔に至る通路の内壁面上に積つたり、残
つたりすることがあり、これらを除去しないとこ
れらがチヤンバを汚染したり、いつかは孔感知区
域に流れ込む異物の供給源として作用して精度の
問題を生じ得る。この点に関し潜在的に重要な問
題は斯かる異物が孔自体の中に、即ちその内壁面
上に蓄積又は残留することである。

ウオーレス エツチ クールターにより発明さ
れた粒子計数及びサイズ測定原理は、1950年の始
めに考え出されて以来、クールター社の基本米国
特許第2656508号に示されているように微粒子を
懸濁流体中で走査して電子的に計数、サイズ測
定、研究及び分析する多数の方法及びフロースル
ー装置を生み出している。この従来の装置におい
ては、直流電流を２個の容器またはチヤンバ間
に、それらの中の懸濁流体中に電極を懸垂支持し
て設定している。両流体中の唯一の流体連絡路は
１つの孔から成り、従つて電流及び電界がこの孔
内に設定される。この孔と、その内部及び周囲の
電界が感知区域を構成する。各粒子がこの感知区
域を通過するとき、その通過中感知区域の内容物
のインピーダンスが変化し、これにより感知区域
の電流及び電界が変調されて信号を発生し、この
信号が斯かる変化に応答するよう適切に構成され
た検出器に供給される。（“クールター”はフロリ
ダ州ハイアリー所在のタールターエレクトロニク
ス社の登録商標、登録番号第995825号、である。） 粒子研究装置において孔の完全な又は略々完全
な閉塞を検出しこれを取り除くシステムが使用さ
れている。斯かる回路は米国特許第3259891号に
開示されている。この特許はいくつかの破片屑除
去装置を示しているが、これら装置は孔内の破片
屑を機械的に除去するために複雑な機械的リンク
を必要とし、或いは破片屑を手で除去するために
孔及び／又は有孔管を実際に取外す必要がある。
この機械的リンクは使用が幾分難しく、且つ操査
がめんどうである。有孔管を実際に取外し、清掃
し、取替える場合には、特に２個以上の孔を有す
る構造のものにおいては時間がかかり、斯かる時
間は研究装置の動作中避ける必要があり、これに
より装置のスループツトが著しく制限される。上
記特許に示されている他の破片屑除去装置は“焼
却”回路を使用し、この回路は高電位に充電され
たコンデンサを含み、これを前記電極から放電さ
せて孔に極めて高い初期電流を生じさせ、これに
より孔の内容物を実際に加熱して障害物を破裂さ
せて孔から追い出すものである。コンデンサから
のエネルギー供給割合は最適又は均一でなく、充
分なエネルギーを閉塞物の除去のめたに使用する
と、孔材料又は孔支持構造部に損傷を生ずる重大
な惧れがある。

第２のタイプの孔閉塞物除去回路又は焼却回路
が米国特許第3963984号に開示されており、この
回路は懸濁液中の有孔管内の電極と有孔管外の電
極に結合されたパルス発生器を含んでいる。パル
ス発生器は第１及び第２電極に結合し、所定の特
性を有するパルスの組合わせを発生してこれらパ
ルスを電極、従つて孔内の流体に供給して孔内の
液体を蒸発させると共に顕微鏡的爆発を生じさせ
る。この場合にも爆発の力は孔又は孔構造部の損
傷を生ずることなく破片屑を除去するよう制御す
る必要があるが、最適な場合でも斯かるRFバー
ストは大きなエネルギー浪費を生ずる。更に、孔
に供給するRF周波数は粒子装置自体に雑音の問
題を生じ得る。更に、斯かる高周波のパルスの組
合わせは孔の内表面を所望の如く完全にきれいに
しないことが確かめられている。

粒子信号は、孔が閉塞されなくても著しく影響
され得る。これがため、孔はエネルギーの浪費や
孔構造物の損傷を生ずるとなくできるだけきれい
に維持して多数の粒子流体試料を通過させるにつ
れて孔がだんだん小さくならないようにするのが
有用である。斯かる清掃処理は、ここに引用収録
する1981年８月17日に出願されたジヨルスカンブ
マーチンの出願係属中の米国特許出願、“孔清
掃システム”に記載されているように、略々一定
のエネルギーレベルを孔内の流体に所定期間供給
して孔内の流体を沸とうさせて孔を清掃する、即
ち孔の内壁表面を清掃することにより達成され
る。最適なエネルギー保存のために、懸濁液中の
粒子を孔に通すサイクル間のリンスサイクルの
間、孔を通る流体の移動を止めてDC電流を供給
することができる。これに記載されているよう
に、孔は測定中懸濁液中の粒子を通す。しかし、
白血球の検査においては、赤血球は溶解され、そ
うすると赤血球の構造は破壊されてそれらの内部
化学物質及びプロテインが懸濁液中に解放され、
これらが孔を通過する。懸濁流体又は電解質流体
自体は化学物質及びプロテインも含むものとな
り、化学物質が特に孔の内表面に蓄積し得る。こ
の蓄積が進むと、孔のサイズが減少し、従つて同
一サイズの粒子が孔を通過したにもかかわらず信
号が変化する。通常のリンス溶液及びリンス処理
ではこの問題を除去できず、従つて上述の解決法
が取られる。

