JPH04240749A - Dicing device - Google Patents

Dicing device

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JPH04240749A
JPH04240749A JP3007603A JP760391A JPH04240749A JP H04240749 A JPH04240749 A JP H04240749A JP 3007603 A JP3007603 A JP 3007603A JP 760391 A JP760391 A JP 760391A JP H04240749 A JPH04240749 A JP H04240749A
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JP
Japan
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wafer
cleaning liquid
blade
cleanser
cutting
Prior art date
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Pending
Application number
JP3007603A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Masaki
正木 彰
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH04240749A publication Critical patent/JPH04240749A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a device for effectively removing generated cuttings simultaneously upon dicing irrespective of a wafer cutting direction by providing cleanser discharge means oppositely to both end sides of the cutting direction, discharging cleanser from the means at the time of relatively moving forward and backward a cutter, etc. CONSTITUTION:A placing table 1 for holding a wafer 2, a rotary cutter 8 for cutting the wafer upon relatively moving forward and backward along the placing surface of the table, and first, second cleanser discharge means 21, 22 disposed oppositely to the one and the other end sides of a cutting direction of the wafer 2 to spray cleanser to the wafer 2, are provided. Further, cleanser control means for discharging the cleanser from the means 21 when the cutter 8 is relatively moved forward and discharging the cleanser from the means 22 when the cutter 8 is relatively moved backward, is provided.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】この発明は、シリコンウェハに形
成された多数の集積回路のチップを個々のチップに分割
するダイシング装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dicing apparatus for dividing a large number of integrated circuit chips formed on a silicon wafer into individual chips.

【0002】0002

【従来の技術】例えば半導体デバイス製造工程には、ウ
ェハ上に形成された多数の素子を個々に分割する工程が
ある。このような工程をダイシング工程と呼ぶ。ウェハ
を個々のチップに分割する方法は幾つかあるが、それら
の内で最も良く使用されている方式がダイシングソ−方
式と呼ばれるものである。
2. Description of the Related Art For example, a semiconductor device manufacturing process includes a process of individually dividing a large number of elements formed on a wafer. Such a process is called a dicing process. There are several methods for dividing a wafer into individual chips, but the most commonly used method is called the dicing saw method.

【0003】ダイシングソ−方式は回転カッターとして
薄いホイ−ルの外周部に切断刃が形成されたブレ−ドを
用いる。上記切断刃はダイヤモンドの微粒子を焼結させ
ることによって形成されていて、このブレ−ドを高速回
転させることで上記切断刃によってウェハを20〜40
μmの幅で切断できるようになっている。一般にダイシ
ングソ−方式によるダイシング装置は図3に示すような
ものがある。
The dicing saw method uses a blade having a cutting edge formed on the outer periphery of a thin wheel as a rotary cutter. The cutting blade is formed by sintering fine diamond particles, and by rotating this blade at high speed, the cutting blade cuts 20 to 40 wafers.
It is possible to cut with a width of μm. Generally, a dicing apparatus using a dicing saw method is shown in FIG.

【0004】図中1はダイシングされるウェハ2が載置
保持されるテ−ブルである。このテ−ブル1は円盤状に
形成され、図示しない駆動手段により周方向に90度回
転すると共にX軸方向、Y軸方向に位置決め駆動される
。このテ−ブル1の上面には上記ウェハ2の外径より若
干大きい外径を有すると共に、上記テ−ブル1より小さ
い外径を有する伸縮可能なダイシングテ−プ3が取り付
けられている。このダイシングテ−プ3の上面は粘着面
3aとなっていて、このダイシングテ−プの上面に上記
ウェハ2を張り付けることで上記テ−ブル1上にウェハ
2を固定することができる。
In the figure, reference numeral 1 denotes a table on which a wafer 2 to be diced is placed and held. This table 1 is formed into a disk shape, and is rotated by 90 degrees in the circumferential direction and positioned in the X-axis direction and the Y-axis direction by driving means (not shown). A stretchable dicing tape 3 having an outer diameter slightly larger than the outer diameter of the wafer 2 and smaller than the table 1 is attached to the upper surface of the table 1. The upper surface of this dicing tape 3 is an adhesive surface 3a, and the wafer 2 can be fixed on the table 1 by pasting the wafer 2 on the upper surface of this dicing tape.

【0005】上記テ−ブル1の上方には角柱状のZ移動
体4が設けられている。このZ移動体4はテ−ブル1側
の端部をテ−ブル1の上方に水平に突出させて設けられ
ていると共に、その端面4aはX軸と平行に形成されて
いる。そして、このZ移動体4は図示しない駆動手段に
よってZ方向に微小量だけ位置決め駆動される。
A prismatic Z moving body 4 is provided above the table 1. This Z moving body 4 is provided with its end on the table 1 side projecting horizontally above the table 1, and its end surface 4a is formed parallel to the X axis. This Z moving body 4 is positioned and driven by a minute amount in the Z direction by a drive means (not shown).