先に述べたように、気泡も異物の問題の一部で
あり、気泡が孔又はその近く及びその感知区域を
通過すると、気泡も誤つた粒子計数及び／又は孔
の閉塞を発生し得る。この問題を解決しようと試
みた装置の一例が1974年12月10日に許可されたガ
ウイラーの米国特許第3854088号、“電解質流体中
に懸濁された粒子の計数及び分析装置”に開示さ
れている。この装置は直流供給電極１１を試料容
器７０内に、この電極で形成された気泡が計数セ
ル１の、感知孔２０の上流にあつて試料を通す接
続導管１５に到達しないように配置している。斯
かる装置の他の例は1972年３月７日に許可された
パーカーの米国特許第3648158号、“粒子計数用導
電セル”に示されている。この装置は上流電極３
６と、感知孔５６と、排気通路７２を有する出力
通路６２内の電極３８とを具えるセルを含んでい
る。電解により下流電極３８の表面に生ずる気泡
は、計数ランの終了後に外部空気を排気口７４か
ら通路６１及び６２内に吸い込ませてシステムの
流体通路、通路６１及び６２、及びそのフローチ
ユーブ１６の残存する流体及び前記気泡をパージ
せしめることによりパージする。更に、他の装置
は1973年12月25日に許可されたエンゼルの米国特
許第3781675号、“自己準備型導電セル”に示され
ており、これには気泡室を用いる自己準備又はパ
ージ処理が開示されている。エンゼルは、 「分析ラン後、排気口を開いてセルから液体を
除去し、電極間の導通を止めると共にセルを次の
分析ランに対し準備させる（第１欄、第42〜52
行）。

粒子含有液の分析中、電解により電極表面上に
発生し得る気泡又は液体試料中に存在し得る気泡
は計測孔を通過して気泡が真の粒子として誤検出
され、誤計数を生じ得る。」 と述べている。

この特許の目的は「セル内の気泡がシステムの
機能に実質的に影響を与えないように改良した導
電セルを提供することにある」。

エンゼルは、更に、 「計数処理中、電極表面に発生し得る気泡又は
試料中に存在し得る気泡をセル内の孔から離れた
位置に集めてこれら気泡が分析中孔を流過するの
を阻止する。所定体積の液体中の粒子を計数した
分析ラン後に、セルを準備モードに動作させて気
泡と分析済試料をセルから除去し、次の分析のた
めに新しい試料を注入する。試料間の汚染はこの
準備処理によりセル内の古い試料が次の計数ラン
の前に新しい試料と交替されるために避けられ
る。

準備処理の一部の間、空気を孔に分析中の液体
の流と逆方向に流し、この空気流により孔をバツ
クフラツシユして分析中孔内又はその近くに蓄積
し得る破片屑を除去する」（第１欄、第67行〜第
２欄、第19行）と説明している。

エンゼルは気泡室の動作について次の通り記載
している。

「分析ラン中に電解により発生する気泡又は液
体試料中に存在する気泡は液体の流れの通過から
遠く離れた室７６の上部に上昇し、このため孔６
８を通過しなくなつてセルの計数処理の精度を妨
害しなくなる。」（第５欄、第40〜46行） エンゼルは、更に、好適例の動作について詳細
に次の通り記載している。

「第６図に示すようにプランジヤが押下げられ
た位置では、チヤンネル１１９が下側Ｏリング１
１７をまたぐ位置になつて通路９６と１０２との
間に通路を与えて分析ラン後に粒子含有液をパー
ジせしめると共に、セルを次のランのために準備
せしめる。準備動作の初期期間中、排気口４８を
閉じると共にシステムポンプにより与えられる通
路１０２の真空により通路７４及び７６内の液体
を通路９６からチヤンネル１１６を経て通路９８
及び１０２内に、従つて排液ピン内に排出させ
る。孔６８と入力通路との間の残留液もパージン
グ通路を経て排出させる。通路９６の上部に集収
された気泡も液体と一緒に排出される。パージン
グ通路の水圧インピーダンスはセル計数通路のそ
れよりも低いため、パージング中液流は孔６８を
バイパスしてセルの排出用通路９６に流れ込むこ
とになる。

セルから液体をパージングした後、排気口４８
を開き、プランジヤ１００は押し下げたままの状
態で空気を排気通路及び孔６８内に、計数ラン中
の液流と逆方向に流入させ、従つて通路７６，９
６、チヤンネル１１６及び通路１０２を経て排液
ビン内に流れ込ませる。空気とフローチユーブ１
６内の気泡もこの動作状態中排気ビン内に排出さ
れる。孔６８を流れる逆方向の空気流は孔内に蓄
積し得る破片屑のバツクフラツシユを生じ、これ
がためこの発明は次の分析ランのためのセルのパ
ージングのみならず分析ラン間において孔の自動
清掃も与えるものである」。（第５欄、第53行〜第
６欄第17行） 本発明は、その最も広い概念においては、粒子
分析装置及びそれから気泡を除去する方法並びに
破片屑及び堆積物を含む異物を斯かる装置のフロ
ーセルから除去する方法を含むものである。本発
明の粒子分析装置はその最も広い概念において
は、第１端部を有し分析すべき粒子の試料懸濁液
を保持するチヤンバと、端部を有する出力装置
と、前記チヤンバの第１端部に配置された第１端
部と前記出力装置の端部に配置された第２端部を
有する有孔装置とを具える。本発明装置は、更
に、前記粒子懸濁液試料を前記有孔装置を経て供
給する試料装置と、前記チヤンバに無粒子液流を
供給するシース装置を具える。チヤンバは排出オ
リフイスを有し、この排出オリフイスは前記無粒
子液が前記チヤンバ及び有孔装置の前記第１端部
内に注入されると同時に前記無粒子液が前記排出
オリフイスを経て排出される際に前記チヤンバ内
において無粒子液の乱流を形成するように配設し
て気泡が前記チヤンバ及び／又は前記有孔装置の
前記第１端部から前記排出オリフイスを経て除去
されるようにする。本発明の装置から気泡を除去
する方法は、その最も広い概念では、無粒子液を
前記チヤンバの第２オリフイスを経て注入して前
記チヤンバ内に無粒子液の乱流を形成するステツ
プと、前記無粒子液の乱流を前記チヤンバの第２
オリフイスを経て排出させるステツプを具える。
本発明の異物を除去する方法の特徴は、最も広い
概念では、ガスと液体の混合物を第１オリフイス
を経て前記チヤンバ内に注入して前記チヤンバ内
の異物を除去するステツプと、前記混合物と異物
を第２オリフイスを経て排出させるステツプとを
含むチヤンバ横断処理によつて異物を除去するこ
とにある。本発明の異物除去方法の他の特徴は、
その最も広い概念では、ガスと液体の混合物を第
１オリフイスを経てそのチヤンバ内に注入して破
片屑を主として前記孔から除去すると共に堆積物
を主として前記孔の壁面から除去するステツプ
と、前記混合物と異物を孔の他端部を経て排出さ
せるステツプを具える孔横断処理により異物を除
去することにある。本発明の異物除去方法の更に
他の特徴は、その最も広い概念では、ガスを第１
フリフイス又はポートを経てそのチヤンバ内に注
入して前記チヤンバ内の異物を除去し、その孔か
ら異物を除去すると共に、前記孔の壁面から堆積
物を除去するステツプと、前記ガスと異物を孔の
他端部を経て排出させるステツプを含む別の孔横
断処理により異物を除去することにある。そのも
つと狭い概念のものにおいては、注入されたガス
の速度が同じチヤンバの別のポート又は排出オリ
フイスを経て供給される差圧により増大されるよ
うにする。もう一つの面では本発明はチヤンバ横
断処理及び２つの孔横断処理における破片屑及び
堆積物を除去するサブステツプ及び気泡を除去す
る別のサブステツプの一連のサブステツプ又はス
テツプの組合わせにより粒子分析装置のフローセ
ルから破片屑、堆積物及び気泡を含む異物を除去
する方法を含む。これら４つのサブステツプは上
に別々にに記載してある。

一例として本発明の実施例を図面を参照して説
明する。

第１図は本発明を具体化した粒子分析装置のフ
ローセルの断面図であり、 第２図は有孔装置と、側方排出口を有する下部
室の一部分を含む第１図の一部分の拡大断面図で
あり、 第３図は第２図の有孔装置の感知孔領域の拡大
断面図であり、 第４図は本発明の方法を具体化する種々の処理
状態を示す線図である。

図面、特に第１及び２図において、粒子分析又
は研究装置のフローセル１０は全体をそれぞれ１
２及び１４で示す第１、上部、チヤンバと第２、
下部、チヤンバを具え、両チヤンバはそれらの内
方端部において石英有孔装置１６により流体が連
通するよう連結され、これらはフローセル支持装
置又はヨーク１８により軸方向に整列されてい
る。第１チヤンバ１２にはスイープシース通路２
０、先端２３を有する試料排出管２２及び上部排
出通路２４が流体的に連結されている。第２チヤ
ンバ１４にはフラツシユ通路２６、試料導入管又
は装置２８及びシース集束通路又は装置３０が流
体的に連結されている。第１チヤンバ又は出力装
置１２は、ヨーク１８の上端部内に配置され且つ
接着された、下端部３３を含む略々円錐状の同心
中空開口上部本体支持部材３２と、前記上部本体
支持部材３２内に同心配置された略々円錐状の同
心上部本体部材３４と、上部本体支持部材３２の
上端部と螺合すると共に上部本体部材３４の上端
部と掛合する内方突部を有し上部本体部材３４を
上部本体支持部材に固着する上部キヤツプ３６
と、上部本体部材３４の最上部に接着された上部
保持リング３８とを具える。第２チヤンバ１４も
同様に、ヨーク１８の下端部内に配置され且つ接
着された、上部に第１端部４２を含むと共にこの
端部に形成された側方排出通路４４を有する略々
円錐状の同心中空開口下部本体支持部材４０と、
この下部本体支持部材４０内に同心配置された
略々円錐状の同心下部本体部材４６と、下部本体
支持部材４０の下端部と螺合すると共に下部本体
部材４６の下端部と掛合する内方突部を有し下部
本体部材４６をその下部支持部材４０に固着する
下部キヤツプ４８と、下部本体部材４６の最下部
に接着された下部保持リング５０とを具える。第
１チヤンバの上部本体部材３４は、略々円錐形で
あつてその頂点部にそこから軸線方向に小距離延
在する下部孔５４を有する下端部５２を含む。こ
の下端部５２の円錐状部分に同形の下流電極５６
を取付け、これをリード５８により第１出力端子
６０に接続する。第１即ち上部キヤビテイ６２は
前記下流電極５６の下側表面と前記本体支持部材
３２の前記下端部３３の内壁表面により画成され
る。３つの通路を前記上部本体部材３４の上端か
らその下端部５２まで延在させると共に前記キヤ
ビテイと連通させる。即ち、試料排出通路６４を
軸線上に設け、その中に前記試料排出管２２を配
置し、前記上部排出通路２４及びスイープシース
通路２０を前記試料排出管２２に対し角度をつけ
てこれを同軸的に囲むように配置する。これら３
個の通路、即ちスイープシース、試料排出及び上
部排出通路２０，６４及び２４はそれぞれそれら
の上端部においてスイープシースポート、試料排
出ポート及び上部排出ポート６，５及び４を経て
継手６６，６８及び７０に開口させる。同様に第
２チヤンバ１４の下部本体部材４６も、略々円錐
形であつてその頂点部にそこから軸方向に小距離
延在する上部孔７２を有する上端部７２を含む。
この上端部７２を円錐部分に同形の上流電極７６
を取付け、これをリード７８を経て第２出力端子
８０に接続する。第２即ち下部キヤビテイ８２は
前記上流電極７６の上側表面と前記下部本体支持
部材４０の上端部即ち第１端部４２の内壁表面に
より画成される。３個の通路を前記下部本体部材
４６の下部からその上端部７２まで延在させ、前
記下部キヤビテイ８２と連通させる。即ち、試料
導入通路８４を軸線上に、試料排出通路６４と同
軸方向に整列するように設け、その中に前記試料
導入管２８を配置し、前記フラツシユ通路２６と
シース集束通路３０を前記試料導入管２８に対し
角度つけてこれを同心的に囲むように配置し、通
路３０には後に限流装置８６を配置する。これら
３個の通路、即ちフラツシユ、試料導入及びシー
ス集束通路２６，８４及び３０はそれぞれそれら
の下端部においてフラツシユポート、試料導入ポ
ート及びシース集束ポート１，２及び７を経て継
手８８，９０及び９２に開口させる。