【0006】このZ移動体4内には図示しないモ−タが
軸線を水平にして収納され、その回転軸5を上記Z移動
体4の端面4aから垂直(Y軸方向)に突出させている
。この回転軸5の径方向外側には、一端を上記Z移動体
4の端面4aに固着させた円筒状の回転軸カバ−6で覆
われている。この回転軸カバ−6は上記回転軸5より短
く形成され、上記回転軸5の突端部は上記回転軸カバ−
6の他端面より軸線方向に突出するようになっている。
A motor (not shown) is housed in the Z-moving body 4 with its axis horizontal, and its rotating shaft 5 projects vertically (in the Y-axis direction) from the end surface 4a of the Z-moving body 4. . The radially outer side of the rotating shaft 5 is covered with a cylindrical rotating shaft cover 6 whose one end is fixed to the end surface 4a of the Z moving body 4. This rotary shaft cover 6 is formed shorter than the rotary shaft 5, and the tip end of the rotary shaft 5 is shorter than the rotary shaft cover 6.
6 protrudes in the axial direction from the other end surface.

【0007】上記回転軸5の突端部には回転カッターと
してのブレ−ド8が固定されている。上記ブレ−ド8は
周辺部を箱型の保護ケ−ス10によって囲われ、ウェハ
2の切断に用いる下端部8aのみをこの保護ケ−ス10
の下面から下方に突出させている。このケ−ス10は、
上記Z移動体4側の一側面を上記円筒状の回転軸カバ−
6の他端面に固着させることにより固定されている。
A blade 8 serving as a rotary cutter is fixed to the tip of the rotary shaft 5. The periphery of the blade 8 is surrounded by a box-shaped protective case 10, and only the lower end 8a used for cutting the wafer 2 is surrounded by the protective case 10.
It protrudes downward from the bottom surface of the. This case 10 is
One side of the Z moving body 4 is attached to the cylindrical rotating shaft cover.
It is fixed by fixing it to the other end surface of 6.

【0008】上記ケ−ス10の下面のX軸方向に沿う一
端部には、冷却水が流通する一対の冷却管11、11の
それぞれの一端部11aを保持する保持体12が設けら
れている。上記保持体12に保持された一対の冷却管1
1、11は、それぞれ他端部11b、11bを上記ブレ
−ド8の一側面および他側面に沿ってX軸方向に水平に
延出され、上記ブレ−ド8を挟んで対向している。上記
一対の冷却管11、11のそれぞれの他端部11b、1
1bにはブレ−ド8に冷却水を吹き付けるための図示し
ない複数の吐出孔が上記ブレ−ド8に対応する部分に穿
設されている。
A holder 12 is provided at one end of the lower surface of the case 10 along the X-axis direction to hold one end 11a of each of the pair of cooling pipes 11, 11 through which cooling water flows. . A pair of cooling pipes 1 held by the holder 12
1 and 11 have their other ends 11b and 11b extended horizontally in the X-axis direction along one side and the other side of the blade 8, respectively, and are opposed to each other with the blade 8 in between. The other ends 11b, 1 of the pair of cooling pipes 11, 11, respectively.
In 1b, a plurality of discharge holes (not shown) for spraying cooling water onto the blades 8 are drilled in portions corresponding to the blades 8.

【0009】また、上記Z移動体4の端面4aには、幅
方向を垂直にすると共に長手方向をY軸と平行にした板
状の洗浄液吐出管12の一端が取り付けられている。上
記洗浄液吐出管12の長手方向中途部は上記ケ−ス10
のX軸方向に沿う他端面に当接している。上記洗浄液吐
出管12の長手方向に沿う下端は上記ケ−ス10の下面
と略同じ高さに設けられていると共に、長手方向に沿っ
て複数の洗浄液吐出孔13…が穿設されている。上記洗
浄液吐出管12に供給された洗浄液は、この洗浄液吐出
孔13…から、上記ブレ−ド8側のウェハ2上に吹き付
けられるようになっている。
Further, one end of a plate-shaped cleaning liquid discharge pipe 12 whose width direction is perpendicular and whose longitudinal direction is parallel to the Y-axis is attached to the end surface 4a of the Z moving body 4. The middle part in the longitudinal direction of the cleaning liquid discharge pipe 12 is connected to the case 10.
is in contact with the other end surface along the X-axis direction. The lower end of the cleaning liquid discharge pipe 12 along the longitudinal direction is provided at approximately the same height as the lower surface of the case 10, and a plurality of cleaning liquid discharge holes 13 are bored along the longitudinal direction. The cleaning liquid supplied to the cleaning liquid discharge pipe 12 is sprayed onto the wafer 2 on the blade 8 side from the cleaning liquid discharge holes 13 .