限流装置８６は上流電極７６とシース流体源
（図示せず）との問の有効な電気的絶縁を与える
ものである。

有孔装置１６はその下端部９４と上端部９６に
形成された１対の対向する孔、即ち下部孔９８及
び上部孔１００と、前記対向孔９８及び１００の
内端間を連通する顕微鏡的感知孔１０２とを有す
る。この有孔装置１６はその下端部及び上端部９
４及び９６において前記下部及び上部本体支持部
材４０及び３２の上端部及び下端部４２及び３３
に形成された開口端内にそれぞれ接着する。

フローセル１０は、石英有孔装置１６、硅硼酸
ガラス製試料導入及び排出管２８及び２２及び孔
１０２を除いて、試薬と反応しない高耐衝撃性ポ
リスチレン等の材料のような透明合成樹脂で造
る。

ここで、特に第２図を参照するに、側方排出通
路４４は、下部キヤビテイ８２と連通する排出オ
リフイス又は側方排出オリフイス３を有し、該排
出オリフイス３は、後に詳述するように、無粒子
液が前記シース集束ポート７から前記シース集束
通路又は装置３０に及び前記フラツシユポート１
から前記フラツシユ通路２６に同時に注入される
と共に排出オリフイス３を経て排出される際に、
第２チヤンバの下部キヤビテイ８２内及び前記有
孔装置１６の下端部９４の孔９８内に無粒子液の
乱流、即ち非層流を形成するように第２チヤンバ
１４内に配設してあり、これにより如何なる気泡
も第２チヤンバ１４の下部キヤビテイ８２から及
び／又は有孔装置１６の下端部９４の孔９８から
排出オリフイス３を経て除去される。更に、側方
オリフイス３は無粒子液の流れが気泡を前記キヤ
ビテイ８２及び／又は前記下端部９４の孔９８内
のそれらの自然集積点に送る点に実際上できるだ
け近づけて配設する。本好適例では斯かる気泡の
自然集積点は隔室の一つ、即ちキヤビテイ８２又
は孔９８内の最上位点、即ち孔区域９８内の点で
ある、しかし、側方排出通路４４は石英有孔装置
１６にではなくスチレン製の下部本体支持部材４
０にドリルその他の方法で形成するのが実際的で
ある。

必ずではないが、有孔装置１６の孔９８及び１
００は0.05インチの円形断面を有し、有孔装置１
６の全長は0.25インチとするのが好適である。有
孔装置１６は極めて小さくすることができる石英
のモノリシツクピースで構成する。そのサイズを
小さくすればするほど、その光学特性が良好にな
り、有孔装置１６は光信号の点状信号源に近づ
く。粒子感知孔１０２の断面は略々方形にするの
が好適である。第３図のその拡大図に示すよう
に、孔１００及び９８の内端、即ち感知孔１０２
の口腔部１０４は孔１０２で遮断された球面１０
６及び１０８で形成する。孔１００及び９８に丸
みつき端面を設けることにより感知孔１０２を精
密に位置させる必要がなくなる。外表面は孔１０
２の壁１１０に平行な平面とする。代表的には感
知孔１０２、試料導入及び排出管２８及び２２の
入出口及び孔１００及び９８は軸方向に整列させ
る。この欄に上述した寸法及び構成は単なる例示
であつて、他の形状及び寸法を取ることができ
る。

ここに引用収録する1982年２月のクールター製
品参考手引所、部品ナンバ4235066Bに記載され、
フロリダ、ハイアリ所在のクールターエレクトロ
ニクス社から市販されているCOULTER
EPICS Ｖシステムのような生物医学検査用セ
ル分析システム内への試料の吸引及び送出は前記
フローセル１０により慣例の如く行われる。他の
動作サイクル、即ちRECYCLEを開始させてフロ
ーセル１０を、後に詳述するように、破片屑、堆
積物及び気泡を含む全ての異物を前記フローセル
から除去する必要があるときに本発明の方法に従
つてマイクロプロセツサ（図示せず）の制御の下
で適切な空気力学及び水力学を用いてその試料ラ
ンニングモードに戻す。（COULTERはフロリ
ダ、ハイアリー所在のクールターエレクトロニク
ス社の登録商標第995825号であり、EPICSはフ
ロリダ、ハイアリー所在のクールタコーポレーシ
ヨンの登録商標第1175973号である）。RECYCLE
は好適実施例のようにオペレータ開始としてもよ
く、またシステムプログラムに含めて所定の条件
の下で自動的に行われるようにしてもよい。全
RECYCLE動作サイクルは以下に、実行時間とと
もに表の形で示してあり、６つのサブルーチン及
び／又は動作モード、FLUSH、PURGE、
FILL、DEBUBBLE、PEIME及びRUNを含み、
最後の２つは全く慣例のものである。最初の３つ
のサブルーチンは本質的に破片屑と堆積物を除去
し、第４のサブルーチンは本質的に気泡を除去
し、第５のステツプPRIMEは実際のサンプリン
グステツプRUMモードの直前のモードで、別の
試料を吸引してフローセル１０に送給する前記
RUNモード前にフローセル１０を試料で満たす
のに用いられる。

【表】 DEBUBLサブルーチン自体は８回くり返えさ
れるステツプDEBUB１及びDEBUB２の対から
成り、各ステツプは1/16秒続く。このサブルーチ
ンは必要なときにオペレータが別個に開始させる
こともできる。

さて、特に第４図を参照するに、図示の一連の
線図は本発明の方法を具現する種々の処理状態を
示し、この図におい実線の矢印はそのポートにお
いて大気圧に対し正圧まはた負圧により注入及
び／又は排出が行われることを示し、中空矢印は
次のポートが同時に大気に解放されることを示
し、同一のポートにおける２つの矢印は２つの入
力が共通のポートから同時に供給されることを示
し、且つ全ての注入及び／又は排出は同時に行わ
れる。更に次の記号一覧表はここで使用する記号
の意味を示すものである Ａ 空気 Ｇ ガス SH シース SM サンプル SO ソープ Ｖ 真空 動作サイクルRECYCLEシーケンスのFLUSH
サブルーチンは第４ｋ図に示す２つのチヤンバ横
断異物除去サブステツプFLBCAの一方を開始し
底部又は第２チヤンバ１４をフラツシユし、この
ステツプは窒素ガスとシース液の混合物をフラツ
シユポート又は第１オリフイス１を経てそのキヤ
ビテイ８２内に注入すると同時に追加のシース液
をツース集束ポート７を経てキヤビテイ８２内に
注入し且つ前記混合物及び異物を側方排出ポート
又は第２オリフイス３から、これに負圧又は真空
を供給して排出させて廃液留（図示せず）に廃棄
させる処理を含む。次いで第４ｕ図に示す他方の
チヤンバ横断異物除去サブステツプFLTCAを開
始して上部又は第１チヤンバ１２をフラツシユ
し、このステツプは窒素ガスとシース液の混合物
をスイープシースポート又は第１オリフイス６を
経てそのキヤビテイ６２内に注入する共にこの混
合物及び異物を上部排出ポート又は排出オリフイ
ス４を経て排出させる処理を含む。これらのチヤ
ンバ横断異物除去ステツプは一般に双方のチヤン
バ１２及び１４内の異物を除去し、特には主とし
てそれらのキヤビテイ６２及び８２を画成するこ
れらチヤンバの壁面から堆積物を除去すると共
に、更にそれらの孔１０２及び主としてその口腔
部１０４から破片屑を除去する。次に、一連の孔
横断“トグリング”ステツプを行つて主として孔
から異物を除去する。このステツプは第４ｎ図に
示すサブステツプFLBACKで始まつて孔１０２
を逆方向に、即ち孔１０２内の試料の流れに対し
反対方向にきれいにし、このサブステツプは窒素
ガスとシース液の混合物をスイープシースポート
６を経て上部チヤンバのキヤビテイ６２内に注入
すると共に上部チヤンバの排出ポート４及び下部
チヤンバの側方排出ポート３に真空を同時に供給
してこの混合物と異物を上部チヤンバの排出ポー
ト４を経て及び孔の下端部、この場合にはその第
２末端部９４、及び更に下部チヤンバの側方排出
ポート３を経て排出させる処理を含む。次いで本
質的に同一の処理を第４ｏ図に示すサブステツプ
FLFWRDにより反対の側方向にくり返して孔１
０２を反対方向にきれいにし、このステツプは窒
素ガスとシース液の混合物をフラツシユポート１
を経て下部チヤンバのキヤビテイ８２内に注入す
ると同時に追加のシース液をシース集束ポート７
を経て下部チヤンバのキヤビテイ８２内に注入し
且つこの混合物と異物を、下部チヤンバの側方排
出ポート３と上部チヤンバの上部排出ポート４に
真空を同時に供給して、下部チヤンバの側方排出
ポート３を経て及び孔の上端部、この場合にはそ
の第２末端部９６、及び更に上部チヤンバの上部
排出ポート４を経て排出させる処理を含む。これ
らの２つのサブステツプFLBACK及びFLFWRD
は更に３回上述のように交互に行われる。これら
の一連の孔横断異物除去ステツプは主として孔１
０２から破片屑を除去すると共に、主として孔の
壁面１１０から堆積物を除去する。窒素ガスとシ
ース液の混合物が注入されるチヤンバのポートへ
の真空の供給は注入される混合物又は噴流に第２
の加速作用を与え、その流速を有効に増大するた
め、前記噴流が感知孔の口腔部１０４に接近する
ときその流速は噴流が孔１０２を横断して孔１０
２から破片屑を除去すると共に壁面１１０から堆
積物を除去するに十分な高さになる。混合物が注
入されるチヤンバのポートに真空を供給しない
と、噴流の速度は低すぎて、そのため感知孔の有
効な清浄及び異物除去が得られないであろう。

FLUSHサブルーチンについて上述したように
窒素ガスとシース液の混合物の使用はその排出と
相まつて堆積物の清浄及び異物の除去の双方に関
して特に有効な異物除去処理をもたらす。ガスと
シース液は共通のポートにおいて略々同一の圧力
で注入する。しかし、ガスの速度の方がそれらの
共通の通路内において流体の速度より著しく大き
い。即ち共通の通路内で液体は高い速度に加速さ
れて小さな液体の粒子又は液滴の流れを形成し、
これら液滴が共通通路内において液体−ガス混合
物に連行され、これらの液体粒子が運動量を得る
と共にそれらの運動エネルギーを増大し、これに
よりこのように前記チヤンバ内に前記点滴が流入
しない場合においてチヤンバ内への液体の注入に
より生ずる制動効果が除去される。この液体の初
期又は第１加速の結果として、液体及びガスの流
れはチヤンバのキヤビテイに流入するとき小さな
粒子又は液滴に分裂し続ける。これらの液滴は、
噴流の一部としてチヤンバに流入するので、前記
制動効果に妨害されることなく、第２加速作用を
有する一連の孔横断トグリングステツプの場合に
は噴流が供給されるキヤビテイ及びチヤンバの孔
及び感知孔１０２自体の壁面に衝突し、且つトグ
リングステツプ中に堆積物又は破片屑と、これら
が存在する表面、即ち前記キヤビテイ及び孔及び
感知孔１０２の壁面との間に容易に侵入するガス
の侵入作用と相まつて、これら壁面上の堆積物又
は破片屑を侵食すると共に除去する。この作用は
処理が下部キヤビテイへの注入と側方排出ポート
３からの排出を含むとき、即ちFLBCA及び
FLFWRDサブステツプ中に下部キヤビテイ８２
内形成される乱流とも関連する。