【0010】上記ケ−ス10の上面には上記ブレ−ド8
に切削液を供給する切削液供給部14が設けられている
。この切削液供給部14は一端部14aを上記ケ−ス1
0の他側面10aから外側方向に水平に突出させている
と共に、その一端部14aの下面には切削液を吐出する
図示しない吐出孔が複数個穿設されている。この吐出孔
から吐出された切削液は下方向に吐出され、上記ブレ−
ド8の周部に供給されて切断部分を潤滑する。
The blade 8 is mounted on the top surface of the case 10.
A cutting fluid supply section 14 is provided for supplying cutting fluid to. This cutting fluid supply section 14 has one end 14a connected to the case 1.
0 horizontally protrudes outward from the other side surface 10a, and a plurality of discharge holes (not shown) for discharging cutting fluid are bored in the lower surface of one end portion 14a. The cutting fluid discharged from this discharge hole is discharged downward, and
It is supplied to the periphery of the blade 8 to lubricate the cutting part.

【0011】上記冷却管11、11、切削液供給部14
、洗浄液吐出管12はそれぞれ図示しない供給手段に接
続され、上記ブレ−ド8が切断作業を行っている時には
、それぞれの吐出孔から常時冷却水、切削液、洗浄液を
吐出するようになっている。このようなダイシング装置
でウェハ2を個々のチップ2a…に分割する場合の動作
を以下に説明する。
[0011] The cooling pipes 11, 11, cutting fluid supply section 14
The cleaning liquid discharge pipes 12 are each connected to a supply means (not shown), and when the blade 8 is performing cutting work, cooling water, cutting fluid, and cleaning liquid are constantly discharged from the respective discharge holes. . The operation of dividing the wafer 2 into individual chips 2a using such a dicing apparatus will be described below.

【0012】上記ウェハ2が上記テ−ブル1のダイシン
グテ−プの粘着面3aに張り付けられると、上記図示し
ない回転モ−タが作動し、上記ブレ−ド8は図に矢印(
イ)で示す方向に回転する。それと同時に上記冷却管1
1、11から冷却水、上記切削液供給部14からは切削
液、上記洗浄液吐出管12からは洗浄液がそれぞれ吐出
される。
When the wafer 2 is stuck to the adhesive surface 3a of the dicing tape on the table 1, the rotary motor (not shown) is activated, and the blade 8 is moved as shown by the arrow (
Rotate in the direction shown in b). At the same time, the cooling pipe 1
Cooling water is discharged from 1 and 11, cutting fluid is discharged from the cutting fluid supply section 14, and cleaning fluid is discharged from the cleaning fluid discharge pipe 12, respectively.

【0013】次に、テ−ブル1がY軸方向に駆動され、
ダイシングされる位置の上方に上記ブレ−ド8が位置決
めされると、上記Z移動体4が下方向に微小量駆動され
、上記ブレ−ド8は上記ウェハ2を上記ダイシングテ−
プ3の上層部とともに切断する。序で上記テ−ブル1が
X軸方向に送り駆動されることで、上記ブレ−ド8は上
記テ−ブル1上を相対的に移動し、上記ウェハ2をX軸
に沿って切断する。
Next, the table 1 is driven in the Y-axis direction,
When the blade 8 is positioned above the dicing position, the Z moving body 4 is driven downward by a small amount, and the blade 8 moves the wafer 2 to the dicing table.
Cut it together with the upper layer of pipe 3. At this point, the table 1 is driven in the X-axis direction, so that the blade 8 moves relatively on the table 1 and cuts the wafer 2 along the X-axis.

【0014】ブレ−ド8が上記ウェハ2をX軸方向の一
端から他端まで切断したならば、上記Z移動体4は上方
向に駆動され、上記ブレ−ド8はウェハ2から離間する
。ついで上記テ−ブル1がウェハ2の幅だけY軸方向に
送り駆動され、上記Z移動体4は再び下降駆動される。 上記テ−ブル1がX軸に沿って反対方向に送り駆動され
ると、上記ブレ−ド8はウェハ2をX軸方向の他端から
一端まで切断する。このように、上記ブレ−ド8はテ−
ブル1上を相対的に往復移動してウェハ2をY軸方向に
所定の幅で切断するのである。
Once the blade 8 has cut the wafer 2 from one end to the other in the X-axis direction, the Z moving body 4 is driven upward, and the blade 8 is separated from the wafer 2. Next, the table 1 is driven in the Y-axis direction by the width of the wafer 2, and the Z moving body 4 is driven down again. When the table 1 is driven in the opposite direction along the X-axis, the blade 8 cuts the wafer 2 from the other end to one end in the X-axis direction. In this way, the blade 8 is
The wafer 2 is cut into a predetermined width in the Y-axis direction by relatively reciprocating on the bull 1.