次に、次のシーケンシヤルサブルーチン
PURGEを行つて窒素ガスによりチヤンバ１２及
び１４及びそれらの共通の孔１０２を両方向にパ
ージして残存する任意の破片屑及び堆積物を除去
する。このサブルーチンは第４ｑ図に示すサブス
テツプPURGBCで始まり、窒素ガスをフラツシ
ユポート１を経て注入すると共に、下部チヤンバ
の側法排出ポート３及び上部チヤンバの上部排出
ポート４に真空を同時に供給してこのガス及び存
在する異物を前記排出ポート３を経て及び孔の上
端部９６及び更に前記排出ポート４を経て排出さ
せる。次いで本質的に同一の処理を第４ｐ図に示
すサブステツプPURGTCにより反対の逆方向に
くり返し、窒素ガスをスイープシースポート６を
経て注入すると共に、上部チヤンバの上部排出ポ
ート４と下部チヤンバの側方排出ポート３に真空
を同時に供給してこのガスと残存する任意の異物
を前記排出ポート４を経て及び孔の下端部９４及
び更に前記排出３を経て排出させる。窒素ガスが
注入されるチヤンバのポートへの真空の供給は注
入ガス及び後述する発生液滴の速度を増大するた
め、ガスと液滴が感知孔の口腔部１０４に接近す
るときにその速度が十分高くなつて、斯かる速度
増大機構を含む先に行われた孔横断異物除去サブ
ステツプの第２加速効果について述べたと同様に
孔１０２自体を横断して貫通することが可能にな
る。

窒素ガスを一方のチヤンバに注入し両チヤンバ
から排出されるこのPURGEサブーチンにより追
加の清浄除去作用が達成される。これは、表面張
力作用により残存するシース液を除いて略々完全
に排出されたキヤビテイを有するフローセル１０
内への高圧注入による。この結果として液体制動
効果の除去とともに斯かる残留液とガスの混合が
生じ、これにより斯かるガス注入による発生され
た残留液の小さな液体粒子の加速を含む“追出
し”作用が発生するものと信じられる。発生した
これらの小さな液体粒はこれらが単独で通路内に
注入される場合より遥かに高い速度に加速されて
キヤビテイの壁面及びチヤンバの穴の壁面に衝突
し、ここから噴出すると共に感知孔１０２の入口
に衝突する。更に、ガス侵入作用によりガスが堆
積物又は破片屑と、これらが存在する前記感知孔
１０２及び前記キヤビテイ及び孔の表面との間の
最小の裂け目中に容易に侵入し、これら表面上の
堆積物又は破片の屑を侵食及び／又は除去する。

次に第３のサブルーチンFILLを行い、シース
液の流れによつて双方のチヤンバ１２及び１４か
ら、残存するかもしれない異物を除去する。初め
にサブステツプFLBCALを第４ｍ図に示すよう
に行い、シース液をフラツシユポート１とシース
集束ポート７を経て同時に注入すると同時にこの
液とその中の異物を側方排出ポート３から、この
ポートに真空を供給して排出させる。次いで本質
的に同一の処理を第４ｌに示すサブステツプ
FLTCALにより他方のチヤンバ１２内でくり返
し、シース液をスイープシースポート６を経て注
入すると共にこの液とその中の異物を上部排出ポ
ート４から、このポートに真空を供給して排出さ
せる。

オペレータが別個に開始させることもできる次
のサブルーチンDEBUBBLEは本質的にはシース
液の流れによつてフローセル１０内に存在する気
泡を除去するものであり、サブステツプ
DEBUBLで始まり、このステツプは全部で８回
くり返えされる１対のステツプDEBUB１及び
DEBUB２から成り、１秒の全経過時間に対し各
ステツプ又は実行時間は１／16秒である。
DEBUB１は本質的には下部又は上部チヤンバの
キヤビテイ８２及び６２内及び有孔装置１６の下
部及び上部孔９８及び１００及び連結管（図示せ
ず）から気泡、特に大きな気泡を除去する作用を
する。第４ｇ図に示すサブステツプDEBUB１は
無粒子液、シース液、を下部チヤンバの少なくと
も１個のポート及び好適例ではその２個のポー
ト、即ち下部又は第２チヤンバ１４のフラツシユ
ポート１及び、シース集束ポート７に正圧力で同
時に注入すると同時に、この液とその中に閉じ込
められている気泡を前記チヤンバの側方排出ポー
ト又は第２オリフイス３から、このポートに負圧
又は真空を供給して排出させる。側方排出通路３
は位置的には下部チヤンバ１４及びその構成部分
並びに有孔装置１６及びその構成部分に対して、
前記シース液がシース集束ポート７を経て前記シ
ース装置又はシース集束通路３０に且つ／又はフ
ラツシユポート１を経て前記フラツシユ通路２６
に同時に供給されると共にこのシース液が排出オ
リフイス又はポート３から排出される際に下部キ
ヤビテイ８２及び／又は孔９８内において無粒子
液の非層流、即ち乱流を形成するように配置され
ているので、キヤビテイ８２及び／又は孔９８内
に存在する気泡はこの側方排出オリフイス３を経
て除去される。この乱流は、少なくとも部分的に
は、注入されたシース液の流れの方向を初期の液
体の流れ方向であるその初期流れ方向から、シー
ス液がそれらの通路、フラツシユ通路２６及びシ
ース集束通路３０、のフラツシユポート及びシー
ス集束ポート７から出て下部キヤビテイ１４に流
入するときに変えることにより生ずる。先に説明
したように、下部チヤンバ、チヤンバ１４、内の
気泡は感知オリフイス１０２に向かつて上方に流
れる傾向がある。これら気泡のいくつかは特にこ
れらが小さい場合には感知孔１０２を通過する。
感知孔１０２を通過しなかつた他の気泡は特に下
部孔９８を画成する側面を含むその下部口腔部１
０４近くの区域内のいくつかのコーナ部又は全て
のコーナ部に集まり、或いはトラツプされ、これ
らの気泡は感知区域又はフリフイス１０２近くに
おいて振動するときに不所望な電気雑音を生ず
る。他の気泡は下部チヤンバの上部及び試料導入
管２８の先端２９近くの区域に集まり、特に前記
区域のチヤンバ内壁面に群がることができる。あ
る状態では比較的大きな気泡が発生し、下部チヤ
ンバの内壁面と導入管の先端９２との間に位置す
ることがある。これらは斯かる表面に制止したま
まとどまる傾向があり、それらの間に生じている
極めて大きな表面張力のために除去しにくい。注
入通路又はシース装置に対し側方排出通路４４を
上述のように位置させることによつて、シース液
を下部チヤンバ１４の下端部に注入すると共に気
泡の下から上への自然の流れの通路内に位置する
斯かる側方排出通路４４を経て側方に排出させる
ことにより生ずる乱流によれば全ての斯かる気泡
を、これらが前記フローセル１０の下半部内に集
積し得る所から、前記キヤビテイ８２の全容積内
及び孔９８の周囲におけるシース液のこの乱流の
結果として及び特に試料導入管の先端２９の臨界
外壁表面又は境界面を通過する斯かる流れを含む
乱流の結果として除去すると共に搬送除去するこ
とが十分にできる。その境界面で零速度である層
流はこれらの臨界壁面における気泡の有効な除去
を与えない。本発明好適例はこのサブステツプの
一部として、更に、シース液を前記上部チヤンバ
ー１２内にスイープシースポート６を経て注入す
る同時にこの液とその中にトラツプされている気
泡を上部排出ポート４から、このポートに真空を
供給して排出させる処理を含む。各チヤンバ、下
部及び上部チヤンバ１４及び１２、内の気泡、特
に大きな気泡を除去する処理は互いに有効に分離
して行い、各チヤンバの処理は同時ではなく逐時
的に行う。第４ｈ図に示す次に行われるサブステ
ツプDEBUB２はシース液を下部チヤンバ１４の
フラツシユポート１及びシース集束ポート７並び
に上部チヤンバ１２のシースポート６に同時に注
入すると共に、このシース液と気泡、特に孔の下
部口腔部１０４近くの区域にトラツプされている
小さい気泡を空気に開口した試料排出ポート５を
経て排出させ、両チヤンバ１２及び１４内の圧力
をDEBUB１サブステツプ中のこれらのチヤンバ
内に生ずる圧力に比較して増大させる。次いでサ
ブステツプFLCALを第４ｌ図に示すように及び
前述したように行い、この処理のこの段階におい
て上部チヤンバ１２内の残存気泡の移動を加速さ
せると共に、これらを排出ポート、上部排出ポー
ト４に真空を供給して除去する。次いでサブステ
ツプSHEATHを第４ｄ図に示すように行つてチ
ヤンバ１２又は１４内の残存気泡を更に除去し、
このサブステツプはシース液をシース集束ポート
７及びスイープポート６を経て注入すると共にこ
の液とそれらのキヤビテイ１２及び１４の残存気
泡を試料排出ポート５を経て排出させ、この際排
棄内容物が流れるこのポートを空気に解放させ、
即ち大気圧にする。これらの３つのサブステツプ
DEBUBL，FLTCAL及びSHEATHを再びくり
返し、斯かる後に初めの２つのサブステツプ
DEBUBL及びFLTCALを更にくり返してこのサ
ブルーチンを終了させ、これらは全てフローセル
１０内に残存し得る気泡を除去するためである。
このサブルーチンの終了時に後に上述するように
全ての気泡が、感知オリフイス１０２近くの区
域、有孔装置１６の下部孔９８内、導入管の先端
部２９と隣接下部チヤンバ内壁面との間及び他の
任意のコーナ部から除去される。

次に慣例のサブルレーチンPRIMEを行う。こ
のサブルーチンは単一のサブステツプSMPRMF
から成り、実際の試料ラン、RUNモード、の直
前に行われ、フローセル１０に試料を予備供給す
る作用をする。第４ｅ図に示すサブステツプ
SMPRMFは液体試料を試料導入ポート２を経て
下部チヤンバ１４内のその導入管２８内に注入
し、次いで孔１０２を通して上部チヤンバ１２内
の試料排出管２２内に注入させ、そのポート、試
料排出ポート５、から排出させる。ポート５は空
気に解放する。

短い1/8秒のPRIMEサブルーチンの終了時に、
RUNサブルーチンが必要な期間に亘り第４ｆ図
に示すように始まり、試料を試料導入ポート２を
経て流しつづけながらシース液をシース集束ポー
ト７及びスイートシースポート６を経てそれぞれ
チヤンバ１２内に存在する試料とシース液の双方
を試料排出管２２を経て排出させると共に空気に
解放されたその試料排出ポート５から廃棄させ
る。これらの処理はフローセル１０において慣例
的に行われているもので、従つてこれ以上詳しく
説明しない。