【0015】次に、上記テ−ブル1は図に矢印(ロ)で
示すように周方向に90度回転駆動される。そして、上
述の動作と同様にしてウェハ2をY軸方向に所定の幅で
切断する。このことによって、上記ウェハ2は碁盤の目
状に個々のチップ2a…に切断される。切断が終了した
ならば上記伸縮可能なダイシングテ−プ3を径方向外側
に引っ張ることでウェハ2は個々のチップ2a…にそれ
ぞれ分離させられる。
Next, the table 1 is rotated by 90 degrees in the circumferential direction as shown by the arrow (b) in the figure. Then, the wafer 2 is cut into a predetermined width in the Y-axis direction in the same manner as described above. As a result, the wafer 2 is cut into individual chips 2a in a checkerboard pattern. When cutting is completed, the wafer 2 is separated into individual chips 2a by pulling the expandable dicing tape 3 radially outward.

【0016】このようなダイシング装置よれば、上記ブ
レ−ド8は一定の方向に回転し、上記テ−ブル1上をX
軸方向に沿って相対的に往復移動することで上記ウェハ
2を個々のチップ2a…に分割する。このとき、上記ブ
レ−ド8はウェハ2の上面から下面まで完全に切断する
と共に、同時にダイシングテ−プ3の粘着面3aの上層
部も切断するようになっている。このため、切断により
、ウェハ2の切り屑、粘着テ−プ3の切り屑が発生する
。このような切り屑は切断直後に素早く除去しなければ
ウェハ2上に静電気により付着し後で取り除くことが困
難になる。このため上記ダイシング装置には洗浄液吐出
管12が設けられ、大量の洗浄液をウェハ2上に吹き付
けるようになっている。
According to such a dicing apparatus, the blade 8 rotates in a fixed direction and moves over the table 1 in the direction of X.
The wafer 2 is divided into individual chips 2a by relatively reciprocating along the axial direction. At this time, the blade 8 completely cuts the wafer 2 from the upper surface to the lower surface, and simultaneously cuts the upper layer of the adhesive surface 3a of the dicing tape 3. For this reason, chips of the wafer 2 and chips of the adhesive tape 3 are generated by cutting. If such chips are not quickly removed immediately after cutting, they will adhere to the wafer 2 due to static electricity and will be difficult to remove later. For this reason, the dicing apparatus is provided with a cleaning liquid discharge pipe 12 to spray a large amount of cleaning liquid onto the wafer 2.

【0017】ところで、従来のダイシング装置において
は上記洗浄液吐出管12は上記ブレ−ド8の相対的な移
動方向の1方向にしか設けられていない。このため、上
記テ−ブル1が上記ブレ−ド8の方から洗浄液吐出管1
2の方へ送り駆動される時にはウェハ2の切断直後の部
分が上記洗浄液吐出管12の方に近付いてくるので、切
断された部分に生じた切り屑をウェハ2に付着する前に
有効に除去することができる。しかし、上記テ−ブル1
が洗浄液吐出管12の方からブレ−ド8の方に送り駆動
されるときにはウェハ2の切断直後の部分が上記洗浄液
吐出管12から遠ざかって行くのでこの部分に生じた切
り屑を有効に除去することが困難で、これらの切り屑が
ウェハ2上に付着してしまう恐れがある。
By the way, in the conventional dicing apparatus, the cleaning liquid discharge pipe 12 is provided only in one direction of relative movement of the blade 8. Therefore, the table 1 is connected to the cleaning liquid discharge pipe 1 from the blade 8.
When the wafer 2 is fed and driven toward the wafer 2, the portion of the wafer 2 immediately after cutting comes closer to the cleaning liquid discharge pipe 12, so chips generated on the cut portion are effectively removed before they adhere to the wafer 2. can do. However, the above table 1
When the wafer 2 is fed from the cleaning liquid discharge pipe 12 toward the blade 8, the portion of the wafer 2 immediately after cutting moves away from the cleaning liquid discharge pipe 12, so chips generated in this portion are effectively removed. It is difficult to do so, and there is a possibility that these chips may adhere to the wafer 2.

【0018】これらの切り屑がウェハ2上に付着してい
ると、製品に悪影響を及ぼす。特にペレットが固体撮像
素子や紫外線消去型メモリ−などチップ表面の光学的特
性がその機能にシビアな影響をおよぼす素子の場合には
、これらの切り屑が表面に付着すると光学的な影を作る
ため製造歩留まりの著しい低下をもたらす。近年の高集
積化によって画素サイズ、あるいはメモリサイズは5μ
m以下にもなろうとしているため、この問題はますます
大きくなってきている。
[0018] If these chips adhere to the wafer 2, they will have an adverse effect on the product. Particularly in the case of devices where the optical characteristics of the chip surface have a severe effect on the functionality, such as solid-state image sensors and ultraviolet erasable memories, when these chips adhere to the surface, they create optical shadows. This results in a significant decrease in manufacturing yield. Due to recent high integration, pixel size or memory size has decreased to 5μ.
This problem is becoming more and more serious as the number of solar cells is decreasing to less than m.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来の
ダイシング装置は、ウェハの送り方向によってはダイシ
ングの際に発生した切り屑を有効に排除できないという
ことがあった。
SUMMARY OF THE INVENTION As described above, conventional dicing apparatuses may not be able to effectively remove chips generated during dicing depending on the direction in which the wafer is fed.