以上に説明してない２つのサブステツプ
CLBACK及びCLFWRDはその日の終りに、又は
オペレータが必要なときに行うのが好適である。
これらのサブステツプCLBACK及びCLFWRDは
ガスとソープ（洗剤）の混合物を逆及び順方向の
双方に使用してフローセル１０の強力な洗浄を与
え、そのチヤンバ１２及び１４及びそれらのキヤ
ビテイ６２及び８２並びにその孔１０２及び前記
キヤビテイ６２及び８２及び有孔装置１６の孔９
８及び１００を画成する他の全ての表面を強力に
洗浄する。第４ｓ図に示すサブステツプ
CLBACKは窒素ガスとソープの混合物をスイー
プシースポート６を経て上部チヤンバのキヤビテ
イ６２内に注入すると共にこの混合物と異物を上
部排出ポート４及び下部チヤンバの側方排出ポー
ト３から、前記ポートに真空を同時に供給して排
出させる。次いで本質的に同一の処理を第４ｒ図
に示すサプステツプCLFWRDにより順方向にく
り返し、ガスとソープの混合物をフラツシユポー
ト１を経て、ソープをシース集束ポート７を経て
下部チヤンバのキヤビテイ８２に注入すると共に
この混合物と異物を側方排出ポート３及び上部排
出ポート４から、前記ポートに真空を同時に供給
して排出させる。斯かる後に、及び少なくともそ
の日の終りに、サブルーチンSTOPを第４ｂ図に
示すように行い、全てのポートを閉じる。フロー
セル１０が、例えば粒子研究装置がターンオフさ
れたときのように減勢される場合、サブルーチン
OFFが第４ａ図に示すように行われ、アスピレ
ータ（図示せず）の位置に応じて、アスピレータ
が試料管又はその他の容器内の下方位置にあると
きは残留試料を試料導入ポート２内に注入し、ア
スピレータが試料容器外の上方位置にあるときは
空気を試料導入ポート２内に注入すると共に試料
及び／又は空気を側方排出ポート及び上部排出ポ
ート４から、これらポートに真空を同時に供給す
ると共に試料排出ポート５を空気に解放して排出
させることにより十分な期間に亘つて試料及び／
又は空気を排出させて両チヤンバ１４及び１２を
パージする。フローセルが、例えば粒子研究装置
がターンオンされたときにターンオンされると、
第４ｃ図に示すサブルーチンONが開始され、全
てのポートが閉じ、マイクロプロセツサのクロツ
クがターンオンされて種々のルーチン、サブルー
チン、サブステツプ等の適正な実行時間を出力す
る。アスピレータは必要なとき又は指令されたと
きに第４ｉ図に示すサブルーチンFLASPにより
パツクフラツシユし、シース液を下部チヤンバ１
４のフラツシユポート１及びシース集束ポート７
を経て注入すると共にこの液を試料導入ポート２
及びその管２８から一連の接続試料管路（図示せ
ず）を経てアスピレータに排出させる。シース液
が流れるアスピレータとポートは空気、大気、に
解放する。

好適例の動作パラメータは次の通りであり、寸
法はインチである。

通路直径 フラツシユ１ 側方３ 上部４ 通路２６ 通路４４ 通路２４ 0.45 ．030 ．045 スイープ６ 集束７ 通路２０ 通路３０ ．045 ．045 真空ポンプ（図示せず）の真空は、約−11PSI
であり、シース液は下部及び上部チヤンバでそれ
ぞれ8P.S.I及び5P.S.Iに加圧し、窒素ガスは10P.
S.Iに加圧し、ソープは９、P.S.Iに加圧する。本
発明の好適例はシース液に対してISOTON を、
ソープ洗剤に対してISOTERGE を、使用する。
（ISOTON 及びISOTERGE はフロリダ、ハ
イアリー所在のクールターエレクトロニクス社の
登録商標第848055号及び859453号である）。

感知孔１０２は以下に述べるようにウオーレス
クールター原理に従つて電子的体積感知区域とし
て作用するのみならず光学的感知区域として作用
する。低周波電流（直流を含む）又は高周波電流
（図示せず）を又はその両方を電気導体５８及び
７８により電流５６及び７６にそれぞれ電気的に
結合する。粒子が孔１０２を通過するとき、これ
ら粒子は電流を変調して慣例の検出回路（図示せ
ず）で検出される粒子パルスを発生する。説明に
役立つ電流源及び検出回路の例は米国特許第
3710933号、同第3502974号及び同第3502974号及
び同第3502973号に示されている。

装置は主として細胞の研究に使用されるが、
種々の粒子に等しく適用することができる。

本発明の特定の例について図示し説明したが、
これは本発明を斯かる例に限定することを意図す
るものでない。これに反し、本発明は本発明の精
神及び範囲、明細書及び請求の範囲内に入る発明
の要旨の全ての変形、変更、実施例、使用法及び
等価物をカバーするものである。例えばポート間
にある程度の交換性があり、即ち上部排出ポート
４をスイープシースポート６の代わりに入力ポー
トとして使用することができ、且つフラツシユポ
ート１をシース集束ポート７の代わりに及びその
逆に使用することができる。この際は適当な通路
中に限流装置を付加及び／又は除去する必要があ
る。更に、液体及び／又はガスは一つのポートか
ら正圧で注入し、別のポートから負圧、真空で除
去又は排出されるものとして示してあるが、必要
なことはこれらポート間に適当な大きさの差圧を
供給することである。例えば本発明は、注入とし
て、チヤンバ又はフローセルの他方のポートに真
空を供給してガス及び／又は液体をチヤンバの一
方のポートからチヤンバ内に吸引することを含む
ものである。

要 約 粒子研究装置のフローセルから破片屑、堆積物
及び気泡を含む異物を除去する方法及び装置。そ
の装置は、一方の側に有孔装置を有し、他方の側
に粒子懸濁試料液及び無粒子液をそれぞれ供給す
る試料及びシース導入機構を有するチヤンバを含
む。そのチヤンバは排出オリフイスを有し、この
排出オリフイスは前記シース導入機構及びこの排
出オリフイスにより無粒子液を注入及び排出する
際にチヤンバ内に無粒子液の乱流を発生してチヤ
ンバ内及びその近くの孔区域内の気泡を除去する
ように配設してある。最初に、破片屑と堆積物を
チヤンバ横断及び孔横断処理において、ガスと液
体の混合物を両処理とも第１オリフイスを経てチ
ヤンバ内に注入して液滴を形成すると共にこの混
合物を各処理においてそれぞれ第２オリフイス及
び孔を経て排出させることにより除去する。この
異物は、別の横断ステツプにより、ガスを第１オ
リフイスを経てチヤンバ内に注入して液滴を形成
すると共にチヤンバの排出オリフイスを通るその
速度を増大させ、且つガスと液滴を孔を経て第２
オリフイスから排出させることにより更に除去す
る。次に、気泡を、無粒子液をフローセル内に注
入して乱流を形成すると共にこれを排出させるこ
とにより除去する。