【0020】この発明は、ウェハの切断方向にかかわら
ず、発生した切り屑をダイシングと同時にかつ有効に排
除できるようなダイシング装置を提供することを目的と
する。
An object of the present invention is to provide a dicing apparatus that can effectively remove generated chips simultaneously with dicing, regardless of the direction in which the wafer is cut.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】この発明は、載置面にウ
ェハを保持する載置テ−ブルと、この載置テ−ブルの載
置面に沿って相対的に往動し、上記載置テ−ブルの載置
面に沿って切断方向と直交する方向に相対的に所定ピッ
チ送られる毎に相対的に復動することによってウェハを
所定の幅に切断する回転カッターと、上記ウエハに対す
る切断方向の一方の終端側に対向配置されていて上記ウ
ェハに洗浄液を吹き付ける第1の洗浄液吐出手段と、上
記ウエハに対する切断方向の他方の終端側に対向配置さ
れていて上記ウェハに洗浄液を吹き付ける第2の洗浄液
吐出手段と、上記回転カッターが上記往動方向に相対移
動する時には上記第1の洗浄液吐出手段から洗浄液を吐
出させると共に上記回転カッターが上記復動方向に相対
移動する時には上記第2の洗浄液吐出手段から洗浄液を
吐出させる洗浄液制御手段とを有することを特徴とする
[Means for Solving the Problems] The present invention includes a mounting table that holds a wafer on a mounting surface, a mounting table that moves relatively back and forth along the mounting surface of the mounting table, and a wafer as described above. a rotary cutter that cuts the wafer to a predetermined width by relatively moving back each time the wafer is fed at a relatively predetermined pitch in a direction perpendicular to the cutting direction along the mounting surface of the mounting table; a first cleaning liquid discharging means disposed opposite to each other on one terminal end side in the cutting direction and spraying a cleaning liquid onto the wafer; and a first cleaning liquid discharging means disposed oppositely on the other terminal end side in the cutting direction of the wafer and spraying the cleaning liquid onto the wafer. When the rotary cutter and the second cleaning liquid discharging means move relative to each other in the forward direction, the cleaning liquid is discharged from the first cleaning liquid discharging means, and when the rotary cutter moves relatively in the backward direction, the second cleaning liquid discharge means discharges the cleaning liquid. It is characterized by having a cleaning liquid control means for discharging the cleaning liquid from the cleaning liquid discharging means.

【0022】[0022]

【作用】このような構成によれば、切断方向にかかわら
ず、洗浄液を常にウェハの切断直後の部分に吹き付ける
ことが可能である。
[Operation] According to such a configuration, it is possible to always spray the cleaning liquid onto the portion of the wafer immediately after cutting, regardless of the cutting direction.

【0023】[0023]

【実施例】以下、図1および図2を参照して本発明の一
実施例を説明する。なお従来例と同一構成要素には同一
記号を付して説明を省略する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 and 2. Note that the same components as those in the conventional example are given the same symbols and their explanations are omitted.

【0024】この発明のダイシング装置のZ移動体20
のテ−ブル1側の端面20aのX軸方向の長さは上記保
護ケ−ス10のX軸方向の長さより長く形成されている
。上記端面20aのX軸方向両端の下端部には一対の第
1、第2の洗浄液吐出管21、22の一端がそれぞれ取
り付けられている。これら第1、第2の洗浄液吐出管2
1、22は上記テ−ブル1の径より長く形成され、Y軸
方向に沿って水平に延出されている。すなわち、上記第
1、第2の洗浄液吐出管21、22は上記ブレ−ド8と
直角に設けられていると共に、上記ブレ−ド8を挟んで
平行に離間して対向配置されている。上記一対の洗浄液
吐出管21、22には上記ブレ−ド8側に開口した複数
の吐出孔24…がそれぞれ穿設されている。これら一対
の洗浄液吐出管21、22は上記Z移動体20と共に図
示しない駆動手段によって上下方向に駆動される。
Z moving body 20 of the dicing apparatus of the present invention
The length of the end face 20a on the table 1 side in the X-axis direction is longer than the length of the protective case 10 in the X-axis direction. One ends of a pair of first and second cleaning liquid discharge pipes 21 and 22 are respectively attached to the lower end portions of both ends in the X-axis direction of the end surface 20a. These first and second cleaning liquid discharge pipes 2
1 and 22 are formed longer than the diameter of the table 1 and extend horizontally along the Y-axis direction. That is, the first and second cleaning liquid discharge pipes 21 and 22 are provided perpendicularly to the blade 8, and are spaced apart from each other in parallel with the blade 8 in between. The pair of cleaning liquid discharge pipes 21 and 22 are each provided with a plurality of discharge holes 24 that open toward the blade 8 side. These pair of cleaning liquid discharge pipes 21 and 22 are driven in the vertical direction together with the Z moving body 20 by a driving means (not shown).

【0025】上記第1、第2の洗浄液吐出管21、22
および上記保護ケ−ス10に取り付けられた冷却管11
の配管は図2に示すようになっている。この配管はポン
プにより加圧された純水が満たされたタンク27を有す
る。このタンク27には供給管28の上流端が接続され
ている。この供給管28の中途部にはフィルタ29が設
けられていると共に、この供給管28の下流端には第1
〜第3の分流管30、31、32のそれぞれの上流端が
接続されている。この第1〜第3の分流管30、31、
32にはそれぞれ中途部に第1〜第3流量計33、34
、35が設けられ、上流部には電磁弁からなる第1〜第
3の制御バルブ36、37、38が設けられている。 上記第1〜第3の分流管30、31、32の下流端はそ
れぞれ、第1の洗浄液吐出管21、冷却管11、第2の
洗浄液吐出管22に接続されている。
[0025] The first and second cleaning liquid discharge pipes 21 and 22
and a cooling pipe 11 attached to the protective case 10.
The piping is shown in Figure 2. This piping has a tank 27 filled with pure water pressurized by a pump. The upstream end of a supply pipe 28 is connected to this tank 27 . A filter 29 is provided in the middle of this supply pipe 28, and a first filter 29 is provided at the downstream end of this supply pipe 28.
~The upstream ends of the third branch pipes 30, 31, and 32 are connected. These first to third branch pipes 30, 31,
32 has first to third flowmeters 33 and 34 in the middle, respectively.
, 35 are provided, and first to third control valves 36, 37, and 38 made of electromagnetic valves are provided in the upstream portion. The downstream ends of the first to third branch pipes 30, 31, and 32 are connected to the first cleaning liquid discharge pipe 21, the cooling pipe 11, and the second cleaning liquid discharge pipe 22, respectively.

【0026】上記第1〜第3の制御バルブ36、37、
38の制御は、ブレ−ド8の運動信号、上記テ−ブル1
のX軸に沿う駆動信号に基づいて、図示せぬ制御装置に
より以下のように行われる。
[0026] The first to third control valves 36, 37,
38 is controlled by the movement signal of the blade 8,
Based on the drive signal along the X-axis, the control device (not shown) performs the following operation.

【0027】すなわち、上記Z移動体20内に収納され
た図示しないモ−タが始動され上記ブレ−ド8が回転す
ると、上記第2のバルブ37が開く。上記テ−ブル1が
図2に示す+X方向に送り駆動駆動されると、上記第1
のバルブ36が開く。次ぎに上記テ−ブル1が−X方向
に送り駆動されると上記第1のバルブ36が閉じ、第3
のバルブ38が開く。さらに上記テ−ブル1が+方向に
駆動されると上記第3のバルブ38が閉じ、上記第1の
バルブ36が開くようになっている。ブレ−ド8の回転
が停止されると上記第1〜第3のバルブ36、37、3
8はすべて閉じるようになっている。
That is, when a motor (not shown) housed in the Z moving body 20 is started and the blade 8 rotates, the second valve 37 opens. When the table 1 is fed and driven in the +X direction shown in FIG.
valve 36 opens. Next, when the table 1 is fed and driven in the -X direction, the first valve 36 closes and the third valve 36 closes.
valve 38 opens. Furthermore, when the table 1 is driven in the + direction, the third valve 38 closes and the first valve 36 opens. When the rotation of the blade 8 is stopped, the first to third valves 36, 37, 3
8 are all closed.

【0028】なお、図示されていないが、上記切削液供
給部14への切削液の供給はブレ−ド8を回転させると
同時に行われるようになっている。また、ブレ−ド8の
回転が止まると切削液の供給は停止される。
Although not shown, the cutting fluid is supplied to the cutting fluid supply section 14 at the same time as the blade 8 is rotated. Furthermore, when the rotation of the blade 8 stops, the supply of cutting fluid is stopped.

【0029】図1に示すようにテ−ブル1が+X方向に
駆動されているときには、上記第1の洗浄液吐出管21
の多数の吐出孔24…からウェハ2上に洗浄液が吹き付
けられる。このときブレ−ド8によって切断された部分
が順次上記第1の洗浄液吐出管21の方へ近付いて来る
ので、切断直後のウェハ2に洗浄液が吹き付けられるこ
とになる。このことによって、切断部分に生じた切り屑
を素早く有効に排除することができる。
As shown in FIG. 1, when the table 1 is driven in the +X direction, the first cleaning liquid discharge pipe 21
A cleaning liquid is sprayed onto the wafer 2 from a large number of discharge holes 24 . At this time, the portions cut by the blade 8 sequentially approach the first cleaning liquid discharge pipe 21, so that the cleaning liquid is sprayed onto the wafer 2 immediately after cutting. This allows chips generated at the cut portion to be quickly and effectively removed.

【0030】上記テ−ブル1が−X方向に駆動される時
には上記第2の洗浄液吐出管22から洗浄液が吐出され
る。この場合にもブレ−ド8によって切断された部分が
順次上記第2の洗浄液吐出管22の方に近付いて来るの
でウェハ2の切断直後の部分に洗浄液が吹き付けられる
ことになる。このことによってウェハ2の切断部分に生
じた切り屑を有効に除去することができる。
When the table 1 is driven in the -X direction, cleaning liquid is discharged from the second cleaning liquid discharge pipe 22. In this case as well, the parts cut by the blade 8 sequentially approach the second cleaning liquid discharge pipe 22, so that the cleaning liquid is sprayed onto the part of the wafer 2 immediately after cutting. As a result, chips generated at the cut portion of the wafer 2 can be effectively removed.

【0031】このようなダイシング装置によれば、上記
テ−ブル1の駆動方向にかかわらず生じた切り屑を素早
くかつ有効に排除することができるから、切り屑が静電
気によってウェハ2上に付着するのを防止することがで
きる。このことによって製品の品質、歩留まりを向上さ
せることが可能である。なお、この発明は上記一実施例
に限定されるものではなく、発明の要旨を変更しない範
囲で種々変形可能である。
According to such a dicing apparatus, the generated chips can be quickly and effectively removed regardless of the direction in which the table 1 is driven, thereby preventing the chips from adhering to the wafer 2 due to static electricity. can be prevented. This makes it possible to improve product quality and yield. Note that this invention is not limited to the above-mentioned embodiment, and can be modified in various ways without changing the gist of the invention.

【0032】上記一実施例の上記洗浄液吐出管21、2
2には所定間隔で開口する吐出孔24…を設けたが、図
4(a)、(b)に示すように長手方向に沿って連続す
るスリット状の吐出孔40を設けるようにしても同様の
効果を得ることが可能である。
The cleaning liquid discharge pipes 21 and 2 of the above embodiment
2 is provided with discharge holes 24 that open at predetermined intervals, but the same effect can be obtained by providing continuous slit-shaped discharge holes 40 along the longitudinal direction as shown in FIGS. 4(a) and 4(b). It is possible to obtain the following effects.

【0033】一方、このダイシング装置はテ−ブル1を
送り駆動することでウェハ2を切断するようにしたが、
上記テ−ブル1を固定し上記ブレ−ド8を第1、第2の
洗浄液吐出管21、22と共に送り駆動するような構成
であっても同様の効果を得ることができる。
On the other hand, although this dicing apparatus cuts the wafer 2 by feeding and driving the table 1,
Similar effects can be obtained even with a configuration in which the table 1 is fixed and the blade 8 is fed and driven together with the first and second cleaning liquid discharge pipes 21 and 22.

【0034】また、図5に示すように、上記洗浄液吐出
管21、22の吐出孔24…の開口部分の近傍に、下端
側42aに開口する複数のスリット41…が上記洗浄液
吐出管21、22の長手方向に沿って上記吐出孔24と
同じ間隔で対応するように設けられたくし状の整流板4
2を配置すれば、上記洗浄水吐出管21の吐出孔24…
から吐出される洗浄液は整流され、より均等にウェハ2
上に吹き付けられる。
Further, as shown in FIG. 5, a plurality of slits 41 which open toward the lower end side 42a are provided near the openings of the discharge holes 24 of the cleaning liquid discharge pipes 21 and 22. Comb-shaped rectifying plates 4 provided at the same intervals as the discharge holes 24 along the longitudinal direction of the
2, the discharge hole 24 of the cleaning water discharge pipe 21...
The cleaning liquid discharged from the
sprayed on top.

【0035】[0035]

【発明の効果】上述のように、この発明のダイシング装
置は、ウェハに対する切断方向にかかわらず、常に回転
カッターの進行方向後方の部分のウェハに洗浄液が吹き
付けられるから、ダイシングにより切り屑が発生すると
同時にこの切り屑をウェハ上に付着させることなく有効
に排除できる。このことによって製品の歩留りを向上さ
せることが可能である。
As described above, in the dicing apparatus of the present invention, regardless of the direction in which the wafer is cut, the cleaning liquid is always sprayed onto the wafer in the rear part of the wafer in the direction in which the rotary cutter moves. At the same time, these chips can be effectively removed without adhering to the wafer. This makes it possible to improve product yield.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】この発明の一実施例を示す斜視図。FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the invention.

【図2】同じく要部を示す配管図。FIG. 2 is a piping diagram showing the main parts.

【図3】従来例を示す斜視図。FIG. 3 is a perspective view showing a conventional example.

【図4】(a)は他の実施例の洗浄液吐出管の平面図、
(b)は同じく側面図。
FIG. 4(a) is a plan view of a cleaning liquid discharge pipe of another embodiment;
(b) is also a side view.

【図5】他の実施例を示す斜視図。FIG. 5 is a perspective view showing another embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…テ−ブル、2…ウェハ、3…ダイシングテ−プ、8
…ブレ−ド(回転カッター)、21…第1の洗浄液供給
管、22…第2の洗浄液供給管、33…第1の制御バル
ブ(制御手段)、34…第2の制御バルブ(制御手段)
、35…第3の制御バルブ(制御手段)。
1...Table, 2...Wafer, 3...Dicing tape, 8
...Blade (rotary cutter), 21...First cleaning liquid supply pipe, 22...Second cleaning liquid supply pipe, 33...First control valve (control means), 34...Second control valve (control means)
, 35...Third control valve (control means).

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  載置面にウェハを保持する載置テ−ブ
ルと、この載置テ−ブルの載置面に沿って相対的に往動
し、上記載置テ−ブルの載置面に沿って切断方向と直交
する方向に相対的に所定ピッチ送られる毎に相対的に復
動することによってウェハを所定の幅に切断する回転カ
ッターと、上記ウエハに対する切断方向の一方の終端側
に対向配置されていて上記ウェハに洗浄液を吹き付ける
第1の洗浄液吐出手段と、上記ウエハに対する切断方向
の他方の終端側に対向配置されていて上記ウェハに洗浄
液を吹き付ける第2の洗浄液吐出手段と、上記回転カッ
ターが上記往動方向に相対移動する時には上記第1の洗
浄液吐出手段から洗浄液を吐出させると共に上記回転カ
ッターが上記復動方向に相対移動する時には上記第2の
洗浄液吐出手段から洗浄液を吐出させる洗浄液制御手段
とを有することを特徴とするダイシング装置。
Claim 1: A mounting table that holds a wafer on a mounting surface; a mounting table that moves relatively forward along the mounting surface of the mounting table; a rotary cutter that cuts the wafer to a predetermined width by relatively moving back each time the wafer is fed by a predetermined pitch in a direction perpendicular to the cutting direction; a first cleaning liquid discharging means disposed facing each other and spraying a cleaning liquid onto the wafer; a second cleaning liquid discharging means disposed oppositely on the other terminal end side of the wafer in the cutting direction and spraying the cleaning liquid onto the wafer; When the rotary cutter relatively moves in the forward direction, cleaning liquid is discharged from the first cleaning liquid discharging means, and when the rotary cutter relatively moves in the backward direction, the cleaning liquid is discharged from the second cleaning liquid discharging means. A dicing apparatus comprising a cleaning liquid control means.
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002141308A (en) * 2000-11-06 2002-05-17 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing apparatus
JP2006073828A (en) * 2004-09-02 2006-03-16 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing device
JP2008091775A (en) * 2006-10-04 2008-04-17 Disco Abrasive Syst Ltd Cutting equipment
JP2009202311A (en) * 2008-02-29 2009-09-10 Towa Corp Cutting device and cutting method
JP2013010180A (en) * 2012-10-12 2013-01-17 Towa Corp Cutting device and cutting method
JP2014195765A (en) * 2013-03-29 2014-10-16 芝浦メカトロニクス株式会社 Substrate cleaning treatment apparatus and cleaning treatment method
CN104626376A (en) * 2013-11-11 2015-05-20 株式会社迪思科 Cutting device
JP2017139343A (en) * 2016-02-04 2017-08-10 株式会社ディスコ Processing method for package substrate
JP2024032131A (en) * 2022-08-29 2024-03-12 株式会社ディスコ cutting equipment

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002141308A (en) * 2000-11-06 2002-05-17 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing apparatus
JP2006073828A (en) * 2004-09-02 2006-03-16 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing device
JP2008091775A (en) * 2006-10-04 2008-04-17 Disco Abrasive Syst Ltd Cutting equipment
JP2009202311A (en) * 2008-02-29 2009-09-10 Towa Corp Cutting device and cutting method
TWI451930B (en) * 2008-02-29 2014-09-11 Towa Corp Cutting device and cutting method
JP2013010180A (en) * 2012-10-12 2013-01-17 Towa Corp Cutting device and cutting method
JP2014195765A (en) * 2013-03-29 2014-10-16 芝浦メカトロニクス株式会社 Substrate cleaning treatment apparatus and cleaning treatment method
CN104626376A (en) * 2013-11-11 2015-05-20 株式会社迪思科 Cutting device
JP2017139343A (en) * 2016-02-04 2017-08-10 株式会社ディスコ Processing method for package substrate
CN107030903A (en) * 2016-02-04 2017-08-11 株式会社迪思科 The processing method of package substrate
JP2024032131A (en) * 2022-08-29 2024-03-12 株式会社ディスコ cutting equipment

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